JPH02131473A - 新規なシクロブタン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば抗ウイルス薬等の医薬として期待され
るシクロブタン誘導体に関する．〔従来の技術｝ 核酸関連物質には抗ウイルス作用を持つものが数多く知
られて居り、そのうちいくつかのものは有用な医薬品と
して臨床に供されている．例えば抗ウイルス剤としては
ビダラビン（Ｍ．Ｐｒｉｖａｔ　ｄｅＧａｒｉｌｈｅ　
ａｎｄ　ｊ．ｄｅ　Ｒｕｂｂｅｒ＋　Ｃ．　Ｒ．　Ａｃ
ａｄ．　Ｓｏｃ．　Ｄ（Ｐａｒｉｓ）　ハｈ２７２５（
１９６４））、アシクロビル（Ｇ．　１１．１＋１ｉｏ
ｎ　ａｔ　ａｌ．，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓ
ｃｉ．ＵＳＡ．″７４．５７１６（１９７７））　，ア
ジドチミジン（１１．旧ｔｓｕｙａ　ｅｔ　ａｌ．Ｐｒ
ｏｃ．　Ｎａｉｌ．＾ｃａｄ．　Ｓｃｉ．　ＬＩＳＡ，
　８２．　７０９６（１９８５）等が知られている． （発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、上記抗ウィルス薬は通用範囲が狭く、ま
た溶解度、経口吸収性、代謝等の影響により投与方法が
限られる、また、骨ｆＩｉｉ毒等の副作用のため長期投
与が困難である等問題点を多く残している．更に、多く
のウイルス性疾患、例えば、ウ・イルス性肝炎、小児に
多発するウイルス性消化器疾患・呼吸器疾，患等は、適
当な抗ウイルス薬がなく対症療法に転っている状況であ
る．また、後天性免疫不全症候群（ＡＩＤＳ）、成人Ｔ
ｉｌ胞白血病（ＡＴＬ、）等悪性なウイルス病が増加の
傾向にあることから、イ憂れた抗ウイルス薬の開発が望
まれている． 〔課題を解決するだめの手段〕 本発明はーｌｃＬ（１） Ａ ［式中Δは、水素原子水酸徨、アジド基、またはアミノ
基を示し、Ｂはブリン残括又はビリミジン残丞を示す］
で表されるシクロブタン誘導体に関する． 丁記−船式（１）においてプリン残基としては例えば （ここで［セ．は水素原子、アミノ基、又はハロゲン原
子を示し、Ｒｌｌは水素原子又はアミノ基を示（ここで
１？１，は水素原子、アミノ菖を示す）などの核酸系プ
リン塩基の１位、７位又は９位の水素原子を除去したも
のがあげられる． 又、ビリミジン残基とし゛ζは例えば （ごごでＸは、水素原了、ハ１」 １位の水素を除去したものかあ げられる．） ｌ記・般式において、好ましいものとしては例本発明の
一隈式（１）に表される化合物としては、次の様な化合
物があげられる．ここで相対立体配置については、ソク
ロブタンを平面と考えたとき、平面の下方に位置する１
！　ＩＩＡ基をα、平面の−ヒ方に位置する置換基をβ
で示している．丘　　　　　　　　　化　　　合　　　
物　　　名１，（±）　−　１−［　（　１β，２α．
３β）−２一ビドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−１−イル］−２．４　（ｌ　Ｈ，３Ｈ）−ピリ
ミジンジオン及びその光学活性体． ２．　　（：！＝）−５−フルオロ−１−［（Ｉβ，２
α．３β）−２−ヒドロキシ−３−ビドロキシメチルシ
クし１ブタン−１−イル］−２．　　４　（Ｉ　Ｉｆ，
３１Ｎ−ビリミジンジオン及びその光学活性体．３，（
±）−１−［（１β、２α、３β）−２一ヒドＩＪキシ
−３−ヒドロキシメチルソク口ブタンー１−イル］−５
−メチル−２．４（ＩＨ、３Ｈ）一ピリミジンジオン及
びその光学活性体．４．（±）−４−アミノーＸ−（Ｚ
β，２α，３β）−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメ
チルシクロブタン−１−イル］−２（ＬＨ）−ビＪミジ
ノン及びその光学活性体． ５．（上）−１［（１β，２α．３β）−２ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−■−イル〕アデ
ニン及びその光学活性体。

６．（±）−７−［（１β，２α，３β）−２ヒドロキ
シ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル］ア
デニン及びその光学活性体。

７、　（±）−’Ｊ−　［　（ｌβ、２α、３β）−２
ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタンーｌ−
イル］アデニン及びその光学活性体．８．（±）−７−
　［　（１β，２α，３β）−２ヒドロキシ−３−ヒド
ロキジメチルシクロブタン−１−イル〕グアニン及びそ
の光学活性体。

９．（±）−９−　［　（１β，２α，３β）−２ヒド
ロキシ−３−ヒドロキシメチルシク口ブタンーｌ−イル
］グアニン及びその光学活性体．１０．（±）−５−フ
ルオロ−１−［（ｌβ．２β．３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル）］−
２．４　（ＬＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン及びその光
学活性体．１１．（±）−１〜［（１β，２β，３β）
−２ーヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン
−１−イル］−５−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一
ピリ１ジンジオン及びその光学活性体．ｌ２．（±）−
１−　［（１α．２β，３β）−２ヒドロヰシ−３−ヒ
ドロキシメチルシクロブタン−１−イル］−２．４　（
ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン及びその光学活性体． ｌ３．（±）−５−フルオロ−１−［（ｌα．２β２３
β）−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−１−イル］−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジ
ンジオン及びその光学活性体．１４．（±）−１−［（
１β，２α，３β）−２−アジドー３−ヒドロキシメチ
ルシクロプタン−１−イル］−５−フルオロー２．４　
（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン及びその光学活性体
．ｌ５．（±）−１−［（１β．２α，３β）−２＝ア
ジドー３−ヒドロキシメチルシクロブタン１−イル］一
５−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ピリミジンジオン
及びその光学活性体．ｌ６、（±）−１−［（１β．２
α．３β）−２アミノー３−ヒドロキシメチルシクロブ
タンーｌ−イル）一５−フルオロー２．４　（ＩＨ，３
Ｈ）一ピリミジンジオン及びその光学活性体．ｌ７．（
±）−１−［（ｌβ，２α．３β）−２ーアミノー３−
ヒドロキシメチルシクロブタンｌ−イル］−５−メチル
−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ーピリミジンジオン及びその
光学活性体。

１８．（±）−１−［（１β５　２β．３β）−２ヒド
ロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル
］−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン及びそ
の光学活性体。

ｌ９．（±）−４−アミノーｌ−［１β，２β，３β）
−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン
−１−イルコー２（ＩＨ）一ピリミジノン及びその光学
活性体． ２０，（±）−９−［（１β，２β．３β）−２ヒドロ
キシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタンーｌ−イル］
アデニン及びその光学活性体。

２ｌ，（±）−９−［（１β、２β、３β）−２ヒドロ
キシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタンーｌ−イル］
グアニン及びその光学活性体．２２，（±）−１−［（
１β，２α，３β）−２アジドー３−ヒドロキシメチル
シクロブタン−１−イル］　−２．４　（ｌ　Ｈ，２Ｈ
）一ビリミジンジオン及びその光学活性体． ２３．（±）−４−アミノー１−［（ｌべ，２α．３β
）−２−アジドー３−ヒドロキシメチルシクロプクンー
１−イル］−２（ＬＨ）一ピリミジノン及びその光学活
性体． ２４．（±）−９−［（１β，２α，３β）−２アジド
ー３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル］アデ
ニン及びその光学活性体．２５．（±）−９−］　　（
１β．２α，３β）−２−アジドー３−ヒドロキシメチ
ルシクロブタンーｌ−イル］グアニン及びその光学活性
体．２６．（±）−１−［（１β，２α，３β）−２ア
ミノー３−ヒドロキシメチルシクロプタンｌ−イル］−
２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン及びその光
学活性体． ２７．（±）−４−アミノー１−［（ｌβ．２α．３β
）−２−アミノー３−ヒドロキシメチルンクロブタン−
１−イル］−２（ＩＨ）一ピリミジノン及びその光学活
性体。

２日．（±）−９−［（１β，２α，３β）−２アミノ
ー３−ヒドロキシメチルシクロブタンｌ−イル］アデニ
ン及びその光学活性体。

２９．（±）−９−［（１β．２α．３β）−２アミか
ー３−ヒドロキシメチルシクロブタンｌ−イル］グアニ
ン及びその光学活性体。

２−１．　　９−［（１β．３β）−３−ヒドロキシメ
チルシクロブタン−　１−イル］アデニン２−２．　　
９−［（１β，３β）−３−ヒドロキンメチルシクロプ
タンーｌ−イル］グアニン２−３．　　９−［（１α，
３β）−３−ヒドロキシメチルシクロプタンーｌ−イル
］アデニン２−４．　　’ＩＪ−［（１α，３β）−３
−ヒド２口キシメチルシクロブタン−１−イル］グアニ
ン３−１９．１−　［　（１β，３β）−３−ヒドロキ
シメチルシク口ブタン−１−イル］−２．４（ＩＨ，３
Ｈ）一ピリミジンジオン ３−２０．５−フルオロー１−［（ｌβ．３β）３−ヒ
ドロキシメチルシクロブタン−１イル］−２．４　（Ｉ
Ｈ，３Ｈ）一ピリミジンジオン ３−２１．１−［（ｌβ，３β）一３−ヒドロキシメチ
ルシクロブタンーｌ−イル〕−５−メチル−２．４　（
ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン ３−２２．４−アミノー１−［（１β，３β）−３ヒド
ロキシメチルシクロブタン−１−イル］−２８（ＩＨ）
一ピリミジンノン ４−１　　（±）−２−アミノー９−［（１β．２α，
３β）−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−１−イル］プリン及びその光学活性体． ４−２　（±）−９−［（１β，２α，３β）２−ヒド
ロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル
］ヒポキサンチン及びその光学活性体． ４−３　（±）−２−アミノー６−クロロ−９［（１β
，２α，３β》−２−ヒドロキシ３−ヒドロキシメチル
シクロブタン−１一イル］ブリン及びその光学活性体． ４−４　　（±）−２．６−ジアミノ−９−　［　（１
β，２α，３β）−２−ヒドロキシ−３ヒドロキシメチ
ルシクロブタン−１−イル］ブリン及びその光学活性体
． 一般式（１）の本発明化合物のうぢー・般式（！Ａ） ０Ｈ ［式中Ｂは、一般式（１）におけるＢと同じＪで表され
る化合物は次のようにして製造できる．即ち、一般式（
１１） あり、Ｒ１は、Ｒまたはアルキル碁を、Ｒ１はＲ１また
はＺを示す．］ で表される化合物を反応させ、一般式（ＸＩ八）Ｅ式中
Ｒは水素原子または保ｖ１基を示す］で表されるシクロ
ブタン誘導体に、一般式 （ＩＩＩ）〜（Ｘ） ＯＨ 素原子、ハロゲン原子、または低級アルキル基を示す）
または、 Ｅ式中Ｘは、一般式（１）と同じ、Ｙは、０シリル基ま
たは、ＮＲ−シリル基、Ｚは、シリル基である．また、
Ｒは、水素原子または保！！基でを示し、１７は水素原
子または保護基を示し、Ｒ１　はＲまたはアル＝１−ル
基を示ずＪ で表される化合物を得、次いで、残存する保護哉を除去
するか、さらに、一般式（ＸＩＡ）で表される化合物を
、光延法（０．Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ＋Ｓｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ，１＋（１９８１））あるいは、酸化一還元等の方法
により、２゛位の水酸基を反転させて得られる一般式（
ＸＩＡ）で表される化合物の保護基を適当な試薬を用い
て脱保護すればよい． 一般式（ＩＩ）に於ける保護基（Ｒ）としては、一般に
保護基として使用されるものなら特に制限なく、例えば
、アセチル基、ベイゾイル基等のアシル基、ジメチルカ
ルバモイル基、ジフエニルカルバモイル基等のカルバモ
イル基または、ｔ−ブチルジメチルシリル等、ｔ−プチ
ルジフェニルシリル基等のシリルエーテル型保ｍ基また
は、メトキシメチル基、ベンジル基等のエーテル型保護
基等があげられる． 一般式（ｎ）で表される化合物としては、例えば次のも
のがあげられる． ａ，（±）一（１α，２β．４α）−２−ヒドロキシメ
チル−５−オキサビシク口［２．１．０３ペンタン及び
その光学活性体． ｂ．（±）−（ｌα．２β，４α）−２−アセトキシメ
チル−５−オキサビシクロ［２．１．０１ペンタン及び
その光学活性体． ｃ，（±）−（ｌα．２β，４α）−２−ペンゾイロキ
シメチル−５−オキサビシクロ［２．１．０］ペンタン
及びその光学活性体． ｄ．　　（±）一（ｌα，２β，４α）−２−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ［
２．１．０］ペンタン及びその光学活性体。

ｅ．　　（±）−（ｌｃｒ，２β，４ａ）−２−ｔ−ブ
チルジフェニルシリルオキシメチル−５−オキサビシク
ロ［２．１．０１ベンタン及びその光学活性体． ｆ．（±）　−　（　ｌα，２β．４α）−２−ペンジ
ルオキシメチル−５−オキサビシク口［２．　　１０］
ペンタン及びその光学活性体． ｇ．　　（±）−（ｌα．２β．４α）−２〜メトキシ
メトキシメチル−５−オキサビシクロ［２．ｌ，０１ペ
ンタン及び光学活性体． ｈ．（±）−（ｌβ．２β，４β）−２−ヒドロキシメ
チル−５−オキサビシクロ［２．ｌ．Ｏ］ペンタン及び
その光学活性体． １，（±）−（ｌβ，２β，４β）−２−アセトキシメ
チル−５−オキサビシクロ［２，１，Ｏ］ペンタン及び
その光学活性体。

ｊ．（±）−（ｌβ．２β，４β）−２−ペンゾイロキ
シメチル−５−オキサビシク口［２．ｌ，０］ペンタン
及びその光学活性体． ｋ．　　（±）−（ｌβ，２β．４β）−２−ｔ〜プチ
ルジメチルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ１
２．１．０１ペンタン及びその光学活性体． ！．（±）一（１β，２β，４β）−２−ｔ−プチルジ
フェニルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ［２
．１，０］ペンタン及びその光学活性体． ｍ，（±）−（ｌβ．２β．４β）−２−ベンジルオキ
シメチル−５−オキサビシク口［２，１．０］ペンタン
及びその光学活性体． ｎ，　　（±）−（１β．２β．４β）−２一メトキシ
メトキシメチルー５−オキサビシク口〔２，１，Ｏ］ペ
ンクン及びその光学活性体。

一般式（Ｉｌｌ）〜（Ｘ）に於けるシリル基としては、
トリメチルシリル基等があげられ、保護基は、一般式（
ＩＩ）に於ける保護基と同じであり、アルキル基として
は、ブチル基、ヘンジル基、２−メトキシエトキシ基等
が挙げられる。

