JPH0228161A - 新規なシクロブタン誘導体 - Google Patents
新規なシクロブタン誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えば抗ウィルス薬等の医薬として期待され
るシクロブタン誘導体に間する。
るシクロブタン誘導体に間する。
[従来の技術]
核酸関連物質には抗ウィルス作用を持つものが数多く知
られて居り、そのうちいくつかのものは有用な医薬品と
して臨床に供されている。例えば抗ウィルス剤としては
ビダラビン(M、Pr1vat de Garilhe
and J、de Rubber、 C,R,Aca
d、Soc、D(Paris)259.2725(19
64))、アシクロビル(G、B、Elion eta
+、、 Proc、Natl、Acad、 Sci、U
SA、 74.5716(2977))、アジドチミジ
ン(H,Mitsuya et al、、 Proc、
Natl、Acad、 Sci、tJSA、 82.7
096(1985))等が知られている。
られて居り、そのうちいくつかのものは有用な医薬品と
して臨床に供されている。例えば抗ウィルス剤としては
ビダラビン(M、Pr1vat de Garilhe
and J、de Rubber、 C,R,Aca
d、Soc、D(Paris)259.2725(19
64))、アシクロビル(G、B、Elion eta
+、、 Proc、Natl、Acad、 Sci、U
SA、 74.5716(2977))、アジドチミジ
ン(H,Mitsuya et al、、 Proc、
Natl、Acad、 Sci、tJSA、 82.7
096(1985))等が知られている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記抗ウィルス薬は適用範囲が狭く、ま
た溶解度、経口吸収性、代謝等の影響により投与方法が
限られる、また、骨髄前等の副作用のため長期投与が困
難である等問題点を多く残している。更に、多くのウィ
ルス性疾患、例えば、ウィルス性肝炎、小児に多発する
ウィルス性消化器疾患・呼吸器疾患等は、適当な抗ウィ
ルス薬がなく対症療法に頼っている状況である。また、
後天性免疫不全症候群(AIDS)、成人T細胞白血病
(ATL)等悪性なウィルス病が増加の傾向にあること
から、優れた抗ウィルス薬の開発が望まれている。
た溶解度、経口吸収性、代謝等の影響により投与方法が
限られる、また、骨髄前等の副作用のため長期投与が困
難である等問題点を多く残している。更に、多くのウィ
ルス性疾患、例えば、ウィルス性肝炎、小児に多発する
ウィルス性消化器疾患・呼吸器疾患等は、適当な抗ウィ
ルス薬がなく対症療法に頼っている状況である。また、
後天性免疫不全症候群(AIDS)、成人T細胞白血病
(ATL)等悪性なウィルス病が増加の傾向にあること
から、優れた抗ウィルス薬の開発が望まれている。
[課題を解決するための手段]
そこで、本発明者らは種々検討した結果、一般式(I)
[式中Aは、水素、水酸基、アジド基、または(ここで
Xは、水素原子、ハロゲン原子、またはを示す] に示すような、従来全く知られていないシクロブタン骨
格を持つヌクレオシド誘導体が、抗ウィルス作用を示す
ことを見いだし、また、この化合物は、一般式(n) [式中Rは水素原子または保護基を示すコで表されるシ
クロブタン誘導体から、容易に導くことができることも
見いだした。
Xは、水素原子、ハロゲン原子、またはを示す] に示すような、従来全く知られていないシクロブタン骨
格を持つヌクレオシド誘導体が、抗ウィルス作用を示す
ことを見いだし、また、この化合物は、一般式(n) [式中Rは水素原子または保護基を示すコで表されるシ
クロブタン誘導体から、容易に導くことができることも
見いだした。
一般式(I)で示される化合物は、種々のウィルスによ
って引き起こされるウィルス病に有効であることが期待
される。
って引き起こされるウィルス病に有効であることが期待
される。
本発明は上記知見に基づいて完成されたものである。
本発明の一般式(I)で表される化合物としては、次の
様な化合物があげられる。ここで相対立体配置について
は、シクロブタンを平面と考えたとき、平面の下方に位
置する置換基をα、平面の上方に位置する置換基をβで
示している。
様な化合物があげられる。ここで相対立体配置について
は、シクロブタンを平面と考えたとき、平面の下方に位
置する置換基をα、平面の上方に位置する置換基をβで
示している。
1、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロ
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコ
ー2. 4 (IH,3H) −ピリミジンジオン及び
その光学活性体。
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコ
ー2. 4 (IH,3H) −ピリミジンジオン及び
その光学活性体。
2、(±)−5−フルオロ−1−4(1β、2α。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン及びその光学活性体。
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン及びその光学活性体。
3、(±)−1−[: (1β、2α、3β)−2−ヒ
ドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イ
ルコー5−メチル−2,4(1H,3H)−ピリミジン
ジオン及びその光学活性体。
ドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イ
ルコー5−メチル−2,4(1H,3H)−ピリミジン
ジオン及びその光学活性体。
4、(±)−4−アミノ−1−[(1β、2α。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及び
その光学活性体。
ブタン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及び
その光学活性体。
5、(±)−1−[(1α、2β、3β)−2−ヒドロ
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコ
ー2. 4 (IH,3H) −ピリミジンジオン及び
その光学活性体。
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコ
ー2. 4 (IH,3H) −ピリミジンジオン及び
その光学活性体。
6、(±)−5−フルオロ−1−[(1α、2β。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イルコ−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン及びその光学活性体。
ブタン−1−イルコ−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン及びその光学活性体。
7、(±)−1−[(1β、2β、3B)−2−ヒドロ
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン及びそ
の光学活性体。
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン及びそ
の光学活性体。
8、(±)−5−フルオロ−1−[(1β、2β。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン及びその光学活性体。
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン及びその光学活性体。
9、(±)−1−[(1β、2β、3β)−2−ヒドロ
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−5−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン及びその光学活性体。
キシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−5−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン及びその光学活性体。
10、(±)−4−アミノ−1−4(1β、2β。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及び
その光学活性体。
ブタン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及び
その光学活性体。
11、(±)−1−4(1β、2α、3β)−2−アジ
ド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン及びその光
学活性体 12、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジ
ド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−
5−フルオロ−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオ
ン及びその光学活性体 13、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジ
ド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー
5−メチル−2,4(IH。
ド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン及びその光
学活性体 12、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジ
ド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−
5−フルオロ−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオ
ン及びその光学活性体 13、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジ
ド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー
5−メチル−2,4(IH。
3H)−ピリミジンジオン及びその光学活性体
14、(±)−4−アミノ−1−[(1β、2α。
3β)−2−アジド−3−ヒドロキシメチルシクロブタ
ン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及びその
光学活性体 15、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミ
ノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン及びその光
学活性体 16、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミ
ノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン及びその光学活性体 17、 (±)−1−[(1β、 2α、 3β)−2
−アミノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イ
ル]−5−メチル−2,4(IH。
ン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及びその
光学活性体 15、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミ
ノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン及びその光
学活性体 16、(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミ
ノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン及びその光学活性体 17、 (±)−1−[(1β、 2α、 3β)−2
−アミノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イ
ル]−5−メチル−2,4(IH。
3H)−ピリミジンジオン及びその光学活性体
18、(±)−4−アミノ−1−[(1β、2α。
3β)−2−アミノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタ
ン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及びその
光学活性体 19.1−[(1β、3β)−3−ヒドロキシメチルシ
クロブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリ
ミジンジオン 20.5−フルオロ−1−[(1β、3β)−3−ヒド
ロキシメチルシクロブタン−1−イル]−2,4(IH
,3H)−ピリミジンジオン21.1−[(1β、3β
)−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−
5−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン
22.4−アミノ−1−[(1β、3β)−3−ヒドロ
キシメチルシクロブタン−1−イル]−2(IH)−ピ
リミジノン 一般式(n)で表される化合物としては1例えば次のも
のがあげられる。
ン−1−イル] −2(IH)−ピリミジノン及びその
光学活性体 19.1−[(1β、3β)−3−ヒドロキシメチルシ
クロブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリ
ミジンジオン 20.5−フルオロ−1−[(1β、3β)−3−ヒド
ロキシメチルシクロブタン−1−イル]−2,4(IH
,3H)−ピリミジンジオン21.1−[(1β、3β
)−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−
5−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン
22.4−アミノ−1−[(1β、3β)−3−ヒドロ
キシメチルシクロブタン−1−イル]−2(IH)−ピ
リミジノン 一般式(n)で表される化合物としては1例えば次のも
のがあげられる。
a、 (±)−(1α、2β、4α)−2−ヒドロキ
シメチル−5−オキサビシクロ[2,1゜0]ペンタン
及びその光学活性体。
シメチル−5−オキサビシクロ[2,1゜0]ペンタン
及びその光学活性体。
b・(±)−(1α、2β、4α)−2−アセトキシメ
チル−5−オキサビシクロ[2,1゜0]ペンタン及び
その光学活性体。
チル−5−オキサビシクロ[2,1゜0]ペンタン及び
その光学活性体。
c、 (±)−(1α、2β、4α)−2−ベンゾイ
ロキシメチル−5−オキサビシクロ〔2゜1.0コペン
タン及びその光学活性体。
ロキシメチル−5−オキサビシクロ〔2゜1.0コペン
タン及びその光学活性体。
d、 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[
2,1,OFペンタン及びその光学活性体。
ルジメチルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[
2,1,OFペンタン及びその光学活性体。
e、 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ
[2,1,O]ペンタン及びその光学活性体。
ルジフェニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ
[2,1,O]ペンタン及びその光学活性体。
f。
g・
h。
l 。
j・
k。
1゜
(±)−(lα、2β、4α)−2−ベンジルオキシメ
チル−5−オキサビシクロ[2゜1、 O]ペンタン
及びその光学活性体。
チル−5−オキサビシクロ[2゜1、 O]ペンタン
及びその光学活性体。
(±)−(1α、2β、4α)−2−メトキシメトキシ
メチル−5−オキサビシクロ[2゜1.01ペンタン及
びその光学活性体。
メチル−5−オキサビシクロ[2゜1.01ペンタン及
びその光学活性体。
(±)−(1β、2β、4β)−2−ヒドロキシメチル
−5−オキサビシクロ[2,1゜0コペンタン及びその
光学活性体。
−5−オキサビシクロ[2,1゜0コペンタン及びその
光学活性体。
(±)−(lβ、2β、4β)−2−アセトキシメチル
−5−オキサビシクロ[2,1゜0コペンタン及びその
光学活性体。
−5−オキサビシクロ[2,1゜0コペンタン及びその
光学活性体。
(±)−(1β、2β、4β)−2−ベンゾイロキシメ
チル−5−オキサビシクロ[2゜1.0コペンタン及び
その光学活性体。
チル−5−オキサビシクロ[2゜1.0コペンタン及び
その光学活性体。
(±)−(1β、2β、4β)−2−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1,
0]ペンタン及びその光学活性体。
ルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1,
0]ペンタン及びその光学活性体。
(±)−(lβ、2β、4β)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン及びその光学活性体。
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン及びその光学活性体。
m、 (±)−(1β、2β、4β)−2−ベンジル
オキシメチル−5−オキサビシクロ[2゜1.0]ペン
タン及びその光学活性体。
オキシメチル−5−オキサビシクロ[2゜1.0]ペン
タン及びその光学活性体。
n、 (±)−(1β、2β、4β)−2−メトキシ
メトキシメチル−5−オキサビシクロ[2゜1.0]ペ
ンタン及びその光学活性体。
メトキシメチル−5−オキサビシクロ[2゜1.0]ペ
ンタン及びその光学活性体。
一般式(1)の本発明化合物のうち一般式(■A)
[式中Bは、一般式(I)におけるBと同じ]で表され
る化合物は次のようにして製造できる。
る化合物は次のようにして製造できる。
即ち、一般式(n)で表される化合物に、一般式[式中
Xは、一般式(I)と同じ、Yは、0−シリル基または
、NR−シリル基、Zは、シリル基である。また、Rは
、水素原子または保護基を示す、] (I[I)〜(V)で表される化合物を反応させ、−般
式(VIA) (ここでXは、水素原子、ハロゲン原子、またはを示し
、Rは水素原子または保護基を示すコで表されろ化合物
を得、次いで、残存する保護基を除去するか、さらに、
一般式(VIA)で表される化合物を、光延法(0
,Mitsunobu、5ynthesis、1、(1
981))あるいは、酸化−還元等の方法により、2′
位の水酸基を反転させて得られる一般式(■A)で表さ
れる化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すれば
よい。
Xは、一般式(I)と同じ、Yは、0−シリル基または
、NR−シリル基、Zは、シリル基である。また、Rは
、水素原子または保護基を示す、] (I[I)〜(V)で表される化合物を反応させ、−般
式(VIA) (ここでXは、水素原子、ハロゲン原子、またはを示し
、Rは水素原子または保護基を示すコで表されろ化合物
を得、次いで、残存する保護基を除去するか、さらに、
一般式(VIA)で表される化合物を、光延法(0
,Mitsunobu、5ynthesis、1、(1
981))あるいは、酸化−還元等の方法により、2′
位の水酸基を反転させて得られる一般式(■A)で表さ
れる化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すれば
よい。
一般式(n)に於ける保護基(R)としては、一般に保
護基として使用されるものなら特に制限なく、例えば、
アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基、ジメチルカル
バモイル基、ジフェニルカルバモイル基等のカルバモイ
ル基または、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチル
ジフェニルシリル基等のシリルエーテル型保護基または
、メトキシメチル基、ベンジル基等のエーテル型保護基
等があげられる。
護基として使用されるものなら特に制限なく、例えば、
アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基、ジメチルカル
バモイル基、ジフェニルカルバモイル基等のカルバモイ
ル基または、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチル
ジフェニルシリル基等のシリルエーテル型保護基または
、メトキシメチル基、ベンジル基等のエーテル型保護基
等があげられる。
一般式(V)に於けるシリル基としては、トリメチルシ
リル基等があげられ、保護基は、一般式(II)に於け
る保護基と同じであり、アルキル基としては、ブチル基
、ベンジル基、2−メトキシエトキシ基等が挙げられる
。
リル基等があげられ、保護基は、一般式(II)に於け
る保護基と同じであり、アルキル基としては、ブチル基
、ベンジル基、2−メトキシエトキシ基等が挙げられる
。
又、一般式(V)で表される化合物は、既知の方法(T
、NishN15hi and 1.1wai、Che
m、Pharm、Bull、、12,352(1964
)、R,Zou and M、J、Robins、Ca
n、J、Chem、 、65.1436(1987))
により、対応する一般式(m)(rV’)で表される化
合物から製造される。
、NishN15hi and 1.1wai、Che
m、Pharm、Bull、、12,352(1964
)、R,Zou and M、J、Robins、Ca
n、J、Chem、 、65.1436(1987))
により、対応する一般式(m)(rV’)で表される化
合物から製造される。
一般式(II)の化合物と一般式(III) ’−(V
)の化合物の使用割合は、前者1当量に対し後者約0.
