JPH0227653U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例に係るイオン源電流導
入端子近傍の断面図。第２図は従来例に係るイオ
ン源電流導入端子近傍の断面図。 １……真空チヤンバ、２……テフロン板、３…
…真空側取付金具、４……金属導体、５……セラ
ミツク円筒、６……電流導入端子フランジ、７…
…メタルシール、８……大気側取付金具、９……
セラミツク円筒、１０……内カバー、１１……外
カバー、１２……取付ボルト、１３……取付ボル
ト、１４……取付ポート、１５……円板、１６…
…開口、Ｘ，Ｙ，Ｚ……円筒状の空間。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. イオンを発生させる機構と、イオンを引出す電
   極とを真空チヤンバ１の中に備えたイオン源であ
   つて、真空チヤンバ１の壁面の一部に形成された
   取付ポート１４と、取付ポート１４の外端鍔部に
   固着される電流導入端子フランジ６と、電流導入
   端子フランジ６の開口１６に続く内部に設けられ
   るセラミツク円筒９と、セラミツク円筒９の頂部
   を覆う円板１５と、セラミツク円筒９の外周を覆
   い一端が電流導入端子フランジ６に固定される円
   筒状の内カバー１０と、円板１５の上に固定され
   内カバー１０を覆う円筒部と該円筒部に続く天井
   板を有する外カバー１１と、円板１５、外カバー
   １１を貫いて設けられる金属導体４と、金属導体
   ４の真空側に取付けられる真空側取付金具３と、
   大気側に取付けられる大気側取付金具８とよりな
   り、取付ポート１４、外カバー１１、内カバー１
   ０、セラミツク円筒９により、３つの上下に蛇行
   して連続する円筒空間Ｘ，Ｙ，Ｚが生ずるように
   した事を特徴とするイオン源。