又、一般式（Ｖ）、（■）、及び（Ｘ）で表される化合
物は、既知の方法（Ｔ．Ｎｉｓｈｉｍｕｒａ　ａｎｄ　
Ｉ．Ｉｗａｉ，Ｃｈｅｓ＋．Ｐｈａｒｍ，Ｂｕ１１．＋
１２＋３５２（１９６４）＋Ｒ．Ｚｏｕ　ａｎｄＭ．Ｊ
．Ｒｏｂｉｎｓ，Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅａ．，６５＋　１
４３６（１９８７）により、対応する一殻式（Ｉｌｌ）
、（■）、及び（Ｖｌ）〜（■）で表される化合物から
製造される．一殻式（ＩＩ）の化合物と一般式（Ｉ［Ｉ
）〜（Ｘ）の化合物の使用かｊ合は、前者１当量に対し
後者約０．５−１０倍当量、好まし《は約１−４当量程
度が良い。又、両者の反応は、酸触媒または塩基触媒存
在下に行なわれる。酸触媒としては、三フッ化ホウ素エ
ーテナート（Ｂ　Ｆ３・ＯＥｔｚ）、四塩化スズ、四塩
化チタン、塩化亜鉛、臭化マグネシウム等のルイス酸ま
たは、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネー
ト、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等の酸を用い、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロ口
エタン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセト
ニトリル等の、有ｍ溶媒中、−３０゜Ｃから溶媒の還流
温度、好ましくは、０゜Ｃから３０゜Ｃ程度で行われる
．酸触媒の使用量は一般式（ＩＩ）の化合物に対して０
．１から５倍当量、好ましくはｌから２倍当量程度がよ
い．塩基触媒としては、炭酸カリウム、水素化リチウム
、水素化ナトリウム等を用い、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、１．３−ジメチル−２−イミダ
ゾリノン、ヘキサメチルフォスフォリック　トリアミド
等の溶媒中、室温付近から溶媒の還流温度、好ましくは
、８０゛Ｃから２００゜Ｃ程度で行なわれる．塩基触媒
の使用量は、一般式（ＩＩ）の化合物に対して０．０１
当量から５倍当量、好ましくは、０．１からｉ　．　２
　｛９当量程度がよい．一ａ式（ＩＩ）で表される化合
物は、一般式（Ｘ■） ［式中Ｒはー・般式（■）に於けるＲと同じ］で示され
る化合物をエボキシ化して得られる．エポキシ化反応は
、遇ギ酸、過酢酸、ｍ−クロろ遇安息香酸、モノ遇フタ
ル酸等の遇酸を、水、ギ酸、酢酸、エーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒、
あるいはこれらの混合溶媒中Ｏ″Ｃから溶媒の還流温度
で反応させるか、または、式（ＸＩ［［）〜（ＸＶＩ）
で示されるようなオキサチリジン類を、ベンゼン、クロ
ロホルム、アセトニトリル等の有機溶媒中０゜Ｃから溶
媒の還流温度で反応させること等にょって達成される． 一・般式（１）の本発明化合物のうち一般式（■Ｂ　） 脱保護すればよい． 本発明化合物のうち−・般式（ＩＣ） ［式中Ｂは、−殻式（１）に於けるＢと同じ］で表され
る化合物は次のようにルで製造できる．即ら、一・般弐
（ＸＩＡ）で表される化合物の２゜位の水酸恭を、メタ
ンスルホニル化、トリフルオロメタンスルホニル化、ｐ
−｝ルエンスルホニル化等の、スルホニル化、或は臭素
化、ヨウ素化等、ハロゲン化する等、活性化したのち、
ナトリウムアジド、カリウムアジド等の、アジドイオン
を反応させて得られる一般式（ＸＩＢ） Ｅ式中Ｂは、一般式（１）と同じ］ で表される化合物は次のようにして製造できる．即ち、
一般式（ＸＩＢ）で表される化合物のアジ暑゛基を、接
触還元等の適当な還元試剤で還元し、得られる一般式（
Ｘ　Ｉ　Ｃ） ［式中８１及び１１は、一・般式（ＸＩＡ）と同じ］で
表される化合物の保護基を適当な試薬を用いて脱保護す
ればよい． 本発明化合物のうら−・般式（ＩＤ） ［式中８２及びＲは、一般式（ＸＩＡ）と同じ］で表さ
れる化合物の保護基を抵当な試薬を用いて［式中Ｂは、
一般式（１）と同じ］ で表される化合物は次のようにして製造できる．即ち、
一般式（Ｘ■） 〔式中Ｒは、一般式（ＸＩＡ）と同じ、Ｙは脱＃１基を
示す〕 で表される化合物に、前記一般式（ＩＩＩ）〜（Ｘ）で
表される化合物を反応させ、得られる一般式（ＸｆＤ） Ｅ式中８８及びＲは、一般式（Ｘ　Ｉ　Ａ）と同じ１で
表される化合物の保！１基を適当な試薬を用いて脱保護
すればよい． 一般式（ＸＶＩ１）に於ける脱離き（Ｙ）としては、メ
タンスルホニルオキシ基、ｐ一トルエンスルホニルオキ
シ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のスル
ホニルオキシ基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンが挙
げられる． 一殼式（ＸＶＩＩ）の化合物と一般式（ＩＩＩ）〜（Ｘ
）の化合物の使用割合は、前者１当量に対し後者約０．
５　−　１０倍当量、好ましくは約１−４当量程度が良
い．又、両者の反応は、塩基触媒存在下に或は無触媒で
行なわれる．塩基触媒としては、炭酸カリウム、水素化
リチウム、水素化ナトリウム等を用い、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、１．３−ジメチル−２
−イミダゾリノン、ヘキサメチルフォスフォリック　ト
リアミド等の溶媒中、室温付近から溶媒の還流温度、好
ましくは、４０“Ｃから１７０″Ｃ程度で行なわれる．
塩基触媒の使用量は、一般式（ＸＶＩＩ）の化合物に対
して０．１当量から５倍当量、好ましくは１．０から１
．２倍当量程度がよい． 一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩ
）で表される化合物より製造される。即ち、一般式（■
）（Ｒ＝Ｈ）で表される化合物を、水素化リチウムアル
ミニウム、ナトリウム、水素化ビス（２−メトキシエト
キシ）アルミニウム等の還元試剤で還元し得られる一般
式（ＸＶ！［）で表される化合物の一級水酸基に保ｉ１
基を導入し二級水酸基を脱離基に基くことによって一般
式（ＸＶＩＩ）で表される化合物が、製造される．−・
般式（ＸＩＡ）〜（ＸＩＤ）に於ける保護基（Ｒ）とし
ては、一般に保１１Ｍとして使用されるものなら特に制
限なく、例えば、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル
基、ジメチルカルバモイル基、ジフエルニカルバモイル
基等のカルバモイル基または、（−ブチルジメチルシリ
ル恭、ｔ−プチルジフエニルシリル基等のシリルエーテ
ル型保！！基または、メトキシメチル基、ベンジル基等
のエーテル型保護基等があげられる．また同一分子に２
つ以上のＲが存在する場合、各々のＲは同一でも異なっ
ていてもよい．また、一般式（ＸＩＡ）〜（ＸＩＤ）で
示される化合物の保ｉｌ＆の除去は、その保護哉の違い
により適当な脱保護試剤、或は、脱保護方法を組み合ね
・Ｕ・用いることで達成される．例えば、水酸化ナトリ
ウム、ナトリウムメチラート、アンモニア等のアルカリ
、フン化テトラブチルアンモニウム等のフッ素試剤、塩
酸等の酸、水素化分解等が挙げられる． 又、上記一般式においてＡが水素原子、Ｂがピリミジン
残基である化合物は、前記一般式（ＸＶ■）で示される
化合物を原料とし、次の工程によっても製造される． ？′ Ｅ式中Ｒ、又は前記と同じ、Ｒ’は■、Ｃ！！，Ｒ２は
ＣＩ’Ｃ４の低級アルキル基、Ｂ３はビリミジン残基を
示ず１　　　　　　　　　　　■，。

る化合物は、例えば次の方法で製造できる．又はジアゾ
化分解 一ａ式（１）で表される化合物は不斉炭素を有しており
、本発明はそれらのラセミ体及び光学活性体を包含する
ものである。光学活性体はラセミ体から公知の方法、例
えば光学活性力ラムを用いる方法、あるいは光学活性な
分割補助剤を反応させ得られるジアステレオマーを分離
精製する等の方法により得ることができる。又、光学活
性な一般式（ＩＩ）の化合物を用いることにより、光学
活性な一般式（１）の化合物を得ることもできる。

また、一般式（１）で表される化合物のうち可能なもの
は所望により酸付加塩にすることができる。酸付加塩と
しては、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の
無機酸塩、また、ギ酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、酒石酸
塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、乳酸塩、メクンスルホ
ン酸塩等の有機酸塩が挙げられる． 本発明化合物は次の実験例から、抗ウイルス作用及び抗
１ｆｆｌ瘍作用を発揮することがわかる。

実験例１． ＤＮＡウイルスである単純ヘルペスｌ型ウイルス（ＨＳ
Ｖ−１）、単純ヘルペス２型ウイルス（ＨＳＶ−■）に
対する抗ウイルス作用を下記の方法で試験した。

（方法ｌ） Ｖｅｒｏ細胞（アフリカミドリザル腎細胞由来）の単層
を有する６穴のマルチプレートにウイルス１００１５０
Ｐ　Ｆ　Ｕ　（１’ｌａｑｕｅ　Ｆｏｒｍｉｎｇ　Ｕｎ
ｉｔ）を感染させ、３７゜Ｃで１時間吸着後、各濃度の
試料を含む寒天培地（１．５％寒天を含むイーグルＭＥ
Ｍ培地）を重層し、３７゛Ｃ、５％（Ｖ／Ｖ）の炭酸ガ
スフ卵器中で４８時間培養した後プラーク（Ｐｌａｑｕ
ｅ）　の形成を測定し、５０％抑制値（ＩＣ，。）を求
めた．実験例２． ＤＮＡウイルスであるヒトサイトメガロウイルス（　Ｈ
　Ｃ　Ｍ　Ｖ　）に対する作用を下記の方法で試験した
。

（方法２） 抗サイトメガロウイルス活性は人胎児繊維芽細胞の単層
を有する３５■デイシュ（ｄｉｓｈ）にサイトメガロウ
イルス（Ａ０１６９株）１００　Ｐ　Ｆ　Ｕ　（　Ｐｌ
ａｑｕｅＦｏｒ　ｍｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）を惑染させ、一
時間吸着後、各濃度の本化合物を含む培地０．５％アガ
ロース（ａｇａｒｏｓｅ）、２％牛胎児血清（ｆｅｔａ
ｌ　ｃａｌｆ　ｓｅｒｕｍ＞で重層し、３７℃、５％（
Ｖ／Ｖ）の炭酸ガスフ卯器中にてｌＯ日間培養した後プ
ラーク　（Ｐｌａｑｕｅ）形成を測定し、５０％抑制値
（　ＩＣ，。）を求めた。

実験例３． ＤＮＡウイルスであるＢ型肝炎ウイルス（ＨＢ■）に対
する作用を下記の方法で試験した。

（方法３） 活性Ｂ型肝炎ウイルスを産生放出する培養肝細胞株Ｈ　
Ｂ６１１（Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．＾ｃａｄ　．　Ｓｃ　
ｉ　．　ＵＳＡ８４（１９８７）、Ｐ４４４）　　をＯ
ｕｌｂｅｃｃｏに従いｍｏｄｉｆｉｅｄＥａｇ　ｌｅ培
地（ＧＩ［ｌＣＯ）中にてｌＯ％子牛胎児血清、２００
μｇ／ｄＧ４１Ｂ、ペニシリンおよびストレプトマイシ
ン（各１００Ｕ／ｄ）存在下に３７゜Ｃ，５％ＣＯ２を
用いて培養する．６穴プレートに５　Ｘ　１０’ｃｅｌ
ｌ／穴（３５ａｕ）　　となるよう接種し、１〜２日後
５０％コンフルエントとなったところで本化合物の一定
量を加えて培養、以降３日毎に同じ濃度に薬剤を含む培
地と交換しつつ１５日間培養を続けた後、培地を除去．
細胞を０．５１ｄのりシスバッハ−（　Ｌｙｓｉｓｂｕ
ｆｆｅｒ）（１０ｍＭ　　ＴｒｉｓｌｌＣ１　　ｐｌｌ
７．８／５ｍＭ　　ＮａｘＥＤＴＡ，　　１　　％５０
５／Ｏ．　ｌｍｇ／　ｒｎｌ　Ｐｒｏｎａｓｅ　Ｋ）に
て３７℃ｌｈｒ処理して溶解し、得られたＯＮＡをＲＮ
ａ　ｓ　ｅ処理、フェノール・クロロホルム処理エタノ
ール沈澱法により純化した． 次いで５＃ｇＤＮＡをＨｌｎｄｌｌｌ処理し、サザン法
によってｓａｐ一標弐Ｂ型肝炎ウィルスＤＮＡをプロー
プとしてＤＮＡのパターンを分析した．実験例４． １？ＮＡウイルスであるＡＩＤＳウイルス（Ｈｌ■）に
対する作用を下記の方法で試験した．（方法４） 抗Ｈ　Ｉ　Ｖ　（Ｉｌｕｍａｎ　Ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉ
ｃｉｅｎｃｙ　Ｖｉｒｕｓ）活性２４穴トレーにＭＴ−
４細胞約５万個／＋ｄ入れ、さらに本発明化合物の一定
量を含む溶液１００μｇを加え、３７℃、５％（　Ｖ／
Ｖ）炭酸ガスフ卵器中にて２時間培養した後、Ｈ　Ｉ　
ＶＩＯ’〜１０’感染単位を加え、４日間培養後、培養
液の一部をスライドグラスに塗抹し、アセトン固定をし
た後、螢光抗体法にてウイルス抗原の発現をみた。

なお、螢光抗体法の一次抗体にはエイズ患者の血清、二
次抗体にはＦＩＴＣをラベルした抗ヒトＩｇＧを用いた
． 実験例５． ヒト子宮類癌ＨｅＬａ　　Ｓｓ、マウス白血病Ｌ１２１
０及びＰ３８８細胞に対する制癌作用を次に示す方法に
より試験した． （方法５） ＨｅＬａ　　Ｓ．細胞を７．５Ｘ１０’ｃ　ｅ　ｌ　１
　ｓ　／ｍ１に調整し、９６ｗｅ　ｌ　Ｉ平底Ｐｌａｔ
ｅに０．２ｍ／ｗｅｌｌずつ播いた。３７℃、５％ＣＯ
ｔインキュベーター内で２４時間培養したのち、薬剤を
ｌＯμｌ添加し７２時間培養した．培養後、各一ｅｌ１
の培養液を抜き取り、メタノールで固定した後０．０５
％メチレンブルー／１０ｍＭ　−　Ｔ　ｒ　ｉ　ｓ　−
　Ｈ　Ｃ　１　　（ｐｌｌ８．５）溶液を０．１ｉｊ／
＠ａｌｌずつ加え、３０分間室温にて染色した。各ｗｅ
目の染色液をアスビレーターを用いて抜き取った後、純
水で３回洗浄した．３％ＨＣＩを０．２ｄ／　ｗ　ａ　
ｌ　ｌの割合で添加後、シールで密封して約２４時間室
温放置し、細胞から色素を抽出した．各ｗｅｌ１の６６
０ｎｍでの吸光度をグイナテックマイクロプレートリー
ダーで測定し、下に示す式により各濃度の増殖阻害率（
％）を算出し、対数確率紙にプロットして５０％阻害濃
度（　Ｉ　Ｃ．。値、μｇ／ｍ）を求めた．増殖阻害率
（％）一 （　Ｉ　　Ａ　ｒ／　Ａｓ）　Ｘ　１００ここで、Ａ１
一薬剤処理群吸光度 Ａ　ｏ　＝対照群吸光度 （方法６） Ｐ３８８及びＬ　１２１０の細胞２４ｗｅｌｌ　ｐｌａ
ｔｅに播種し、薬剤を添加して、３７゜Ｃ，５％ＣＯｆ
で４８時間培養した．培養終了後の細胞数を、コールタ
ーカウンターで算定した．処理群の対照群に対する増殖
阻害率を下の式から計算し、Ｌｉｔｃｈｆｉｅｌｄ法に
より５０％阻害濃度（ｉｃｓ。値、μｇ　／ｄ）を求め
た．増殖障害率（％）＝ （　１　−　（Ｎｔ−Ｎｏ）　／　（Ｎｃ−Ｎｏｔ　　
）　ＸＩＯＯここで、Ｎ，一薬剤処理群細胞数 Ｎ．＝培養開始時細胞数 Ｎｃ＝対照群細胞数 上記実験の結果を表１に示す． 表１ 本発明の一般式（！）で表される化合物は広い抗ウイル
ス作用を持つことから、口唇、性器ヘルペス、帯状はう
疹、免疫抑制時の単純ヘルペスウイルス−１型、２型（
ＨＳＩＩ−１、■）、バリセラゾスターウイルス（ＶＺ
Ｖ）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）　、エプスタイ
ンーバールウィルス（ＥＢＶ）感染症、ウィルス性肝炎
、ウィルス性呼吸器疾患、ウィルス性消化器疾患、ＡＩ
ＤＳ、ＡＴＬ等の多くのウイルス性疾患に有効であるこ
とが期待される。また、制癌剤としても期待される。

以上のようにして得られた本発明化合物を抗ウイルス剤
として使用する場合、経口投与、静脈内投与、経皮投与
することができる。投与量は投与する患者の症状、年齢
、投与方法によっても異なるが、通常０．１−５００ｍ
ｇ／ｋｇ／日である。本発明化合物は、適当な製剤用担
体と混合して調整した製剤の形で投与される．製剤の形
としては、錠剤・顆粒剤・細粒剤・散剤・カプセル剤・
注射剤・クリーム・坐剤等が用いられる． 次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造について具体
的に説明する。

実施例ｌ． （±ｉ−１−［（１β、２α、３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブタン＝１−イル］−２
．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン（化合物ｌ）
の製造 工程ｌ． （±）−１−［（１　　β，　２　α，　３　β）−．
ａ−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒ
ドロキシシクロブタン−１−イル］−２．　　４　（Ｉ
Ｈ，３Ｈ）一ピリミジンジオンの製造 （±）−（ｌα、２β、４α）−２−ｔ−フ゛チルジフ
ェニルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ［２，
１．０１ベンタン（化合物ｅ）　（３９９■ｇ，　１．
Ｏａｕａｏｌ）及び２，４−ビストリメチルシリルオキ
シピリミジン（１．０３ｇ　，　４．０ｍｍｏｌ＞を無
水塩化メチレン（１０ｍｆ）に溶解し、アルゴン雰囲気
中、室温で三フフ化ホウ素エーテラート（１７０ｍｇ１
．２■ｏｌ）の無水塩化メチレン溶液ｌｍ）を加え、そ
のまま１日攪拌する．反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液
（ρＩ１　７　．　０　）を加え、しばらく攪拌した後
、塩化メチレンで抽出する．抽出液は無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去する．残渣はシリカ
ゲル力ラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノ
ール＝５０ｊ　１　（Ｖ／Ｖ）で精製し、（±）−ｉ［
（１β，２α，３β）−３−ｔフチルジフェニルシリル
オキシメチル−２−ヒドロキシシクロプタンーｌ−イル
］−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン（２２
２ｍｇ．　４９％）を得る。