5−10倍当量、好ましくは約1−4当量程度が良い。
)の化合物の使用割合は、前者1当量に対し後者約0.
5−10倍当量、好ましくは約1−4当量程度が良い。
又、両者の反応は、酸触媒または塩基触媒存在下に行な
われる。酸触媒としては、三フッ化ホウ素ニーテラー)
(BF3・0Et2)、四塩化スズ、四塩化チタン、
塩化亜鉛、臭化マグネシウム等のルイス酸または、トリ
メチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、エタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸を用
い、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、ベ
ンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトニトリル等
の、有機溶媒中、−30℃から溶媒の還流温度、好まし
くは、0℃から30℃程度で行われる。酸触媒の使用量
は一般式(n)の化合物に対して0.1から5倍当量、
好ましくは1から2倍当量程度がよい。塩基触媒として
は、炭酸カリウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム
等を用い、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、1.3−ジメチル−2−イミダゾリノン、ヘキサメ
チルフォスフォリツク トリアミド等の溶媒中、室温付
近から溶媒の還流温度、好ましくは、80℃から200
℃程度で行なわれる。塩基触媒の使用量は、一般式(f
I)の化合物に対して0.01当量から5倍当量、好ま
しくは、0.1から1.2倍当量程度がよい。
われる。酸触媒としては、三フッ化ホウ素ニーテラー)
(BF3・0Et2)、四塩化スズ、四塩化チタン、
塩化亜鉛、臭化マグネシウム等のルイス酸または、トリ
メチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、エタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸を用
い、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、ベ
ンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトニトリル等
の、有機溶媒中、−30℃から溶媒の還流温度、好まし
くは、0℃から30℃程度で行われる。酸触媒の使用量
は一般式(n)の化合物に対して0.1から5倍当量、
好ましくは1から2倍当量程度がよい。塩基触媒として
は、炭酸カリウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム
等を用い、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、1.3−ジメチル−2−イミダゾリノン、ヘキサメ
チルフォスフォリツク トリアミド等の溶媒中、室温付
近から溶媒の還流温度、好ましくは、80℃から200
℃程度で行なわれる。塩基触媒の使用量は、一般式(f
I)の化合物に対して0.01当量から5倍当量、好ま
しくは、0.1から1.2倍当量程度がよい。
一般式(n)で表される化合物は、一般式(■)[式中
Rは一般式(n)に於けるRと同じコで示される化合物
をエポキシ化して得られる。
Rは一般式(n)に於けるRと同じコで示される化合物
をエポキシ化して得られる。
エポキシ化反応は、過ギ酸、過酢酸、m−クロロ過安息
香酸、モノ過フタル酸等の過酸を、水、ギ酸、酢酸、エ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロ
ホルム等の溶媒、あるいはこれらの混合溶媒中0℃から
溶媒の還流温度で反応させるか、または、式(■)〜(
XI)メタンスルホニル化、p−)ルエンスルホニル化
等の、スルホニル化、或は臭素化、ヨウ素化等、ハロゲ
ン化する等、活性化したのち、ナトリウムアジド、カリ
ウムアジド等の、アジドイオンを反応させて得られる一
般式(VIB ) て示されるようなオキサチリジン類を、ベンゼン、クロ
ロホルム、アセトニトリル等の有機溶媒中O℃から溶媒
の還流温度で反応させること等によって達成される。
香酸、モノ過フタル酸等の過酸を、水、ギ酸、酢酸、エ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロ
ホルム等の溶媒、あるいはこれらの混合溶媒中0℃から
溶媒の還流温度で反応させるか、または、式(■)〜(
XI)メタンスルホニル化、p−)ルエンスルホニル化
等の、スルホニル化、或は臭素化、ヨウ素化等、ハロゲ
ン化する等、活性化したのち、ナトリウムアジド、カリ
ウムアジド等の、アジドイオンを反応させて得られる一
般式(VIB ) て示されるようなオキサチリジン類を、ベンゼン、クロ
ロホルム、アセトニトリル等の有機溶媒中O℃から溶媒
の還流温度で反応させること等によって達成される。
一般式(I)の本発明化合物のうち一般式(IB)
[式中B2及びRは、一般式(VIA)と同じ]て表さ
れる化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すれば
よい。
れる化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すれば
よい。
本発明化合物のうち一般式(IC)
[式中Bは、一般式(1)に於けるBと同じ]で表され
る化合物は次のようにして製造できる。
る化合物は次のようにして製造できる。
即ち、一般式(VIA)で表される化合物の2′位の水
酸基を、メタンスルホニル化、トリフルオロ[式中日は
、一般式(1)と同じコ で表される化合物は次のようにして製造できる。
酸基を、メタンスルホニル化、トリフルオロ[式中日は
、一般式(1)と同じコ で表される化合物は次のようにして製造できる。
即ち、一般式(VIB)で表される化合物のアジド基を
、接触還元等の適当な還元試剤で還元し、得られる一般
式(VIC) [式中82及びRは、一般式(VIA)と同じ]て表さ
れる化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すれば
よい。
、接触還元等の適当な還元試剤で還元し、得られる一般
式(VIC) [式中82及びRは、一般式(VIA)と同じ]て表さ
れる化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すれば
よい。
本発明化合物のうち一般式(ID)
[式中Bは、一般式(1)と同じコ
で表される化合物は次のようにして製造できる。
即ち、一般式(Xn)
[式中Rは、一般式(VIA)と同じ、Xは脱離基を示
すコ で表される化合物に、一般式(III)〜(V)で表さ
れる化合物を反応させ、得られる一般式(VID)[式
中82及びRは、一般式(VIA)と同じ]で表される
化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すればよい
。
すコ で表される化合物に、一般式(III)〜(V)で表さ
れる化合物を反応させ、得られる一般式(VID)[式
中82及びRは、一般式(VIA)と同じ]で表される
化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護すればよい
。
一般式(X II)に於ける脱離基(X)としては、メ
タンスルホニルオキシ基、p−)ルエンスルホニルオキ
シ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のスル
ホニルオキシ基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンが挙
げられる。
タンスルホニルオキシ基、p−)ルエンスルホニルオキ
シ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のスル
ホニルオキシ基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンが挙
げられる。
一般式(X II)の化合物と一般式(III)〜(V
)の化合物の使用割合は、前者1当量に対し後者約0.
5−10倍当量、好ましくは約1−4当量程度が良い。
)の化合物の使用割合は、前者1当量に対し後者約0.
5−10倍当量、好ましくは約1−4当量程度が良い。
又、両者の反応は、塩基触媒存在下に或は無触媒で行な
われる。塩基触媒としては、炭酸カリウム、水素化リチ
ウム、水素化ナトリウム等を用い、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、1.3−ジメチル−2−イ
ミダゾリノン、ヘキサメチルフォスフォリツク トリア
ミド等の溶媒中、室温付近から溶媒の還流温度、好まし
くは、40℃から170℃程度で行なわれる。
われる。塩基触媒としては、炭酸カリウム、水素化リチ
ウム、水素化ナトリウム等を用い、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、1.3−ジメチル−2−イ
ミダゾリノン、ヘキサメチルフォスフォリツク トリア
ミド等の溶媒中、室温付近から溶媒の還流温度、好まし
くは、40℃から170℃程度で行なわれる。
塩基触媒の使用量は、一般式(X II)の化合物に対
して0.1当量から5倍当量、好ましくは、1゜0から
1.2倍当量程度がよい。
して0.1当量から5倍当量、好ましくは、1゜0から
1.2倍当量程度がよい。
一般式(XI)で表される化合物は、一般式く■)で表
される化合物より製造される。即ち、−般式(II)
(R=H)で表される化合物を、水素化リチウムアル
ミニウム、ナトリウム 水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウム等の還元試剤で還元し得られる一般
式(XI[I)で表される化合物の一級水酸基に保護基
を導入し二級水酸基を脱離基に導くことによって一般式
(Xn)で表される化合物が製造される。
される化合物より製造される。即ち、−般式(II)
(R=H)で表される化合物を、水素化リチウムアル
ミニウム、ナトリウム 水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウム等の還元試剤で還元し得られる一般
式(XI[I)で表される化合物の一級水酸基に保護基
を導入し二級水酸基を脱離基に導くことによって一般式
(Xn)で表される化合物が製造される。
一般式(VIA)〜(VID)に於ける保護基(R)と
しては、一般に保護基として使用されるものなら特に制
限なく、例えば、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル
基、ジメチルカルバモイル基、ジフェニルカルバモイル
基等のカルバモイル基または、t−ブチルジメチルシリ
ル基、t−ブチルジフェニルシリル基等のシリルエーテ
ル型保護基または、メトキシメチル基、ベンジル基等の
エーテル型保護基等があげられる。また、一般式(VI
A)〜(VID)で示される化合物の保護基の除去は、
その保護基の違いにより適当な脱保護試剤、或は、脱保
護方法を用いることで達成される。例えば、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメチラート、アンモニア等のアルカ
リ、フッ化テトラブチルアンモニウム等のフッ素試剤、
塩酸等の酸、水素化分解等が挙げられる。
しては、一般に保護基として使用されるものなら特に制
限なく、例えば、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル
基、ジメチルカルバモイル基、ジフェニルカルバモイル
基等のカルバモイル基または、t−ブチルジメチルシリ
ル基、t−ブチルジフェニルシリル基等のシリルエーテ
ル型保護基または、メトキシメチル基、ベンジル基等の
エーテル型保護基等があげられる。また、一般式(VI
A)〜(VID)で示される化合物の保護基の除去は、
その保護基の違いにより適当な脱保護試剤、或は、脱保
護方法を用いることで達成される。例えば、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメチラート、アンモニア等のアルカ
リ、フッ化テトラブチルアンモニウム等のフッ素試剤、
塩酸等の酸、水素化分解等が挙げられる。
一般式(I)で表される化合物のうち不斉炭素を有する
ものについては、本発明はそれらのラセミ体及び光学活
性体を包含するものである。光学活性体はラセミ体から
公知の方法、例えば光学活性力ラムを用いる方法、ある
いは光学活性な分割補助剤を反応させ得られるジアステ
レオマーを分離精製する等の方法により得ることができ
る。又、光学活性な一般式(II)の化合物を用いるこ
とにより、光学活性な一般式(I)の化合物を得ること
もできる。
ものについては、本発明はそれらのラセミ体及び光学活
性体を包含するものである。光学活性体はラセミ体から
公知の方法、例えば光学活性力ラムを用いる方法、ある
いは光学活性な分割補助剤を反応させ得られるジアステ
レオマーを分離精製する等の方法により得ることができ
る。又、光学活性な一般式(II)の化合物を用いるこ
とにより、光学活性な一般式(I)の化合物を得ること
もできる。
また、一般式(I)で表される化合物のうち可能なもの
は所望により酸付加塩にすることができる。酸付加塩と
しては、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の
無機酸塩、また、ギ酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、酒石酸
塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、乳酸塩、メタンスルホ
ン酸塩等の有機酸塩が挙げられる。
は所望により酸付加塩にすることができる。酸付加塩と
しては、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の
無機酸塩、また、ギ酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、酒石酸
塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、乳酸塩、メタンスルホ
ン酸塩等の有機酸塩が挙げられる。
[作用コ
本発明化合物は次の実験例から明らかなように、DNA
ウィルス、RNAウィルスのいずれに対しても抗ウィル
ス作用を発揮する。
ウィルス、RNAウィルスのいずれに対しても抗ウィル
ス作用を発揮する。
実験例1゜
DNAウィルスである単純ヘルペス2型ウイルス(HS
V−4)、RNAウィルスである水痘性口内炎ウィルス
(V S V)及びシンドビスウイルス(SBV)に対
する抗ウィルス作用を下記の方法で試験した。
V−4)、RNAウィルスである水痘性口内炎ウィルス
(V S V)及びシンドビスウイルス(SBV)に対
する抗ウィルス作用を下記の方法で試験した。
(方法1)
細胞培養用培地(5%のウシ胎児血清を含むイーグルM
EM培地)で約15X 10’個/mlにしたVero
細胞(アフリカミドリザル腎細胞由来)浮遊液100μ
lを96穴マイクロプレートに入れ、37℃5%(V/
V)炭酸ガスフ卵器中で、24時間培養した後、培地を
除き、50−100感染単位のウィルスを含む培地(血
清不合イーグルMEM培地)100μlを加え同条件下
で1時間培養しウィルスを感染させる。感染後ウィルス
液を除き、試料の一定量を含む培地(血清不合イーグル
MEM培地)100μlを加え48時間培養した。培養
後の細胞に0.01%ニュートラルレッド(N R’)
を含む培地100μmを加え、細胞のNRの取り込みを
波長546nmの光の吸収で測定し、50%細胞変性阻
害濃度を求めた。
EM培地)で約15X 10’個/mlにしたVero
細胞(アフリカミドリザル腎細胞由来)浮遊液100μ
lを96穴マイクロプレートに入れ、37℃5%(V/
V)炭酸ガスフ卵器中で、24時間培養した後、培地を
除き、50−100感染単位のウィルスを含む培地(血
清不合イーグルMEM培地)100μlを加え同条件下
で1時間培養しウィルスを感染させる。感染後ウィルス
液を除き、試料の一定量を含む培地(血清不合イーグル
MEM培地)100μlを加え48時間培養した。培養
後の細胞に0.01%ニュートラルレッド(N R’)
を含む培地100μmを加え、細胞のNRの取り込みを
波長546nmの光の吸収で測定し、50%細胞変性阻
害濃度を求めた。
実験例2゜
DNAウィルスであるヒトサイトメガロウィルス(HC
MV)に対する作用を下記の方法で試験した。
MV)に対する作用を下記の方法で試験した。
(方法2)
抗サイトメガロウィルス活性は人胎児繊維芽細胞の単層
を有する35市デイシユ(dish)にサイトメガロウ
ィルス(A0169株’)100PFU(Plaque
Forming Llnit)を感染させ、1時間吸
着後、各濃度の本化合物を含む培地〔0,5%アガロー
ス(agarose)、2%生胎児血清(fetal
calfserum) )で重層し、37℃、5%(v
/v)の炭酸ガスフ卵器中にて10日間培養した後プラ
ーク(Plaque)形成を測定し、50%抑制値(I
