JPH0227723A - 有機溶剤乾燥装置 - Google Patents
有機溶剤乾燥装置Info
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- JPH0227723A JPH0227723A JP17642288A JP17642288A JPH0227723A JP H0227723 A JPH0227723 A JP H0227723A JP 17642288 A JP17642288 A JP 17642288A JP 17642288 A JP17642288 A JP 17642288A JP H0227723 A JPH0227723 A JP H0227723A
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Landscapes
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、箱を伏せたような形状の被乾燥物の乾燥に好
適な、有機溶剤乾燥方法に関するものである。
適な、有機溶剤乾燥方法に関するものである。
半導体ウェハなどの超晴密洗浄では、最終の乾燥法とし
てＩＰＡベーパなどの有機溶剤による乾燥法を用いてい
る。上記有機溶剤乾燥法は例えばＩＰＡ（イソプロピル
・アルコール）のようなベーパを水分と置換させて乾燥
するもので、一般には第４図に例示するように１石英あ
るいはステンレスなどで作られた乾燥槽２の底部にＩＰ
Ａ３を注入し、上記乾燥槽２の内部に例えばウェハケー
ス１のような被乾燥物を設置し、上記乾燥槽２の底部（
第４図（ａ））または底部と側壁（第４図（ｂ））をヒ
ータ４で加熱しながらＩＰＡのベーパを発生させる。上
記ＩＰＡは通常のメチルあるいはエチルアルコールより
は気化しにくいが、沸点が８２．４℃であるため比較的
気化しゃすく、乾燥槽２内のウェハケース１に付着した
水分を取込んで置換する。水分がＩＰＡに置換されたウ
ェハケース１を乾燥槽２から引出すと、上記乾燥槽２の
上部に設けた冷却部５を通過する際にＩＰＡは被乾燥物
表面から蒸発して乾燥される。
てＩＰＡベーパなどの有機溶剤による乾燥法を用いてい
る。上記有機溶剤乾燥法は例えばＩＰＡ（イソプロピル
・アルコール）のようなベーパを水分と置換させて乾燥
するもので、一般には第４図に例示するように１石英あ
るいはステンレスなどで作られた乾燥槽２の底部にＩＰ
Ａ３を注入し、上記乾燥槽２の内部に例えばウェハケー
ス１のような被乾燥物を設置し、上記乾燥槽２の底部（
第４図（ａ））または底部と側壁（第４図（ｂ））をヒ
ータ４で加熱しながらＩＰＡのベーパを発生させる。上
記ＩＰＡは通常のメチルあるいはエチルアルコールより
は気化しにくいが、沸点が８２．４℃であるため比較的
気化しゃすく、乾燥槽２内のウェハケース１に付着した
水分を取込んで置換する。水分がＩＰＡに置換されたウ
ェハケース１を乾燥槽２から引出すと、上記乾燥槽２の
上部に設けた冷却部５を通過する際にＩＰＡは被乾燥物
表面から蒸発して乾燥される。
上記従来技術は、被乾燥物の形状が例えば箱を逆さまに
伏せたような形状の場合には、上記被簡毒物の内部にま
で有機溶剤のベーパが入り込まないため、有機溶剤の置
換が十分に行われず、したがって、被乾燥物の完全な乾
燥ができないという問題がある。
伏せたような形状の場合には、上記被簡毒物の内部にま
で有機溶剤のベーパが入り込まないため、有機溶剤の置
換が十分に行われず、したがって、被乾燥物の完全な乾
燥ができないという問題がある。
乾燥槽内の有機溶剤を加熱し気化させると同時に、被乾
燥物内部を減圧する手段を設けることにより達成される
。
燥物内部を減圧する手段を設けることにより達成される
。
本発明は１箱を逆さまに伏せたような被乾燥物の内部も
、十分に乾燥できる有機溶剤の乾燥装置を得ることを目
的とする６ 〔作用〕 有機溶剤のベーパが十分に細部まで到達しにくい形状の
被乾燥物、例えば１箱を逆さまに伏せたような形状の被
乾燥物の場合には、ヒータで間接的に加熱し上昇した有
機溶剤のベーパも、従来技術では上記被乾燥物の内部に
充満する空気や水滴を圧縮するだけであり、上記水分を
有機溶剤のベーパで完全に置換することができない６本
発明は。
、十分に乾燥できる有機溶剤の乾燥装置を得ることを目
的とする６ 〔作用〕 有機溶剤のベーパが十分に細部まで到達しにくい形状の
被乾燥物、例えば１箱を逆さまに伏せたような形状の被
乾燥物の場合には、ヒータで間接的に加熱し上昇した有
機溶剤のベーパも、従来技術では上記被乾燥物の内部に
充満する空気や水滴を圧縮するだけであり、上記水分を
有機溶剤のベーパで完全に置換することができない６本
発明は。
上記被乾燥物の内部に排気装置の排気管先端を導入し、
被乾燥物内部の圧力を減圧することによって、上記被乾
燥物内部で有機溶剤ベーパの流れを生じさせ、上記被乾
燥物内部の隅々まで有機溶剤のベーパを送り込み、有機
