JPH04282822A - 縮小投影型露光装置のステージ - Google Patents
縮小投影型露光装置のステージInfo
- Publication number
- JPH04282822A JPH04282822A JP3043912A JP4391291A JPH04282822A JP H04282822 A JPH04282822 A JP H04282822A JP 3043912 A JP3043912 A JP 3043912A JP 4391291 A JP4391291 A JP 4391291A JP H04282822 A JPH04282822 A JP H04282822A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- light
- wafer
- projection type
- type exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置における製
造プロセス中のフォトレジスト塗布後の目合せ露光工程
で使用される縮小投影型露光装置（以降ステッパーと称
す）のステージに関するものである。
造プロセス中のフォトレジスト塗布後の目合せ露光工程
で使用される縮小投影型露光装置（以降ステッパーと称
す）のステージに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般にステッパーにおけるウェーハをス
テージに搭載するローディング動作は、このステージに
搬送される前段に配置されるプリアライメントステージ
に一時的にウェーハを搭載し、ウェーハの外形及びオリ
エンテーションフラット部を検出し、所望の向きにウェ
ーハを変えて粗い位置決めを行なっていた。そして、こ
のウェーハをプリアライメントステージからステージに
ウェーハを移載していた。このウェーハを露光する際は
、特にステージでのウェーハ位置及び向きのチェックは
時に行なわれていなかった。
テージに搭載するローディング動作は、このステージに
搬送される前段に配置されるプリアライメントステージ
に一時的にウェーハを搭載し、ウェーハの外形及びオリ
エンテーションフラット部を検出し、所望の向きにウェ
ーハを変えて粗い位置決めを行なっていた。そして、こ
のウェーハをプリアライメントステージからステージに
ウェーハを移載していた。このウェーハを露光する際は
、特にステージでのウェーハ位置及び向きのチェックは
時に行なわれていなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のステッ
パーにおけるステージへのウェーハの搭載は、プリアラ
イメントステージでのアライメント作業のみでウェーハ
の位置向きを設定し、移載しているので、移載を仕さど
るウェーハ搬送機構に機械的または電気的支障が発生し
た場合、ウェーハの位置及びその向きを維持した状態で
ステージにウェーハを移載することは困難となる。また
、プリアライメントステージでの位置決め誤差とプリア
ライメントステージ部からステージへの搬送時に発生す
る誤差が加算されステージ上でのウェーハの位置誤差が
増加し、露光パターン不良を起し、半導体装置の歩留を
著しく低下させるという問題がある。
パーにおけるステージへのウェーハの搭載は、プリアラ
イメントステージでのアライメント作業のみでウェーハ
の位置向きを設定し、移載しているので、移載を仕さど
るウェーハ搬送機構に機械的または電気的支障が発生し
た場合、ウェーハの位置及びその向きを維持した状態で
ステージにウェーハを移載することは困難となる。また
、プリアライメントステージでの位置決め誤差とプリア
ライメントステージ部からステージへの搬送時に発生す
る誤差が加算されステージ上でのウェーハの位置誤差が
増加し、露光パターン不良を起し、半導体装置の歩留を
著しく低下させるという問題がある。
【０００４】本発明の目的は、かかる問題を解消すべく
、ウェーハを精度よく載置出来るステージを提供するこ
とである。
、ウェーハを精度よく載置出来るステージを提供するこ
とである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の縮小投影型露光
装置のステージは、レジスト塗布済みのウェーハを載置
する縮小投影型露光装置のステージにおいて、前記ウェ
ーハのオリエンテーションフラット部にハーフミラーを
介して光を投射する光源部と、前記オリエンテーション
フラット部より反射する光を入光する撮像部と、前記光
源部の光の内で前記レジストが感光する波長をもつ光を
除去するカットフィルタとを備えている。
装置のステージは、レジスト塗布済みのウェーハを載置
する縮小投影型露光装置のステージにおいて、前記ウェ
ーハのオリエンテーションフラット部にハーフミラーを
介して光を投射する光源部と、前記オリエンテーション
フラット部より反射する光を入光する撮像部と、前記光
源部の光の内で前記レジストが感光する波長をもつ光を
除去するカットフィルタとを備えている。
【０００６】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明する
。図１（ａ）及び（ｂ）は本発明の一実施例のステッパ
におけるステージを示す平面図及びＡＡ断面図、図２（
ａ）及び（ｂ）は図１のステージの動作を説明するため
の撮像部における観測図である。このステッパにおける
ステージは、図１に示すように、ステージ体７に載置さ
れるウェーハ４のオリエンテーションフラット部８にハ
ーフミラー２を介して光を照射する光源部１と、オリエ
ンテーションフラット部より反射する光をハーフミラー
２を介して入光する撮像部５と、撮像部５の画像信号を
処理するデータ処理部６と、光源部１からの光の内レジ
ストが感光される光を除去するカットフィルタ３とを設
けたことである。
。図１（ａ）及び（ｂ）は本発明の一実施例のステッパ
におけるステージを示す平面図及びＡＡ断面図、図２（
ａ）及び（ｂ）は図１のステージの動作を説明するため
の撮像部における観測図である。このステッパにおける