Csa)を求めた。
を有する35市デイシユ(dish)にサイトメガロウ
ィルス(A0169株’)100PFU(Plaque
Forming Llnit)を感染させ、1時間吸
着後、各濃度の本化合物を含む培地〔0,5%アガロー
ス(agarose)、2%生胎児血清(fetal
calfserum) )で重層し、37℃、5%(v
/v)の炭酸ガスフ卵器中にて10日間培養した後プラ
ーク(Plaque)形成を測定し、50%抑制値(I
Csa)を求めた。
実験例3゜
DNAウィルスであるB型肝炎ウィルス(HBV)に対
する作用を下記の方法で試験した。
する作用を下記の方法で試験した。
(方法3)
活性B型肝炎ウィルスを産生放出する培養肝細胞株HB
611 (Proc、 Natl、 Acad、 S
ci、 USA84 (1987)、P444)をDu
I beccoに従いmodifiedEag I
e培地(GIBCO)中にて10%子牛脂児血清、20
0μg/−G41B、ペニシリンおよびストレプトマイ
シンC各100 u#%l)存在下に37℃、5%CO
2を用いて培養する。6穴プレートに5×10’ ce
ll/穴(35mm)となるよう接種し、1〜2日後5
0%コンフルエントとなったところで本化合物の一定量
を加えて培養、以降3日毎に同じ濃度に薬剤を含む培地
と交換しつつ15日間培養を続けた後、培地を除去。細
胞を0.5艷のりシスバッハ−(Lysis buff
er) (10mM TristlCl pH7,8
15mM Na2EDTA、 1%50510.1mg
/d Pronase K)にて37℃lhr処理して
溶解し、得られたONAをRNase処理、フェノール
◆クロロホルム処理エタノール沈澱法により純化した。
611 (Proc、 Natl、 Acad、 S
ci、 USA84 (1987)、P444)をDu
I beccoに従いmodifiedEag I
e培地(GIBCO)中にて10%子牛脂児血清、20
0μg/−G41B、ペニシリンおよびストレプトマイ
シンC各100 u#%l)存在下に37℃、5%CO
2を用いて培養する。6穴プレートに5×10’ ce
ll/穴(35mm)となるよう接種し、1〜2日後5
0%コンフルエントとなったところで本化合物の一定量
を加えて培養、以降3日毎に同じ濃度に薬剤を含む培地
と交換しつつ15日間培養を続けた後、培地を除去。細
胞を0.5艷のりシスバッハ−(Lysis buff
er) (10mM TristlCl pH7,8
15mM Na2EDTA、 1%50510.1mg
/d Pronase K)にて37℃lhr処理して
溶解し、得られたONAをRNase処理、フェノール
◆クロロホルム処理エタノール沈澱法により純化した。
次いて5μgDNAをHindm処理し、サザン法によ
って32p−標式B型肝炎ウィルスDNAをプローブと
してDNAのパターンを分析した。
って32p−標式B型肝炎ウィルスDNAをプローブと
してDNAのパターンを分析した。
実験例4゜
RNAウィルスであるAI DSウィルス(HI■)に
対する作用を下記の方法で試験した。
対する作用を下記の方法で試験した。
(方法−4)
抗HI V (Human 1mmunodefici
ency Virus)活性24穴トレーにMT−4細
胞約5万個/+nlJ入れ、さらに本発明化合物の一定
量を含む溶液100μΩを加え、37℃、5%(V/V
)炭酸ガスフ卵器中にて2時間培養した後、HI V
103〜104感染単位を加え、4日間培養後、培養液
の一部をスライドグラスに塗抹し、アセトン固定をした
後、螢光抗体法にてウィルス抗原の発現をみた。
ency Virus)活性24穴トレーにMT−4細
胞約5万個/+nlJ入れ、さらに本発明化合物の一定
量を含む溶液100μΩを加え、37℃、5%(V/V
)炭酸ガスフ卵器中にて2時間培養した後、HI V
103〜104感染単位を加え、4日間培養後、培養液
の一部をスライドグラスに塗抹し、アセトン固定をした
後、螢光抗体法にてウィルス抗原の発現をみた。
なお、螢光抗体法の一次抗体にはエイズ患者の血清、二
次抗体にはFITCをラベルした抗ヒト■gGを用いた
。
次抗体にはFITCをラベルした抗ヒト■gGを用いた
。
(結果)
II 35+
; 30%at 35ug/ml [効果コ 本発明の一般式(1)で表される化合物は広い抗ウィル
ス作用を持つことから、口唇、性器ヘルペス、帯状庖疹
、免疫抑制時の単純ヘルペスウィルス−1型、2型(H
SV−I、 II)、バリセラシスターウィルス(V
ZV)、サイトメガロウィルス(CMV)、エプスタイ
ン−パールウィルス(EBV)9染症、ウィルス性肝炎
、ウィルス性呼吸器疾患、ウィルス性消化器疾患、AI
DS、ATL等の多くのウィルス性疾患に有効である
ことが期待される。また、制癌作用も期待される。
; 30%at 35ug/ml [効果コ 本発明の一般式(1)で表される化合物は広い抗ウィル
ス作用を持つことから、口唇、性器ヘルペス、帯状庖疹
、免疫抑制時の単純ヘルペスウィルス−1型、2型(H
SV−I、 II)、バリセラシスターウィルス(V
ZV)、サイトメガロウィルス(CMV)、エプスタイ
ン−パールウィルス(EBV)9染症、ウィルス性肝炎
、ウィルス性呼吸器疾患、ウィルス性消化器疾患、AI
DS、ATL等の多くのウィルス性疾患に有効である
ことが期待される。また、制癌作用も期待される。
以上のようにして得られた本発明化合物を抗ウィルス剤
として使用する場合、経口投与、静脈内投与、経皮投与
することができる。投与量は投与する患者の症状、年齢
、投与方法によっても異なるが、通常0.1−500m
g/kg/日である。
として使用する場合、経口投与、静脈内投与、経皮投与
することができる。投与量は投与する患者の症状、年齢
、投与方法によっても異なるが、通常0.1−500m
g/kg/日である。
本発明化合物は、適当な製剤用担体と混合して調整した
製剤の形で投与される。製剤の形としては、錠剤・か粒
剤・細粒剤・散剤・カプセル剤・注射剤・クリーム・坐
剤等が用いられる。
製剤の形で投与される。製剤の形としては、錠剤・か粒
剤・細粒剤・散剤・カプセル剤・注射剤・クリーム・坐
剤等が用いられる。
[実施例コ
次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造について具体
的に説明する。
的に説明する。
実施例1゜
(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2
. 4 (IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物1
)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イルコー2.4(1H,3H)−ピリミジ
ンジオンの製造 (±)−(lα、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロC2,1
,O]ペンタン(化合物e)(339mg、 1.
0mmo I )及び2.4−ビストリメチルシリルオ
キシピリミジン(1,03g。
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2
. 4 (IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物1
)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イルコー2.4(1H,3H)−ピリミジ
ンジオンの製造 (±)−(lα、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロC2,1
,O]ペンタン(化合物e)(339mg、 1.
0mmo I )及び2.4−ビストリメチルシリルオ
キシピリミジン(1,03g。
4.0mmo I)を無水塩化メチレン(10ml)に
溶解し、アルゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素エー
テラート(170mg、1.2mmo l)の無水塩化
メチレン溶液(1m l )を加え、そのまま1日攪拌
する。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH7,0)
を加え、しばらく攪拌した後、塩化メチレンで抽出する
。抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶
媒を溜去する。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=5(): 1 (v
/v))で精製し、 (±’)−1−[(1β、2α、
3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル
=2−ヒドロキシシクロブタン−1−イル]−2゜4(
IH,3H)−ピリミジンジオン(222mg、49%
)を得る。
溶解し、アルゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素エー
テラート(170mg、1.2mmo l)の無水塩化
メチレン溶液(1m l )を加え、そのまま1日攪拌
する。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH7,0)
を加え、しばらく攪拌した後、塩化メチレンで抽出する
。抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶
媒を溜去する。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=5(): 1 (v
/v))で精製し、 (±’)−1−[(1β、2α、
3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル
=2−ヒドロキシシクロブタン−1−イル]−2゜4(
IH,3H)−ピリミジンジオン(222mg、49%
)を得る。
NMR(400MHz・FT、DMSO−d6) δ
:1.01(9H,s)。
:1.01(9H,s)。
1.49(ILapparent q、J=9.9Hz
)。
)。
2.05(IH、m) 。
2.12(1,)1.apparent Q、J:8.
8H2)。
8H2)。
3.77(2H,d、J=4.782)。
4.08(l)I、apparent q、J=7.3
Hz、changed to apparent t
(J=7.3Hz) after addition
of 020)。
Hz、changed to apparent t
(J=7.3Hz) after addition
of 020)。
4.41(IH,apparent Q、J:8.68
2)。
2)。
5.595(1)1.d、J=7.0Hz、excha
ngeable with 020)。
ngeable with 020)。
5.601(IH,d、J=8.IH2)。
7.38−7.52(6H、m) 。
7.60−7.66(4H,m)。
7.66(IH,d、J=8.1Hz)。
11.27(IH,s、exchangeable w
ith D20)。
ith D20)。
工程2゜
(±) −1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキ
シ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物1
)の製造 (±)−1−[(1β、2α、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,38)−ピリミジ
ンジオン(90mg、O−20m0−2Oをメタノール
(1m l )に溶解し、4N−塩酸/ジオキサン(0
,1ml、 0. 4mmol)を加え、室温で一晩
で撹拌する。反応液を濃縮した後、エーテル可溶部を除
去し、セファデックスLH−20カラムクロマトグラフ
ィー(メタノール)で精製する。精製物は水に溶解した
後、凍結乾燥し、 (±)−1−[(1β、2α。
シ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物1
)の製造 (±)−1−[(1β、2α、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,38)−ピリミジ
ンジオン(90mg、O−20m0−2Oをメタノール
(1m l )に溶解し、4N−塩酸/ジオキサン(0
,1ml、 0. 4mmol)を加え、室温で一晩
で撹拌する。反応液を濃縮した後、エーテル可溶部を除
去し、セファデックスLH−20カラムクロマトグラフ
ィー(メタノール)で精製する。精製物は水に溶解した
後、凍結乾燥し、 (±)−1−[(1β、2α。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物1)(42mg、99%)を得る。
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物1)(42mg、99%)を得る。
NMR(400MH2・FT、CD30D+020)δ
:1.60(ltl、apparent q、J=9.
8)1z)。
:1.60(ltl、apparent q、J=9.
8)1z)。
2.14(1)1.IrI)。
2.30(IH,apparent q、J=9.3H
z)。
z)。
3.71(2N、m)。
4.16(IH,apparent t、J=7.0H
z)。
z)。
4.47(IH,apparent q+J=8.4H
z)。
z)。
5.80(1)1.d、J:8.1Hz)。
7.67(IH,d、J=8.IH2)。
実施例2゜
(±)−5−フルオロ−1−[(1β、2α。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物2)の製造工程1゜ (±)−1−[:(1β、2α、3β)−3−を−ブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシク
ロブタン−1−イルコー5−フルオロ−2,4(IH,
3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物e)(135mg、0.40m
mol)及び2.4−ビストリメチルシリルオキシ−5
−フルオロピリミジン(329mg、1.20mmol
)を無水塩化メチレン(4ml)に溶解し、アルゴン雰
囲気中、室温で三フッ化ホウ素ニーテラー)(68mg
。
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物2)の製造工程1゜ (±)−1−[:(1β、2α、3β)−3−を−ブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシク
ロブタン−1−イルコー5−フルオロ−2,4(IH,
3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物e)(135mg、0.40m
mol)及び2.4−ビストリメチルシリルオキシ−5
−フルオロピリミジン(329mg、1.20mmol
)を無水塩化メチレン(4ml)に溶解し、アルゴン雰
囲気中、室温で三フッ化ホウ素ニーテラー)(68mg
。
0.48mmo l)の無水塩化メチレン溶液(1m
l )を加え、そのまま1日攪拌する。反応液に0.2
M−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、しばらく攪拌
した後、塩化メチレンで抽出する。
l )を加え、そのまま1日攪拌する。反応液に0.2
M−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、しばらく攪拌
した後、塩化メチレンで抽出する。
抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧上溶媒
を溜去する。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1 (v
/v))で精製し、 (±)−1−[(1β、2α、3
β’)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル
−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー5−フル
オロ−2,4(IH。
を溜去する。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1 (v
/v))で精製し、 (±)−1−[(1β、2α、3
β’)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル
−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー5−フル
オロ−2,4(IH。
3H)−ピリミジンジオン(140mg、75%)を得
る。
る。
NMR(400MHz−FT、CDCl5)δ:1.0
7(9H,s)。
7(9H,s)。
1.71(IH,m)。
2.13−2.27(2H,m)。
3.51(H,brs)。
3.74(11,dd、J=3.0Hz、J=11.0
tlz)。
tlz)。
3.84()I、dd、J:3.3)1z、J=11.
