JPH02276679A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レーザー特に半導体レーザーの集束ビームを
用い追記することができる有機色素を艶緑石にした光記
録媒体に関するものであり、更に詳しくはコンピュータ
ーの外部メモリー、画像。

音声等の各種情報の記録に用いられる有機色素を記録層
にした光記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

有機色素を記録層にした追記可能な光記録媒体はスピン
コード等の簡便で且つ生産性に優れた方法で成膜出来る
と共に、酸化性雰囲気での記録膜の劣化が殆どない等の
特徴を有し、例えばジチオール金属錯体、ポリメチン色
素、スクアリウム色素、ナフトキノン色素、フタロシア
ニン色素、ナフタロシアニン色素などの半導体レーザー
域に吸収を有する有機色素を記録層とした媒体が開発さ
れ、一部実用化されている。

光記録媒体に要求される特性としては、　ｌ）反射率が
高い、２）感度が良い、３）シきい値特性がシャープ（
再生光安定性）、４）経済性に優れる、等が挙げられる
。更に、本発明のようなライトワンス型の光記録媒体は
情報等の保存用に用いられることが多く、長期の耐久性
、例えば３０年以上の耐久性が要求される。しかしなが
らこれまでに提案されている有機色素膜を記録層とした
光記録媒体で上記特性をすべて満足するものはない。

例えば、シアニン系色素やスクアリウム色素を記録層と
する媒体は耐光性や耐湿性に乏しかったり、記録時しき
い値が明確でないため再生パワーを大きくすることがで
きない。

一方、フタロシアニン系色素やナフタロシアニン系色素
は一般に耐光性に優れ、且つしきい値特性にも優れる色
素であるが、反射率が小さく、感度も良くない。これら
の欠点を改良するために、種々のフタロシアニン系やナ
フタロシアニン系色素を用いた媒体が提案されている０
例えば特開昭６１−１７７２８７号には中心金属に大き
な置換基を導入したナフタロシアニン系色素を記録層と
し、高反射率を達成した媒体が開示されている。しかし
ながら該媒体は高反射率ではあるが、記録時の感度が悪
く、且つ耐久性に劣る。

一方、フタロシアニン系色素はより高反射率が期待され
るが、一般に吸収波長が半導体レーザーの発振波長（７
８０〜８４０ｎｍ）に合致しないため記録感度が著しく
低下する。フタロシアニン系色素の吸収波長を近赤外域
に近づける方法として、特開昭６１−１５４８８８号に
はフタロシアニン色素のベンゼン環に硫黄等の元素を介
して置換基を導入した色素が提案されている。しかしな
がら、チオエーテル基で置換されたフタロシアニン色素
は溶解性に劣り、且つ該色素を記録層とした媒体は、長
期間に渡り保存しておいたり、同じトラックを長時間に
渡り繰り返し再生したりすると、媒体の反射率や吸収特
性が低下するだけでなく、媒体のノイズが増加するとい
う致命的な欠点を有している。この原因は、該色素が結
晶性を有し、塗布により成膜した時点では非晶質な状態
のため問題ないが、徐々に結晶化し、記録層の光学特性
（反射率、吸収特性）が変化するだけでなく、結晶粒界
に起因するノイズの増加が生じると推定される。

一方、特開昭６ｌ−１９７２８（）号にはフタロシアニ
ン色素のベンゼン環に酸素を介して置換基を導入した色
素が提案されている。しかしながら、このような色素を
用いた媒体は色素の置換基のｆ！類、数及び位置によっ
て、あるものは反射率が小さかったり、溶解性が悪くポ
リカーボネートの射出成形基板に直接塗布できる溶剤に
溶解しない。又あるものは長期に媒体を保存しておいた
り、同じトラックを連続して再生したりすると、色素の
結晶化に起因すると思われる反射率や吸収強度の低下が
起こるだけでなく、媒体のノイズが増加するという致命
的な欠点を有している。例えば、エーテル基の炭素数が
４以下の場合は、色素の溶解性が悪く、該特許に開示さ
れているようなトルエン等のポリカーボネートの射出成
形基板に直接塗布するとダメージを与える溶剤にしか溶
解しない。また、芳香族系の置換基を有するものや、ベ
ンゼン環のα位以外の位置に、例えば水素、エーテル基
等のハロゲン原子以外を導入すると、反射率が小さかっ
たり、結晶化によると思われる反射率や吸収強度の低下
やノイズの増加が生じる。