ＮＭＩ１（４００旧１ｚ　−ＦＴ，ＤＭＳＯ−ｄｉ）　
　　δ　：１．０１　（９１１，　ｓＬ １．４８（１１！，ａｐｐａｒｅｎｔ　Ｑ，Ｊ＝９．９
１１２），２．０５（ＩＩＩ，ｍ） ２．１２（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎＬ　ｑ，Ｊ＝８．８
１１ｚ）３．７７（２１１，ｄ，Ｊ＝４．７１１ｚ，４
．ＯＩ１（１１１．ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ＋Ｊ＝７．３
Ｈｚ．ｃｈａｎｇｅｄ　ｔｏａｐｐａｒｅｎｔ　　ｔ（
Ｊ＝７．３１Ｉｚ）ａｆｔｅｒ　　ａｄｄｉｔｉｏｎ　
　ｏｆ　　０２０）１４．４１（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅ
ｎｔ　ｑ，Ｊ＝８．６１Ｉｚ）＋５．５９５（ＩＩＩ，
ｄ，Ｊ＝７．ＯＩＩｚ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　　
ｗｉｔｈ　　ＤｘＯ）５．６０１（１１Ｉ．ｄ，Ｊ＝８
．ＩＩ１ｚ），７．３８−７．５２（６１１，ｍ） ７．６０−７．６６（４１１，Ｉ＋１）７．６６（ｉｌ
ｌ　ｄ，Ｊ＝８．ＩＩＩｚ）１１．２７（ＩＩＩ，ｓ＋
ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　ｉ＊ｉｔｈ　ｏｚＯ），工
程２． （±）−１−［（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブクンーｌ−イル］−２
．４　（ＩＨ．３Ｈ）一ビリミジンジオン（化合物１）
の製造 （±）−１−［（１β，２α．３β）−３−ｔ一プチル
ジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク口
ブタン−１−イルｌ−２．　　４　（ＩＨ，３Ｈ）−−
ビリミジンジオン（９０＋ｇ．　０．２０ｍｍｏ１）を
メタノール（　１　ｍＱ　）に溶解し、４Ｎ−塩酸／ジ
オキサン（０．ｌａｄ！，　０．４ｕｏｌ）を加え、室
温で一晩で攪拌する。反応液をｉｌｌｉｌｌた後、水を
加えて工−テル可溶部を除去し、セファデンクスＬＨ−
２０カラムクロマトグラフィ−（メタノール）で精製す
る．精製物は水に溶解した後、凍結乾燥し、（±）一ｌ
−［（ｌβ，２α．３β）−２−ヒドロキシ−３−ヒド
ロキシメチルシクロブタン−１ーイル］−２．４　（Ｉ
Ｈ．３Ｈ）ビリミジンジオン（化合物１　）　　（４２
ｍｇ，　９９％）を得る．ＮＭＲ（４００旧１ｚ　−Ｆ
Ｔ，ＣＤ＊ＯＤ＋Ｄ，０）　　　δ　：１．６０（ＩＨ
，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ＋Ｊ＝９．８１１ｚ）＋２．
１４（ＩＨ，ｍ）， ２．３０（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ＋Ｊ＝９．
３１１ｚＬ３．７ＨＨｌ．ｓ）， ４．１６（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｔ，Ｊ＝７．
Ｏｌｌｚ）．４．４７（ＩＨ．ａｐｐａｒｅｎｔ　　Ｑ
，Ｊ＝８．４１１２）１５．８０（１ｌＩ．ｄ，Ｊ＝８
．１Ｈｚ），７．６７（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝８．１１Ｉｚ）
実施例２． （±）−５−フルオロ−１−［（１β，２α．３β）−
２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシク口ブタン−
１−イル］−２．４　　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジ
オン（化合物２）の製造工程！． （±）−１−［（１β，２α，３β）−３−Ｌ−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク口
ブタン−１−イル］一５−フルオロー２．４　（ＩＨ，
３Ｈ）一ピリミジンジオンの製造 （±）−（１α．２β，４α）−２−ｔ−プチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ［２，１
．０１ベンタン（化合物ａ）　　（１３５Ｂ．　０．４
０ｍｏｌ）及び２，４−ビストリメチノレシリルオキシ
ー５−フルオロビリミジン（３２９ａｍ，１．２０ａａ
ｏｌ）を無水塩化メチレン（４−）に溶解し、アルゴン
雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素エーテラー｝　（６８
ｍｇ．　０．４８ａｍｏｌ）の無水塩化メチレン溶液（
ｌｍ）を加え、そのまま１日攪拌する．反応液に０．２
Ｍ−リン酸緩衝液（ｐＨ７．０）を加え、しばらく攪拌
した後、塩化メチレンで抽出する。抽出液は無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去する．残渣を
、シリカゲル力ラムクロマトグラフィ−（塩化メチレン
：メタノール−５０；１（ｖ／ｖ））で精製し、（±）
−１−［（ｌβ，２α、３β）　−　３　−　Ｌ　−　
プチルジフエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシ
シク口プタンーｌ−イル〕−５−フルオロー２．４　（
ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（１４０ｍｇ．　７５
％）を得る．ＮＭＲ（４００１１２　−ＦＴ，ＣＤＣＬ
ａ）　　　δ　：１．０７（９１１，ｓ）， １．７１（ＩＩＩ，ｓ）， ２．１３−２．２７（２１１．ｓ） ３．５１　（ＩＩＩ．ｂｒｓ）， ３．７４（ｌｌｌ．ｄｄ．Ｊ＝３．０Ｈｚ，Ｊ＝ＬＬ．
ＯＩｌｚ），３．８４（ＩＩ１，ｄｄ，Ｊ＝３．３１１
ｚ，Ｊ＝ＩＬＯｌｌｚ），４．２０（Ｉｌ１，翔）， ７．２０（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝５．８１ｌｚ），７．３３
−７．５２（６１１，ｍ）， ７．３３−７．５０（６ｎ，■）， ７．６０−７．７０（４１１，ｍ）， ９．２５（１１１．ｂｒｓ）． 工程２． （±）−５−フルオロ−１−［（ｌβ．２α，３β）−
２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−
１−イル］−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ピリミジンジオン
（化合物２）の製造 （±）−１−［（１β，２α，３β）−３−ｔ−プチル
ジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシクロ
ブタンーｌ−イル］一５−フルオロー２．４　（ＩＨ，
３Ｈ）一ビリミジンジオン（　１４Ｑｍｇ．　０，３０
閤ｏ１）をメタノール（２ｄ）に溶解し、４Ｎ＝塩酸／
ジオキサン（０．１５ｍ，　０．６ｍｏ１）を加え、室
温で一晩で攪拌する．反応液を濃縮した後、エーテル可
溶部を除去し、セファデックスＬＨ−２０カラムクロマ
トグラフィ−（メチノール）精製する．精製物は水に熔
解した後、凍結乾燥し、（±）−５−フルオロー１−［
（ｌβ，２α，３β）−２−ヒドロキシー３−ヒドロキ
シメチルシクロブタン−１−イルｌ−２．４　（ＩＨ，
３ｌ｛）一ピリミジンジオン（化合物２　）　　（６７
Ｂ，９７％）を得る． １１ＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤ３００）　　　　
δ　：１．５７（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝
１０．３１ｌｚ），２．０５（ＩＩＩ，ｍ）， ２．２４（１１ｌ．ａｐｐａｒｅｒ＋ｔ　Ｑ，Ｊ＝９．
０１１２）１３．６０−３．７５（２１１，ｓ１）　，
４．ｌＱ（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｔ，Ｊ＝７．７
１１ｚ）＋４．４６（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ＋
Ｊ＝８．７１１ｚ），７．８６（１１１．ｄ，Ｊ＝６．
６１Ｉｚ）．実施例３． （±）−１−［（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロプタンーｌ−イル］−５
−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ビリミジンジオン（
化合物３）の製造 工程１． （±）−１−［（１β，２α．３β）−３−ｔ一プチル
ジフエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク口
ブタン−１−イル］一５−メチル２．４　（ＩＨ，３Ｈ
）一ビリミジンジオンの製遍 （±）−（ｌα．２β，４α）−２−ｔ−プチルジフエ
ニルンリルオキシメチル−５−オキサビシクＯ　［２，
１．０］ペンタン（化合物ｅ）　（１６９ｍｇ＋　０．
５０ｍｏｌ）及び２，４−ビストリメチルシリルオキシ
−５−メチルピリミジン（５４１ＩＩｌｇ．　２．ＯＯ
ａｗｏ１）を無水塩化メチレン（５ｄ）に溶解し、アル
ゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素エーテラート（８
５ｍｇ，　０．６０ｍｇｏｌ）　の無水塩化メチレン溶
液（ｌｍ）を加え、そのまま１日攪拌する。反応液に０
．２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐｌ１７．ｏ）を加え、しばら
く攪拌した後、塩化メチレンで抽出する．抽出液は無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去する。

残渣は、シリカゲル力ラムクロマトグラフィ−（塩化メ
チレン：メタノール−５０：１（ｖ／ｖ））で精製し、
（±）−１−［（１β２α．３β）−３−ｔ−プチルジ
フエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシクロブ
タンーｌ−イル］一５−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ
）ビリミジンジオン（１５３ｍｇ．　６６％）を得る６
ＮＭＲ（４００旧ｌｚ　・ＦＴ，ＣＤＣｌ３）　　δ　
：１．０７（９ｔｌ，Ｓ）， １．７５（Ｉｌｌ，ｍ）， １．９３（３１１．ｓＬ ２．ｔ５−２．３０（２ｕ，蒙）． ３．６６（ｌｌｌ．ｂｒｓ） ３．７６（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝１０．
６１Ｉｚ）３．８４（ｌｌＩ．ａｐｐａｒｅｎｔ　Ｑ，
Ｊ＝１０．６１１２），４．１５（２ｔｌ，ｏ１） ６．９５（ＩＨ，ｓ）， ７．３３−７．５０（６１１，ｍ）， ７．６０−７．７０（４ｏ，麟）， ８．９４（ｌｌＩ．ｂｒ）． 工程２． （±）−１−［（１β，２α、３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブタンー１−イル］一５
メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ピリミジンジオン（化
合物３）の製造 （±）−１−［（１β，２α，３β）−３−Ｌブチルジ
フェニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク口ブ
タン−１−イル］一５−メチル２．４　　（ＩＨ，３Ｈ
）一ピリミジンジオン（１４２ｍｇ，　０．３１ｍｍｏ
ｌ）をメタノール（ｌｆｄ）に溶解し、４Ｎ一塩酸／ジ
オキサン（　０　．　１　５　ａｎ　，　０　．　６　
ｍｍ　ｏ　ｌ　）を加え、室温で一晩で攪拌する。反応
液を４縮した後、エーテル可熔部を除去し、セファデッ
クスＬＨ−２０カラムクロマトグラフィ＝（メタノール
）で精製する．精製物は水に溶解した後、凍結乾燥し、
（±）　−　１−［　（　１β，２（￥，３β）−２＝
ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブクン１−−
−イル］　一５−メチル−２．４　（ＩＨ．３Ｈ）ピリ
ミジンジオン（化合物３　）　　（６７ｍｇ．　９７％
）を得る． ＮＭＲ（４００旧１ｚ　・Ｉ’Ｔ，ＤＭＳＯ−ｄａ）　
　δ　：１．４０（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ
＝９．９１１ｚ），１．８０（３１１，ｓ）， １．９０（１ｌＩ．ｍ）． ２．０３（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝８．
８１Ｉｚ），３．４３−３．６０（２１１，ｍ）． ３．９７（１ｌＩ．ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝７．５
１ｌｚ，ｃｈａｎｇｅｄ　ｔｏａｐｐａｒｅｎｔ　Ｌ（
Ｊ＝７．７１１ｚ）　ａｆｔｅｒ　ａｄｄｉｔｉｏｎ　
ｏｆ　１１ｇＯ）４．４１（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ
　ｑ，Ｊ＝８．６１Ｉｚ），４．５７（ｌＩｌ，ｔ．Ｊ
＝５．３１Ｉｚ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　ｗｉｔｈ
　ｏ．ｏ），５．４７（Ｉ１１，ｄ，Ｊ＝６．６１１ｚ
，ｅｘｃｌ＋ａｎｇｅａｂｌｅ　ｗｉｔｈ　０２０）＋
７．５５（１１１．　ｓ）　， １１．２４（ｉｌｌ，ｂｒｓ，ｅｘｃｂａｎｇｅａｂｌ
ｅ　　ｗｌ目Ｉ　１１２０），実施例４， （±）−４−アミノー１−［（１β，２α，３β）−２
−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１
−イル］−２（ＩＨ）一ピリミジノン（化合物４）の製
造 工程１． （±）−４−アミノー１−［．（１β，２α，３β）−
３−ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメチル−２−ヒ
ドロキシシクロブタン−１−イル］一２（ＩＨ）一ビリ
ミジノンの製造 （±）一（１α，２β．４α）−２−ｔ−プチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ［２，１
．０１ペンタン（化合物ｅ）（１７８ａ＋ｇ，　０．５
３ａｖｓｏｌ）及びビストリメチルシリルＮ−アセチル
シトシン（４７６一ｇ，　１．６０ｍｏｌ）を無水塩化
メチレン（５ｊｄ）に溶解し、アルゴン雰囲気中、室温
で三フッ化ホウ素エーテラート（　９０ｍｇ＋０．６３
醜ｏｆ）の無水塩化メチレン溶液（１−）を加え、その
まま１日攪拌する．反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液（
ｐｌ１７．０）を加え、しばらく攪拌した後、塩化メチ
レンで抽出する．抽出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、減圧下溶媒を溜去する．残渣は、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝５
０：１続いて３０：１（ｖ／ｖ））で精製し、（±）−
４−アセチルアミノー１−［（ｌβ，２α，３β）−３
−Ｌ−プチルジフエニルシリルオキシメチル−２−ヒド
ロキシシク口ブタン−１−イル］−２（ＩＨ）一ピリミ
ジノン（８３ｍｇ，　３２％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧Ｉｚ−ＦＴ，ＣＤＣ１ｚ）　　δ　：
１．０３（９１１，ｓ）， １．８３（Ｉｌｌ，ｍ）， ２．２０−２．４０（２１１，ａ１），２．２５（３１
１，ｓ）， ３．７５（ＩＨ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．７１１ｚ，　Ｊ＝
１０．９１１ｚ）　，３．８３（Ｉｌｌ，ｄｄ，Ｊ＝３
．５１１ｚ，Ｊ＝１０．８１１ｚ），４．１１（ＩＩＩ
，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）＋４．２０
（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ．Ｊ＝７．５Ｈｚ），
４．５４（１１１．ｓ）， ７．３２−７．５４（８１１，ａ）， ７．５７−７．７０（４１１，＋ｗ），８．８６（ＩＩ
Ｉ，ｂｒｓ）． 工程２． （±）−４−アミノー１−［（１θ，２α，３β）−２
−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシク口ブタン−１
−イル］−２（ＩＨ）一ビリミジノン（化合物４）の製
造 （±）−４−アセチルアミノー１−［（１β．２α，３
β）−３−ｔ−７’チルジフエニルシリルオキシメチル
−２−ヒドロキシシク口ブタン−１−イル］−２（ＩＨ
）一ビリミジノン（７６＋ｇ，０．１６ａｍｏｌ）をメ
タノール（２ｄ）に溶解し、ＩＭ−ナトリウムメチラー
ト／メタノール（０．２８ｔ１！，０　．　２　ｍ　ｏ
　Ｉ　）を加え、室温で３０分間攪拌する．反応液にＡ
ｍｂｅｒｌｙｓｔｌ５（４２ｍｇ，　０．２１＋ａｏｌ
）を加え、ｌＯ分間攪拌し、樹脂を濾去した後濃縮する
，残渣をテトラヒド口フラン（２ｄ）に溶解し、水冷下
ＩＭテトラブチアンモニウムフルオリド／テトラヒドロ
フラン（０．２５ａｆｆｉ，　０．２５ａｕｍｏｌ）を
加え、室温で７時間攪拌する。反応液はメタノールで希
釈し＾ｓ＋ｂｅｒｌｙｓｔｌ５（５２ｍｇ，　０．２５
ａｎｏ！）を加え撹拌した後に樹脂を濾去し溶媒を溜去
する．残渣は、エーテル可溶部を除去し、セファデンク
スＬｌ−１−２０カラムクロマトグラフィ−（メタノー
ル）で精製し、（±）−４−アミノーｉ［（１β．２α
，３β）２−ヒドロキシ−３−ヒドロキンメチルシクロ
ブタン−１−イル］−２（ＩＨ）一ビリミジノン（化合
物４　）　　（３６ｍｇ，定量的）を得る。

Ｎ？ｌＲ　（４００旧ｌｚ　−ＦＴ，ＤＭＳＯ−ａｈ）
　　δ　；１．５７（ＩＨ，ｍ）， １．８９（ＩＩ＋，翔）， ２．０４（１１１．ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ・９．Ｏ
ｌｌｚ），３．４０−３．５６（２１１，ｍ）， ３．９０（Ｉｌｌ，ｍ）， ４．３９（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ＋Ｊ＝８．８
１１ｚ）＋４．５６（１１Ｌｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅ
ａｂｌｅ　ｉｉｉｔｈ　ｌ３２０）１５．３９（ｌＩｌ
．ｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　ｗｉｔｈ　Ｄｚ
Ｏ）＋５．７０（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝７．３１Ｉｚ），７
．０１（２１！，ｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　
ｗｉｔｈ　ＪＯ），７．５６（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝７．３
１１．ｚ）．実施例５． （±） ドロキシ １−イル］ 工程１． （±）−６−Ｎ−ペンゾイル−１−［（１β，２α，３
β）−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−１−イル］一アデニン（化合物Ａ）および（±）
−６−Ｎ−ペンゾイルー７［（１β，２α，３β）−２
−ヒドロキシ−３＝ヒドロキシメチルシクロブタン−１
−イル］アデニン（化合物Ｂ）の製造 文献の方法（Ｔ．　Ｎｉｓｈｉ＋＊ｕｒａ　ａｎｄ　Ｉ
．　Ｉｗａｉ，Ｃｈｅｗ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕ１１．．１
２，３５２（１９６４）に従い、Ｎ−ペンゾイルアデニ
ン（４．２４　ｇ　，　１７．７ｍｏｌ）より合成した
ビストリメチルシリルーＮ−ペイゾイルアデニン及び（
±）−（１α．２β，４α）−２−ｔ−プチルジフェニ
ルシリルオキシメチル−５−オキサビ１−［（１β，２
α，３β）−２−ヒ ３−ヒドロキシメチルシクロブタン アデニン（化合物５）の製造 シク口［２．１．０］ペンクン（化合物ｅ）（１．５０
　ｇ　，　４．４３＋ａｌＩ＋ｏｌ　）の無水アセトニ
トリル（２０Ｉ１１）溶液に、アルゴン雰囲気中Ｏ″Ｃ
でトリメチルシリル　トリフオロメタンスルホネート（
１．１８ｇ，５　．　３　ｗｓ　ｏ　Ｉ　）を加え同温
度で３時間攪拌する．この反応液に０．２Ｍ−リン酸緩
衝液（ｐｌｌ７．ｏ）　（　１００ｄ）を加え、酢酸エ
チルで抽出する．抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥
したのち減圧下溶媒を溜去する．この残渣を、無水テト
ラヒド口フランに溶解しＯ′ＣでＩＭ−テトラブチルア
ンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン（３５ｄ．
　３５ｍｍｏｌ）　を加え同温度で５時間撹拌する．反
応液を減圧下濃縮したのちシリカゲル力ラムクロマトグ
ラフィー（塩化メチレン：メタノール＝１５：１＆’Ｅ
いて１０：１（Ｖ／Ｖ））で分離精製した後、粗結晶を
メタノールより再結晶し、（±）−６−Ｎ−ペイゾイル
ー，ｌ−［（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ−３
−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル］一アデニ
ン（化合物Ａ　）　　（０．５２ｇ　，　３５％）およ
び（±）−６−Ｎ−ペイゾイルー７−［（１β，２α．
３β）−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロ
ブタン−１−イル］一アデニン（化合物Ｂ）（０．４１
ｇ．２７％）を得る。