0flz)。
0flz)。
4.20(H,m)。
7.20(H,d、J=5.8tlz)。
7.33−7.50(6H,m)。
7.60−7.70(4H,m)。
9.25(IH,brs)。
工程2゜
(±)−5−フルオロ−1−[(1β、2α。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イルコー2. 4 (18,38)−ピリ
ミジンジオン(化合物2)の製造(±)−1−[(1β
、2α、3β)−3−を−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(140mg、0.30mmo l)をメタノール(
2ml)に溶解し、4N−塩酸/ジオキサン(0゜15
m l、 0. 6mmo I )を加え、室温で一
晩で攪拌する。反応液を濃縮した後、エーテル可溶部を
除去し、セファデックスLH−20カラムクロマトグラ
フィー(メタノール)で精製する。精製物は水に溶解し
た後、凍結乾燥し、 (±)−5−フルオロ−1−[(
1βl 2α、3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキ
シメチルシクロブタン−1−イルコー2. 4 (IH
,38)−ピリミジンジオン(化合vA2)(67mg
、97%)を得る。
ブタン−1−イルコー2. 4 (18,38)−ピリ
ミジンジオン(化合物2)の製造(±)−1−[(1β
、2α、3β)−3−を−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(140mg、0.30mmo l)をメタノール(
2ml)に溶解し、4N−塩酸/ジオキサン(0゜15
m l、 0. 6mmo I )を加え、室温で一
晩で攪拌する。反応液を濃縮した後、エーテル可溶部を
除去し、セファデックスLH−20カラムクロマトグラ
フィー(メタノール)で精製する。精製物は水に溶解し
た後、凍結乾燥し、 (±)−5−フルオロ−1−[(
1βl 2α、3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキ
シメチルシクロブタン−1−イルコー2. 4 (IH
,38)−ピリミジンジオン(化合vA2)(67mg
、97%)を得る。
NMR(400M)lz−FT、cD30D) δ:
1.57(lH,apparent Q、J:10.3
H2)12.05(II(、m)。
1.57(lH,apparent Q、J:10.3
H2)12.05(II(、m)。
2.24(ift、apparent Q、J:9.0
H2)。
H2)。
3.60−3.75(2H、m) 。
4.10(IH,apparent t、J=7.7H
z)。
z)。
4.46(It(、apparent q+J=8.7
Hz)。
Hz)。
7.86<IH,d、J=6.6H2)。
実施例3゜
(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物3)の製造工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(lH,3H
)−ピリミジンジオンの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,01ペンタン(化合物e)(169m′g、0.50
mmo l)及び2,4−ビストリメチルシリルオキシ
−5−メチルピリミジン(541mg、2.OOmmo
1)を無水塩化メチレン(51TI l )に溶解し
、アルゴン雰囲気中、室温て三フッ化ホウ素ニーテラー
)(85mg。
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物3)の製造工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(lH,3H
)−ピリミジンジオンの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,01ペンタン(化合物e)(169m′g、0.50
mmo l)及び2,4−ビストリメチルシリルオキシ
−5−メチルピリミジン(541mg、2.OOmmo
1)を無水塩化メチレン(51TI l )に溶解し
、アルゴン雰囲気中、室温て三フッ化ホウ素ニーテラー
)(85mg。
0.60mmol)の無水塩化メチレン溶液(1m l
)を加え、そのまま1日攪拌する。反応液に0.2M
−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え・しばらく攪拌し
た後、塩化メチレンで抽出する。
)を加え、そのまま1日攪拌する。反応液に0.2M
−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え・しばらく攪拌し
た後、塩化メチレンで抽出する。
抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒
を溜去する。残渣は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1 (
v/v)) で精製し、 (±’)−1−[(1β
、2α、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イル]−
5−メチル−2,4(IH。
を溜去する。残渣は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1 (
v/v)) で精製し、 (±’)−1−[(1β
、2α、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イル]−
5−メチル−2,4(IH。
3H)−ピリミジンジオン(153mg、66%)を得
る。
る。
NMR(400MHz−FT、CDC13)δ:1.0
7(9N、s)。
7(9N、s)。
1.75(IH,m)。
1.93(3H、s) 。
2.15−2.30(2H,m)。
3.66(1N、brS)。
3.76(ltl、apparent d、J=10.
6Hz)。
6Hz)。
3.84(lH,apparent d、J=10.6
Hz)。
Hz)。
4.15(2H,m)。
6.95(ltl、s)。
7.33−7.50(6t(、m)。
7.60−7.70(4H,m)。
8.94(1)1.br)。
工程2゜
(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物3)の製造(±)−1−[(1β、2α、3β>
−a−t−プチルジフェニルシリルオキシメチル−2−
ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー5−メチル−2
,4(IH,38)−ピリミジンジオン(142mg、
0.31mmo f)をメタノ−°ル(1m l )に
溶解し、4N−塩酸/ジオキサン(0゜15m1.0.
6mmol)を加え、室温で一晩で攪拌する。反応液を
濃縮した後、エーテル可溶部を除去し、セファデックス
LH−20カラムクロマトグラフィー(メタノール)て
精製する。精製物は水に溶解した後、凍結乾燥し、 (
±)−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキシ−
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化
合物3)(67mg、97%)を得る。
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物3)の製造(±)−1−[(1β、2α、3β>
−a−t−プチルジフェニルシリルオキシメチル−2−
ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー5−メチル−2
,4(IH,38)−ピリミジンジオン(142mg、
0.31mmo f)をメタノ−°ル(1m l )に
溶解し、4N−塩酸/ジオキサン(0゜15m1.0.
6mmol)を加え、室温で一晩で攪拌する。反応液を
濃縮した後、エーテル可溶部を除去し、セファデックス
LH−20カラムクロマトグラフィー(メタノール)て
精製する。精製物は水に溶解した後、凍結乾燥し、 (
±)−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキシ−
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化
合物3)(67mg、97%)を得る。
NMR(400MH2・FT、DMSO−d6)δ:1
.40(lH,apparent q、J=9.9Hz
)。
.40(lH,apparent q、J=9.9Hz
)。
1.80(3H、s) 。
1.90(ILm)。
2.03(it(、apparent Ql=8.88
2)。
2)。
3.43−3.60(2tl、m)。
3.97(IH,apparent q、J=7.5H
z、changed to apparent t(J
=7.7Hz) after addition of
D20)。
z、changed to apparent t(J
=7.7Hz) after addition of
D20)。
4.41(IH,apparent QJ:8.6)1
2)14.57(IH,t、J=5.3Hz、exch
angeabte with 020)。
2)14.57(IH,t、J=5.3Hz、exch
angeabte with 020)。
5.47(1)1.d、J=6.6Hz、exchan
geable with 020)。
geable with 020)。
7.55(IH,s)。
11.24(IN、brs、exchangeable
with D20)。
with D20)。
実施例4゜
(±)−4−アミノ−1−[(1β、2α、3β)−2
−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1
−イルコー2(IH)−ピリミジノン(化合物4)の製
造 工程1゜ (±)−4−アミノ−!−[(]β、2α、3β)−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒド
ロキシシクロブタン−1−イル]−2(IH)−ピリミ
ジノンの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0コペンタン(化合物e)(17smg、o、53m
mo l)及びビストリメチルシリル−N−アセチルシ
トシン(476mg。
−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1
−イルコー2(IH)−ピリミジノン(化合物4)の製
造 工程1゜ (±)−4−アミノ−!−[(]β、2α、3β)−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒド
ロキシシクロブタン−1−イル]−2(IH)−ピリミ
ジノンの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0コペンタン(化合物e)(17smg、o、53m
mo l)及びビストリメチルシリル−N−アセチルシ
トシン(476mg。
1.60mmol)を無水塩化メチレン(5ml)に溶
解し、アルゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素エーテ
ラート(90mg、0.63mmol)の無水塩化メチ
レン溶液(1m l )を加え、そのまま1日攪拌する
。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH7,0)を加
え、しばらく攪拌した後、塩化メチレンで抽出する。抽
出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を
溜去する。残)査は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1続いて
30:1 (v/v))で精製し、 (±)−4−アセ
チルアミノ−1−[(1β、2α、3β)−3−t−ブ
チルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシ
クロブタン−1−イル] −2(IH) −ピリミジノ
ン(83mg、32%)を得る。
解し、アルゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素エーテ
ラート(90mg、0.63mmol)の無水塩化メチ
レン溶液(1m l )を加え、そのまま1日攪拌する
。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH7,0)を加
え、しばらく攪拌した後、塩化メチレンで抽出する。抽
出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を
溜去する。残)査は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1続いて
30:1 (v/v))で精製し、 (±)−4−アセ
チルアミノ−1−[(1β、2α、3β)−3−t−ブ
チルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシ
クロブタン−1−イル] −2(IH) −ピリミジノ
ン(83mg、32%)を得る。
NMR(400MHz−FT、CDC13)δ:1.0
3(9H,s)。
3(9H,s)。
1.83(1)1.m)。
2.20−2.40(28、m) 。
2.25(3H,s)。
3.75(IN、dd、J=2.7)1z、、、I=1
0.8tlz)。
0.8tlz)。
3.83(1)1.dd、J=3.5112.J=10
.882)。
.882)。
4.11(1)1.apparent t、J=6.8
11z)。
11z)。
4.20(1B、apparent q、J=7.5t
tz)。
tz)。
4.54(IH,s)。
7.32−7.54(8)1 、m) 。
7.57−7.70(4N、m)。
8.86(IH,brs)。
工程2゜
(±)−4−アミノ−1−[(1β、2α、3β)−2
−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルジメチルシクロブ
タン−1−イル] −2(’I H) −ピリミジノン
(化合物4)の製造 (±)−4−アセチルアミノ−1−[(1β。
−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルジメチルシクロブ
タン−1−イル] −2(’I H) −ピリミジノン
(化合物4)の製造 (±)−4−アセチルアミノ−1−[(1β。
2α、3β)−3−1−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー2
(IH)−ピリミジノン(76mg。
メチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー2
(IH)−ピリミジノン(76mg。
0.16mmol)をメタノール(2ml)に溶解し、
IM−ナトリウムメチラート/メタノール(0,2m
l、 0. 2mmo 1)を加え、室温で30分間
攪拌する。反応液にAmberlistl 5 (42
mg、0.21mmo l)を加え、10分間攪拌し、
樹脂を濾去した後濃縮する。残渣をテトラヒドロフラン
(2m l )に溶解し、水冷下IM−テトラブチルア
ンモニウムフルオリド/テトラヒドロフラン(0,25
m1.0.25mmol)を加え、室温で7時間攪拌す
る。反応液はメタノールで希釈しAmberlyst1
5 (52mg、0.25mmo りを加え撹拌した後
に樹脂を濾去し溶媒を溜去する。残渣は、エーテル可溶
部を除去し、セファデックスLH−20カラムクロマト
グラフィー(メタノール)で精製し、(±)−4−アミ
ノ−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキシ−3
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2(I
H)−ピリミジノン(化合物4)(36mg、 定量
的)を得る。
IM−ナトリウムメチラート/メタノール(0,2m
l、 0. 2mmo 1)を加え、室温で30分間
攪拌する。反応液にAmberlistl 5 (42
mg、0.21mmo l)を加え、10分間攪拌し、
樹脂を濾去した後濃縮する。残渣をテトラヒドロフラン
(2m l )に溶解し、水冷下IM−テトラブチルア
ンモニウムフルオリド/テトラヒドロフラン(0,25
m1.0.25mmol)を加え、室温で7時間攪拌す
る。反応液はメタノールで希釈しAmberlyst1
5 (52mg、0.25mmo りを加え撹拌した後
に樹脂を濾去し溶媒を溜去する。残渣は、エーテル可溶
部を除去し、セファデックスLH−20カラムクロマト
グラフィー(メタノール)で精製し、(±)−4−アミ
ノ−1−[(1β、2α、3β)−2−ヒドロキシ−3
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2(I
H)−ピリミジノン(化合物4)(36mg、 定量
的)を得る。
NMR(400MH2−FT、DMSO−d6)δ:1
.57(1)1.m)。
.57(1)1.m)。
1.89(1)1.m)。
2.04(IH,apparent Q、J=9.0H
2)13.40−3.56(2B、+o)。
2)13.40−3.56(2B、+o)。
3.90(1)1.m)。
4.39(IH,apparent Q、J=8.8)
12)。
12)。
4.56(lH,brs、exchan3eable
with 020)。
with 020)。
5.39(IH,brs、exchangeable
with D2CI)。
with D2CI)。
5.70(ill、d、J=7.3)12)。
7.01(2)1 、brd)
実施例5゜
(±)−1−[(1α、2β、3β)−2−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2
. 4 (IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物5
)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1α、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオンの製造 (±)−(1β、2β、4β)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物1)(102mg、0.30m
mol)及び2.4−ビストリメチルシリルオキシピリ
ミジン(308mg。
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2
. 4 (IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物5
)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1α、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオンの製造 (±)−(1β、2β、4β)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物1)(102mg、0.30m
mol)及び2.4−ビストリメチルシリルオキシピリ
ミジン(308mg。
1.2mmol)を無水塩化メチレン(3m l )に
溶解し、アルゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素ニー
テラー) (51mg、0.36mmo l)の無水塩
化メチレン溶液(1m l )を加え、そのまま1日攪
拌する。反応液に0.2rVf−リン酸緩衝液(pH7
,0)を加え、しばらく攪拌した後、塩化メチレンで抽
出する。抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減
圧下溶媒を溜去する。残)査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1
(v/v))で精製し、 (±) −1−[(1α、
2β、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー2
゜4(IH,3H)−ピリミジンジオン(88mg。
溶解し、アルゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素ニー
テラー) (51mg、0.36mmo l)の無水塩
化メチレン溶液(1m l )を加え、そのまま1日攪
拌する。反応液に0.2rVf−リン酸緩衝液(pH7
,0)を加え、しばらく攪拌した後、塩化メチレンで抽
出する。抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減
圧下溶媒を溜去する。残)査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(塩化メチレン:メタノール=50: 1
(v/v))で精製し、 (±) −1−[(1α、
2β、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー2
゜4(IH,3H)−ピリミジンジオン(88mg。
65%)を得る。
NMR(400Mflz−FT、CDCl5) δ:
1.10(9H,S)。
1.10(9H,S)。
1.92(IH,apparent Ql:10.3H
2)。
2)。
2.26(IH,apparent t、J=10.8
Hz)。
Hz)。
2.64(IH,m)。
3.70(ill、d)。
3.95(IH、dd、J=4.8Hz、J=11.0
Hz)。
Hz)。
4.02(Itl、ddj=5.3Hz、J:11.0
Hz)。
Hz)。
4.46(IH,apparent q、J=7.3H
z’)。
z’)。
4.68(IH,apparent Q、J:8.71
12)。
12)。
5.74(IH、dd 、 J=1.8tlz、 J:
8.1tlz) 。
8.1tlz) 。
7.24(IH,d、J=8.1112)。
7.43(6)1.m)。
7.69(4ft、apparent t、J=7.0
flz)。
flz)。
9.13(IH,brs)。
工程2゜
(±)−1−[1α、2β、3β)−2−ヒドロキシ−
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル] −2
,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物5)の
製造 (±)−1−[(1α、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン(24mg、0゜053mmol)をテトラヒ
ドロフラン(1ml)に溶解し、1M−テトラブチルア
ンモニウムフルオリド/テトラヒドロフラン(0,1m
1. 0゜1mmol)を加え室温で3時間攪拌した後
、メタノールで希釈しAmberl 1st−15(6
Omg、0.3mmo l)を加えしばらく攪拌し、樹
脂を除去した後減圧下溶媒を溜去する。残渣は、セファ
デックスLH−20カラムクロマトグラフィー(メタノ
ール)で精製した後、水に溶解し凍結乾燥し、 (±’
)−1−[1α、2β、3β)−2−ヒドロキシ−3−
ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2. 4
(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物5)(1
2mg、 定量的)を得る。
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル] −2
,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物5)の
製造 (±)−1−[(1α、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−2,4(IH,3H)−ピリミジ
ンジオン(24mg、0゜053mmol)をテトラヒ
ドロフラン(1ml)に溶解し、1M−テトラブチルア
ンモニウムフルオリド/テトラヒドロフラン(0,1m
1. 0゜1mmol)を加え室温で3時間攪拌した後
、メタノールで希釈しAmberl 1st−15(6
Omg、0.3mmo l)を加えしばらく攪拌し、樹
脂を除去した後減圧下溶媒を溜去する。残渣は、セファ
デックスLH−20カラムクロマトグラフィー(メタノ
ール)で精製した後、水に溶解し凍結乾燥し、 (±’
)−1−[1α、2β、3β)−2−ヒドロキシ−3−
ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコー2. 4
(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合物5)(1
2mg、 定量的)を得る。
NMR(400MHz・FT、CD30D)δ:1.9
4(IH,apparent Q、J:lo、3H2)
。
4(IH,apparent Q、J:lo、3H2)
。
2.13(IH,apparent t、J=10.5
Hz)。
Hz)。
2.57(IH,m)。
3.76(IH,dd、J=8.4Hz、J=1.1.
