JPH02278814A

JPH02278814A - ウエハの露光方法

Info

Publication number: JPH02278814A
Application number: JP1100858A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Shimane; 島根　一男
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1989-04-20
Filing date: 1989-04-20
Publication date: 1990-11-15
Anticipated expiration: 2013-05-18
Also published as: JP2752148B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔概要］ウェハの露光方法に係り、特にウェハ周縁部の露光方法
に関し。

周縁露光位置を正確に決めて１枚のウェハからとれるチ
ップ数を大きくすると共に、ウェハ上のチップの位置を
確定することを目的とし。

（１）全面にレジスト膜の形成されたウェハの周縁部を
露光するウェハの露光方法において、最小の露光領域と
なる単位矩形を定め、該ウェハ全面に該単位矩形を網目
とする仮想網をかけたとした時に、該ウェハの周縁部と
重なる網目を網目毎に露光して、該ウェハの周縁部の全
部を露光するウェハの露光方法、及び〔２〕全面にレジ
スト膜の形成されたウェハの周縁部を露光するウェハの
露光方法において、最小の露光領域となる単位矩形を定
め、該ウェハ全面に該単位矩形を網目とする仮想網をか
けたとした時に、該ウェハのほぼ中心を通る該仮想網の
直交する２本の仮想糸が該ウェハの周縁部と交叉する点
を位置確認点と定め、該位置確認点の両側の網目を除き
該ウェハの周縁部と重なる網目を網目毎に露光し、該位
置確認点の両側の網目は該位置確認点の両側に離れるよ
うに移動して露光することにより、該位置確認点を含む
未露光領域を形成するウェハの露光方法により構成する
。

〔産業上の利用分野〕

本発明はウェハの露光方法に係り、特にウェハ周縁部の
露光方法に関する。

半導体のフォト工程においては、ウェハ全面にレジスト
膜を形成した後でウェハ周縁部のレジストを除いておく
必要がある。レジストの塗膜は通常ウェハ周縁部で厚く
なり、その後の工程でその一部が剥離したりすることが
ある。また、ウェハをキャリアに収納する時ウェハ周縁
部がキャリアの溝と接触し、その部分のレジストが剥離
したりする。剥離したレジストはごみとなって、その後
の工程に支障を来す。そういう理由からウェハ全面にレ
ジスト膜を形成した後でウェハ周縁部のレジストを除く
ことが行われる。

しかも、集積回路の製造では、ウェハ周縁部のレジスト
の除去する領域を必要最小限におさえて１枚のウェハか
らとれるチップ数を大きくすることも要求される。

さらに、素子形成を終えた大量のチップが配置されてい
るウェハからチップを取ってグイバッドにボンディング
する際、チップの取り違え等を防止することも要求され
ている。

〔従来の技術〕

従来、ウェハ周縁部のレジストを除去する方法の一つと
して、第５図の従来例■に示すような方法がある。第５
図において、ｌは全面にレジスト膜の形成されたウェハ
、６１はウェハステージ、６２は回転用モータ、６３は
台、６６はｎ光装置の一部をなす光学レンズ系を表す。

この方法では、はぼ円形のウェハｌを中心軸の周りに回
転させることにより、ウェハ周縁部からのある幅を光学
レンズ系６６により露光することにより、ウェハ周縁部
のレジストを除去する。ところが、ウェハの寸法にばら
つきがあること、ウェハから将来取るべきチップの形状
は四角形であること等の理由から、ウェハの位置設定の
精度が悪いと、後の工程でウェハ周縁部に近いチップに
不良が生じたり、ウェハ上のチップの位置が正確に定ま
らないといった問題があった。

また、ウェハの周縁位置を自動的に検出しなからウェハ
周縁部から一定の幅を露光する露光装置もある。第６図
の従来例■はこれを説明するための図で、ｌは全面にレ
ジスト膜の形成されたウェハ２６１はウェハステージ、
６２は回転用モータ、６３は台、６６は露光装置の一部
をなす光学レンズ系。