（化合物Ａ） ＮＭＲ（４００旧１ｚ　・ＦＴ，ＤＭＳＯ−ｄｉ）　　
δ　：１．６３（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝
１０．ｌｌＩｚ）．２．３７（Ｉｌｂｍ）， ２．４６（Ｉｌｌ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ　ｗｉｔｈ　
ｓｏｌｖｅｎｔ　ｓｉｇｎａｌｓ）＋３．５０−３．６
３（２１１，ｍ）， ４．３２−４．５３（２１１，ｍ，ｃｈａｎｇｅｄ　ｔ
ｏ　ｔ（ＩＩＩ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）ａｆｔｅｒ　ａｄｄ
ｉｔｉｏｎ　ｏｆ　ｄｔＯ）ｌ５．０３（１１１，ａｐ
ｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝８．２１Ｉｚ）５．６０（ＩＩ
Ｉ，ｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　ｗｉｔｈ　Ｄ
ｔＯ），７．４８（２１１，　ｔ，Ｊ＝７．７１Ｉｚ）
，７．５４（ＩＩＩ，　ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．１
６（ＩＩＩ，ｓ）， ８．１７（２１１，ｄ，Ｊ＝７．７１ｌｚ），８．５４
　（Ｉｌｌ，　ｓ）　， １２．３６（２１！，ｂｒ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ
　＠ｉｔｈ　ＪＯ）＋（化合物Ｂ） ＮＭＲ（４００旧１ｚ　−ＦＴ，ＣＤ３００）　　δ　
：２．　１９　（Ｉ　ＩＩ　，　ｍ） ２．２５（ＩＩＩ，ｍ）， ２．５０（ＩＩＩ，麟）， ３．６５−３．７９（２１１，ｓ） ４．０９（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　Ｌ，Ｊ＝７．
３１Ｉｚ），４．６７（ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　
ｑ，Ｊ＝８．４１１ｚ）７．４７（２１１，Ｌ，Ｊ・７
．５１１２），７．６０（ｉｌｌ　　ｔ，Ｊ＝７．５１
１ｚ），８．０１（２１１，ｄ，Ｊ＝７．５１１ｚ），
８．２２（ＩＩＩ　　ｓ）． ８．２７（Ｉｌｌ，ｓ）， 工程２， （±）−１−［（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブクンｌ−イル］一アデ
ニン（化合物５）の製造工程１で製造された化合物（Ａ
　）　（１４２ａ＋ｇ．　０．４２ｇＩａｌｏｌ）　　
を無水メタノール（２０　ｄ　）　　に懸濁しナトリウ
ムメチラート　（４５ｍｇ，　０．８３圓０１）を加え
終夜室温で攪拌する．その後、５０℃で１５時間攪拌す
る．反応液は減圧下溶媒を溜去した後、水及びエーテル
を加え溶解し、エーテル可溶部を除去する．水相は、セ
ファデックスＨＰ　　２０（ＨｘＯ　　ＴＯ％ＭｅＯ　
Ｈ　／　Ｈ　＠　０　，　ｌｉｎｅａｒ　ｇｒａｄｕｅ
ｎｔ）で精製し（±）−１−［（１β．２α．３β）−
２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−
１−イル］アデニン（化合物５　）　　（９２ｍｇ，　
９３％）を得る．ＮＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤｓ
ＯＤ）　　δ　：２．０２（ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ
　ｑ，Ｊ＝１０．ＩＩＩｚ）．２．２７（Ｉｌｌ，ｍ）
． ２．６０（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ．Ｊ＝８．９
１１ｚＬ３．６５−３．７７　（２１１，■）ｌ４．１
６（２１１，ａｐｐａｒｅｎｔ　ＬＪ＝７．７１１ｚ）
ｔ４．４３（ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　Ｑ，Ｊ＝８．
４１１２）１７．９５（１１１．ｓ）． ８．０６（Ｉｌｌ，ｓ）， ８．５５（ＩＩＩ，ｓ）， ＵＶ　　λ　ｗａｘ（１１１０）　　ｎｍ　　：ｐ＋１
１．２５８；ｐＨ７．２６７；ｐＨ１３．２７２．実施
例６． （±）−７−　［　（ｌβ．２α．３β》−２−ヒドロ
キシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン＝１−イル］
一アデニン（化合物６）の製造実施例５、工程ｌで製造
された化合物（Ｂ）（１２６Ｂ，　０．３７ｍｏｌ）を
無水メタノール（１０ａｆ）にｇ濁しナトリウムメチラ
ー｝　（４０ｍｇ，　０．７４謔ｏ１）を加え室温で終
夜攪拌する．その後５０℃で３時間攪拌する．反応液は
減圧下溶媒を溜去した後、水及びエーテルを加え溶解し
、エーテル可溶部を除去する．水相は、セファデックス
ＨＰ−２０（水＝７０％メタノール水溶液，　ｌｉｎｅ
ａｒ　ｇｒａｄｕｅｎｔ）で精製し（±）−７−［（ｌ
β，２α．３β》−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメ
チルシクロブタン−１−イル〕−アデニン（化合物６　
）　　（８０ｍｇ，　９２％）を得る． ＮＭＲ（４００旧Ｉｚ−ＦＴ，ＣＤ３０Ｄ）　　δ　：
２．１７（１１１．ａｐｐａｒａｎｔ　ｑ，Ｊ＝９．９
１Ｉｚ）＋２．２５（Ｉｌｌ，ｍ）． ２．５１（ｌｌｉ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝８．８
１１ｚ），３．６７−３．７６（２＋１，ｍ）， ４．０９（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｔ，Ｊ＝７．
３１１ｚ），４．６８（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　
ｑ，Ｊ＝８．３１１ｚ），８．２１（口Ｌ　Ｓ）＋ ８．２７（ＩＩＩ，ｓ） ＵＶ　　λ　ｗａｘ（ＩＩｚＯ）　　ｎｇ＋　：ｐｌ１
１．２７３；ｐｆｌ？，２７０：ρ１１１３，２７０．
実施例７． （±）−９−［（１β，２α．３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブタン．一ｌ−イル］一
アデニン（化合物７）の製造工程ｌ． （±）−９−　［　（１β．２α．３β）−３−ｔブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク
口ブタン−１−イル】−アデニンの製造 アルゴン雰囲気中、アデニン（９７３ｍｇ，　７．２ｍ
ｏｌ）をジメチルホルムアミド（５０　ｄ　）に懸濁し
、５０％水素化ナトリウム（５８ａｔｇ．　１．２麟一
〇！）を加え室温で１時間攪拌する．この懸濁液に（±
）−（ｌα，２β，４α）−２−Ｌ−プチルジフエニル
シリルオキシメチル−５−オキサビシク口［２．１．０
］ペンタン（化合物ｅ　）　　（２．０３ｇ，　６．０
ｓａ＋ｏｌ）を加え、１４０゜Ｃで１８時間撹拌する．
反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、シリカゲル力ラム
クロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝２０
：１（ｖ／Ｖ））で精製し、（±）−９−　［　（１β
．２α．３β）−３−ｔ−プチルジフェニルシリルオキ
シメチル−２−ヒドロキシシクロブタン−１−イル］ア
デニン（１．７３ｇ．　６１％）を得る．１１Ｍ＄ｌ　
（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤ３００）　　δ　：１．０
９（引｛，Ｓ）、 ２．１６（１１１．ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝９．６
１ｌｚ）＋２．２５（ＩＩＩ，ｍ）， ２．３９（１１ｌ．ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝８．
８１ｌｚ）＋３．８４（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝３．７１１
ｚ，Ｊ＝１０．６１１ｚ），３．９１（ＩＩ１，ｄｄ，
Ｊ＝４．２１１ｚ，Ｊ＝１０．８１１ｚ）．４．５５−
４．８０（２１１，　ｍ）　．７．３４−７．５０（６
１１，ｍ）， ７．６２−７．７８（４１１，一）， ８．１０（Ｉｌｌ，ｓ）． ８．１７　（Ｉｌｌ，ｓ）， 工程２． （±）−９−　［　（ｌβ．２α，３β）−２−ヒドロ
キシ−３−ヒドロキシメチルシクロブクンーｌ−イル］
一アデニン（化合物７）の製造（±）−９−　［　（１
β．２α．３β）−３−ｔ一ブチルジフェニルシリルオ
キシメチル−２−ヒドロキシシクロブタンーｌ−イル］
一アデニン（１５５ｍｇ，　０．３３ｍｏｌ）をメタノ
ール（１ｄ）に溶解し４Ｎ一塩酸／ジオキサン（　０　
．　１　５　ｍｌ　，　０　．　６　ｍ　ｏ　ｌ　）を
加え室温で終夜攪拌する．反応液は、減圧下溶媒を溜去
した後、水を加え、Ｏ．ｌＮ一水酸化ナトリウム水溶液
で中和し、エーテル可溶部を除き、セファデックスＬ　
Ｈ　−２０　（５０％メタノール水溶液）で精製し、（
±）−９−［（１β，２α．３β）＝２−ヒドロキシ−
３−ヒドロキシメチルシクロブタンーｌ−イルコーアデ
ニン（化合物７　）　　（８０１１８，定量的）を得る
． ＮＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＯｓ００）　　δ　：
１．９７（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝１０．
ｌｌＩｚ）２．２３（Ｉｌｌ，ａ１）， ２．４５（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ．Ｊ＝９．３
１１ｚ），３．７０−３．８２（２１１，＋ｗ），４．
４７（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｔ，Ｊ＝７．９１１
ｚ），４．６３（ｌｌＩ．ａｐｐａｒｅｎｔ　Ｑ，Ｊ＝
８．６１１２），８．２０（ｉｌｌ，ｓ）． ８．２４（Ｉｌｌ，ｓ）， ＵＶ　　λ　−ａｘ（ｌｌｚｏ）　　Ｉ１　　：ｐ１１
．２５８；ｐＨ７，２６１：ｐｌｌ１３，２６１、ＩＩ
ＲＭｓ（ＰＡＩＩ）Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　［Ｃ＋ｏｌｌ
．ＪｓＯｘ＋ＩＩ］　’；２３６Ｆｏｕｎｄ：２３６．
　１１３Ｂ． １１４７． 実施例８． （±）−７−　［　（１β．２α，３β）−２−ヒドロ
キシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン１−イル］一
グアニン（化合物８）の製造工程ｌ． ？±）−７−［　　（１　　β，　２　α，　３　β）
−３−ｔブチルジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒ
ドロキシシクロブタン−１−イル］一グアニンの製造 文献の方法（Ｔ．　Ｎｉｓｈｉｍｕｒａ　ａｎｄ　１．
Ｉｗａｉ，Ｃｈｅｗ，Ｐｈａｒｍ．　Ｉｌｕｌｌ．＋　
１２．３５２（１９６４）に従い、グアニン（４０５ｍ
ｇ，　２．７ｍ＋＋＋ｏｌ）　より合成したトリストリ
メチルシリルグアニン及び（±）−（１α，２β．４α
）−２−ｔ−プチルジフェニルシリルオキシメチル−５
−オキサビシク口［２．１．０１ベンクン（化合物ｅ　
）　（２２７ｍｇ．　０．６７ｍｏｌ）の無水アセトニ
トリル（５ｍ）溶ｔ（ｉに、アルゴン雰囲気中０　’Ｃ
でトリメチルシリル　トリフルオロメタンスルホネート
（１５５μｌ■０．８０圓ｏ１）　を加えた後、室温で
４日間撹拌する。この反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液
（ｐｌ１７．０）及び塩化メチレンを加え、不溶物をろ
去した後塩化メチレンで抽出する。抽出液は、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後減圧下溶媒を溜去する。この残
渣をメタノール（１００ｄ）　に溶解し、０゜Ｃで無水
炭酸カリウム（９３ｓ＋ｇ．　０．６７ａｍｏｌ）を加
え同温度で１．５時間攪拌する．反応液を不溶物をろ去
した後溶媒を減圧下溜去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノーノレ−１０
：１ｖｌいて５：１（Ｖ／Ｖ））”？：分諦精製し、（
±）−７−［（１β，２α，３β）３−Ｌ−プチルジフ
ェニルシリルオキシメチル２−ヒドロキシシク口ブタン
＝ｌ−イル］グアニン（８４ｍｇ，　２６％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１ｚ　−ＦＴ，ＤＭＳＯ−ｄａ）　　
δ　：１．０１（９１１，ｓ）， ｌ．（ＩＱ（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝ＩＯ
．ＯＩＩｚ）２．１２（ＩＩＩ，ｍ） ２．３０（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ．Ｊ＝９．ｏ
ＩＩｚ），３．７５−３．９３（２１１．ｍ）　，４．
２９（Ｉｌｌ，ｗ）， ４．６１（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝［ｌ．
５１ｌｚ）５．７３（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝６．６１１ｚ）
６．１７（２１１，ｓ）， ７．３５−７．５２（６１１，ｍ）　，７．５５−７．
７６（４１１，＋ｏ） ８．ＱＯ（Ｉｌｌ，ｓ）， １０．８４（ＩＩＩ，ｓ）， 工程２． （±）−７−［（１β．２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロプタンｌ−イル］一グア
ニン（化合物８）の製造（±）−７−［（１β，２α５
　３β）−３−ｔブチルジフェニルシリルオキシメチル
−２−ヒドロキシシク口ブタン−１−イルコーグアミン
（１２７ｍｇ．　０．２６ａｏｌ）をテトラヒド口フラ
ン（８ｄ）に溶解し，水冷下ＩＭ−テトラブチルアンモ
ニウムフルオリド／テトラヒドロフラン（０．４ｍ，　
０．４一〇！）を加え、室温で終夜攪拌する．反応液に
水及びエーテルを加え工＝テル可溶部を除去した後、水
より再結晶を繰り返し（±）−７−［（ｌβ．２α、３
β）−２−ヒドロキシー３−ヒドロキシメチノレシク口
ブタン−１−イノレコーグアニン（４０Ｂ，６１％）を
得る． ＮＭＲ（４００旧１２・ＦＴ，ＤＮＳＯ−ｄａ）　　δ
　：１．７３（ＬＨ．ａｐｐａｒｅｎｔ　Ｑ．Ｊ−１０
．０ＨＺ）１１．９７（Ｉｌｌ，ｓ）， ２、２４←ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝９．
Ｏｌｌｚ）．３．４５−３．６５（２１１．ａ１），４
．２０（Ｉｌｌ、ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝７．１
１ｌｚ，ｃｈａＢｅｄ　　ｔｏａｐｐａｒｅｎｔ　　ｔ
（Ｊ＝７．５Ｈｚ）ａｆｔｅｒ　　ａｄｄｉｔｉｏｎ　
　ｏｆ　　ｐｌｏ》．４．５０−４．６２（２Ｈ，ｓ＋
＋ｃｈａｎｇｅｄ　　ｔｏ　　４．５９（１ｌ１．ａｐ
ｐａｒｅｎｔ　　Ｑ＋Ｊ＝８．５１１ｚ）ａｆｔｅｒ　
　ａｄｄｉｔｉｏｎ　　ｏｆ　　ＤｔＯ）＋５．６５（
ＩＩＩ，ｄ，Ｊ−６．２１ｌｚ，ｅｘｅｃｈａｎｇｅａ
ｂｌｅ　　ｗｉｔｈ　　ｏｔｏ），６．１７（２１１，
ａ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　　ｗｉｔｈ　　ＤｍＯ
）＋８．０３（Ｉｌｌ，ｓ）， １０．８３（Ｉｌｌ，ｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　
　ｗｉＬｈ　　Ｄ！０）ＩＵＶ　　　λ　ｗａｘ（！ｌ
ｘｏ）　　ｎｍ　　：ｐｉｌｌ　，　２４９，　２７４
　（ｓｈ）　；　ｐｌｌ７　．　２５０　（ｓｈ）　，
　２８４　；ｐｌｌ１３，　２４２　（ｓｈ）２８０． 実施例９． （±）−９−［（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル］一グ
アニン（化合物９）の製造工程ｌ． （±）−２−アミノー９−　［　（ｌβ，２α．３β）
−３−Ｌ−プチルジフエニルシリルオキシメチノレ−２
−ヒドロキシシク口ブタンニｌ−イノレ］−６−（２−
メトキシ）エトキシプリンの製造アルゴン雰囲気中、２
−アミノー６−（２−メトキシ）エトキシプリン（２．
０４　ｇ　．　９．７５ｍｍｏｌ）をジメチルホルムア
ミド（２００　ｄ　’）に溶解し，水素化リチウム（２
：３ｍｇ，　２．９ｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌す
る．この溶液に（±）一（１α，２β，４α）−２−Ｌ
−プチルジフェニルシリルオキシメチル−５−オキサビ
シク口［２．１．０１ペンタン（化合物ｅ　）　　（３
．３０ｇ　，　９．７５ｍｏｌ）を加え、１５０′Ｃで
１日攪拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、シ
リカゲル力ラムクロマトグラフィ−（塩化メチレン：メ
タノール−５０：　ｌ　（ｖ／ｖ））で精製し．（±）
−２−アミノー！ＩＩ−［（１β，２α，３β）−３−
ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロ
キシシクロブタン−１一イル］−６−（２−メトキシ）
エトキシプリン（１．３５ｇ　，　２５％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧Ｉｚ−ＦＴ，ＣＤＣＩｓ）　　δ　：
１．０４（９１１，ｓ）， １．９５（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝９．
３１ｌｚＬ２．２７−２．４４（２ｕ，麟）． ３．４３（３１１．ｓ）， ３．６７−３．８８（４１１，ｓ）， ４．１７−４．３４（２＋１，ｍ）． ４．４７（ＩＩＩ，ｂｒｓ） ４．６５（２１１，ｔ，Ｊ＝５．０１１ｚ），４．８９
（２１１，ｂｒｓ）， ７．２８−７．４７（６１１，ｍ）， ７．５１（ＩＩＩ，ｓ）， ７．５６−７．６９（４１１，ｍ）， 工程２． （±）−９−［（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキジメチルシクロブタン−１−イル］一グ
アニン（化合物９）の製造（±）−２−アミノー９−　
［　（１β．２α．３β）−３−Ｌ−プチルジフェニル
シリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク口ブタン−１
−イル］−６−（２−メトキシ）エトキシプリン（１．
３５ｇ，２５■ｏｌ）に２Ｎ一塩酸（５０　ｄ　）を加
え１時間加熱還流する．反応液に水を加え、エーテル可
溶部を除去した後、水を溜去する．残渣に水を加え２Ｎ
−水酸化ナトリウムで中和した後、水より再結晶を繰り
返し（±）−９−［　（１β，２α，３β）−２−ヒド
ロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル
］一グアニン（化合物９　）　（３９９ｙａｇ．　６４
％）を得る． ＮＭＲ（４００旧ｌｚ　・ＦＴ，ＤＭＳＯ−ｄ．）　　
δ　：１．６４（１１Ｉ．ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝
ＩＯ．Ｏｌｌｚ），２．００（ＩＩＩ，ｍ）， ２．１９（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝９．２
１１ｚ），３．４５−３．６３（２１１，＋ｍ），４．
１８（ＩＩＩ，ｍ，ｃｈａｎｇｅｄ　　ｔｏ　　ａｐｐ
ａｒｅｎｔ　　Ｌ（Ｊ＝７．７ｔｌｚ）ａｆｔｅｒ　ａ
ｄｄｉｔｉｏｎ　ｏｆ　ｏ．ｏ），４．３０（Ｉｌｌ，
ａｐｐａｒａｎｔ　Ｑ，Ｊ＝８．７１１２），４．５７
（１１ｌ．ｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ　ｗｔＬ
ｈ　ＤｚＯ）＋５．５５（１１１．ｄ，Ｊ＝５．Ｉｌｌ
ｚ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂ！ｅ　ｗｔｔｈ　ＤｚＯ）＋
６．４３（１１１．ｓ，ｅｘｃｈａｎｇａａｂｌｅ　　
ｗｉｔｈ　　ＤｇＯ）＋７．２５（ｌＩｌ．ｂｒ，ｅｘ
ｃｈａｎｇｅａｂｌ’ｅ　　ｗｉｔｈ　　ＤｚＯ）ｌ７
．８０（１１１．ｓ） ｕｖ　λ　ｍａｘ（ｌＩｚＯ）　　ｎｍ　：ｐｌｌ　１
　，　２５５　．　２７９　（ｓｈ）　；ｐｌｌ７　，
　２５３，　２７３　（ｓｈ）　；ｐｌｌｌ３，　２５
８　（ｓｈ）　，２６７． １１ＲＭＳ（ＦＡＢ）Ｃａｌｃｄ　　ｆｏｒ　［Ｃ＋Ｊ
ｌ＋ＪｓＯ３＋８］　　”；２５２．１０９６．Ｆｏｕ
ｎｄ；２５２．１１７８． 実施例１０． （±）−５−フルオロ−１−［（ｌβ，２β３β）−２
−ヒドロキシ−３〜ヒドロキシメチルシクロブタン−　
１−イル］−２．４　（ＬＨ，３Ｈ）ピリミジンジオン
（化合物１０）の製造工程ｌ． （±）−１−［（１β，２β．３β）−３−ｔブチルジ
フエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク口ブ
タン−１−イル］−５−フルオロー２．４　（ＩＨ，３
Ｈ）一ビリミジンジオンの製造 アルゴン雰囲気中、オキザリルクロライド（３５０μ１
　，　４．１ｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（９戚
）溶液に、−７８’Ｃでジメチルスルホキシド（５８３
μ１，８．２則ｏｆ）を徐々に加えた後、−３５゜Ｃに
昇温し、同温で５分間攪拌する。反応液を再び７８゜Ｃ
に冷却し、（±）−１−［（１β，２α．３β）−３−
Ｌブチルジフエニルシリルオキシメチル−２−とドロキ
シシク口ブタン−１−イル］５−フルオロー２．４　（
ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（１．６０ｍｇ，　３
．４ｍｍｏｌ）の無水テトラヒド口フラン（４ｍ）溶液
を徐々に加えた後、−３５゜Ｃで昇温し１５分間撹拌す
る。この反応液を、更に７８゜Ｃに冷却した後、トリエ
チルアミン（２．４１ｄｌ　７　ｍ　ｏ　ｌ　）を加え
、−３５℃に昇温し１５分間攪拌する。