このように従来の有機色素を記録層とした光記録媒体も
種々の欠点を有しており、これらの欠点を改良した光記
録媒体の開発が望まれていた。

［基本的着想］ 本発明者らは有機色素を記録層として用いた光記録媒体
の前記した特徴を有しながら、前記したような従来の有
機色素を記録層とする光記録媒体の欠点を改良すべくフ
タロシアニン系色素の検討を行った結果、フタロシアニ
ン色素を構成するベンゼン環の二つの０位に異なるエー
テル置換基を導入した新規な置換フタロシアニン系色素
を見出し、該色素を記録層に用いれば、直接ポリカーボ
ネートの射出成形基板に塗布でき、且つ従来の有機色素
を用いた光記録媒体では実現し得なかった、反射率が大
きく、耐久性に優れ、高感度で且つ記録しきい値がシャ
ープなために再生パワーを大きくできる光記録媒体を作
ることができることを見出し本発明を完成した。

［発明の開示］ すなわち、本発明は、 反射層を有することなしに信号の記録及び再生を行いう
る光記録媒体であって、透明な射出成形樹脂基板及び該
基板上に設けられた記録層から実質的に構成され、該記
録層が下記一般式（１）で示されるフタロシアニン色素
を含有することを特徴とする光記録媒体である。

［式（１）中、Ｙ’、　Ｙ２．　Ｙツ、　Ｙ’、　Ｙ’
、　Ｙ’、　Ｙ’およびｙａは各々独立に置換または未
置換の炭化水素基を表し、Ｙ’とＹ２．　Ｙ３とＹ４．
　ｙＳとＹＩｓ、　Ｙ？とＹ８はお互いに異なり、ｘ’
、　ｘ”、　ｘ’、　ｘ’、　ｘ″、　ｘ’、　ｘフ、
Ｘ８は各々独立に水素原子、アルキルチオ基、アリール
チオ基を表し、Ｍは２個の水素、２価の金属原子、３価
又は４価の置換金属原子を表す。］本発明の光記録媒体
に於て用いられる基板としては、信号の記録や再生を行
うための光を透過するものが好ましい、光の透過率とし
ては８５％以上であり、且つ光学的異方性の小さいもの
が望ましい。例えばアクリル系樹脂、ポリカーボネート
系樹脂、アリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルエステル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等のプラス
チックやガラス等が好ましい例示として挙げられる。こ
れらの中で基板の機械的強度、案内溝やヘッダー信号な
どの付与のしやすさ、経済性の点からアクリル系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の射
出成形樹脂が好ましく、特にポリカーボネート系樹脂が
より好ましい。

これらの基板の形状は板状でもフィルム状でもよく、又
円形やカード状でもよい。もちろん基板の表面には記録
位置を表す案内溝やアドレス信号等のためのビットを有
していてもよい。このような案内溝やアドレス信号等は
、射出成形や注型によって基板を作製する際に付与する
のが好ましいが、基板上に紫外線硬化型樹脂を塗布しス
タンバ−と重ね合わせて紫外線露光を行うことによって
も付与できる。