2Hz)。
2Hz)。
3.89(it(、dd、J=5.6Hz、J=11.
2Hz)。
2Hz)。
4.57(1)1.apparent t、J=8.4
Hz)。
Hz)。
4.79(IH,apparent Q、J:8.9H
2)T5.69(lH,d、J=8.1)iz)。
2)T5.69(lH,d、J=8.1)iz)。
7.71(IH,d、J=8.1H2)。
実施例6゜
(±)−5−フルオロ−1−[(1α、2β。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオンく化合物6)の製造工程1゜ (±’)−1−[(1α、2β、3β)−3−を−ブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシク
ロブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(IH,
3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−(1β、2β、4β)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物l)(169mg、0.50m
mo l)及び2,4−ビストリメチルシリルオキシ−
5−フルオロピリミジン(549mg、2.0mmo
l)を無水塩化メチレン(5m l )に溶解し、アル
ゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素ニーテラー)(8
5mg。
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオンく化合物6)の製造工程1゜ (±’)−1−[(1α、2β、3β)−3−を−ブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシク
ロブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(IH,
3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−(1β、2β、4β)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物l)(169mg、0.50m
mo l)及び2,4−ビストリメチルシリルオキシ−
5−フルオロピリミジン(549mg、2.0mmo
l)を無水塩化メチレン(5m l )に溶解し、アル
ゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素ニーテラー)(8
5mg。
0、 6mmo l )の無水塩化メチレン溶液(1m
l)を加え、そのまま1日攪拌する。反応液に0゜2M
−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、しばらく攪拌し
た後、塩化メチレンで抽出する。抽出液は無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:メ
タノール=50:1 (v/v))で精製し、 (±’
)−1−[(1α。
l)を加え、そのまま1日攪拌する。反応液に0゜2M
−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、しばらく攪拌し
た後、塩化メチレンで抽出する。抽出液は無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:メ
タノール=50:1 (v/v))で精製し、 (±’
)−1−[(1α。
2β、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イル]−5
−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン
(136mg、58%)を得る。
メチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イル]−5
−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン
(136mg、58%)を得る。
NMR(400M)Iz・FT、CDCl5) δ:
1.11(9)1.S)。
1.11(9)1.S)。
1.89(IH,apparent Q、J:9.5H
2)。
2)。
2.25(1)1.apparent t、J=10.
5Hz)。
5Hz)。
2.63(lft、m)。
3.62(IH,d、J=7.011z)、3.94(
IH,dd、j=5.OH’z、J−10,8)Lz)
。
IH,dd、j=5.OH’z、J−10,8)Lz)
。
4.02(IH,dd、J:4.8Hz、J=10.8
Hz)。
Hz)。
4.45(lLapparent qlJ=7.5)1
2)。
2)。
4.75(1)1.apparent Q、J=9.0
112)。
112)。
7.300H,dJ=5.9Hz)。
7.33−7.50(6H,m)。
7.60−7.75(4H,m)。
8.90(IH,brs)−
工程2゜
(±)−5−フルオロ−1−[(1α、2β。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イルコー2. 4 (IH,3H)−ピリ
ミジンジオンく化合物6)の製造(±)−1−[(1α
、2β、3β)−3−t−プチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー
ラ−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(123mg、 0. 26mmo 1 )をメタ
ノール(2ml)に溶解した溶液に、4N−塩酸/ジオ
キサン(0,15m1.0.6m1)を加え室温で終夜
攪拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、エーテ
ル可溶部を除き、セファデックスL H−20(メタノ
ール)で精製した後、水に溶解し凍結乾燥し、 (±)
−5−フルオロ−1−[1α。
ブタン−1−イルコー2. 4 (IH,3H)−ピリ
ミジンジオンく化合物6)の製造(±)−1−[(1α
、2β、3β)−3−t−プチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコー
ラ−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(123mg、 0. 26mmo 1 )をメタ
ノール(2ml)に溶解した溶液に、4N−塩酸/ジオ
キサン(0,15m1.0.6m1)を加え室温で終夜
攪拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、エーテ
ル可溶部を除き、セファデックスL H−20(メタノ
ール)で精製した後、水に溶解し凍結乾燥し、 (±)
−5−フルオロ−1−[1α。
2β、3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル
シクロブタン−1−イル] −2,4(IH。
シクロブタン−1−イル] −2,4(IH。
3 H>−ピリミジンジオン(化合物6)(48mg、
79%)を得る。
79%)を得る。
NMR(400M)12・FT、CD30D)δ:1.
93(H,apparent q、J=10.611z
)。
93(H,apparent q、J=10.611z
)。
2.12(H,apparent t、J=10.3)
1z)。
1z)。
2.56(H,m)。
3.76(H,dd、J=7.5Hz、J=11.:l
z)。
z)。
3.88(H,dd、J=5.9Hz、J=11.2)
tz)。
tz)。
4.54()I、apparent t、J=8.21
(z)+4.84(H,l?I)。
(z)+4.84(H,l?I)。
7.97(H,d、J=6.682)。
実施例7゜
(±)−5−フルオロ−1−[(1β、2β。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イルコー2. 4 (IH,3H)−ピリ
ミジンジオン(化合物8)の製造工程1、 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(IH,3
H)−ピリミジンジオンの製造 アルゴン雰囲気中、オキザリルクロライド(350μl
、4.1mmol)の無水テトラヒドロフラン(9m
l )溶液に、−78℃でジメチルスルホキシド(58
3μl、8.2mmo f)を徐々に加えた後、−35
℃に昇温し、同温で5分間攪拌する。反応液を再び一7
8℃に冷却し、 (±)−1−[(1β、2α、3β)
−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−
ヒドロキシシクロブタン−1−イルコーラ−フルオロ−
2゜4(IH,3H)−ピリミジンジオン(1,60m
g、3.4mmol>の無水テトラヒドロフラン(4m
l)溶液を徐々に加えた後、−35℃に昇温し15分間
攪拌する。この反応液を、更に一78℃に冷却した後、
トリエチルアミンク2.4m1.17mmol)を加え
、−35°Cに昇温し15分間攪拌する。この反応液を
一78°Cに冷却し、リチウム水素化トリ(t−ブトキ
シ)アルミニウム(4,35g、17mmo l)の無
水テトラヒドロフラン(10ml)溶液を加え、攪拌し
ながら徐々に室温まで昇温する。反応液に、0゜2M−
リン酸緩衝液(pH7,0)及び塩化メチレンを加え、
不溶物を 去した後塩化メチレンて抽出する。抽出液は
、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去
する。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
塩化メチレン:酢酸エチル=4: 1 (v/v))
で精製し、 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒド
ロキシシクロブタン−1−イルコーラ−フルオロ−2゜
4(IH,3H)−ピリミジンジオン(628mg、3
9%)を得る。
ブタン−1−イルコー2. 4 (IH,3H)−ピリ
ミジンジオン(化合物8)の製造工程1、 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(IH,3
H)−ピリミジンジオンの製造 アルゴン雰囲気中、オキザリルクロライド(350μl
、4.1mmol)の無水テトラヒドロフラン(9m
l )溶液に、−78℃でジメチルスルホキシド(58
3μl、8.2mmo f)を徐々に加えた後、−35
℃に昇温し、同温で5分間攪拌する。反応液を再び一7
8℃に冷却し、 (±)−1−[(1β、2α、3β)
−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−
ヒドロキシシクロブタン−1−イルコーラ−フルオロ−
2゜4(IH,3H)−ピリミジンジオン(1,60m
g、3.4mmol>の無水テトラヒドロフラン(4m
l)溶液を徐々に加えた後、−35℃に昇温し15分間
攪拌する。この反応液を、更に一78℃に冷却した後、
トリエチルアミンク2.4m1.17mmol)を加え
、−35°Cに昇温し15分間攪拌する。この反応液を
一78°Cに冷却し、リチウム水素化トリ(t−ブトキ
シ)アルミニウム(4,35g、17mmo l)の無
水テトラヒドロフラン(10ml)溶液を加え、攪拌し
ながら徐々に室温まで昇温する。反応液に、0゜2M−
リン酸緩衝液(pH7,0)及び塩化メチレンを加え、
不溶物を 去した後塩化メチレンて抽出する。抽出液は
、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去
する。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
塩化メチレン:酢酸エチル=4: 1 (v/v))
で精製し、 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒド
ロキシシクロブタン−1−イルコーラ−フルオロ−2゜
4(IH,3H)−ピリミジンジオン(628mg、3
9%)を得る。
NMR(400μl2・FT、CDCl5)δ:1.0
7(9H、S ) 。
7(9H、S ) 。
2.25−2.45(3H,m)。
3.21(1)1.d、J=4.0H2)。
3.85(IH,dd、J=6.2t(z、j=11.
0Hz)。
0Hz)。
3.94(IH、cld 、 J=3.5)1z、 J
=11.0Hz) 。
=11.0Hz) 。
4.71(IH,m)。
4.79(IH,m)。
7.32−7.50(6)1.m)。
7.54(Ill、d、J=6.6)12)。
7.65(48,d、J=6.6Hz)。
8.77(IH,brs)、
工程2゜
(±)−5−フルオロ−1−[:(1β、2β。
3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物8)の製造(±)−1−[(1β、
2β、3β) −3−t−プチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルゴー
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(94mg、0.20mmol)を、メタノール(1
m l )に溶解した溶液に、4N−塩酸/ジオキサン
(0,1m1. 0. 4mmo !、)を加え室温で
終夜攪拌する。反応液は、減圧上溶媒を溜去した後、エ
ーテル可溶部を除き、セファデックスLH−20カラム
クロマトグラフィー(メタノール)で精製し、 (±)
−5−フルオロ−1−[(1β。
ブタン−1−イル] −2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物8)の製造(±)−1−[(1β、
2β、3β) −3−t−プチルジフェニルシリルオキ
シメチル−2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルゴー
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(94mg、0.20mmol)を、メタノール(1
m l )に溶解した溶液に、4N−塩酸/ジオキサン
(0,1m1. 0. 4mmo !、)を加え室温で
終夜攪拌する。反応液は、減圧上溶媒を溜去した後、エ
ーテル可溶部を除き、セファデックスLH−20カラム
クロマトグラフィー(メタノール)で精製し、 (±)
−5−フルオロ−1−[(1β。
2β、3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル
シクロブタン−1−イルコー2.4(IH。
シクロブタン−1−イルコー2.4(IH。
3H)−ピリミジンジオン(化合物8)(44mg、9
5%)を得る。
5%)を得る。
NMR(400MH2−FT 、CD30D) δ:
2.27−2.47(3H,m)。
2.27−2.47(3H,m)。
3.62(IH,dd、J=5.1)1z、J=11.
0Hz)。
0Hz)。
3.80(IH,dd、J=7.382.J=11.0
H2)。
H2)。
4.58(IH,m)。
4.79(IN、m)。
7.91(IH,d、J=7.0Hz)。
実施例8゜
(±)−1−[(1β、2β、3β)−2−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物9)の製造工程1゜ (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(IH,3H
)−ピリミジンジオンの製造 アルゴン雰囲気中、オキザリルクロライド(205u
l、2.4mmo l)の無水テトラヒドロフラン(5
m l )溶液に、−′78℃でジメチルスルホキシド
(341μ1.4.8mmol)を徐々に加えた後、−
35℃に昇温し、同温で5分間攪拌する。反応液を再び
一78℃に冷却し、 (±)−1−[(1β、2α、3
β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−
2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコーラ−メチル
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(929m
g。
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物9)の製造工程1゜ (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(IH,3H
)−ピリミジンジオンの製造 アルゴン雰囲気中、オキザリルクロライド(205u
l、2.4mmo l)の無水テトラヒドロフラン(5
m l )溶液に、−′78℃でジメチルスルホキシド
(341μ1.4.8mmol)を徐々に加えた後、−
35℃に昇温し、同温で5分間攪拌する。反応液を再び
一78℃に冷却し、 (±)−1−[(1β、2α、3
β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−
2−ヒドロキシシクロブタン−1−イルコーラ−メチル
−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(929m
g。
2.0mmol)の無水テトラヒドロフラン(2m l
)溶液を、徐々に加えた後、−35℃に昇温し15分
間攪拌する。この反応液を、更に一78℃に冷却し、ト
リエチルアミン(1,4m1. 10mmol)を加え
、−35℃に昇温した後15分間攪拌する。この反応液
を一78℃に冷却し、リチウム水素化トリ(t−ブトキ
シ)アルミニウム(2,54g、10mmol)の無水
テトラヒドロフラン(10ml)溶液を加え、攪拌しな
がら徐々に室温まで昇温する。反応液に、0.2M−リ
ン酸緩衝液(pH7,0)及び塩化メチレンを加え、不
溶物を 去した後塩化メチレンで抽出する。抽出液は、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去す
る。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩
化メチレン:酢酸エチル=4: 1 (v/v))で
精製し、 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−
t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロ
キシシクロブタン−1−イルコーラ−メチル−2,4(
IH,38)−ピリミジンジオン(382mg。
)溶液を、徐々に加えた後、−35℃に昇温し15分
間攪拌する。この反応液を、更に一78℃に冷却し、ト
リエチルアミン(1,4m1. 10mmol)を加え
、−35℃に昇温した後15分間攪拌する。この反応液
を一78℃に冷却し、リチウム水素化トリ(t−ブトキ
シ)アルミニウム(2,54g、10mmol)の無水
テトラヒドロフラン(10ml)溶液を加え、攪拌しな
がら徐々に室温まで昇温する。反応液に、0.2M−リ
ン酸緩衝液(pH7,0)及び塩化メチレンを加え、不
溶物を 去した後塩化メチレンで抽出する。抽出液は、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去す
る。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩
化メチレン:酢酸エチル=4: 1 (v/v))で
精製し、 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−
t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロ
キシシクロブタン−1−イルコーラ−メチル−2,4(
IH,38)−ピリミジンジオン(382mg。
41%)を得る。
NMR(400Mtlz・FT、CDCl2) δ
:1.08(9M、S)。
:1.08(9M、S)。
1.90(3H,s)。
2.32(IH,m)。
2.37−2.50(2H,m)。
3.32(IH,m)。
3.80−3.95(2H,m)。
4.68−4.77(2H,m)。
7.22(Ill、S)。
7.35−7.50(6H,m)。
7.67(4H、dd、J:1.8)1z、 J=6.