この反応液を−７８℃に冷却し、リチウム水素化トリ（
ｔ−ブトキシ）アルミニウム（４．３５　ｇ　，　１７
ｍｍｏ１）　の無水テトラヒドロフラン（１０ｄ）　溶
液を加え、攪拌しながら徐々に室温まで昇温する。反応
液に、０．２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐｌ＋７．０）及び塩
化メチレンを加え、不溶物を濾去した後塩化メチレンで
抽出する。抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
、戚圧下｝容媒を溜去する。残渣を、シリカゲル力ラム
クロマトグラフイ−（塩化メチレン：酢酸エチル−４：
１（ｖ／ｖ））で精製し、（±）−１−・［（１β，２
β．３β）　　２　　Ｌブチルジフエニルシリルオキシ
メチル−２−ヒドロキシシクロブクンーｌ−イル］一５
−フルオロ２．４　　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオ
ン（６２８ｍｇ，　３９％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１ｚ　・ＦＴ，Ｃ（ｌ０１３）　　δ
　；１．０７（９１１，ｓ）． ２．２５−２．４５（３１１，ｍ）， ３．２１（ｌＩＩ．ｄ，Ｊ＝４．ＯＩｌｚ）３．８５（
Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝６．２１１ｚ，Ｊ＝１１．Ｏｔｌｚ
）３．９４　（Ｉｌｌ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．５１１２，
　Ｊ＝１１．Ｏｌｌ！）　．４．７１（ｉｌ１，鍋） ４．７９（ＩＩＩ，ｍ） ７．３２−７．５０（Ｇｌｌ，ｍ） ７．５４（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝６．６１１ｚ）７．６５（
４１１，ｄ，Ｊ＝６．６１１ｚ），８．７７（ＩＩＩ，
ｂｒｓ）． 工程２． （±）−５−フルオロ−１−［（１β，２β．３β）−
２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタンー
ｌ−イル］−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ビリミジンジオン
（化合物１０）の製造（±）−１−［（１β．２β，３
β）−３−ｔブチルジフェニルシリルオキシメチル−２
−ヒドロキシシク口ブタン−１−イル］−５−フルオロ
ー２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（９４ｍ
ｇ，　０．２０ａｍｏｌ）を、メタノール（ｌｄ）に溶
解した溶液に、４Ｎ一塩酸／ジオキサン（０．　１　ｄ
　．０　．　４　ｔｒｔｔａ　ｏ　ｌ　）を加え室温で
終夜撹拌する．反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、エ
ーテル可溶部を除き、セファデックスＬＨ−２０カラム
クロマトグラフィ−（メタノール）精製し，ｃ±）−５
−フルオロ１−［（１β，２β，３β》−２−ヒドロキ
シ３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル］−２
．４　（ＩＨ，３Ｈ）ピリミジンジオン（化合物１０　
）　　（　４４ｍｇ，　９５％）を得る．ＮＭＲ（４０
０ＭＨｚ　　−　ＦＴ，ＣＤａＯＤ）　　δ　：２．２
７−２．４７（３１ｌ．ｍ）． ３．６２（ＩＩ１，ｄｄ．Ｊ＝５．ＩＩＩｚ，Ｊ＝１１
．ＯＩｌｚ），３．８０（１１Ｉ．ｄｄ．Ｊ＝７．３１
ｌｚ，Ｊ＝１１．０１冒ｚ）＋４．５８（Ｉｌｌ，ｓ）
． ４．７９（ＩＩＩ，ｓ）， ７．９１（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝７．０１１ｚ．実施例１１
． （±）−１−［（１β，２β，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブクン１−イル］−５−
メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（
化合物１１）の製造工程１． （±）−１−［（ｌβ，２β．３β）−３−ｔプチルジ
フエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク口ブ
タン−１−イル］一５−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ
）一ピリミジンジオンの製造 アルゴン雰囲気中、オキザリルクロライド（２０５μ１
，２．４鵬●１）の無水テトラヒド口フラン（５ｍ）溶
液に、−７８℃でジメチルスルボキシド（３４１ｕ　ｌ
　，　４．８ｍｏｌ）を徐々に加えた後、−３５℃に昇
温し、同温で５分間攪拌する．反応液を再び７８℃に冷
却し、（±）’−１−［（１β，２α．３β）３−ｔ〜
プチルジフエニルシリル゛オキシメチル−２−・ヒドロ
キシシクロブタンー！−イルＪ５−メチル−２．４　（
ＩＨ，，３１｛）一ピリミジンジオン（９２９ｍｇ，　
２．０ａｍｏｌ）の無水テトラヒトロフラン（２ｄ）溶
液を、徐々に加えた後、−３５℃に昇温し１５分間撹拌
する．この反応液を、更に−７８゛Ｃに冷却し，トリエ
チルアミン（　１　．　４　ｍ　，　１０　ｔｍ　ｏ　
Ｉ　）を加え、−３５’Ｃに昇温度した後ｌ５分間撹拌
する．この反応液を−７８゜Ｃに冷却し、リチウム水素
化トリ（ｔ−プトキシ）アルミニウム（２．５４　ｇ　
，　１０■ｏ１）を無水テトラヒドロフラン（１０ｍ）
溶液を加え、攪拌しながら徐々に室温まで昇温する．反
応液に、０．２Ｍ−　リン酸緩衝液（ａｌｌ７．０）及
び塩化メチレンを加え、不溶物を濾去した後塩化メチレ
ンで抽出ずる．抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、減圧下溶媒を溜去する．残渣を、シリカゲル力ラ
ムクロマトグラフィ−（塩化メチレン：酢酸エチル＝４
　：　１　（ｖ／ｖ）　）で情製し、（±）−１−［（
１β．２β，３β）−３−Ｌブチルジフェニルシリルオ
キシメチル−２−ヒドロキシシクロブタンーｌ−イル］
−５−メチル２．４　（１８，３Ｈ）一ピリミジンジオ
ン（３８２ｍｇ，４１％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１ｚ　　−　ＦＴ，ＣＤＣＬ３）　　
　δ　：１．０８（９１１，ｓ）， １．９０（３１１，ｓ）， ２．３２（１１１．ｍ）． ２．３７−２．５９（２１１，ｍ）， ３．３２（ｉｌ１，鋤）， ３．８０−３．９５（２１１，ａ）　，４．６８−４．
７７（２１１，ｍ）　，７．２２（Ｉｌｌ，ｓ）， ７．３５−７．５０（６１１，ｓ）， ７．６７（４１１，ｄｄ，Ｊ＝１．８１１ｚ，Ｊ＝６．
２１１ｚ）．工程２． （±）−１−［（ｌβ，２β，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロプタンｌ−イル］−５−
メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（
化合物１１）の製造（±）−１−［（１β，２β，３β
）−３−Ｌ一プチルジフエニルシリルオキシメチル−２
−ヒドロキシシク口ブタン−１−イル］一５−メチル−
２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（９０ｍｇ
，　０．１９＋ｗ＋ｏｌ）を、メタノール（１ｄ）に熔
解した溶液に、４Ｎ−塩酸／ジオキサ７　（０．ｌａ＋
ｆｆｉ，　０．４ｍ　ｏ　ｌ　）を加え、室温で終夜撹
拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、エーテル
可溶部を除き、セファデックスＬＨ−２０（メタノール
）で精製し（±）−１−［（ｌβ，２β，３β）〜２−
ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１一
イル］−５−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ピリミジ
ンジオン（化合物１１）　　（４３ｍｇ，　９８％）を
得る． ＮＭＲ（４００旧ｌｚ−ＦＴ．ＣＤｓＯＤ）　　δ　：
１．８９（３１１，ｓ）， ２．２９−２．４８（３１１，涌）， ３．６２（１１Ｉ．ｄｄ，Ｊ＝４．９１１ｚ，Ｊ＝１０
．８１１ｚ），３．８０（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝６．８１
Ｉｚ，Ｊ＝ＩＯ．８１Ｉｚ）．４．５８（ｌＩＩ．ｍ）
， ４．７１（１１１．ａ１）， ７．５３（Ｉｌｌ，ｓ）， 実施例１２． （±）−１−［　（　ｌα，２β，３β）−２−ヒドロ
；１・シー３−ヒドロキシメチルシクロブタン！−・イ
ル］　　２，４　（ＩＨ，３１１）　　−ビリミジンジ
オン（化合物１２）の１！！１造 コニ　程　１． （±）−１−［（１α．２β，３β）　−　３−ｔプチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク
ロプタンーｌ−イル］−２．４（ＩＨ，３１１）　　〜
ピリミジンジオンの製造（±）−（　ｌβ，２β，４β
）−２−Ｌ−フ′チルジフェニルシリルオキシメチル−
５−オキサビシクロ［２，ｌ，０１ペンタン（化合物１
　）　（１０２Ｂ．　０．３０胴ｏ１）及び２．４−ビ
ストリメチルシリルオキシピリミジン（３０８ｍｇ，　
１．２ｍｌＩｌｏｌ）を無水塩化メチレン（　３　ｘｒ
ｌ　）に溶解し、アルゴン雰囲気中、室温でニフ・ン化
ホウ素エーテラート（５１ｍｇ，　０．３６鵬ｏ１）　
の無水塩化メチレン溶液（１滅）を加え、そのまま一日
攪拌する。反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐｌ１７
．０）を加え、しばらく攪拌した後、塩化メチレンで抽
出する。抽出後は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減
圧下溶媒を溜去する。残渣をシリカゲ力ラムク口マトグ
ラフィ−（塩化メチレン：メタノール−５０：　ｌ　（
ｖ／ｖ））で精製し、（±）−１〜［１α．２β．３β
）　−３−ｔフ゛チルジフェニルシリルオキシメチル−
２−ヒドロキシシク口ブタン−１−イル］　−２．　　
４　（ｌ　ＩＩ，　　３ｌ１）一ピリミジンジオン（　
８８ｍｇ，　６５％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧ｌｚ　・ｌ’Ｔ，ＣＤＣＬ３）　　δ
　：１．１０（９１１，ｓ）， １．９２（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝１０．
３１１ｚ），２．２６（１ｌＩ．ａｐｐａｒｅｎｔ　ｔ
，Ｊ＝１０．８１１ｚ）２．６４（ＩＩＩ，ｍ）， ３．７０（ＩＩＩ，ｄ）， ３．９５（ｌｌ１．ｄｄ，Ｊ＝４．８１Ｉｚ，Ｊ＝１１
．Ｏｌｌｚ）４．０２（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝５．：ｌｌ
Ｉｚ．Ｊ＝１１．０１ｌｚ），４．４６（Ｉｌｌ，ａｐ
ｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ・７．３１１ｚ），４．６８（
ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝８．７１ｌｚ）
．５．７４（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝１．８１１ｚ，Ｊ＝ｌ
１．ｌｌＬｚ）．７．２４（ＩＩｌ．ｄ，Ｊ＝８．ｌｌ
Ｉｚ），７．４３（６１１，ｍ）， ７．６’ｌ（４１１．ａｐｐａｒｅｎＬ　　Ｌ，Ｊ＝７
．Ｏｌ［ｚ）９．１３（ＩＩＩ，ｂｒｓ）． 工程２． １ｉ　１　［（Ｉα，２β，３β）２ヒＩ゛ロキシー３
−ヒド［１キシメチルシクロプタン１−イル］　−　２
．４　（ＩＨ，３］１）〜ビリミジンジオン（化合物１
２）の製造 （±）−１−［　（　１α，２β，３β）　　−３　−
　Ｌ．ブチルジフェニルシリルオキソメナルー２　ヒド
１コキシソク口ブタン　ｌ−｛ル］　一２４．（］Ｈ，
３Ｈ）一ピリミジンジオジ（２４ｍｇ．　０．０５３ｍ
ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ｌｄ）に溶解し，　　
ＩＭテトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラヒド
口フラン（０．１ａｌｌ．　０．１ｗｏｌ）を加え室温
で３時間攪拌した後、メタノールで希釈しＡｓｂｅｒｌ
ｙｓｔ１５（６０ｍｇ，　０．３ｎｉｏ１）を加えしば
らく攪拌し、樹脂を除去した後減圧下溶媒を溜去する．
残渣は、セファデックスＬＨ−２０カラムクロマトグラ
フイー（メタノール）で精製した後、水に溶解し凍結乾
燥し、（±）−１−［（１α．２β．３β）−２。−ヒ
ドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イ
ルコー２．４　（１１−１．３Ｈ）−ピリミジンジオン
（化合物１２　）　　（　１２＋ｍｇ，定量的）を得る
．ＮＭＲ（４００ＭＩＩｚ−ＦＴ，ＣＤ３０Ｄ）　　δ
：１．９４（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝１０
．３１１ｚ）．２．１３（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　
Ｌ，Ｊ＝１０．５１ｌｚ），２．５７（ＩＩＩ，＋ｗ）
， ３．７６（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ．Ｊ＝１１．２
１ｌｚ），３．１１９（１１１，ｄｄ，Ｊ＝５．６１１
ｚ，Ｊ−１１．２１ｌｚ）　．４．５７（ＩＩＩ，ａｐ
ｐａｒｅｎｔ　ｔ＋Ｊ＝８．４１Ｉｚ）＋４．７９（１
１１．ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ．Ｊ＝８．９１Ｉｚ）．
５．６９（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ−８．ｌｌｌｚ），７．７１
（１１１．ｄ，Ｊ＝８．ｌＩｌｚ）．実施例１３． （±）−５−フルオロ−１−［（ｌα，２β，３β）−
２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−
１−イル］−２，／ｌ　　（１８，３Ｈ）一ピリミジン
ジオン（化合物１３）のｆＪＪ　造工程１． （±）−１−［（１α，２β，３β）　−３　−　Ｌー
ブチルジフェニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキジ
シクロブタンーｌ−イル１−５−フルオロー２．４　（
ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオンの製造 （±）−（　１β．２β．４β）−２−ｔ−プチルジフ
ェニルシリルオキシメチル−５−オキサビシク口［２，
１．０１ペンタン（化合物１　）　（１６９ｓａｇ．　
０．５０ｍｏｌ）及び２．４−ビストリメチルシリルオ
キシ−５−フルオロピリミジン（５４９ａ＋ｇ，　２．
０ｔｍ　ｏ　Ｉ　）を無水塩化メチレン（５ａｉ）に溶
解し、アルゴン雰囲気中、室温で三フッ化ホウ素エーテ
ラート（８５ｍｇ．　０．６閤ｏ１）の無水塩化，メチ
レン溶液（１ａ＆！）を加え、そのまま１日攪拌する．
反応液に０．２Ｍ−リン酸刹衝液（ρ１１７．０）を加
え、しばらく撹拌した後、塩化メチレンで抽出する．抽
出液は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を
溜去する。残渣ををシリカゲル力ラムクロマトグラフィ
−（塩化メチレン：メタノール＝ＳＯ：ｔ（Ｖ／Ｖ））
で精製し、（±ｌ−１−［（１α．２β，３β）−３−
ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロ
キシシクロブタン−ｌイル１−５−フルオロー２．４　
（１１｛，３Ｈ）ピリミジンジオン《ｌ３６謁ｇ，５８
％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤＣＩｓ）　　δ　：
１．１１（９１１，ｓ）． １．８９（ＩＩＩ．ａｐｐａｒｅｎｔ　Ｑ．Ｊ＝９．５
１１２＞，２．２５（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｔ，
Ｊ＝ＩＯ．５１１ｚ），２．６３（ＩＩＩ，＋ｍ）， ３．６２（Ｉｌｌ，ｄ，Ｊ＝７．０｝１ｘ）３．９４（
Ｉ１ｌ，ｄｄ，Ｊ＝５．０１Ｉｚ，Ｊ＝１０．８１１ｚ
）４．０２（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝４．８１Ｉｚ，Ｊ＝１
０．８１１ｚ），４．４５（ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ
　　Ｑ，Ｊ＝７．５１１２）１４．７５（ＩＩＩ，ａｐ
ｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝９．ＯＩＩｚ），７．３０（
Ｉｌｌ，ｄ，Ｊ＝５．９１１ｚ）．７．３３−７。５０
　（６１１　．　ｍ）　，７．６０−７．７５（４１１
，ｍ） ８．９０（ＩＩＩ，ｂｒｓ）， 工程２． （±）−５−フルオロ−１−［（ｌα，２β．３β）−
２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−
１−イル］−２．４　　（ＩＩ！，３Ｈ）一ピリミジン
ジオン（化合物１３）の製造（±）　−　１−［　（　
ｌα，２β．３β）−３−ｔ一プチルジフエニルシリル
オキシメチル−２−ヒドロキシシクロブタン−１−イル
コー５−フルオロー２．４　（ｌＨ，３Ｈ）一ビリミジ
ンジオン（１２３Ｂ，　０．２６ｉ＋ｍｏｌ）をメタノ
ーノレ（２ｍ）に？容解した溶液に，４Ｎ一塩酸／ジオ
キサン（０．１５＋＋＃，０．６ｍ）を加え室温で終夜
攪拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、エーテ
ル可溶部を除き、セファデックスＬＨ−２０（メタノー
ル）で精製した後、水に溶解し凍結乾燥し、（±）−５
−フルオロー１−［ｌα，２β，３β）−２−ヒドロキ
シ−３−ヒドロキシメチルシクロプクンー１−イル］−
２．４　（ＩＨ．３Ｈ）一ピリミジンジオン（化合物１
３）　　（４８ｍｇ，７９％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１２−ＦＴ，ＣＤｓＯＤ）　　δ　：
１．９３（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝１０．
６１Ｉｚ），２．１２（ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｔ
，Ｊ＝１０．３１１ｚ），２．５６（ｌｉｔ，ｍ）， ３．７６（ＩＬｄｄ，Ｊ＝７．５１１ｚ，Ｊ＝１１．２
１１ｚ），３．８８（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ−５．９１１ｚ
，Ｊ＝１１．２１１ｚ）４．５４（１！Ｉ，ａｐｐａｒ
ｅｎｔ　ｔ，Ｊ＝８．２１１ｚ），４．８４（Ｉｌｌ，
ｍ）． ７．９７　（ＩＩＩ，　ｄ，　Ｊ＝６．６１Ｉｚ）　．
実施例１４． （±）−１−［（１β２　２α，３β）−２−アジド−
３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル］一５−
フルオロ−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ピリミジンジオン（
化合物１４）の製造工程ｌ． （±）−１−［（１β．２β，３β）−３　−　Ｌブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−２−メタンスルホニ
ルオキシシクロブタン−１−イル］５−フルオロー２．
４　（ＬＨ．３Ｈ）一ピリミジンジオンの製造 （±）−１−［（１β、２β、３β）　−　３−ｔブチ
ルジフエニルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシシク
口ブタン−１−イル１−５　−　フルオロー２．４　（
ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（９４ｍｇ，　０．２
０ｍＩｌｏｌ）及びトリエチルアミン（５０μ１　，　
０．３６ａｍｏｌ）の無水塩化メチレン（ｌｌｍ）？８
？＆に、水冷下メタンスルホニルクロラ・イド（２３μ
ｌＯ．３０ｉｍｏｌ）を加え、同温で３０分間撹拌する
。更に、トリエチルアミン（８３μ１　，　０．６０鴫
０１）及びメクンスルホニクロライド（２３／／　ｌ　
，　０．３０ｍｍ＋ｏｌ）を加え１時間攪拌する。反応
液に０．２Ｍ−ＩＪン酸緩街液（ｐｌｌ７．０）を加え
、塩化メチレンで抽出する．抽出液は、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後減圧下｝容媒を溜去する．残渣は、シ
リカゲル力ラムクロマトグラフィ−（塩化メチレン：酢
酸エチル＝２０：　ｌ　（ｖ／ｖ））で精製し（±）−
１−［（１β２β，３β）　−３−ｔ−プチルジフェニ
ルシリルオキシメチル−２−メタンスルホニルオキシシ
ク口ブタン−１−イル］一５−フルオロ−２，４（ＩＨ
，３Ｈ）一ビリミジンジオン（３６ｓ＋ｇ，　３３％）
を得る。