本発明においては、このような基板上に前記−般式（１
）で表されるフタロシアニン系色素層を設けるものであ
る。

本発明における記録層に用いられる前記一般式（Ｉ）で
表されるフタロシアニン系色素に於て、Ｙ’、　Ｙ”、
　Ｙ’、　Ｙ’、　Ｙ’、　Ｙ’、　Ｙ７オヨＵＹ’ハ
置換＊りは未置換炭化水素基を表し、未置換炭化水素基
の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−へブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−
デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基等の直鎖
アルキル基、１ｓｏ−プロピル基、５ｅｃ−ブチル基、
　ｔｅｒｔ−ブチル基、１ｓｏ−ペンチル基、５ｅｃ−
ペンチル基、ネオペンチル基、ｌ−メチルブチル基、２
−メチルブチル基、１．１−ジメチルプロピル基、１．
２−ジメチルプロピル基等の分岐ペンチル基、メチルペ
ンチル基、エチルブチル基、２．３−ジメチルブチル基
、メチルエチルプロピル基等の分岐ヘキシル基、メチル
ヘキシル基、エチルペンチル基、ジメチルペンチル基、
プロピルブチル基、メチルエチルブチル基、トリメチル
ブチル基、ジエチルプロピル基等の分岐へブチル基、メ
チルへブチル基、２−エチルヘキシル基等のエチルヘキ
シル基、ジメチルヘキシル基、プロピルペンチル基、メ
チルエチルペンチル基、トリメチルペンチル基等の分岐
オクチル基、メチルオクチル基、ジメチルへブチル基、
エチルへブチル基、２．５．５−　トリメチルヘキシル
基等のトリメチルヘキシル基、メチルエチルヘキシル基
、プロピルヘキシル基、テトラメチルペンチル基、メチ
ルプロピルペンチル基、ジメチルエチルペンチル基、ジ
エチルペンチル基、メチルプロとルペンチル基等の分岐
ノニル基、メチルノニル基、４−エチルオクチル基等の
エチルオクチル基、ジメチルオクチル基、プロピルへブ
チル基、メチルエチルヘプチル基、トリメチルへブチル
基、ブチルヘキシル基、メチルプロピルヘキシル基、ジ
エチルヘキシル基、４．５−ジメチル−４−エチルヘキ
シル基等のジメチルエチルヘキシル基、テトラメチルヘ
キシル基等の分岐デシル基、メチルデシル基、エチルノ
ニル基、ジメチルノニル基、プロピルオクチル基、メチ
ルエチルオクチル基、トリメチルオクチル基、ジエチル
ヘプチル基、テトラメチルへブチル基、ブチルヘプチル
基等の分岐ウンデシル基、メチルウンデシル基、エチル
デシル基、ジメチルデシル基、メチルエチルノニル基、
トリメチルノニル基、４−ブチルオクチル基等のブチル
オクチル基、６．６−ジエチルオクチル基等のジエチル
オクチル基、１．３．５．７−テトラメチルオクチル基
等のテトラメチルオクチル基等の分岐ドデシル基、シク
ロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシク
ロヘキシル基、シクロアルキル基、ベンジル基、フェニ
ルエチル基、ブチルベンジル基等のアラルキル基、アリ
ル基、メチルブテニル基等のアルケニル基、フェニル基
、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフェニ
ル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。

また、置換炭化水素基とは、酸素、窒素、硫黄などの原
子を介して前記炭化水素基同志を結合してなる置換基で
あり、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル
基、エトキシエトキシエチル基、メトキシブチル基、エ
トキシブチル基、ブトキシブチル基、エトキシヘキシル
基、エトキシオクチル基、エチルチオエトキシエチル基
、ジメチルアミノエトキシエチル基等のアルコキシアル
キル基、ブチルオクチル基、フェノキシブチル基、ナフ
トキシエチル基等のアリールオキシアルキル基、ヒドロ
キシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基等のヒドロ
キシアルキル基、ジメチルアミノメチル基、ジメチルア
ミノエチル基、ジブチルアミノエチル基等の、アルキル
アミノアルキル基、メチルチオメチル基、エチルチオエ
チル基等のアルキルチオアルキル基、フェニルチオエチ
ル基、ナフチルチオエチル基等のアリールチオアルキル
基などが挙げられる。

本発明に於てＹ　ｌ、　Ｙ　ａの置換基はＹｌとＹ２．
　Ｙ３とＹ’、　Ｙ’とＹｌ、　Ｙ７とＹ８の組み合わ
せにおいてお互いに異なるものである。このことにより
、本発明の光記録媒体は耐久性の加速試験（６０℃、９
０％Ｒ１１）において５０００時間の長期にわたり色素
の結晶化が起こらず、そのため、従来これが原因と思わ
れる反射率や吸収強度の低下が生じない。また、再生光
安定性も１０００万回の再生を繰り返してもノイズの増
加は問題となるほどではない。

本発明に於て一分子中に於ける前記した置換基Ｙ１〜Ｙ
８の炭素数の合計が４０未満の場合は色素の溶剤に対す
る溶解性が不足するため、ポリカーボネートの射出成形
基板に直接塗布することが出来ない、一方、該置換基の
炭素数の合計が９６を越える場合は記録層からの反射率
が低下したり、色素が結晶化し易いために好ましくない
。この反射率や結晶化の点からは置換基Ｙ１〜Ｙ８が炭
素数５〜１２の置換または未置換炭化水素基が好ましい
。

一方、本発明の一般式（１）において、ｘ１〜×８で表
わされる置換基はアルキルチオ基、アリールチオ基を表
わすが、アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、
エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ヘキシ
ルチオ基、ベンチルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ
基、ドデシルチオ基等が挙げられ、アリールチオ基の例
としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、メチルフ
ェニルチオ基、ジメチルフェニルチオ基、ブチルフェニ
ルチオ基等が挙げられる。