６７は発光系、６８は受光系、８１は移動ステージを表
す。

この装置は、ウェハの形状が円形から若干はずれた場合
、受光系６８に入る光量が変化し、その変化量を移動ス
テージ８１にフィードバックして移動ステージ８１を動
かし、常にウェハの周縁部を一定の幅で露光するように
したものである。

この装置によれば、ウェハ周縁部のレジストは一定の幅
をもって均一に除去され、ウェハ周縁部のレジストが剥
離してごみとなる問題は解決されるが、この装置によっ
ても、ウェハの寸法にばらつきがあると、後の工程でウ
ェハ周縁部に近いチップに不良が生じたり、ウェハ上の
チップの位置が正確に定まらないといった問題がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は２以上の従来法の欠点に鑑み、ウエハ周縁部の
レジストが剥離してごみとなる問題を解決すると共に、
ウェハ周縁部に近いチップでも不良を生じないように周
縁露光位置を正確に定めて。

１枚のウェハからとれるチップ数を大きくすると共に、
ウェハ上のチップの位置を確定し、ダイスボンディング
等の際のチップの取り違えを防止することを目的とする
。

〔課題を解決するための手段〕

第１図は本発明の原理説明図であり、第１図（ａ）はウ
ェハ周縁部を全部露光する方法、第１図（ｂ）はウェハ
周縁部の一部に位置確認用の未露光領域を残し、それ以
外の周縁部を全部露光する方法を説明するための図であ
る。

第１図（ａ）及び（ｂ）において、■は全面にレジスト
膜の形成されたウェハ、１１はウェハの周縁部、２は仮
想網、　２１はウェハの周縁部と重なる網目、２２は位
置確認点の両側の網目、　３１．３２は仮想糸、　４１
．４２は位置確認点、　５１．５２は未露光領域を表す
。

上記課題は、　〔１〕全面にレジスト膜の形成されたウ
ェハ１周縁部１１を露光するウェハの露光方法において
、最小の露光領域となる単位矩形を定め６該ウ工ハ全面
に該単位矩形を網目とする仮想′ｙＩ２をかけたとした
時に、該ウェハ１の周縁部１１と重なる網目２１を網目
毎に露光して、該ウェハ１の周縁部１１の全部を露光す
るウェハの露光方法、及び〔２〕全面にレジスト膜の形
成されたウェハ１の周縁部１１を露光するウェハの露光
方法において。

最小の露光領域となる単位矩形を定め、該ウェハ全面に
該単位矩形を網目とする仮想網２をかけたとした時に、
該ウェハ１のほぼ中心を通る該仮想網２の直交する２本
の仮想糸３１．３２が該ウェハ１の周縁部１１と交叉す
る点を位置確認点４１．４２と定め、該位置確認点４１
．４２の両側の網目２２を除き該ウェハ１の周縁部１１
と重なる網目２１を網目毎に露光し、該位置確認点４１
．４２の両側の網目２２は該位置確認点４１．４２の両
側に離れるように移動して露光することにより５該位置
確認点４１．４２を含む未露光領域５１．５２を形成す
るウェハの露光方法によって解決される。

〔作用〕

本発明では、先ず最小の露光領域となる単位矩形を定め
る。この単位矩形はウェハがら将来取るべきチップの形
状に対応するものである。

この単位矩形を網目とする仮想網をウェハ全面にかけた
とすると、ウェハ内部にある網目に対応する領域は将来
チップに使用できる領域であり。

網目と重なるウェハ周縁部を含む領域はチップとして使
用することはできない。ウェハ周縁部と重なる網目の部
分に露光してその部分のレジスト膜を除去すれば、その
後の工程でウェハ周縁部のレジスト膜が剥離して悪影響
を及ぼすという問題はなくなる。

また、単位矩形を網目とする仮想網により将来取るべき
チップの位置が確定して、チップとして使用できるチッ
プ数を最大限にまであげることができる。

さらに１位置確認点を設け、そこを含む未露光領域を形
成しておけば、ウェハ毎に寸法にばらつきがあってもウ
ェハ単独でチップを形成すべき位置が確定されるので、
ウェハ内のチップの位置が確定し２例えばダイスボンデ
ィングの際チップの取り違えを生じることがない。