工程２． （±）−１−［（ｌβ．２α５　３β）−２−アジドー
３−Ｌ−プチルジフェニルシリルオキシメチルシク口ブ
タン−１−イル］一５−フルオロ２．４　（１８，３Ｈ
）一ピリミジンジオン及び、（±）−１−［（１β，２
α９３β）−２−アジド−３−ヒ１′ロキシメチルシク
ロブタン−１−イル］−５−フルオロー２．　　４　（
ｌ　Ｈ，　　３　Ｈ）一ピリミジンジオン（化合物１４
）の製造 アルゴン雰囲気中、（±）−１−［（１β，２β，３β
）　−　３　−　ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメ
チル＝−２−メタンスルホニルオキンシクＬＪプタン−
１−イル］−５−フルオロー２．　　４　（ＩＨ，３Ｈ
）一ピリミジンジオン（７５１１ｇ，　０．１４ｍｍｏ
ｌ）及び乾燥したナｌリウムアジド（９０ｍｇ，　１．
４ｍｌｌｏｌ）の無水ジメチルホルムアミド＜２ｍｌ＞
２８？＆を、１１０゜Ｃで７時間撹拌する．反応液に水
を加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン抽出液は
、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下溶媒を溜去す
る。

残渣はシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（塩化メチ
レン；メクノールーｔｓ：　ｌ　（Ｖ／Ｖ））で精製し
（±）−１−［（ｌβ．２α，３β）−２−アジＦ−３
−ｔ−プチルジフェニルジリルオキシメチルシクロブタ
ン−１−イル］−５−フルオロ〜２．　　４　（Ｉ　Ｈ
，　　３　Ｈ）一ビリミジンジオン（１５ａ＋ｇ，　２
２％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１ｚ　・ＦＴ，ＣＤＣｌ＊）　　δ　
；１．１１（９１１，ｓ）， １．９７（ｉｌｌ，ｍ）， ２．２２〜２．３５（２１１，　ｓ）　，３．７２（Ｉ
ｌ１，ｄｄ，Ｊ＝３．３１Ｉｚ，Ｊ＝１１．４１ｌｚ）
３．８７（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝２．６１１ｚ，Ｊ＝１１
．４１Ｉｚ），３．９５（ＩＨ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　
ｔ，Ｊ＝７．７１１ｚ）＋４．６８（１ｌ１．ａ）， ７．３０（ＩＨ．ｄ，Ｊ＝５．５１ｌｚ）．７．３２−
７．５０（６１１．ｍ）． ７．５７−７．７２（４Ｈ．ｍ）． ８．７２（ＩＨ，ｂｒ）， 先の抽出が行なわれた水層を、更に塩化メチレンで１日
連続抽出をする。塩化メチレン抽出液は、シリカゲル分
取用薄層クロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノー
ル＝ｌ５：　１　（ｖ／ｖ））で精製し、（±）−１−
［（ｔβ．２α，３β）−２−アジドー３−ヒドロキシ
メチルシクロブクン−１−イル］−５−フルオロー２．
４　　（ＩＨ，３１｛）ービリミジンジオン（化合物１
４）　　（４．８Ｂ．　１４％）を得る． １１ＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤＣ１３）　　δ　
：２．０３（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ＱＩＪ＝９
．６１１２）１２．２６−２．４５（２１１．ｍ）， ３．７４（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝３．８１Ｉｚ．Ｊ＝１１
．０＋１ｚ）．３．８７（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝３．３１
１ｚ．Ｊ−’ｌ１．０１１ｚ）．４．５５（Ｉｌｌ，ｈ
ｒｓ）， ４．５７−４．７０（２１１．鍋》， ７．４０（ｌＩＩ．ｄ．Ｊ＝５．９１１ｚ）．８．２３
（ＩＩＩ，ｈｒｄ）． ＩＲ（Ｉｌｌｌｒ）　　ｃａ＋ＩＩ−’　　：　　２１
１０．実施例１５． （．ｉ）−１一ｒ　（Ｉβ，２α，３β）−２−アジド
　３−ヒドロキシメチルシクロブタン−ｌイル］　５　
メチル−２．４　（ＩＨ．３Ｈ）一ピリミジンジオン（
化合物１５）の製造 工程目． （１：）　　　＋−［（１β．２β．３β）−３Ｌブチ
ルジフェニルシリルオキシメチル−２−メタンスルホニ
ルオキシロクロブタン−１−イル］−５　メチル−２．
　　４　（Ｉ　ＩＩ，　　３Ｈ）一ピリミジンジオンの
製造 （±）　−１　−　［　（　１β２　２β．３β）−３
−Ｌ−ブチルジフエニルシリルオキシメチル−２＝−ヒ
ドロキシシク口ブタン−１−イル］−５−メチル−２　
　４　（１｝１，　　３Ｈ）一ビリミジンジオン（３０
０ｍｇ．　０．６５ｍｇ＋ｏｌ）及びトリエチルアミン
（０．５ｍｇ．３　．　６　ｍ　ｏ　Ｉ　）の無水塩化
メチレン（５ｄ）溶液に、水冷下メタンスルホニルクロ
ライド（１５０ｍｇ，　１．３−０１）の塩化メチレン
（ｌＩｄ）溶液を，加え、同温で３０分間攪拌する。更
に、同量のトリエチルアミン及びメタンスルホニルクロ
ライドを加え１時間攪拌する。反応液に０．２Ｍ−リン
酸緩衝ｆｉ＜ｐｌｌ７．０）を加え、塩化メチレンで抽
出する．抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減
圧下溶媒を溜去する。残渣は、シリカゲル力ラムクロマ
トグラフィ−（塩化メチレン：酢酸エチル−３：１（ｖ
／ｖ））で精製し（±）−１−［（ｌβ，２β．３β）
−３−ｔ−プチルジフェニルシリルオキシメチル−２−
メタンスルホニルオキシシクロブタン−１−イル］一５
−メチル−２．４　（ＩＨ．３Ｈ）一ピリミジンジオン
（１８４ｍｇ．　５３％）を得る．工程２． （±）−１−［（１β，２α．３β）−２−アジド−３
−（一プチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ンーｌ−イル］−５−メチル−２．４（ＩＨ，３｝１）
一ピリミジンジオンの製造アルゴン雰囲気中、（±）−
１−［（１β５２β２　３β）　−　３−ｔ−プチルジ
フエニルシリルオキシメチル−２−メタンスルホニルオ
キシンクロブタン−１一イル１−５−メチル−２．４　
（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（２５ｍｇ．　４６
　ｔｔ　ｍｏｌ）及び乾燥したナトリウムアジド　（１
５ｍｇ＋　２３０　ｔｔ　ｍｏｌ）の無水ジメチルホル
ムアミド（ｌＩｄ）溶液を，　１１０℃でｌθ時間攪拌
する。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出する．酢酸エ
チル抽出液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下
溶媒を溜去する。残渣ばシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（塩化メチレン；酢酸エチル＝ｌＯ：　ｌ　（ｖ
／ｖ））で精製しく±）−１［（１β，２α，３β）−
２アジドー３−ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメチ
ルシクロブタン−１−イル］一５−メチルー２．４　（
ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン（１６Ｂ．７１％）を
得る． ＮＭＲ（４００旧ｌｚ−ＦＴ，ＣＤＣＬ３）　　δ　：
１．１２（ＩＨ，ｓ）， １．９０（３１１，ｓ） ２．０４（Ｉｌｌ，ｎ） ２．１８−２．３４（２１１，ｍ）， ３．７２（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，Ｊ＝１１．
４１ｌｚ）３．８３（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝２．２１１ｚ
，Ｊ＝１１．４１１ｚ）４．０３（ｉｌｌ，ｔ，Ｊ＝７
．７Ｈｚ），４．７５（ＩＩ１．ｑ，Ｊ＝８．８１１ｚ
）７．０８ＨＩｌ，ｓ） ７．３３−７．５１（６１１，鴎）， ７．６５（４１１，麟）， ８．７２（Ｉｌｌ，ｂｒ）． 工程３． （±）　　ｉ　　［（ｌβ，２α．３β）−２−アジド
ー３−ヒドロキシメチルシク口ブタン−１−イル］一５
−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン
（化合物１５）の製造 （±）−１−［（ｌβ．２α，３β）−２−アジド−３
〜１−プチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−１−イル］−５−メチル−２４　（ｉｔ｛，３Ｈ）
一ピリミジンジオン（ｌｌｌｍｇ０　．　２　３　ｔｒ
ｙｓ　ｏ　Ｉ　）を、メタノーノレ（　１　ａｌｌ　）
に溶解した｝容液に、４Ｎ一塩酸／ジオキサン（０．１
５ｇ！＋　０．６＋ｎｍｏｌ）を加え室温で終夜ＶＲ性
する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、エーテル可
熔部を除き、セファデックスＬＬ１−２０カラムクロマ
トグラフィ−（メタノール）で精製し（±ｌ−１−［（
１β．２α３β）−２−アジドー３−ヒドロキシメチル
シクロブタン−１−イル］−５−メチル−２．　　４　
（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（化合物１５）　　
（５８ｍｇ，定量的）を得る。