一方、本発明の一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン
色素に於けるＭは、２個の水素、２価の金属、３価また
は４価の置換金属を表す、２価の金属の具体例としては
、Ｃｕ、　Ｚｎ、　Ｆｅ、　Ｃｏ、　Ｎｉ、　Ｒｕ。

Ｒｈ、　Ｐｄ、　Ｐｔ、　Ｍｎ、　Ｍｇ、　Ｔｉ、　Ｂ
ｅ、　Ｃａ、　Ｂａ、　Ｃｄ、　Ｈｇ。

Ｐｂ、　Ｓｎ等が挙げられる。３価の置換金属としては
、ＡＩ、　Ｇａ、　Ｉｎ、　ＴＩ、　Ｍｎ、　Ｆｅ、　
Ｒｕ等の３価金属のハロゲン化物（塩素、臭素、ヨウ素
）、水酸化物、アル基コキシ化物、アリール基オキシ化
物、シリル基オキシ化物、炭化水素化物、アリール基化
物やこれらの誘導体が挙げられる。４価の置換金属とし
ては、例えばＣｒ、　Ｓｆ、　Ｇｅ、釦、　Ｔｉ、　Ｚ
ｒ。

Ｍｎ、　Ｖ等の４価金属のジハロゲン化物、ジ水酸化物
、シアル基コキシ化物、ジアリール基オキシ化物、ジシ
リル基オキシ化物、ジ炭化水素化物、ジアリール基化物
や酸化物が挙げられる。半導体レーザーの発振波長に大
きな吸収を有する点や耐久性からは中心金属としては、
Ｃｕ、　Ｎｉ、　Ｃｏ、　Ｐｄ等の２価の金属や、ｖＯ
等の置換金属が好ましい。

本発明に於て用いられる色素は例えば次の経路に依って
合成することが出来る。

尚、本発明に用いられる色素の合成方法は上記した方法
以外にも種々あり、上記した方法に限定されるものでは
ない。

本発明に於て基板に色素からなる記録層を定着（形成）
するには、該フタロシアニン色素を溶媒に溶解してディ
ッピング、スピンコーティング等の塗布法で形成するの
が好ましい。

記録層を塗布により定着するには前記した色素と有機溶
剤からなる色素溶液を基板に接触させて色素を基板上に
定着することにより、より具体的には、例えば基板上に
前記色素溶液を流下せしめた後、または基板表面を色素
液の液面に接触せしめてからひきあげた後基板を回転さ
せながら余剰の色素液を除去する方法や、基板を回転さ
せながら色素液を該基板上に流下せしめる方法などがあ
る。又もし必要ならこの後、強制的な乾燥を行ってもよ
い。

塗布法において本発明の色素を溶解するのに用いられる
有機溶剤としては、通常の有機溶剤が使用出来るが、本
発明で用いられる射出成形基板に直接塗布出来るように
するには、射出成形基板にダメージを与えないような溶
剤、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族や脂環
式炭化水素系や、メチルアルコール、エチルアルコール
、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、メチル
セロソルブ等のアルコール系や、ジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル
系の溶剤が好ましい、塗布する際の色素液の濃度は溶剤
の種類及び塗布方法によって異なるが、通常０．１〜１
０重量％程度である。

本発明の光記録媒体において記録層の反射率を高くした
り、感度を更に高めたりするために前記した本発明のフ
タロシアニン色素に他の色素を、本発明の効果を阻害し
ない範囲において、例えば使用する色素の合計の大略５
０％未満の範囲で混合して使用することもできる。混合
して使用できる色素としては既に公知な例えば、芳香族
または不飽和脂肪族ジアミン系金属錯体、芳香族または
不飽和脂肪族ジチオール金属錯体、無置換または置換フ
タロシアニンまたはナフタロシアニン系色素、ポリメチ
ン系色素、スクアリウム系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素類等が挙げられる。

本発明においては記録層を形成する際に記録層の平滑性
を高めるためやピンホール等の欠陥を少なくするために
、本発明においては色素にニトロセルロース、エチルセ
ルロース、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂等の樹脂や
レベリング剤、消泡剤などの添加剤を添加して記録層の
形成を行うこともできる。しかし、これらの樹脂や添加
剤を多量に添加すると記録層の反射率が低下したり、記
録層中の色素が不均一な分散状態になったりして本発明
の効果を阻害する場合がある。これらの点より樹脂及び
添加剤の添加量は記録層中の２０重量％未満、好ましく
は１０重量％未満、更に好ましくは５重量％未満である
。