2tlz) 。
2tlz) 。
工程2゜
(±)−1−[(1β、2β、3β)−2−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルツー5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物9)の製造(±)−1−[(1β、2β、3β)
−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−
ヒドロキシシクロブタン−1−イルツー5−メチル−2
,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(90mg、0
.19mmol)を、メタノール(1m l )に溶解
した溶液に、4N−塩酸/ジオキサン(0,1m1.0
.4m1)を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は、減
圧下溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セファ
デックスLH−20(メタノール)で精製しく±)−1
−[(1β。
−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルツー5
−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(
化合物9)の製造(±)−1−[(1β、2β、3β)
−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−2−
ヒドロキシシクロブタン−1−イルツー5−メチル−2
,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(90mg、0
.19mmol)を、メタノール(1m l )に溶解
した溶液に、4N−塩酸/ジオキサン(0,1m1.0
.4m1)を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は、減
圧下溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セファ
デックスLH−20(メタノール)で精製しく±)−1
−[(1β。
2β、3β)−2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル
シクロブタン−1−イルコー5−メチル−2、4(IH
,3H)−ピリミジンジオン(化合物9)(43mg、
98%)を得る。
シクロブタン−1−イルコー5−メチル−2、4(IH
,3H)−ピリミジンジオン(化合物9)(43mg、
98%)を得る。
NMR(400MH2・FT、CD30D) δ:1
.89(3H,s)。
.89(3H,s)。
2.29−2.48(3)1.m)。
3.62(lH,dd、J=4.9Hz、J=10.8
tlz)。
tlz)。
3.80(IH、dd 、 J=6.8Hz、 J=1
0.8Hz) 。
0.8Hz) 。
4.58(l)I、m)。
4.71(IH,m)。
7.53(IH,s)。
実施例9゜
(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコーラ−フ
ルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン(
化合物12)の製造工程16 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−メタンスルホニル
オキシシクロブタン−1−イルコーラ−フルオロ−2,
4(IH,3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(IH,3
H)−ピリミジンジオン(94mg、0.20mmo
1)及びトリエチルアミン(50μl、0.36mmo
l)の無水塩化メチレン(1m l )溶液に、水冷
下メタンスルホニルクロライド(23μ1.0.30m
mo l)を加え、同温で30分間攪拌する。更に、ト
リエチルアミン(83μ1.0.60mmo l)及び
メタンスルホニルクロライド(23μm、 0. 3
0mmol)を加え1時間攪拌する。反応液に0゜2M
−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、塩化メチレンで
抽出する。抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
減圧下溶媒を溜去する。残渣は、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(塩化メチレン:酢酸エチル=20:
1 (V/V))で精製しく±)−1−[:(1β、
2β、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−2−メタンスルホニルオキシシクロブタン−1
−イルコーラ−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリ
ミジンジオン(36mg、33%)を得る。
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルコーラ−フ
ルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン(
化合物12)の製造工程16 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−メタンスルホニル
オキシシクロブタン−1−イルコーラ−フルオロ−2,
4(IH,3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−を−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(IH,3
H)−ピリミジンジオン(94mg、0.20mmo
1)及びトリエチルアミン(50μl、0.36mmo
l)の無水塩化メチレン(1m l )溶液に、水冷
下メタンスルホニルクロライド(23μ1.0.30m
mo l)を加え、同温で30分間攪拌する。更に、ト
リエチルアミン(83μ1.0.60mmo l)及び
メタンスルホニルクロライド(23μm、 0. 3
0mmol)を加え1時間攪拌する。反応液に0゜2M
−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、塩化メチレンで
抽出する。抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
減圧下溶媒を溜去する。残渣は、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(塩化メチレン:酢酸エチル=20:
1 (V/V))で精製しく±)−1−[:(1β、
2β、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−2−メタンスルホニルオキシシクロブタン−1
−イルコーラ−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリ
ミジンジオン(36mg、33%)を得る。
工程2゜
(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン、−1−イル]−5−フルオロ−2、4(IH,3H
)−ピリミジンジオン及び、(±)−1−[(1β、2
α、3β)−2−アジド−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(18,3
H)−ピリミジンジオン(化合物12)の製造 アルゴン雰囲気中、 (±)−1−[(1β、2β、3
β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−
2−メタンスルホニルオキシシクロブタン−1−イル]
−5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジ
オン(75mg、0゜14mmol)及び乾燥したナト
リウムアジド(90mg、 1. 4mmo l )
の無水ジメチルホルムアミド(2ml)溶液を、110
℃で7時間攪拌する。反応液に水を加え塩化メチレンで
抽出する。塩化メチレン抽出液は、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後減圧下溶媒を情夫する。残渣はシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノール
=15: 1 (v/v))で精製しく±)−1−[
(1β、2α、3β)−2−アジド−3−t−ブチルジ
メチルシリルオキシメチルシクロブタン−1−イルコー
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(15mg。
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン、−1−イル]−5−フルオロ−2、4(IH,3H
)−ピリミジンジオン及び、(±)−1−[(1β、2
α、3β)−2−アジド−3−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−1−イル]−5−フルオロ−2,4(18,3
H)−ピリミジンジオン(化合物12)の製造 アルゴン雰囲気中、 (±)−1−[(1β、2β、3
β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−
2−メタンスルホニルオキシシクロブタン−1−イル]
−5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジ
オン(75mg、0゜14mmol)及び乾燥したナト
リウムアジド(90mg、 1. 4mmo l )
の無水ジメチルホルムアミド(2ml)溶液を、110
℃で7時間攪拌する。反応液に水を加え塩化メチレンで
抽出する。塩化メチレン抽出液は、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後減圧下溶媒を情夫する。残渣はシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノール
=15: 1 (v/v))で精製しく±)−1−[
(1β、2α、3β)−2−アジド−3−t−ブチルジ
メチルシリルオキシメチルシクロブタン−1−イルコー
5−フルオロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオ
ン(15mg。
22%)を得る。
NMR(400MH2・FT、CDCl5)δ:1.1
1(9H,s)。
1(9H,s)。
1.97(IH、m) 。
2.22−2.35(2H,m)。
3.72(IH、dd、J=3.3)IZ、J−11,
4Hz)。
4Hz)。
3.87(1,H,dd、J=2.6Hz、J=11.
4Hz)。
4Hz)。
3.95(IH,apparent t、J=7.7)
1z)。
1z)。
4.68(IH,m)。
7.30(IH,d、J=5.5Hz)。
7.32−7.50(6H,m)。
7.57−7.72(4)1.m)。
8.72(ILbr)。
先の抽出が行なわれた水層を、更に塩化メチレンで1日
連続抽出をする。塩化メチレン抽出液は、シリカゲル分
取用薄層クロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノー
ル=15: 1 (v/v))で精製し、(±’)
−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3−ヒド
ロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−フルオロ
−2,4(18,3H)−ピリミジンジオン(化合物1
2) (4,8mg、14%)を得る。
連続抽出をする。塩化メチレン抽出液は、シリカゲル分
取用薄層クロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノー
ル=15: 1 (v/v))で精製し、(±’)
−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3−ヒド
ロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−フルオロ
−2,4(18,3H)−ピリミジンジオン(化合物1
2) (4,8mg、14%)を得る。
NMR(400M)Iz・FT、CDCl5)δ:2.
03(IH,apparent Ql:9.6H2)1
2.26−2.45(2tl、m)。
03(IH,apparent Ql:9.6H2)1
2.26−2.45(2tl、m)。
3.74(IH,dd、J=3.8Hz、J=11.0
)1z)。
)1z)。
3.87(IH,dd、J=3.3112.J=11.
0H2)。
0H2)。
4.55(IH、brs) 。
4.57−4.70(2H,m)。
7.40(IILd、J=5.9)12)。
8.23(ltl、brd)。
IR(KBr) cm−1:2110゜実施例10゜
(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合
物13)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1β、 2β、 3β)−3−t−ブ
チルジフェニルシリルオキシメチル−2−メタンスルホ
ニルオキシシクロブタン−1−イルコー5−メチル−2
,4(IH,3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イルツー5−メチル−2,4(IH,3H
)−ピリミジンジオン(300mg、 0. 65m
mo 1 )及びトリエチルアミン(0,5m1.3.
.6mmo l)の無水塩化メチレン(5m l )溶
液に、水冷下メタンスルホニルクロライド(150mg
、1.3mmol)の塩化メチレン(1ml)溶液を加
え、同温で30分間攪拌する。更に、同量のトリエチル
アミン及びメタンスルホニルクロライドを加え1時間攪
拌する。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH7,0
)を加え、塩化メチレンで抽出する。抽出液は、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後減圧下溶媒を溜去する。残渣
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレ
ン:酢酸エチル=3:1 (v/v))で精製しく±
)−1−[(1β。
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合
物13)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1β、 2β、 3β)−3−t−ブ
チルジフェニルシリルオキシメチル−2−メタンスルホ
ニルオキシシクロブタン−1−イルコー5−メチル−2
,4(IH,3H)−ピリミジンジオンの製造 (±)−1−[(1β、2β、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−2−ヒドロキシシクロ
ブタン−1−イルツー5−メチル−2,4(IH,3H
)−ピリミジンジオン(300mg、 0. 65m
mo 1 )及びトリエチルアミン(0,5m1.3.
.6mmo l)の無水塩化メチレン(5m l )溶
液に、水冷下メタンスルホニルクロライド(150mg
、1.3mmol)の塩化メチレン(1ml)溶液を加
え、同温で30分間攪拌する。更に、同量のトリエチル
アミン及びメタンスルホニルクロライドを加え1時間攪
拌する。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH7,0
)を加え、塩化メチレンで抽出する。抽出液は、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後減圧下溶媒を溜去する。残渣
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレ
ン:酢酸エチル=3:1 (v/v))で精製しく±
)−1−[(1β。
2β、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−2−メタンスルホニルオキシシクロブタン−1
−イル]−5−メチル−2,,4(IH,3H)−ピリ
ミジンジオン(184mg、53%)を得る。
メチル−2−メタンスルホニルオキシシクロブタン−1
−イル]−5−メチル−2,,4(IH,3H)−ピリ
ミジンジオン(184mg、53%)を得る。
工程2゜
(±) −1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−
3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブ
タン−1−イルツー5−メチル−2゜4(IH,3H)
−ピリミジンジオンの製造アルゴン雰囲気中、 (±)
−1−[(1β、2β、3β)−3−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−2−メタンスルホニルオキシ
シクロブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(IH
。
3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブ
タン−1−イルツー5−メチル−2゜4(IH,3H)
−ピリミジンジオンの製造アルゴン雰囲気中、 (±)
−1−[(1β、2β、3β)−3−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−2−メタンスルホニルオキシ
シクロブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(IH
。
3H)−ピリミジンジオン(25mg、46μmof)
及び乾燥したナトリウムアジド(15mg。
及び乾燥したナトリウムアジド(15mg。
230μmol)の無水ジメチルホルムアミド(1ml
)溶液を、110°Cで10時間攪拌する。
)溶液を、110°Cで10時間攪拌する。
反応液に水を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル抽
出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下溶媒を
溜去する。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(塩化メチレン:酢酸エチル=10: 1 (v/v
))で精製しく±) −1−[(1β、2α、3β)−
2−アジド−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメ
チルシクロブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(
IH,3H)−ピリミジンジオン(16mg、71%)
を得る。
出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下溶媒を
溜去する。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(塩化メチレン:酢酸エチル=10: 1 (v/v
))で精製しく±) −1−[(1β、2α、3β)−
2−アジド−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメ
チルシクロブタン−1−イル]−5−メチル−2,4(
IH,3H)−ピリミジンジオン(16mg、71%)
を得る。
NMR(400MHz−FT、CDCl3)δ:1.1
2(9)1.s)。
2(9)1.s)。
1.90(3H,s)。
2.04(iH,m)。
2.18−2.34(2H,m)。
3.72(IH,dd、J=2.911z、J=11.
4Hz)。
4Hz)。
3.83(1)1 、dd、J=2.2Hz、 J=1
1.4Hz)。
1.4Hz)。
4.03(iH,t、J=7.’7)1z)。
4.75(I)1.Q、J=8.8H2)。
7.08(1N、s)。
7.33−7.51(6)1.m)。
7.65(4H、m) 。
8.72(IH,br)。
工程3゜
(±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合
物13)の製造 (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イル]−5−メチル−2゜4(IH,3H)−
ピリミジンジオン(111mg、 0. 23mmo
1 )を、メタノール(1ml)に溶解した溶液に、
4N−塩酸/ジオキサン(0゜15m 1. 0. 6
mmo l )を加え室温で終夜攪拌する。反応液は、
減圧下溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セフ
ァデックスLH−20カラムクロマトグラフィー(メタ
ノール)で精製しく±)−1−[(1β、2α、3β)
−2−アジド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1
−イルツー5−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物13)(58mg、 定量的)を
得る。
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化合
物13)の製造 (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アジド−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イル]−5−メチル−2゜4(IH,3H)−
ピリミジンジオン(111mg、 0. 23mmo
1 )を、メタノール(1ml)に溶解した溶液に、
4N−塩酸/ジオキサン(0゜15m 1. 0. 6
mmo l )を加え室温で終夜攪拌する。反応液は、
減圧下溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セフ
ァデックスLH−20カラムクロマトグラフィー(メタ
ノール)で精製しく±)−1−[(1β、2α、3β)
−2−アジド−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1
−イルツー5−メチル−2,4(IH,3H)−ピリミ
ジンジオン(化合物13)(58mg、 定量的)を
得る。
NMR(400MHz・FT、CDCl5)δ:1.9
4(3)1.S)。
4(3)1.S)。
2.08(1)1.m)。
2.22−2.40(3)1.m)。
3.74(IH,dd、J=4.0Hz、J=11.4
Hz)。
Hz)。
3.86(IH,dd、J=3.3Hz、J=11.4
Hz)。
Hz)。
4.14(1)1.apparent t、J=7.7
Hz)。
Hz)。
4.55(l)1.apparent Q、J:8.9
H2)。
H2)。
7.11(IH,s)。
9.09(II(、b「)。
IR(neat) cm−1:2120゜実施例11゜
(土)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−3
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フ
ルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン(
化合物16)の製造工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イル]−5−フルオロ−2、4(IH,3H)
−ピリミジンジオンの製造(±)−1−[(1β、2α
、3β)−2−アジド−3−t−ブチルジフェニルシリ
ルオキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フルオ
ロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(14m
g、 28 amo l )をメタノール(1m l
)に溶解し10%パラジウム炭素(3m g )を゛
加え水素気流中24時間攪拌する。反応液は触媒を濾去
した後溶媒を溜去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(塩化メチレン:メタノール=20: 1
(v/v))で精製しく±”)−1−[(1β、2α
、3β)−2−アミノ−3−t−ブチルジフェニルシリ
ルオキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フルオ
ロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(7,2
mg。
−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フ
ルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン(
化合物16)の製造工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イル]−5−フルオロ−2、4(IH,3H)
−ピリミジンジオンの製造(±)−1−[(1β、2α
、3β)−2−アジド−3−t−ブチルジフェニルシリ
ルオキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フルオ
ロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(14m
g、 28 amo l )をメタノール(1m l
)に溶解し10%パラジウム炭素(3m g )を゛
加え水素気流中24時間攪拌する。反応液は触媒を濾去
した後溶媒を溜去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(塩化メチレン:メタノール=20: 1
(v/v))で精製しく±”)−1−[(1β、2α
、3β)−2−アミノ−3−t−ブチルジフェニルシリ
ルオキシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フルオ
ロ−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(7,2
mg。
る。
NMR(400MHz・FT、CDCl2) δ:t
、to(9u、s)。
、to(9u、s)。
1.72(IH,apparent q、J=lO,I
Hz)。
Hz)。
1.90(IH,m)。
2.20(IH,apparent Q、J=8.9H
2)。
2)。
2.75−3.50(2)1.br)。
3.36(IH,apparent t、J=8.3
)1z)。
)1z)。
3.72(IH,dd、J:3.8Hz、J:11.0
Hz)。
Hz)。
3.83(IH,dd、J:3.3)1z、J=11.