仮想網の網目毎の露光は２例えばウェハをＸ方向及びＸ
方向に移動するＸ−Ｙステージの上にのせ、単位矩形の
両辺の方向をＸ方向及びＸ方向に合わせ、Ｘ方向及びＸ
方向に単位矩形の寸法を単位としてステップ的に移動し
、露光することにより、達成される。

位置確認点はウェハの中心を通るＹ軸及びＹ軸をきめる
ものであるが、ウェハとチップの公称寸法は予め分かっ
ているから、その位置を予め設定することは可能である
。

〔実施例〕

以下１本発明の実施例について説明する。

第４図は本発明を実施するための装置を説明するための
図で、第４図（ａ）はステップ移動ａ構を、第４図（ｂ
）はセンサの配置を説明するための図である。

第４図（ａ）及び（ｂ）において、１は全面にレジスト
膜の形成されたウェハ、　６１はウェハステージ、６２
は回転用モータ、６３は台、６４はＸ方向リニアパルス
モータ、６５はＸ方向リニアパルスモータ、６６は光学
レンズ系、　７１．７２．７３はセンサを表す。

ウェハｌはウェハステージ６１に真空吸引により固定さ
れている。ウェハステージ６１は回転用モータ６２によ
って回転し、さらにウェハステージ６１はＸ方向リニア
パルスモータ６４によってＸ方向に。

Ｘ方向リニアパルスモータ６５によってＸ方向に移動す
る。

回転用モータ６２及びリニアパルスモークロ４．６５に
よってウェハｌを移動し、予めウェハのインチ数に応じ
て設定されたセンサ７１．７２．７３によりウェハｌの
位置を確定する。

センサは例えばフォトセンサで、ウェハの周縁部がその
位置にきたことを検知する。センサの配置は１例えばセ
ンサ７１．７２はウェハｌのオリフラをＸ方向に合わす
ように、センサ７３はウェハ１の中心を通るＸ方向をと
るように配置される。

このようにして、ウェハ１の位置を確定した後。

ウェハはＸ方向リニアパルスモータ６４．Ｘ方向リニア
パルスモータ６５によって単位矩形の寸法だけステップ
状に動かされ、単位矩形にウェハ周縁部が入る所だけ露
光される。

第２図は実施例■で、６インチウェハの周縁部を含む単
位矩形を全部露光した例である。第２図において、ｌは
全面にレジスト膜の形成されたウェハ、１１はウェハの
周縁部、２１はウェハの周縁部と重なる網目を表す。

まず、単位矩形の寸法は縦、横とも５ｍｍとし。

６インチウェハの公称寸法に合わせて露光すべき周縁部
の位置を求めておく。単位矩形の寸法は。

素子形成後に切り出すチップの寸法に対応するものであ
る。

次に９例えばオリフラの位置から露光を開始し５次々に
単位矩形の縦の長さ或いは横の長さだけウェハを移動し
て露光して行き、ウェハの全周を露光する。

その後、現像することによりウェハの周縁部を含む単位
矩形のレジスト膜は除去される。内部に残るレジスト膜
の形成されたウェハ領域はチップとして使用可能な領域
である。

第３図は実施例■で、６インチウェハの周縁部の一部に
位置確認用の未露光領域を残し、それ以外の周縁部を含
む単位矩形を全部露光した例である。第３図において、
ｌは全面にレジスト膜の形成されたウェハ、１１はウェ
ハの周縁部、２１はウェハの周縁部と重なる網目、　４
１．４２は位置確認点。

２２は位置確認点の両側の網目、　５Ｌ　５２は未露光
領域を表す。

まず、前述のセンサ７１乃至７３で６インチウェハの公
称寸法による内部の中心を定めておく。その中心を基準
として、未露光領域を形成するためのＸ方向及びＸ方向
の位置確認点４１．４２が予め与えられる。単位矩形の
寸法は縦、横とも５ｍｍとし。