一般に光記録媒体において、記録層の厚みは反射率、記
録感度等に影響を及ぼすが、本発明における記録層の厚
みは３０〜２５０止が好ましく、更に好ましくは４０〜
２００ｎｍである。

本発明の光記録媒体は前記したように基板を通してのレ
ーザービーム（基板側から照射されたビーム）により信
号の記録及び再生を行うのが好ましい。

一般に光記録媒体において信号を記録するには、記録層
に焦点を合わせてレーザービームな照射すると該照射部
の記録層がレーザー光を吸収して熱を発生する。この発
生した熱により記録層が変質して反射率が変化すること
によって記録が行われる０次に記録した信号を再生する
には、この反射率の変化をレーザービームにより検出す
ることにより行うが、この反射率の変化が小さいと、信
号と雑音の比（Ｃ／Ｎ）が小さく好ましくない。この反
射率の変化を大きくするには記録前の反射率を大きくし
なければならない、一方、感度の点より記録層をより高
感度にするには記録層がレーザー光をより吸収しなけれ
ばならない、即ち記録層はレーザ光に対し高反射、高吸
収でなければならない、更に光記録媒体には、再生光に
長時間因露したり、長期に保存しても光学的（反射率、
吸収強度）変化や物理的変化を起こさないことが要求さ
れる。

本発明の最も特徴とするところは、本発明のフタロシア
ニン色素を記録層として用いた場合、記録層は半導体レ
ーザーの発振波長域に大きな吸収を有し、且つ記録層は
それ自身で高い反射率を有する。更に、再生光や長期保
存に対しても媒体特性は変化しない。

本発明の光記録媒体を実用に供するに当たっては、記録
層を保護するために記録層の上に紫外線硬化樹脂等を塗
布したり、記録層面に保護シートを張り合せたり、又記
録層の面同士を内側にして２枚張り合わせる等の手段を
用いても良い。この際、記録層の上にエアーギャップを
設けて張り合せる方が望ましい。

尚、本発明の光記録媒体において、信号の記録及び再生
に用いられるレーザー光としては、通常６４０〜８５０
ｎｍに発振波長を有する半導体レーザーが好ましい。そ
して例えばｌ１ｍ／ｓの線速で記録する場合、記録層上
におけるレーザーの出力を５〜１’２ｍＷ程度にし、又
再生する場合はレーザーの出力を記録時の１／１０程度
にすればよい。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれにより限定されるものではない。

火１１肌１ 厚さ　１．２ｍｍ、直径１３０ｍｍのスパイラル状の案
内溝（深さ７０ｎｍ、幅０．６ｐｍ、ピッチ１．６ｇｍ
）を有する射出成形ポリカーボネート樹脂基板の案内溝
を有する面の中心部に一般式（Ｉ）に於て、置換基Ｙ１
、Ｙ３、Ｙ５およびＹ７がｎ−ペンチル基、Ｙ２、Ｙ４
、Ｙ６およびＹ８が２−エチルヘキシル基、ｘ’−ｘ”
がフェニルチオ基、ＭがＣυである構造のフタロシアニ
ン色素の３％オクタン溶液を滴下した後、この樹脂基板
を１１０００ｒｐの速度で１０秒間回転した。つぎにこ
の樹脂基板を４０℃の雰囲気で１０分間乾燥し、樹脂基
板上に実質的にフタロシアニン色素のみからなる記録層
を定着した。

この記録層の厚さは顕微鏡による断面の測定で約７０ｎ
ｍであった。又樹脂基板を通しての７８０ｎｍの波長の
光に対する吸収は４３％、基板を通しての集束光の反射
率は３１％であった。

このようにして作った同じ記録板を記録層面同士を内側
にして５００ＪｉＩｍのエアーギャップを設けて２枚張
り合わせ光記録媒体を作った。

この光記録媒体をターンテーブルに乗せ、１８００ｒｐ
ｍの速度で回転させながら、７８０ｎｍの発振波長を有
する半導体レーザーを搭載した光学ヘッドを有するドラ
イブを用いて、レーザービームを樹脂基板を通して案内
溝上の記録層に集束するように制御しながら記録面上で
１０ｍＷのレーザー出力で３．７Ｍ）ｌｚのパルス信号
（パルス幅９０ｎｓ）の記録を媒体の最外周部（線速１
１ｍ／ｓ）に行った。次に同じ装置を用いて半導体レー
ザーの出力を記録面で１ｍＷにして記録した信号の再生
を行った。この際信号と雑音の比（Ｃ／Ｎ）は５６ｄＢ
得られ、きわめて良好な記録と再生が行えた。この光記
録媒体の再生光安定性を調べるために、この記録した信
号を１　ｍＷの再生光で１０００万回同じトラックを繰
り返し連続して再生を行ったが、記録した信号の大きさ
、及びＣ／Ｎ値には全く変化が見られなかった。