ステージは、図１に示すように、ステージ体７に載置さ
れるウェーハ４のオリエンテーションフラット部８にハ
ーフミラー２を介して光を照射する光源部１と、オリエ
ンテーションフラット部より反射する光をハーフミラー
２を介して入光する撮像部５と、撮像部５の画像信号を
処理するデータ処理部６と、光源部１からの光の内レジ
ストが感光される光を除去するカットフィルタ３とを設
けたことである。
【０００７】次に、このステージの動作を説明する。ま
ず、プリアライメントステージよりウェーハ４がステー
ジ体７に移載される。次に、光源部１より光が投射され
る。この光はハーフミラー２を透過し、カットフィルタ
３で不要な光が除外され、除外された光がオリエンテー
ションフラット部８に照射される。そして、オリエンテ
ーション部８より反射された光は撮像部５に入光される
。次に、撮像部５からの画像信号をデータ処理部６で処
理され、図２に示すパターンを表示部に表示される。
ず、プリアライメントステージよりウェーハ４がステー
ジ体７に移載される。次に、光源部１より光が投射され
る。この光はハーフミラー２を透過し、カットフィルタ
３で不要な光が除外され、除外された光がオリエンテー
ションフラット部８に照射される。そして、オリエンテ
ーション部８より反射された光は撮像部５に入光される
。次に、撮像部５からの画像信号をデータ処理部６で処
理され、図２に示すパターンを表示部に表示される。
【０００８】このように撮像されたオリエンテーション
フラット部が、図２（ａ）に示すように、基準線９と平
行である場合は、正常とする。また、図２（ｂ）に示す
ように、基準線９に対して平行でないときは異常とし、
ステージ７を回転して補正する。
フラット部が、図２（ａ）に示すように、基準線９と平
行である場合は、正常とする。また、図２（ｂ）に示す
ように、基準線９に対して平行でないときは異常とし、
ステージ７を回転して補正する。
【０００９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ステージ
上へ移載されたウェーハのオリエンテーションフラット
部を撮像する手段を設けることによって、オリエンテー
ションフラット部の傾きを検査出来るので、移載による
精度の狂いを起すことなく正確にウェーハを載置出来る
ステージが得られるという効果がある。
上へ移載されたウェーハのオリエンテーションフラット
部を撮像する手段を設けることによって、オリエンテー
ションフラット部の傾きを検査出来るので、移載による
精度の狂いを起すことなく正確にウェーハを載置出来る
ステージが得られるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例における縮小投影型露光装置
のステージを示す（ａ）は平面図、（ｂ）はＡＡ断面図
である。
のステージを示す（ａ）は平面図、（ｂ）はＡＡ断面図
である。
【図２】図１のステージの動作を説明するための撮像部
における観測図である。
における観測図である。
１ 光源部
２ ハーフミラー
３ カットフィルタ
４ ウェーハ
５ 撮像部
６ データ処理部
７ ステージ体
Claims (1)
- 【請求項１】 レジスト塗布済みのウェーハを載置す
る縮小投影型露光装置のステージにおいて、前記ウェー
ハのオリエンテーションフラット部にハーフミラーを介
して光を投射する光源部と、前記オリエンテーションフ
ラット部より反射する光を入光する撮像部と、前記光源
部の光の内で前記レジストが感光する波長をもつ光を除
去するカットフィルタとを備えることを特徴とする縮小
投影型露光装置のステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3043912A JPH04282822A (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | 縮小投影型露光装置のステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3043912A JPH04282822A (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | 縮小投影型露光装置のステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04282822A true JPH04282822A (ja) | 1992-10-07 |
Family
ID=12676930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3043912A Pending JPH04282822A (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | 縮小投影型露光装置のステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04282822A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017116868A (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 |
| JP2023116910A (ja) * | 2022-02-10 | 2023-08-23 | 株式会社ディスコ | アライメント方法 |
-
1991
- 1991-03-11 JP JP3043912A patent/JPH04282822A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017116868A (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 |
| JP2023116910A (ja) * | 2022-02-10 | 2023-08-23 | 株式会社ディスコ | アライメント方法 |
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