溶剤と置換をすることが可能になる。
被乾燥物内部の圧力を減圧することによって、上記被乾
燥物内部で有機溶剤ベーパの流れを生じさせ、上記被乾
燥物内部の隅々まで有機溶剤のベーパを送り込み、有機
溶剤と置換をすることが可能になる。
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する。
第１図は本発明による有機溶剤乾燥装置の一実施例を示
す説明図、第２図は上記乾燥装置の他の実施例を示す説
明図、第３図（ａ）および（ｂ）は局部的に加圧するこ
とによって、有機溶剤ベーパへの置換を行わせる装置の
例をそれぞれ示す図である。
す説明図、第２図は上記乾燥装置の他の実施例を示す説
明図、第３図（ａ）および（ｂ）は局部的に加圧するこ
とによって、有機溶剤ベーパへの置換を行わせる装置の
例をそれぞれ示す図である。
第１図において、乾燥槽２は底部に加熱用ヒータ４を備
えて、有機溶剤、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰ
Ａ）３を注入するとともに、開口部近傍に冷却管５を設
けている。上記乾燥槽２の内部には被乾燥物１例えば箱
を逆さまに伏せたような形状の被乾燥物ｌＯが設置され
ている。第１図に示す実施例では、水流ポンプ（アスピ
レータ）７、流量調整バルブ８および回収タンク６から
なる排気装置の、排気管１１の先端を、上記被乾燥物Ｉ
Ｏの内側に導いている。上記排気装置は流量調整バルブ
８により、Ｎつまたは高圧空気をアスピレータ７の内部
細管から噴射させ、排気管１１の先端を減圧すもので、
このようにして減圧すると、矢印で示すような有機溶剤
のベーパの流れを生じ。
えて、有機溶剤、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰ
Ａ）３を注入するとともに、開口部近傍に冷却管５を設
けている。上記乾燥槽２の内部には被乾燥物１例えば箱
を逆さまに伏せたような形状の被乾燥物ｌＯが設置され
ている。第１図に示す実施例では、水流ポンプ（アスピ
レータ）７、流量調整バルブ８および回収タンク６から
なる排気装置の、排気管１１の先端を、上記被乾燥物Ｉ
Ｏの内側に導いている。上記排気装置は流量調整バルブ
８により、Ｎつまたは高圧空気をアスピレータ７の内部
細管から噴射させ、排気管１１の先端を減圧すもので、
このようにして減圧すると、矢印で示すような有機溶剤
のベーパの流れを生じ。
上記被乾燥物の内部が有機溶剤のベーパに置換され、冷
却コイル５の間を通過する際に完全に乾燥する。上記減
圧は数ａｔｍ程度でよい。
却コイル５の間を通過する際に完全に乾燥する。上記減
圧は数ａｔｍ程度でよい。
第２図に示す他の実施例は、被乾燥物１０の内部に導入
された排気管１１を直接ポンプ９で吸引して排気を行う
例であって、上記実施例と同様に被乾燥物１０が減圧さ
れることにより、矢印で示すような有機溶剤のベーパの
流れを生じて有機溶剤ベーパの置換が行われて、乾燥す
る。
された排気管１１を直接ポンプ９で吸引して排気を行う
例であって、上記実施例と同様に被乾燥物１０が減圧さ
れることにより、矢印で示すような有機溶剤のベーパの
流れを生じて有機溶剤ベーパの置換が行われて、乾燥す
る。
なお、上記実施例では被乾燥物１０の内部で有機溶剤ベ
ーパの置換を生じさせるために、上記被乾燥物１０の内
部を減圧したが、第３図（ａ）および（ｂ）に示すよう
に、ノズル１２の先端を加圧する方法も考えられるが、
上記乾燥槽２における内圧上昇の危険性があり、また、
加圧された有機溶剤ベーパの噴射によってベーパ気流に
乱れを発生し。
ーパの置換を生じさせるために、上記被乾燥物１０の内
部を減圧したが、第３図（ａ）および（ｂ）に示すよう
に、ノズル１２の先端を加圧する方法も考えられるが、
上記乾燥槽２における内圧上昇の危険性があり、また、
加圧された有機溶剤ベーパの噴射によってベーパ気流に
乱れを発生し。
乾燥槽２の外部に有機溶剤ベーパが溢れ出し１作業環境
の汚染や爆発を生じる危険性があり、好ましくない。
の汚染や爆発を生じる危険性があり、好ましくない。
上記のように本発明による有機溶剤乾燥装置は、内部に
被乾燥物を設置した乾燥槽の、加熱装置を備えた底部に
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）のような有機溶剤を
注入し、上記乾燥槽の開口部近傍に冷却コイルを設けた
有機溶剤乾燥装置において、上記被乾燥物の内部に、排
気装置の排気管を導入したことにより、従来は完全な乾
燥が困難であった、箱を逆さまに伏せたような形状の被
乾燥物の内部でも、減圧による有機溶剤ベーパの流れを
生じ、それにより、上記被乾燥物内部で有機溶剤ベーパ
への置換が行われ、十分な乾燥を行うことが可能である
。
被乾燥物を設置した乾燥槽の、加熱装置を備えた底部に
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）のような有機溶剤を