この光記録媒体の耐久性を調べるために６０℃、９０％
ＲＨの雰囲気に５０００時間放置した後、光記録媒体の
吸収特性及び反射率を測定したが、初期と殆ど変化はな
かった。次に記録特性の耐久性を調べるために、耐久性
試験をする前に記録した信号の再再生を行ったところ５
４ｄＢのＣ／Ｎ値が得られ、耐久性試験による記録層の
劣化はほとんど無かった。

２、　　　１ 実施例１におけるフタロシアニン色素の代わりに表１に
示した構造の色素を用いて媒体を作り、実施例１と同じ
方法で評価した。結果を表２に示す。

実施例１．２から明らかなように本発明の光記録媒体は
反射率が大きく、いずれも５０ｄＢ以上の優れたＣ／Ｎ
値が得られており、且つ再生光安定性及び５０００時間
にも及ぶ加速の耐久性試験においてもほとんど特性は変
化せず非常に優れていることがわかる６ ［発明の効果１ 本発明の光記録媒体は記録層に特定のフタロシアニン色
素を用いることにより、記録層が半導体レーザー光に対
して大きな吸収を持つと共に、記録層自身が充分な反射
率を有する。それ故に、高感度で、且つ金属や金属酸化
物薄膜等の反射屡を別途膜けなくても信号の記録や再生
を行うことが出来ると共に、初期の反射率が大きいため
に大きなＣ／Ｎ値が得られる。又本発明の光記録媒体は
塗布法によって容易に大量生産が可能で、且つ、再生光
安定性、耐久性にも優れ長期間にわたる使用が可能であ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）反射層を有することなしに信号の記録及び再生を
   行いうる光記録媒体であって、透明な射出成形樹脂基板
   及び該基板上に設けられた記録層から実質的に構成され
   、該記録層が下記一般式（ I ）で示されるフタロシア
   ニン色素を含有することを特徴とする光記録媒体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式（ I ）中、Ｙ＾１、Ｙ＾２、Ｙ＾３、Ｙ＾４、Ｙ
   ＾５、Ｙ＾６、Ｙ＾７およびＹ＾８は各々独立に置換ま
   たは未置換の炭化水素基を表し、Ｙ＾１とＹ＾２、Ｙ＾
   ３とＹ＾４、Ｙ＾５とＹ＾６、Ｙ＾７とＹ＾８はお互い
   に異なり、Ｘ＾１、Ｘ＾２、Ｘ＾３、Ｘ＾４、Ｘ＾５、
   Ｘ＾６、Ｘ＾７、Ｘ＾８は各々独立に水素原子、アルキ
   ルチオ基、アリールチオ基を表し、Ｍは２個の水素、２
   価の金属原子、３価又は４価の置換金属原子を表す。］
   （２）式（ I ）中の置換基Ｙ＾１、Ｙ＾２、Ｙ＾３、
   Ｙ＾４、Ｙ＾５、Ｙ＾６、Ｙ＾７およびＹ＾８中の炭素
   数の合計が４０〜９６である特許請求の範囲第１項記載
   の光記録媒体。 （３）式（ I ）中のＸ＾１、Ｘ＾２、Ｘ＾３、Ｘ＾４
   、Ｘ＾５、Ｘ＾６、Ｘ＾７およびＸ＾８が炭素数１〜１
   ２の置換または未置換の炭化水素基である特許請求の範
   囲第２項記載の光記録媒体。 （４）式（ I ）中のＹ＾１、Ｙ＾２、Ｙ＾３、Ｙ＾４
   、Ｙ＾５、Ｙ＾６、Ｙ＾７およびＹ＾８が炭素数５〜１
   ２のアルキルチオ基またはアリールチオ基である特許請
   求の範囲第３項記載の光記録媒体。 （５）基板がポリカーボネート樹脂基板である特許請求
   の範囲第４項記載の光記録媒体。