［３１（４００旧ｌｚ−ＦＴ，ＣＤＣＬａ）　　δ　；
１．９４　（３１１，　ｓ）　， ２．０８（ｉｌｌ，ｍ） ２．２２−２．４０（３１１，ｍＬ ３．７４　（Ｉｔ！．　ｄｄ，　Ｊ＝Ｉ．０１１ｚ，　
Ｊ＝１　１．　４１１２）　，３．８６（ｉｌ１，ｄｄ
，Ｊ＝３．３１１ｚ，Ｊ＝１１．４１１ｚ）４．１４（
ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ，Ｊ＝７．７１１ｚ），４．
５５（ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ，ｑ＝８．９１１ｚ）
７．１１（ｉｌｌ，ｓ） ９．０９（Ｉｌｌ，ｂｒ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）　　ｃｍ−’　　：　　２１２０．実
施例１６． （±）−１−［（１β．２α，３β）−２−アミノ〜３
−ヒドロキシメチルシクロブクンーｌイル］−５−フル
オロ−２　　４（ＩＨ　　３Ｈ）ビリミジンジオン（化
合物】６）の製造工程ｌ． （±）−１−［（ｌβ，２α，３β）−２−アミノー３
−ｔ−プチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−１−イルフー５−フルオロー２．４　（ＬＨ，３Ｈ
）一ビリミジンジオンの製造（±ｌ−１−［（１β，２
α，３β）−２−アジドー３−Ｌ−プチルジフェニルシ
リルオキシメチルシクロブタンーｌ−イル］　−　５−
フルオロ２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン（
ｉ４ｍｇ，２８　ｎ　ｍｏｌ）をメタノーノレ（１ｄ）
に？容解し１０％バラジウム炭素（３ｍｇ）を加え水素
気流中２４時間攬拌する。反応液は触媒をδ，乱去した
後溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラ
フィー（塩化メチレン：メタノールー２０：１（ｖ／ν
））で精製し（±）−１−［（１β，２α，３β）−２
アミノー３−Ｌ−プチルジフエニルシリルオキシメチル
シクロブタンーｌ−イル］一５−フルオロー２．４　（
Ｉｌ１，３８）一ピリミジンジオン（７．２ｍｇ．　５
４％）をｊ｝る。

ＮＭＲ（４００旧Ｉｚ　　−　ＦＴ，ＣＤＣＬ＊）　　
　δ　：１．１０（９１１，ｓ）， １．７２（ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ．Ｊ＝１０．
ｌｌｌｚ）１．９０（ＩＩＩ，ｍ） ２．２０（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝８．９
１ｌｚ）２．７５−３．５０（２１１，　ｂｒ）３．３
６（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｔ．Ｊ＝８．３１ｌｚ
）３．７２（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝３．８１１ｚ，Ｊ＝１
１．Ｏｌｌｚ）３．８３（ＩＩ１，ｄｄ，Ｊ＝３．３１
１ｚ，Ｊ＝１１．０１１ｚ）４．４２（ＩＩＩ，ｍ）， ７．３０−７．５０（６１１，ｍ）， ７．３５（Ｉｌｌ，ｄ，Ｊ−５．９Ｈｚ），７．５０−
７．７５（４１１，ｍ）． 工程２． （±ｌ−１−［（１β．２α，３β）−２−アミノー３
−ヒドロキシメチルシクロブタンーｌイル］−５−フル
オロー２．４　（ＩＨ，３Ｈ）−ピリミジンジオン（化
合物１６）の製造（±）−１−［（１β、２α、３β）
−２−アミノー３−Ｌ−プチルジフェニルシリルオキシ
メチルシクロブタンーｌ−イル］一５−フルオロー２．
４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（７ｍｇ，１５
μｍｏｌ）を、メタノール（１−）に溶解した溶液に、
４Ｎ＝塩酸／ジオキサン（０．１ｄ，　０．４ａｍｏｌ
）を、加え室温で終夜攪拌する。反応液は、減圧下溶媒
を溜去した後、エーテル可溶部を除き、セファデックス
ＬＨ−２０カラムクロマトグラフィー（メタノール）で
精製し（±）−１−［（１β、２α、３β）−２−アミ
ノー３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル］−
５−メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオ
ン塩酸塩（化合物１６）　　（　４　ｍｇ，定量的）を
得る．ＮＭＲ（４００旧１ｚ−Ｆ丁，ＣＤｓＯＤ）　　
δ　：２．１０（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ，Ｊ＝
９．６１１ｚ）＋２．３０−２．５２（２１ｌ．ｍ）， ３．５６−３．７８（３＋１，■）， ４．５６（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ．Ｊ＝８．５
１１ｚ）．７．７９（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝６．３１１ｚ）
　．実施例１７． （±）−１−［（１β．２α．３β）−２−アミノー３
−ヒドロキシメチルシクロブタン＝ｌイル］−５−メチ
ル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）−ピリミジンジオン（化合
物１７）製造 工程１． （±）−１−［（１β、２α、３β）−２−アミノー３
−ｔ−プチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブタ
ン−１−イル］−５−メチル−２．４　（１Ｍ，３Ｈ）
一ピリミジンジオンの製造（±）−１−［（ｌβ、２α
、３β）−２−アジＦ−３−ｔ−プチルジフェニルシリ
ルオキシメチルンクロブタン−１−イル］一５−メチル
−２．４（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン（　１２ｍ
ｇ，　２５μｍｏｌ）をメタノール（２ｍ）に溶解しｌ
Ｏ％パラジウム炭素（２ａ＋ｇ）を加え水素気流中ｌＯ
時間攪拌する。反応液は触媒を濾去した後溶媒を・溜去
し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィ−（塩化
メチレン：メタノール＝２０：　ｌ　（ｖ／ｖ））で精
製し（±）−１−［（１β、２α、３β）−２アミノー
３−ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメチルシクロブ
タン−１−イル］−５−メチル＝２．４　（ＩＨ，３Ｈ
）一ビリミジンジオン（１０ａ＋ｇ８８％）を得る． Ｎ？ｌＲ（４００旧ｌｚ−ＦＴ，ＣＤＣＬｚ）　　δ　
：１．０８（９１１，ｓ）． １．９０（３１１，ｓ）， ２．３２（ｉｌｌ，ｍ） ２．３１１１−２．５２（２１１，ｍ），３．３２（１
１１．ｗ）， ３．８５−３．９５（２１１，ａｍ）　，４．６６−４
．７１１（２１１．ｍ），７．２２（ＩＩＩ，ｓ）， ７．３３−７．４９（６１Ｌ醜）， ７．６７（４１１，ｄｄ，Ｊ＝１．８１１ｚ，Ｊ＝６．
２１Ｉｚ）．工程２． （±）−１−　［（１β，２α．３β）−２−アミノー
３−ヒドロキシメチルシク口フリン−１＝イル］一５−
メチル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ビリミジンジオン（
化合物１７）の製造 （±）−１−［（１β、２α、３β）−２−アミノー３
−ｔ−プチルジフェニルシリルオキシメチルシクロブク
ン−１−イル］一５−メチル−２．４（ＬＨ，３Ｈ）一
ピリミジンジオン（ｌＱａ＋ｇ，　２２μｍａｔ）を、
メタノール（ｌＩＲ１）に溶解した溶液に、４Ｎ−塩酸
／ジオキサン（０．１ｍ，　０．４ｍａｏｌ）を、加え
室温で終夜攪拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した
後、エーテル可溶部を除き、セファデックスＬＨ−２０
カラムクロマトグラフィー（メタノール）で精製し（±
）−１−［（１β、２α、３β）−２−アミノー３−ヒ
ドロキシメチルシクロブタン＝１−イル］一５−メチル
−２．　　４　（ＩＨ，３８）一ピリミジンジオン塩酸
塩（化合物１７）（７ｍｇ．定量的）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１ｚ　・ＦＴ，ＣＤｚＯＤ）　　δ　
：１．９４（３１１，ｓ）， ２．１７（Ｉｌｌ，ｑ，Ｊ＝９．Ｏｌｌｚ），２．４０
−２．６０（２１１，ｍ）　，３．６３（ｌｆｔ，ｍ）
， ３．６５−３．８５（２１１，ｍ） ４．５７　（ＩＩＩ，　Ｑ，　Ｊ＝８．５１１ｚ）　，
７．４３（ＩＩＩ，ｓ）． 実施例１Ｂ． （±）−（１α，２β，４α）−２−ｔ−プチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ［２，１
．０１ペンクン（化合物ｅ）及び（±）−（ｌβ．２β
．４β）−２−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシメチ
ル−５−オキサビシ＼ クロ［２，１．０］ベンタン（化合物１）の製造１−Ｌ
−ブチルジフエニルシリルオキシメチル２−シクロプテ
ン（６．４５　ｇ　，　２０ｍａ＋ｏｌ）および２ベン
ゼンスルホニル−３−（４−ニトロフエニル）オキサチ
リジン（Ｘｌｌｌ）　　（Ｆ．＾．Ｄａｖｉｓ　ｅｔａ
ｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．，Ｊ２．９
１７（１９８１））　　（７．３５　ｇ　，　２４ｗａ
　ｏ　ｌ　）を無水アセトニトリル（１００　ｄ　）　
に加え、アルゴン雰囲気中、６０゜Ｃで４日間攪拌する
。冷却後アセトニトリルを減圧下溜去した後、残渣をヘ
キサンで抽出する。ヘキサン抽出物は濃縮後、シリカゲ
ル力ラムクロマトグラフィ−（塩化メチレン：ヘキサン
−１＝３続いて１　：　２　（Ｖ／Ｖ）で分離精製し、
未反応の原料（２．１５ｇ　，　３３％回収）、（±）
−（　１α，２β，４α）　−　２−ｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシメチル−５−オキサビシクロ［２，１
，Ｏ］ベンタン（化合物ｅ）　　（１．９３ｇ，２０％
）及び（±）一（１β，２β．４β）２−ｔ−プチルジ
フエニルシリルオキシメチル５−オキサビシク口［２，
１、０］ペンタン（化合物１）（０．７１ｇ，１０％）
を得る．（化合物ｅ） １１ＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤＣＬｓ）　　δ　
：１．０７（９１１，ｓ）． １．６６（１１１．ｄｄ，Ｊ＝３．７１１ｚ，Ｊ＝１２
．ｌｌｌｚ）１．８３（ＩＨ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．６１ｌ
ｚ，Ｊ＝５．１１Ｉｚ，Ｊ＝１２．１ｔｌｚ），２．３
２（ＩＩＩ　　ｍ） ３．７０（Ｉｌｌ　　ｄｄ，Ｊ＝８．４１Ｉｚ，Ｊ＝１
０．６１１ｚ），３．　７９　（ｌ　ＩＩ　，　＋ｉ） ３．８２−３．８８（２８，ｍ） ７．３４−７．４７（６１１，ｍ） ７．６０−７．７２（４１１，■）． （化合物Ｉ） １１１ＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤＣＬ３）　　δ
　；１．０６（９１１，ｓ） １．３６（Ｉ１１，ｄｔ，Ｊ＝１２．１１１ｚ，Ｊ＝３
．６１Ｉｚ），２．０８（Ｉｌ１，ｄｄ，Ｊ＝９．２１
Ｉｚ，Ｊ＝１２．ｌＩＩｚ），２．６３（Ｉｌｌ，ｍ）
． ３．４５（ｌ１１．ｄｄ，Ｊ＝６．４１ｌｚ，Ｊ＝１０
．４１１ｚ）　，３．７２−３．８２（２１１，ｍ）， ３．８４（ｉｌｌ，ｍ）． ７．３３−７．４５（６＋１，洋）， ７．６７（４１１，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｔ，Ｊ＝７．
５１Ｉｚ）．実施例ｌ９・ （±）−（１α，２β，４α）−２−へ・イヅイロキシ
メチル−５−オキサビシク口［２，１．０１ペンタン（
化合物Ｃ）及び（±）−（ｌβ、２β４β）　　２−ペ
イゾイロキシメチル−５−才キサビシク口［２，１．０
］ペンクン（化合物ｊ）の製造 方法ｌ５ １−ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメチル２−シク
ロブテン（１．０　ｇ　，　５．０ｍｍｏｌ）及び２ベ
イゼンスルホニル−３−（４−ニトロフェニル）オキサ
チリジン（Ｘ　ｉ［［　）　２．３ｇ　（７．５ｍｏｔ
）を無水アセトニＩ−リル（２５ｄ）に加え、アルゴン
雰囲気中、６０゜Ｃで２口間攪拌する。冷却後、アセト
ニトリルを滅圧下溜去した後、残渣をベンタンで抽出。

ベンタン抽出液は減圧下溶媒を溜去した後、無水テトラ
ヒド口フラン（２５ｄ）　に熔解し、ＩＭ−テトラブチ
ルアンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン（　６
　．　Ｏ　ｄ　，　６　．　Ｏ　ｍ　ｏ　Ｉ　）を加え
、室温で１時間攪拌する。反応液に０．２ＭＩＪン酸緩
衝液（ａｌｌ７．０）を加え食塩を飽和させた後、塩化
メチレンーメタノール（４　：　１　（ｖ／ｖ）　）混
合溶媒で１０回抽出する．抽出液は無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、減圧下溶媒を溜去し、シリカゲル力ラム
クロマトグラフィ−（酢酸エチル：ヘキサン＝１：ｌ（
ｖ／Ｖ））で精製し、２−ヒドロキシメチル−５オキサ
ビシク口［２，１，Ｏ］ペンタン（化合物ａと化合物ｈ
の混合物）を２１０ｍｇ　（４２％）得る。

この化合物を無水ピリジンＣ２ｄ）に溶解し、水冷下塩
化ベイゾイル（０．３７ＩＩ１，　３．２ｍ＋ｍｏｌ）
を加え、同温で１時間攪拌する．反応液に水を加え、エ
ーテルで抽出する．エーテル抽出液は、ＩＭ＝硫酸水溶
解、水、食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し減圧下溶媒を溜去し油状物を得る。このものは
シリカゲル力ラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：
ヘキサン＝１　：　１　（ｖ／Ｖ））で分離精製し、（
±）一（ｌα，２β．４α）−２−へイゾイロキシメチ
ル−５−オキサビシク口［２，１．０］一ペンタン（化
合物Ｃ）（２６８ｍｇ，通算収率２６％）及び、（±）
−（１β，２β，４β）−２−ペイゾイロキシメチル−
５オキサビシクロ（２，１．０１ペンクン（化合物Ｊ　
）　　（７６１１１ｇ，通算収率７％）を得る．（化合
物Ｃ） ＮＭＲ（４００旧１ｚ　−ＦＴ，ＣＤＣＩ３）　　δ　
：１．８２（ｉｌ１，ｄｄｄ，Ｊ＝１．８１ｌｚ，Ｊ＝
４．６１ｌｚ，Ｊ＝１２．ＯＩＩｚ），２．０４（ＩＩ
Ｉ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．８１１ｚ，Ｊ＝５．６１Ｉｚ，Ｊ
＝１２．０１１ｚ），２．５５（ＩＩＩ，ｍ）， ３．９１（ＩＩＩ，ｍ）， ３．９７（ＩＩＩ，　Ｌ，Ｊ＝２．８１１ｚ），４．３
９（ＩＩＩ，　ｄｄ，　Ｊ＝９．０ＩＩＺ，　Ｊ＝１１
．７１１２），４．５５（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝６．０１
Ｉｚ，Ｊ＝１１．７１１ｚ）　，７．４６（２１１，ｔ
，Ｊ＝８．ｌｌｌｚ），７．５９（ｌｉｔ，ａｐｐａｒ
ｅｎｔ　ｔ＋Ｊ＝８．１１ＩｚＬ８．０５（ｌｔｌ，ａ
ｐｐａｒｅｎｔ　ｄ，Ｊ＝８．１１Ｉｚ）＋（化合物ｊ
） ＮＭＲ（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤＣ１ａ）　　δ　：
１．６２（ｌｌ１．ｄｔ，Ｊ＝１２．１１１ｚ．Ｊ＝３
．６！ｌｚ），２．２９（Ｉ１１，ｄｄ，Ｊ＝９．５１
１ｚ，Ｊ＝１２．ｌＩＩｚ）＋２．８６（ＩＩＩ，ｓ）
， ３．８８（ＩＩＩ，ｍ）， ３．９２＜ＩＩＩ，＋＋１）， ４．２１（ＩＩＩ，ｄｄ．Ｊ＝６．５１Ｉｚ，Ｊ＝１２
．１１１ｚ），４．３９（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝８．９１
１ｚ，Ｊ＝１２．ｌｌｌｚ），７．４４（２１１，ｔ，
Ｊ＝８．２１ｌｚ），７．５６（ｌｔｌ，ａｐｐａｒｅ
ｎｔ　　ｔ，Ｊ＝８．２１Ｉｚ），８．０４（ＩＩＩ，
ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｄ，Ｊ＝８．２１１ｚ）＋方法２
． ｌ−ヒドロキシメチル−２−シクロブテン（２５２＋ｍ
ｇ＋　３．０ｍｉ＋ｏｌ）を無水塩化メチレン（１５ｄ
）に溶解した溶液に、水冷下８０％ｍ−クロロ過安息香
酸（７７？＋ｎｇ，　３．６ｍｏｌ）を加え、Ｏ″Ｃで
３時間攪拌する。反応液をｌＯ％亜硫酸水素ナトリウム
水溶液及び１０％炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチ
レンで１０回抽出する。抽出液は無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、溶媒を溜去し粗精製物を得る．このものは
方法ｌに従って、塩化ベイゾイル（０．５２１ｎＮ４　
．　５　ｓ　ｏ　ｌ　）及び無水ピリジン（３ｒｎｌｌ
＞を用いてヘイゾイル化した後分離精製し、（±）−ｉ
ｔα，２β，４α）−２−ベイゾイロキシメチル−５オ
キサビシクロ［２，１．０］一ペンタン（化合物ｃ　）
　　（６７ｍｇ．　１１％）及び、（±）−（ｌβ，２
β．４β）−２−へイゾイロキシメチル，−５−オキサ
ビシクロ［２，１．０１ペンクン（化合０５　ｊ　）（
ｌＨ＋ｉｇ，　２９％）を得る。