01(z)。
01(z)。
4.42(III、m)。
7.30−7.50(68,m)。
7.35(IN、d、J=5.982)。
7.50−7.75(4)1.m)。
54%)を得
工程2゜
(±)−1−[:(1β、2α、3β)−2−アミノ−
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
フルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン
(化合物16)の製造(±)−1−[(1β、2α、3
β)−2−アミノ−3−t−ブチルジフェニルシリルオ
キシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フルオロ−
2、4(IH,3H)−ピリミジンジオン(7mg、1
5μmol)を、メタノール(1ml)に溶解した溶液
に、4N−塩酸/ジオキサン(0゜1ml、0.4mm
ol)を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は、減圧下
溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セファデッ
クスLH−20カラムクロマトグラフィー(メタノール
)で精製しく±)−1−[(1β、2α、3β)−2−
アミノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル
]−5−フルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジ
ンジオン塩酸塩(化合物16)(4mg。
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
フルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジンジオン
(化合物16)の製造(±)−1−[(1β、2α、3
β)−2−アミノ−3−t−ブチルジフェニルシリルオ
キシメチルシクロブタン−1−イルツー5−フルオロ−
2、4(IH,3H)−ピリミジンジオン(7mg、1
5μmol)を、メタノール(1ml)に溶解した溶液
に、4N−塩酸/ジオキサン(0゜1ml、0.4mm
ol)を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は、減圧下
溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セファデッ
クスLH−20カラムクロマトグラフィー(メタノール
)で精製しく±)−1−[(1β、2α、3β)−2−
アミノ−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル
]−5−フルオロ−2,4(IH,3H) −ピリミジ
ンジオン塩酸塩(化合物16)(4mg。
定量的)を得る。
NMR(400MH2−FT 、CD30D)δ:2.
10(IH,apparent q、J=9.6Hz)
。
10(IH,apparent q、J=9.6Hz)
。
2.3C12,52(2H,m)。
3.56−3.78(3H,m)。
4.56(IH,apparent q、J=8.5H
z)。
z)。
7.79(IH,d、J=6.382)。
実施例12゜
(±”)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化
合物17)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イルコー5−メチル−2゜4(IH,3H)−
ピリミジンジオンの製造(±)−1−[(1β、2α、
3β)−2−アジド−3−t−ブチルジフェニルシリル
オキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メチル−
2゜4(IH,3H)−ピリミジンジオン(12mg。
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化
合物17)の製造 工程1゜ (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イルコー5−メチル−2゜4(IH,3H)−
ピリミジンジオンの製造(±)−1−[(1β、2α、
3β)−2−アジド−3−t−ブチルジフェニルシリル
オキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メチル−
2゜4(IH,3H)−ピリミジンジオン(12mg。
25μmol)をメタノール(2ml)に溶解し10%
パラジウム炭素(2mg)を加え水素気流中10時間攪
拌する。反応液は触媒を濾去した後溶媒を溜去し、残渣
をシリカゲルカラムクコマドグラフィー(塩化メチレン
:メタノール=20:1 (v/v))で精製しく±)
−1−[(1β、。
パラジウム炭素(2mg)を加え水素気流中10時間攪
拌する。反応液は触媒を濾去した後溶媒を溜去し、残渣
をシリカゲルカラムクコマドグラフィー(塩化メチレン
:メタノール=20:1 (v/v))で精製しく±)
−1−[(1β、。
2α、3β)−2−アミノ−3−t−ブチルジフェニル
シリルオキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(10
mg、88%)を得る。
シリルオキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(10
mg、88%)を得る。
NMR(400Ml(z−FT、CDCl5)δ:1.
08(9H,S)。
08(9H,S)。
1.90(3H、s) 。
2.32(1)1.m)。
2.38−2.52(214、m)。
3.32(IH,m)。
3.85−3.95(2tl、m)。
4.66−4.78(2H,m)。
7.22(IH,S)。
7.33−7,49(6)1.m)。
7.67(4)1.dd、J=1.8Hz、J=8.2
)1z)。
)1z)。
工程26
(±’)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化
合物17)の製造 (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イルツー5−メチル−2゜4(IH,3H)−
ピリミジンジオン(10mg。
3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−
メチル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(化
合物17)の製造 (±)−1−[(1β、2α、3β)−2−アミノ−3
−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−1−イルツー5−メチル−2゜4(IH,3H)−
ピリミジンジオン(10mg。
22μmol)を、メタノール(1m l )に溶解し
た溶液に、4N−塩酸/ジオキサン(0,1ml 0
.4mmol)を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は
、減圧上溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セ
ファデックスLH−20カラムクロマトグラフィー(メ
タノール)で精製しく±’)−1−[: (1β、2α
、3β)−2−アミノ−3−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−1−イルツー5−メチル−2,4(IH,3H)
−ピリミジンジオン塩酸塩(化合物17)(7mg、定
量的)を得る。
た溶液に、4N−塩酸/ジオキサン(0,1ml 0
.4mmol)を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は
、減圧上溶媒を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セ
ファデックスLH−20カラムクロマトグラフィー(メ
タノール)で精製しく±’)−1−[: (1β、2α
、3β)−2−アミノ−3−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−1−イルツー5−メチル−2,4(IH,3H)
−ピリミジンジオン塩酸塩(化合物17)(7mg、定
量的)を得る。
NMR(400MH2・FT、CD30D) δ:1
.94(311,9) 。
.94(311,9) 。
2.17(IH,Q、J=9.0F12)。
2.40−2.60(2H,n+)。
3.63(1)1.m)。
3.65−3.85(2)1 、m)。
4.57(IH,Q、J:8.5H2)。
7.43(IH,s)。
実施例13゜
1−[(1β、3β)−3−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−1−イル]−5−メチル−2,4(IH,3H)
−ピリミジンジオン(化合物21)の製造 アルゴン雰囲気中、 (1α、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−1−メタンスルホニル
オキシシクロブタン(126mg。
タン−1−イル]−5−メチル−2,4(IH,3H)
−ピリミジンジオン(化合物21)の製造 アルゴン雰囲気中、 (1α、3β)−3−t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−1−メタンスルホニル
オキシシクロブタン(126mg。
0.3mmo l)をジメチルホルムアミド(3ml)
に溶解し、ビストリメチルシリル−5−メチルウラシル
(325mg、1.2mmo I)を加え、120℃で
一晩攪拌する。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH
7−0)を加え、酢酸エチルで抽出する。抽出液は無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレ
ン:メタノール=50: 1 (v/v) )で精製し
、粗1−[(1β、3β)−3−t−ブチルジフェニル
シリルオキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(40
m g )を得る。
に溶解し、ビストリメチルシリル−5−メチルウラシル
(325mg、1.2mmo I)を加え、120℃で
一晩攪拌する。反応液に0.2M−リン酸緩衝液(pH
7−0)を加え、酢酸エチルで抽出する。抽出液は無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレ
ン:メタノール=50: 1 (v/v) )で精製し
、粗1−[(1β、3β)−3−t−ブチルジフェニル
シリルオキシメチルシクロブタン−1−イル]−5−メ
チル−2,4(IH,3H)−ピリミジンジオン(40
m g )を得る。
これを、メタノール(1ml)に溶解した溶液に、4N
−塩酸/ジオキサン(0,2m1. 0゜8mmol)
を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は、減圧上溶媒を
溜去した後、エーテル可溶部を除き、分取用逆相高速液
体クロマトグラフィー(OD3.5%−アセトニトリル
水溶液)及びセファデックスLH−20カラムクロマト
グラフィー(メタノール)で分離精製し1−[(1β、
3β)−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル
ツー5−メチル−2,4(IH,3H)−ピノミジンジ
オン(化合物21)を得る。
−塩酸/ジオキサン(0,2m1. 0゜8mmol)
を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は、減圧上溶媒を
溜去した後、エーテル可溶部を除き、分取用逆相高速液
体クロマトグラフィー(OD3.5%−アセトニトリル
水溶液)及びセファデックスLH−20カラムクロマト
グラフィー(メタノール)で分離精製し1−[(1β、
3β)−3−ヒドロキシメチルシクロブタン−1−イル
ツー5−メチル−2,4(IH,3H)−ピノミジンジ
オン(化合物21)を得る。
実施例14゜
(±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物e)及び(±)−(1β、2β
、4β)−2−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチ
ル−5−オキサビシクロ[2,1,0]ペンタン(化合
物l)の製造1−t−ブチルジフェニルシリルオキシメ
チル−2−シクロブテン(6,45g、20mmol)
及び2−ベンゼンスルホニル−3−(4−ニトロフェニ
ル)オキサチリジン(X m) (F、A、Davis
etal、、Tetrahedron Lett、、
22.917(1981)) (7,35g、24mm
ol)を無水アセトニトリル(100m l )に加え
、アルゴン雰囲気中、60℃で4日間攪拌する。冷却後
アセトニトリルを減圧下情夫した後、残渣をヘキサンで
抽出する。ヘキサン抽出物は濃縮後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(塩化メチレン:ヘキサン=l:3
続いて1: 2 (v/v))で分離精製し、未反応の
原料(2,15g、33%回収)、 (±)−(1α。
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0]ペンタン(化合物e)及び(±)−(1β、2β
、4β)−2−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチ
ル−5−オキサビシクロ[2,1,0]ペンタン(化合
物l)の製造1−t−ブチルジフェニルシリルオキシメ
チル−2−シクロブテン(6,45g、20mmol)
及び2−ベンゼンスルホニル−3−(4−ニトロフェニ
ル)オキサチリジン(X m) (F、A、Davis
etal、、Tetrahedron Lett、、
22.917(1981)) (7,35g、24mm
ol)を無水アセトニトリル(100m l )に加え
、アルゴン雰囲気中、60℃で4日間攪拌する。冷却後
アセトニトリルを減圧下情夫した後、残渣をヘキサンで
抽出する。ヘキサン抽出物は濃縮後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(塩化メチレン:ヘキサン=l:3
続いて1: 2 (v/v))で分離精製し、未反応の
原料(2,15g、33%回収)、 (±)−(1α。
2β、4α)−2−t−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル−5−オキサビシクロ[2,1,0コベンタン(
化合物e)(1,93g、29%)及び(±)−(1β
、2β、4β)−2−t−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−5−オキサビシクロ[2,1,0コベンタン
(化合物1)(0゜71g、10%)を得る。
メチル−5−オキサビシクロ[2,1,0コベンタン(
化合物e)(1,93g、29%)及び(±)−(1β
、2β、4β)−2−t−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−5−オキサビシクロ[2,1,0コベンタン
(化合物1)(0゜71g、10%)を得る。
(化合物e)
NMR(400MHz−FT、CDC13)δ:1.0
7(9)1.S)。
7(9)1.S)。
1.66(H,dd、J=3.7Hz、J=12.1H
z)。
z)。
1.83(H,ddd、J=2.6Hz、J=5.1H
z、J:12.1Hz)。
z、J:12.1Hz)。
2.32(H,m)。
3.70(H,dd、J=8.4Hz、J=10.6H
z)。
z)。
3.79()1.m)。
3.82−3.88(2H,m)。
7.34−7.47(6H,m)。
7.60−7.72(4JI、m)。
(化合物1)
NMR(400MH2−FT、CDCl5)δ:1.0
6(9B、s)。
6(9B、s)。
1.36(IH、dt、J=12.1Hz、J=3.6
Hz)。
Hz)。
2.08(IH,dd、J=9.2Hz、J=I2.1
)1z)。
)1z)。
2.63(IN、m)。
3.45(IH,dd、J=6.4Hz、J=10.4
Hz)。
Hz)。
3.72−3.82(2H,m)。
3.84(IH,m)。
7.33−7.45(6tl、m)。
7.67(4H,apparent t、J=7.5H
z)。
z)。
実施例15゜
(±)−(1α、2β、4α)−2−ベンゾイロキシメ
チル−5−オキサビシクロ[2,1,0]ペンタン(化
合物C)及び(±) −(1β、2β。
チル−5−オキサビシクロ[2,1,0]ペンタン(化
合物C)及び(±) −(1β、2β。
4β)−2−ベンゾイロキシメチル−5−オキサビシク
ロ[2,1,0]ペンタン(化合物j)の製造 方法1゜ 1− t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−2−
シクロブテン(1,0g、 5. 0mmo l)及
び2−ベンゼンスルホニル−3−(4−ニトロフェニル
)オキサチリジン(XIII) 2. ’3 g (
7゜5mmol)を無水アセトニトリル(25ml)に
加え、アルゴン雰囲気中、60℃で2日間攪拌する。冷
却後、アセトニトリルを減圧下情夫した後、残渣をペン
タンで抽出。ペンタン抽出液は減圧下溶媒を溜去した後
、無水テトラヒドロフラン(25ml)に溶解し、IM
−テトラブチルアンモニウムフルオツド/テトラヒドロ
フラン(6゜Oml、6.0mmo l)を加え、室温
で1時間攪拌する。反応液に0.2Mリン酸緩衝)α(
pH7,0)を加え食塩を飽和させた後、塩化メチレン
−メタノール(4: 1 (v/v))混合溶媒で1
0回抽出する。抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、減圧下溶媒を溜去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1: 1 (v/
v、) )で精製し、2−ヒドロキシメチル−5−オキ
サビシクロ[2,1,0]ベンタン(化合物aと化合物
りの混合物)を210mg(42%)得る。この化合物
を無水ピリジン(2m l )に溶解し、水冷上塩化ベ
ンゾイル(0゜37m1.3.2mmol)を加え、同
温で1時間攪拌する。反応液に水を加え、エーテルで抽
出する。エーテル抽出液は、IM−硫酸水溶液、水、食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減
圧上溶媒を溜去し油状物を得る。このものはシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:ヘキサン=
1: 1 (v/v))で分離精製し、(±)−(1α
、2β、4α)−2−ベンゾイロキシメチル−5−オキ
サビシクロ[2゜1.0]−ペンタン(化合物C)(2
68mg。
ロ[2,1,0]ペンタン(化合物j)の製造 方法1゜ 1− t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−2−
シクロブテン(1,0g、 5. 0mmo l)及
び2−ベンゼンスルホニル−3−(4−ニトロフェニル
)オキサチリジン(XIII) 2. ’3 g (
7゜5mmol)を無水アセトニトリル(25ml)に
加え、アルゴン雰囲気中、60℃で2日間攪拌する。冷
却後、アセトニトリルを減圧下情夫した後、残渣をペン
タンで抽出。ペンタン抽出液は減圧下溶媒を溜去した後
、無水テトラヒドロフラン(25ml)に溶解し、IM
−テトラブチルアンモニウムフルオツド/テトラヒドロ
フラン(6゜Oml、6.0mmo l)を加え、室温
で1時間攪拌する。反応液に0.2Mリン酸緩衝)α(
pH7,0)を加え食塩を飽和させた後、塩化メチレン
−メタノール(4: 1 (v/v))混合溶媒で1
0回抽出する。抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、減圧下溶媒を溜去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1: 1 (v/
v、) )で精製し、2−ヒドロキシメチル−5−オキ
サビシクロ[2,1,0]ベンタン(化合物aと化合物
りの混合物)を210mg(42%)得る。この化合物
を無水ピリジン(2m l )に溶解し、水冷上塩化ベ
ンゾイル(0゜37m1.3.2mmol)を加え、同
温で1時間攪拌する。反応液に水を加え、エーテルで抽
出する。エーテル抽出液は、IM−硫酸水溶液、水、食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減
圧上溶媒を溜去し油状物を得る。このものはシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:ヘキサン=
1: 1 (v/v))で分離精製し、(±)−(1α
、2β、4α)−2−ベンゾイロキシメチル−5−オキ
サビシクロ[2゜1.0]−ペンタン(化合物C)(2
68mg。
通算収率26%)及び、 (±)−(1β、2β。
4β)−2−ベンゾイロキシメチル−5−オキサビシク
ロ[2,1,0コペンタン(化合物j)(76mg、
通算収率7%)を得る。
ロ[2,1,0コペンタン(化合物j)(76mg、
通算収率7%)を得る。
(化合物C)
NMR(400Ml(2・FT、CDCl5)δ:1.