注入し、上記乾燥槽の開口部近傍に冷却コイルを設けた
有機溶剤乾燥装置において、上記被乾燥物の内部に、排
気装置の排気管を導入したことにより、従来は完全な乾
燥が困難であった、箱を逆さまに伏せたような形状の被
乾燥物の内部でも、減圧による有機溶剤ベーパの流れを
生じ、それにより、上記被乾燥物内部で有機溶剤ベーパ
への置換が行われ、十分な乾燥を行うことが可能である
。
第１図は本発明による有機溶剤乾燥装置の一実施例を示
す説明図、第２図は上記乾燥装置の他の実施例を示す説
明図、第３図（ａ）および（ｂ）は局部的に加圧する装
置の例をそれぞれ示す図、第４図（ａ）および（ｂ）は
従来のＩＰＡベーパ乾燥装置をそれぞれ示す説明図であ
る。 ２・・・乾燥槽 ３・・・有機溶剤、例えばイソプロピルアルコール（Ｉ
ＰＡ） ４・・・加熱装置 ５・・・冷却コイル】０・
・被乾燥物 １１・・・排気管第 代理人弁理士 中 村 純之助 １Ｍ＃、ｉ賦を 第 ２図
す説明図、第２図は上記乾燥装置の他の実施例を示す説
明図、第３図（ａ）および（ｂ）は局部的に加圧する装
置の例をそれぞれ示す図、第４図（ａ）および（ｂ）は
従来のＩＰＡベーパ乾燥装置をそれぞれ示す説明図であ
る。 ２・・・乾燥槽 ３・・・有機溶剤、例えばイソプロピルアルコール（Ｉ
ＰＡ） ４・・・加熱装置 ５・・・冷却コイル】０・
・被乾燥物 １１・・・排気管第 代理人弁理士 中 村 純之助 １Ｍ＃、ｉ賦を 第 ２図
Claims (1)
- １、内部に被乾燥物を設置した乾燥槽の、加熱装置を備
えた底部にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）のような
有機溶剤を注入し、上記乾燥槽の開口部近傍に冷却コイ
ルを設けた有機溶剤乾燥装置において、上記被乾燥物の
内部に、排気装置の排気管を導入したことを特徴とする
有機溶剤乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17642288A JPH0227723A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 有機溶剤乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17642288A JPH0227723A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 有機溶剤乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0227723A true JPH0227723A (ja) | 1990-01-30 |
Family
ID=16013423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17642288A Pending JPH0227723A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 有機溶剤乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0227723A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5520744A (en) * | 1993-05-17 | 1996-05-28 | Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. | Device for rinsing and drying substrate |
| JP2021109996A (ja) * | 2020-01-08 | 2021-08-02 | 凸版印刷株式会社 | タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法 |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP17642288A patent/JPH0227723A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5520744A (en) * | 1993-05-17 | 1996-05-28 | Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. | Device for rinsing and drying substrate |
| JP2021109996A (ja) * | 2020-01-08 | 2021-08-02 | 凸版印刷株式会社 | タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法 |
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