チップの寸法に対応する。

位置確認点４１．４２の両側の網目を除き、ウェハ周縁
部１１と重なる網目を露光する。

位置確認点４１の両側の網目はＸ方向に１位置確認点４
２の両側の網目はＸ方向に、お互いに離れるように１ｍ
ｌ１ｌづつ移動した後、その網目を露光する。

露光後、現像すれば基準確認点４１．４２を含む未露光
領域５１．５２の部分に２ｍｍ幅のレジストが残る。

このレジスト残は、後の工程においてウェハの中心位置
を確認し、ウェハ上のチップの位置を確定するのに使う
ことができる。

特にウェハのチップに素子形成を完了し、ウェハからチ
ップを選び出してダイスボンディングする際、中心位置
が確認できるので１位置が座標付けされたチップを間違
いなく選び出すことができる。

公称６インチウェハといっても１寸法にばらつきがある
が、そのばらつきは通常プラスマイナス１ｍｍ程度であ
るので、単位矩形の寸法を縦、横ともに５ＩＩＩＩＩｌ
とし、公称値で露光する周縁部を予め設定しておいても
実際上問題はない。安全のためマージンをみて設定して
おくこともできる。

〔発明の効果〕

以上説明した様に２本発明によれば、ウェハ周縁部の露
光位置を正確にきめて、１枚のウェハからとれるチップ
数を太き（することができると共にダイスボンディング
等の隙のチップの取り違えを防止することができる。

本発明はチップ数が多い大きなウェハにおいて特に大き
な効果を奏し、集積回路の製造に寄与するところが大き
い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理説明図で、第１図（ａ）はウェハ
周縁部を全部露光する場合、第１図（ｂ）はウェハ周縁
部に未露光領域を残す場合。第２図は実施例Ｉを説明するための図。第３図は実施例■を説明するための図。第４図は本発明を実施する装置を説明するための図で、
第４図（ａ）はステップ移動機構、第４図（ｂ）はセン
サの配置。第５図は従来例■を説明するための図。第６図は従来例■を説明するための図である。図において。 ■はウェハであって全面にレジスト膜の形成されたウェ
ハ。１１はウェハの周縁部。２は仮想網。２１はウェハの周縁部と重なる網目。２２は位置確認点の両側の網目。３１、３２は仮想網を形成する仮想糸。４１、４２は位置確認点。５１、５２は未露光領域。６１はウェハステージ。６２は回転用モータ。６３は台。６４はＸ方向はリニアパルスモーク。６５はＹ方向はリニアパルスモータ１６６は光学レンズ系。６７は発光系。６８は受光系。７１乃至７３はセンサ。８１はｆ多動ステージ（ａ） ↑そ日月の月五￥説Ｂ月図男　６　図（ｆの１）＋し＋不ｔｅ１４のＲ理説朗図男　イ　図　（その２）一カ」

Claims

【特許請求の範囲】〔１〕全面にレジスト膜の形成されたウェハ（１）の周
縁部（１１）を露光するウェハの露光方法において、最
小の露光領域となる単位矩形を定め、該ウェハ全面に該
単位矩形を網目とする仮想網（２）をかけたとした時に
、該ウェハ（１）の周縁部（１１）と重なる網目（２１
）を網目毎に露光して、該ウェハ（１）の周縁部（１１
）の全部を露光することを特徴とするウェハの露光方法
。〔２〕全面にレジスト膜の形成されたウェハ（１）の周
縁部（１１）を露光するウェハの露光方法において、最
小の露光領域となる単位矩形を定め、該ウェハ全面に該
単位矩形を網目とする仮想網（２）をかけたとした時に
、該ウェハ（１）のほぼ中心を通る該仮想網（２）の直
交する２本の仮想糸（３１、３２）が該ウェハ（１）の
周縁部（１１）と交叉する点を位置確認点（４１、４２
）と定め、該位置確認点（４１、４２）の両側の網目（
２２）を除き該ウェハ（１）の周縁部（１１）と重なる
網目（２１）を網目毎に露光し、該位置確認点（４１、
４２）の両側の網目（２２）は該位置確認点（４１、４
２）の両側に離れるように移動して露光することにより
、該位置確認点（４１、４２）を含む未露光領域（５１
、５２）を形成することを特徴とするウェハの露光方法
。