82(IH,ddd、J:1.8Hz、J:4.6Hz
、J=12.0)1z)。
82(IH,ddd、J:1.8Hz、J:4.6Hz
、J=12.0)1z)。
2.04(lit、ddd、J=2.8Hz、j:5.
6t(z、J=12.0)lz)。
6t(z、J=12.0)lz)。
2.55(H,m)。
3.91(H,m)。
3.97(H,t、J=2.882)。
4.39(H,dd、J=9.0Hz、J=11.7t
lz)。
lz)。
4.55(H,dd、J=6.0Hz、J=11.7H
z)。
z)。
7.46(2H、t 、 J=8.1Hz) 。
7.59(IH,apparent t、J=8.1H
z)。
z)。
8.05(IH,apparent d、、I:8.I
Hz)。
Hz)。
(化合物j)
NMR(400M)12−FT、CDCl5)δ:1.
62(IH、dt、J=12.1flz、J=3.6H
z)。
62(IH、dt、J=12.1flz、J=3.6H
z)。
2.29(IH、dd 、J=9.582. J=12
.1Hz) 。
.1Hz) 。
2.86(IH,m)。
3.88(LH,m)。
3.92(IH,m)。
4.21(IH,dd、J=6.5Hz、J=12.
IH2)。
IH2)。
4.39(ltl、dd、J:8.9)1z、J=12
.1Hz)。
.1Hz)。
7.44(2H,t、J=8.2)12)。
7.56(l)I、apparent t、J=8.2
Hz)。
Hz)。
8.04(IH,apparent d、J=8.2H
z)。
z)。
方法2゜
1−ヒドロキシメチル−2−シクロブテン(252mg
、 3. 0mmo l )を無水塩化メチレン(1
5ml)に溶解した溶液に、水冷下80%m−クロロ過
安息香酸(777mg、3.6mm。
、 3. 0mmo l )を無水塩化メチレン(1
5ml)に溶解した溶液に、水冷下80%m−クロロ過
安息香酸(777mg、3.6mm。
l)を加え、0℃で3時間攪拌する。反応液に10%亜
硫酸水素ナトリウム水溶液及び10%炭酸カリウム水溶
液を加え、塩化メチレンで10回抽出する。抽出液は無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去し粗精製物
を得る。このものは方法lに従フて、塩化ベンゾイル(
0,52m1゜4.5mmol)及び無水とリジン(3
ml)を用いてベンゾイル化した後分離精製し、(±)
−(1α、2β、4α)−2−ベンゾイロキシメチル−
5−オキサビシクロ[2,1,0コーペンタン(化合物
c)(67mg、11%)及び、 (±)−(1β、2
β、4β)−2−ベンゾイロキシメチル−5−オキサビ
シクロ[2,1,0]ペンタン(化合物j)(180m
g、29%)を得る。
硫酸水素ナトリウム水溶液及び10%炭酸カリウム水溶
液を加え、塩化メチレンで10回抽出する。抽出液は無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去し粗精製物
を得る。このものは方法lに従フて、塩化ベンゾイル(
0,52m1゜4.5mmol)及び無水とリジン(3
ml)を用いてベンゾイル化した後分離精製し、(±)
−(1α、2β、4α)−2−ベンゾイロキシメチル−
5−オキサビシクロ[2,1,0コーペンタン(化合物
c)(67mg、11%)及び、 (±)−(1β、2
β、4β)−2−ベンゾイロキシメチル−5−オキサビ
シクロ[2,1,0]ペンタン(化合物j)(180m
g、29%)を得る。
[参考例コ
(1α、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−1−メタンスルホニルオキシシクロブタンの
製造 工程1゜ (1α、3β)−3−ヒドロキシメチルシクロブタノー
ルの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0コペンタン(化合物e) (3゜00g、7.1
7mmol)をテトラヒドロフラン(1,0m1)に溶
解し、IM−テトラブチルアンモニウムフルオライド/
テトラヒドロフラン(8,6ml、8.60mmo l
)を加え、室温で3.5時間攪拌する。反応液を濃縮し
た後、水を加え溶解しヘキサンで洗浄する。水層は、エ
ーテルで1日間連続抽出する。エーテル抽出液は無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去する。残
渣をテトラヒドロフラン(24ml)に溶解し、70%
−ナトリウム 水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウム(4,1,3g。
シメチル−1−メタンスルホニルオキシシクロブタンの
製造 工程1゜ (1α、3β)−3−ヒドロキシメチルシクロブタノー
ルの製造 (±)−(1α、2β、4α)−2−t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−5−オキサビシクロ[2,1
,0コペンタン(化合物e) (3゜00g、7.1
7mmol)をテトラヒドロフラン(1,0m1)に溶
解し、IM−テトラブチルアンモニウムフルオライド/
テトラヒドロフラン(8,6ml、8.60mmo l
)を加え、室温で3.5時間攪拌する。反応液を濃縮し
た後、水を加え溶解しヘキサンで洗浄する。水層は、エ
ーテルで1日間連続抽出する。エーテル抽出液は無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去する。残
渣をテトラヒドロフラン(24ml)に溶解し、70%
−ナトリウム 水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウム(4,1,3g。
14.3mmo l)をテトラヒドロフラン8mlに溶
解した溶液を水冷上滴下した後、室温で7時間攪拌する
。反応液にイソプロピルアルコールを加え、しばらく攪
拌した後、不溶物を濾去する。
解した溶液を水冷上滴下した後、室温で7時間攪拌する
。反応液にイソプロピルアルコールを加え、しばらく攪
拌した後、不溶物を濾去する。
濾液は減圧上溶媒を溜去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノール=20:
1 (v/v))て分離精製し、 (1α、3β)
−3−ヒドロキシメチル−シクロブタノール(0,66
g、90%)を得る。
ロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノール=20:
1 (v/v))て分離精製し、 (1α、3β)
−3−ヒドロキシメチル−シクロブタノール(0,66
g、90%)を得る。
工程2゜
(1α、3β)−3−)リチルオキシメチルシクロブタ
ノールの製造 (1α、3β)−3−ヒドロキシメチルシクロブタノー
ル(660mg、6.5mmol)をピリジン(5ml
>に溶解し、水冷下、トリチルクロライド(2,16g
、7.75mmo l)を加え、室温で一晩攪拌する。
ノールの製造 (1α、3β)−3−ヒドロキシメチルシクロブタノー
ル(660mg、6.5mmol)をピリジン(5ml
>に溶解し、水冷下、トリチルクロライド(2,16g
、7.75mmo l)を加え、室温で一晩攪拌する。
反応液を濃縮してピリジンを除去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(塩化メチレン)で分離精製
し、粗(1α、3β)−3−トリチルオキシメチルシク
ロブタノール(898mg、40%)を得る。
カラムクロマトグラフィー(塩化メチレン)で分離精製
し、粗(1α、3β)−3−トリチルオキシメチルシク
ロブタノール(898mg、40%)を得る。
工程3゜
(1α、3β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキ
シメチル−1−メタンスルホニルオキシシクロブタンの
製造 上記、粗(1α、3β)−3−)リチルオキシメチルシ
クロブタノール(890mg、2.6mmol)を塩化
メチレン(10m l )に溶解し、水冷下、トリエチ
ルアミン(1,08mf、 7゜76mmol)、及
びメタンスルホニルクロライド(445mg、3.88
mmo l)を加え、30分間攪拌する。反応液に0.
2M−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、エーテルで
抽出する。
シメチル−1−メタンスルホニルオキシシクロブタンの
製造 上記、粗(1α、3β)−3−)リチルオキシメチルシ
クロブタノール(890mg、2.6mmol)を塩化
メチレン(10m l )に溶解し、水冷下、トリエチ
ルアミン(1,08mf、 7゜76mmol)、及
びメタンスルホニルクロライド(445mg、3.88
mmo l)を加え、30分間攪拌する。反応液に0.
2M−リン酸緩衝液(pH7,0)を加え、エーテルで
抽出する。
エーテル抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、
減圧上溶媒を溜去する。残渣は、メタノール(10ml
)に溶解し、Amberlyst15 (529mg、
2.6mmo l)を加え、室温で一晩攪拌する。反応
液は、不溶物を濾過した後、減圧上溶媒を溜去する。残
渣はジメチルホルムアミド(8ml)に溶解し、水冷下
、トリエチルアミン(1,08m1,7.76mmo
l)、 及びt−ブチルジフェニルクロロシラン(1
,07g。
減圧上溶媒を溜去する。残渣は、メタノール(10ml
)に溶解し、Amberlyst15 (529mg、
2.6mmo l)を加え、室温で一晩攪拌する。反応
液は、不溶物を濾過した後、減圧上溶媒を溜去する。残
渣はジメチルホルムアミド(8ml)に溶解し、水冷下
、トリエチルアミン(1,08m1,7.76mmo
l)、 及びt−ブチルジフェニルクロロシラン(1
,07g。
3.88mmol)を加え、−晩攪拌する。反応液に水
を加え、エーテル抽出する。抽出液は、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:エーテル=
3: i (v/v))で分離精製し、 (1α、3
β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−
1−メタンスルホニルオキシシクロブタン(720mg
、66%)を得る。
を加え、エーテル抽出する。抽出液は、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧上溶媒を溜去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:エーテル=
3: i (v/v))で分離精製し、 (1α、3
β)−3−t−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−
1−メタンスルホニルオキシシクロブタン(720mg
、66%)を得る。
間R(CDCl2)δ:
1.08(9H、S) 。
2.34−2.48(4H,m)。
2.53(IH,m)。
2.96(311,s)。
3.65(2)1.d、J=4.8)12)。
5.16(1N、m)。
7.37−7.49(6H,m)。
7.65(4H,d、J=6.282)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中Aは、水素、水酸基、アジド基、またはアミノ基
を示し、Bは、▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでXは、水素原子、ハロゲン原子、または低級ア
ルキル基を示す)または、▲数式、化学式、表等があり
ます▼ を示す] で表されるシクロブタン誘導体 2、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中Rは水素原子または保護基を示す] で表されるシクロブタン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63125028A JPH0228161A (ja) | 1987-05-25 | 1988-05-24 | 新規なシクロブタン誘導体 |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12582587 | 1987-05-25 | ||
| JP62-125825 | 1987-05-25 | ||
| JP63-98084 | 1988-04-22 | ||
| JP63125028A JPH0228161A (ja) | 1987-05-25 | 1988-05-24 | 新規なシクロブタン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0228161A true JPH0228161A (ja) | 1990-01-30 |
Family
ID=26461570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63125028A Pending JPH0228161A (ja) | 1987-05-25 | 1988-05-24 | 新規なシクロブタン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0228161A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02780A (ja) * | 1987-12-28 | 1990-01-05 | E R Squibb & Sons Inc | プリニルおよびピリミジニルシクロブタン類 |
| JPH0273072A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-03-13 | E R Squibb & Sons Inc | ヒドロキシメチルシクロブチルプリン類 |
-
1988
- 1988-05-24 JP JP63125028A patent/JPH0228161A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02780A (ja) * | 1987-12-28 | 1990-01-05 | E R Squibb & Sons Inc | プリニルおよびピリミジニルシクロブタン類 |
| JPH0273072A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-03-13 | E R Squibb & Sons Inc | ヒドロキシメチルシクロブチルプリン類 |
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