実施例２０． １−［　（　ｌβ．３β）・−３−ヒドロキシメチルシ
クロブタン−ｌ−イル］−５−メチル−２．４（ＩＨ，
３Ｈ）一ピリミジンジオン（化合物３２１）の製造 工程！． （１β，３β）　−３　−　ｔ−７’チルジフエニルシ
リルオキシメチルシクロブチルアジドの製造アルゴン雰
囲気中、ナトリウムアジド（６５０ｍｇ，１０　ａ＋ａ
　ｏ　Ｉ　）及び（ｌα，３β）−３−ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシメチル−１−メタンスルホニルオキ
シシク口ブタン（４１９ｓ＋ｇ．　Ｉ．Ｏ＋ｍｇｏｌ）
をジメチノレホノレムアミド（６瀬）に冫容解し、１２
０゜Ｃで２時間攪拌する。反応液に水を加え、エーテル
で抽出し、エーテル抽出液を水洗（Ｘ２）Ｌた後、飽和
食塩水で洗浄する。このエーテル溶液を、無水伯酸ナト
リウムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去し、残渣をシリ
カゲル力ラムクロマトグラフィ−（ヘキサン：塩化メチ
レン−４　：　１　（ｖ／ｖ）　）で精製し、（１β，
３β）−３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシメチル
シクロプチンアジド（３０９ｍｇ，旧％）を得る。

工程２， （１β．３β）　−　３−Ｌ　フチルジフエニルシリル
オキシメチルシクロプチルアミノの製造（ｌβ，３β）
−３−Ｌ−プチルジフェニルシリルオキシメチルシクロ
ブチルアジド（２９８Ｂ，０．７８＋ｎｕ＋ｏｌ）をエ
タノール（２ｄ）に溶解し、１０％パラジウム炭素（　
２０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間攪拌す
る。反応液は触媒を濾去した後、減圧下溶媒を溜去し、
残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（酢酸エチ
ル；トリエチルアミン−２０：　ｌ　　（ｖ／ｖ））で
精製し、（１β，３β）−３−ｔ−プチルジフエニルン
リルオキシメチルシクロプチルアミン（２３１ｍｇ，　
８３％）を得る。

工程３． Ｎ−［　［　（ｌβ，３β）−３−ｔ−プチルジフエニ
ルシリルオキシメチルシクロブチル］アミノカルボニル
］　一３−メトキシ−２−メチルアクリルアミドの製造 アルゴン雰囲気中、３−メトキシー２〜メチルアクリル
酸クロリド（６７３Ｂ，　　５　ｍＩｌｏｌ）及びシア
ン酸銀（１．５０　ｇ　，　ｌｏｍｍｏ１）の無水ベン
ゼン（ｌｏａｉ！）懸濁液を１時間加熱還流するした後
、室温で静置する。この混合物の上澄（１．７ｍ）を取
り、ｏ′ｃで（１β，３β）−３−ｔ−ブチルジフェニ
ルシリルオキシメチルシクロプチルアミン（２３０１ａ
ｇ．　０．６８１ＩＩＩＩＩ０１）の無水ベンゼン溶液
に加え、そのまま終夜攪拌する。反応液は減圧下溶媒を
溜去し、残渣をノリ力ゲル力ラムクロマトグラフィー（
ヘギサン：酢酸エチル−３：ｌ（ｖ／ｖ）で精製し、Ｎ
一［［（１β，３β）−３−Ｌ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシメチルシク口プチル］アミノ力ルボニル］　−
　３−メ］キシ−２−メチルアクリルアミＦ’（１３２
ｍｇ．　４１％）を得る。

工程４， １−［（１β，３β）−３−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−１−イル］一５−メチル−２，４（ＩＨ．３Ｈ）
一ピリミジンジオン（化合物３２１）の製造 Ｎ−［［（］β，３β’）−３−Ｌ−プチルジフエニル
ソリルオキシメチルシク口ブチル］アミノカルボニル］
一３−メトキシ−２−メチルアクリルアミド（１２６ｍ
ｇ．　０．２６ｆｆｌ＋ｉｏｌ）　をメタノール（　２
　ｒｔｒＲ　）に溶解した溶液に、４Ｎ−塩酸／ジオキ
サン（ｌｍｌ．　　４＋ｎｎｏｌ）を加え室温で終夜攪
拌する。反応液は、滅圧下溶媒を溜去した後、水を加え
エーテル可溶部を除き、減圧下溶媒を溜去する。残渣に
、２Ｎ一硫酸（１．２ｉｆｆｉ）を加え３０分間加熱還
流する。

反応液はセファデノクスＨｆ”２０（水−５０％メタノ
ール水ｌ８液）で精製しｌ−［（ｌβ，３β）−３ヒ１
′ロキノメチルシクロブタン−１−イル］５−メチル−
２．４　（ＩＨ，３Ｈ）−ビリミジンジオン（３３ｍｇ
，　５１％）を得る．ＮＭＩＩ（２００旧ｌｚ　−ＦＴ
，ＣＩｌ３０Ｄ）　　δ　：１．９０（３１ｌ．ｄ，Ｊ
＝１．２１ｌｚ），２．００−２．１８（２１１　＋ｏ
） ２．２６（Ｉｌｌ，ｌｌ）， ２．３２−２．５０（２１１，ｍ） ３．５７（２１１．ｄ，Ｊ＝５．Ｏｌｌｚ），４．７４
（Ｉｌｌ，ｍ）， ７．５１（ｌｌＩ．Ｊ＝１．２１ｌｚ）Ｕν　λｍａｙ
（ＩｌｚＯ）　ｎｍ ｐ１１１，２７３；ｐｌｌ７，２７３；ｐｌｌｌｃ２７
１．実施例２ｌ １−［（１β，３β）−３−ビリミジンメチルシクロブ
タン−１−イル］−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）ピリミジン
ジオン（化合物３−１９）の製造工程ｌ． Ｎ−［［（１β，３β）−３−ｔ−プチルジフェニルシ
リルオキシメチルシクロプチル］アミノ力ルボニルコ−
３−エトキシアクリルアミドの製造 アルゴン雰囲気中、３−エトキシアクリル酸クロリド（
６７３Ｂ，　　５　ｍｏｌ）及びシアン酸銀（１．５０
ｇ，１０ＩＩＩＩＩｌｏ１）の無水ベンゼン（１０ｍｌ
）懸濁液を１時間加熱還流するした後、室温で静置する
。この混合物（Ｄ　上Ｗｉ　（１　．　７　ｔｎｌ　）
　’ｆｒ取り、０゜Ｃで（１β，３β）３−Ｌ−プチル
ジフエニルシリルオキシメチルシク口プチルアミン（実
施例２０工程２参照）　（２１９ｍｇ，　０．６４ｉｎ
ｏｌ）の無水ベンゼン溶液を加え、そのまま終夜攪拌す
る。反応液は減圧下溶媒を溜去し，残渣をシリカゲル力
ラムクロマトグラフィ−（ヘキサン：酢酸エチル＝３　
：　１　（ｖ／ｖ）　）で精製し、Ｎ−　［　［　（ｌ
β．３β）−３−ｔ−プチルジフエニルシリルオキシメ
チルシク口ブチル］アミノカルボニル］−３−エトキシ
アクリルアミド（１９４ｍｇ．　６３％）を得る。

工程２． １−［（１β，３β）−３−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−１−イル］−２．４　　（ＩＨ　　３８）一ピリ
ミジンジオン（化合物３−１９）の製造Ｎ−［［（１β
，３β）−３−ｔ−プチルジフェニルシリルオキシメチ
ルシク口プチル］アミノカルボニル］−３−エトキシア
クリルアミド（ｌ９４ｌｅｇ，　０．４０ｍｉｏ１）を
テトラヒド口フラン（　２　ｍｌ　）に溶解した溶液に
、ＩＮ−テトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラ
ヒド口フラン（０．６ＩＩ１，　　４　ｍＩＩＩＩｏ１
）を加え室温で４時間攪拌する．反応液は、減圧下溶媒
を溜去した後、水を加えエーテル可溶部を除き、減圧下
溶媒を溜去する。残渣に、２Ｎ硫酸（２ｄ）を加え２時
間加熱還流する。反応液はセファデックスＨＰ２０（水
−２０％メタノール水溶ｔＬ）で精製した後、更に分取
用高速液体クロマトグラフィ−（ＯＤＳ，水：アセトニ
トリル−９０：１０（ｖ／ｖ））で精製し１−［（１β
，３β）３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１−イル
］２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（１２ｍ
ｇ．　１４％）を得る． ＮＭＲ（２００旧１ｚ−ＦＴＩＣＤｓＯＤ）　　δ　：
１．９７−２．１７（３１Ｌｍ） ２．２８（ＩＩＩ，ａ１）， ２．３４−２．５２（２Ｌ彌）， ３．５６（２１１．ｄ，Ｊ＝５．ｌＩＩｚ），４．６８
（ＩＩＩ，ｓ）， ５．６８（Ｉｌｌ，ｄ，Ｊ＝８．Ｏｌｌｚ）．７．７２
（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝８．Ｏｌ１ｚ），ｕｖ　　λＴａａ
ｘ（ｌＩｚｏ）　ａｍ　：ｐｌｌｌ，　２７２；ｐｌｌ
？，　２７２；ｐｌｌｌ３，　２７０．実施例２２． （±）−２−アミノー６−クロロー’Ｊ−［（１β，２
α，３β）−２−ヒドロキシー３−ヒドロキシメチルシ
クロブタン−１−イル］プリン（化合物４−３）の製造 工程ｌ． （±）−９　−　［　（　１β，２α，３β）−２−ア
セトキン−３−アセトキシメチルシク口フリンｌ−イル
］一２−アミノー６−クロロプリンの製造 （±）−９−１（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロプタンｌ−イル１−グア
ニン（１００ｍｇ，　０．４ｍｏｌ）の％　７Ｐ，ジメ
チルホルムアミド（１．５ｍｆｆｉ）懸濁液にピリジン
（０．５ａｆ）及び無水酢酸（　１　ｒｕ１　）を加え
、５０゜ＣＴ：１５分間攪拌する。反応液は減圧下溶媒
を溜去し、トルエンで数回共沸した後、４０′Ｃ真空中
で乾燥し、粗（±）−９−［（１β，２α，３β）−２
−アセトキシー３−アセトキシメチルシク口ブクン１−
イル］一グアニン（１３５蔵）を層：；る．ここで得ら
れた粗（±）−９−［（１β，２α，３β）−２−アセ
トキシー３−アセトキシメチルシク口ブタン−１−・イ
ル］　一グアニン（１３５ｎＨ）　　皮びテトラエチル
アンモニウムクロリＦ　（１３３ｍｇ，０．８■ｏｆ）
を無水アセトニトリル（　１　ｍｌ　）に冷Ｎし、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン（５１／ｌ／　ｌ　，　０．４ｍ
ｏ１）及びオキシ塩化リン（　０　．　３　ｄ　，　３
　．　２　ｍ　ｏ　ｌ　）を加え、１００゜Ｃで１０分
間加熱還流する。反応液は、減圧下揮発物質を溜去う、
残渣を塩化メチレンに溶解する。塩化メチレン溶液に直
ちに砕氷を加えしばらく撹拌した後に塩化メチレンで抽
出する．この塩化メチレン抽出液に水及び砕氷を加えし
ばらく攪拌した後にアンモニア水でアルカリ性にし、更
にこの混合物を塩化メチレンで更に抽出する．この抽出
液を０．２Ｍ−リン酸緩衝液で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後溶媒を溜去する．残渣は、シリカゲル
力ラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル）で精製し（±
）−９−［１β．２α，３β）一２−アセトキシー３−
ア七トキシメチルシクロブタン−１−イル］一２−アミ
ノー６クロロプリン＜８９ｍｇ．　６３％）を得る．Ｎ
ＭＲ（２００旧＋２　・ＦＴ，ＣＤＣＩｓ）　　δ　：
２．０２（３１１，ｓ）． ２．０９（３１１，ｓ） ２．２５（Ｉｌｌ，ｓ）， ２．４０−２．６４（２１１，ｍ）， ４．２７（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，ｌ１．６１１ｚ
），４．３７（１１ｌ．ｄｄ，Ｊ＝５．１，１１．６１
１ｚ），４．６６（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　Ｑ，
Ｊ＝８．１Ｉ＋２），５．０６（２１１，ｂｒｓ）， ５．５０（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｔ，Ｊ＝７．
ｌＩＩｚ），７．８３（ＩＩＩ，ｓ）． 工程２， （±）−２−アミノー６−クロロ−９−［［１β．２α
，３β）−２−ヒドロキシー３−ヒドロキシメチルシク
ロブタン−１−・イルコブリン（化合物４〜３）の製造 （±）−９−［　（１β．２α，３β）−２−アセトキ
シー３−アセトキシメチルシク口ブタン１−イル］−２
−アミノー６−クロロプリン（２２ｍｇ，　６２μ−ｏ
１）をメタノール（１戚）に溶解し炭酸カリウム（２０
ｍｇ，　１４０μ＋ｗｏｌ）を加え０℃で３０分間攪拌
する．反応液を０．１Ｎ一塩酸で中和した後、セファデ
ックスＨＰ２０（水−５０％メタノール水溶液）で精製
し（±）−２−アミノー６−クロロ−９＝［（１β，２
α，３β）−２−ヒドロキシー３ヒドロキンメチルシク
ロブタン−１−イル］ブリン（１４ｍｇ，　８５％）を
得る。

Ｎ旧１（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＩ）ｚＯＤ）　　δ　
：２．０１（ｉｌｌ，ｍ）， ２．１８（Ｉｌｌ，ｍ）， ２．３８（Ｉｌｌ　ｍ）， ３．７０−３．８０（２！Ｉ，ｎ１），４．４５−４．
５７（２Ｈ．＋ｓ）， ８．１５（１！ｌ，ｓ）． υＶ　λ　−ａｘ（ｌＩｚｏ）　ｎｍ　：ｐｌｌｌ　，
　２４４　（ｓｈ）　．　３１３　；ｐｌｌ７，　２４
５．　３０４　；ｐｌｌ１３，　２４７　（ｓｈ）　，
　３０７．実施例２３． （±）−２．６−ジアミノ−’ｌ−［（ｌβ，２α，３
β）−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−１〜イル１プリン（化合物４４）の製造 （±）−！１１−［（１β，２α，３β）−２−アセト
キシー３−アセトキシメチルシク口ブクン１−イル］一
２−アミノ゜−６−クロロプリン（１３Ｂ．３７μｍｏ
ｌ）をエタノール（　Ｉ　ｍａｌ　）に溶解し−７８゜
Ｃに冷却する。この溶液に液体アンモニアを飽和し、封
管中１１０゜Ｃで２４時間加熱する。反応液は凍圧下揮
発性物質を溜去した後、水に溶解し、０．１Ｎ一塩酸で
中和した後、セファデックスＨＰ２０（水−５０％メタ
ノール水溶液）で精製し（±）２，６−ジアミノ−９−
［（Ｉβ，２α，３β）−２−ヒドロキシ−３−ヒドロ
キシメチルシクロブタン−　１−・イル］プリン（９ｍ
ｇ，９８％）を得る。

Ｎｉｌ（４００旧１ｚ−１”Ｔ，Ｃ［ｌ３０１３）　　
δ　；１．８９（ＩＩ１，馬）， ２．１８（ＩＩ＋，鋼）， ２．３９（ＩＩＩ，ａ１）， ３．７０−３．８０（２１１，ｍ） ４．３７−４．５０（２１１，ｍ） ７．８６（１１１．ｓ）． ｔＩｖ　　λ　Ｌｌａｘ（ｌｌｚＱ）　　ｎｍ　：ｐｌ
ｌｌ，　２５４，　２９１　；ｐｌｌ７，　２５５．　
２８０；ρ１１１３，２５６．２ｆｌｌ実施例２４． （±）−２−アミノー９−［（１β．２α，３β）−２
−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン−１
−イル］プリン（化合４−１）の製造 工程ｌ． （±）−９−［（ｌβ，２α６　３β）−２−アセトキ
シー３−アセトキシメチルシク口ブタン−１−−イル］
−２−アミノプリンの製造（±）−９−［（ｌβ，２α
，３β）−２−アセトキシー３−アセトキシメチルシク
口ブタン１−イル］−２−アミノー６−クロロプリン（
４５ｍｇ，　０．１３ｍｏｌ）をエタノール（５ｄ）に
溶解し、ｌＯ％パラジウム炭素（７．５ｓ＋ｇ）を加え
、水素雰囲気下、室温で一晩攪拌する．反応液は触媒を
濾去した後、減圧下溶媒を溜去し、残渣を高速液体クロ
マトグラフィ−（ＯＤＳ，水：アセトニトリル＝８０：
２０（ｖ／ｖ））で精製し（±）−９−　［　（１β，
２α，３β）−２−アセトキシ〜３−アセトキシメチル
シク口ブタン−１−イル］−２−アミノプリン（１２．
７ｍｇ，　３１％）を得る。

工程２． （±）−２−アミノー９−［（ｌβ．２α．３β）−２
−ヒドロキジ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン・−
１−イル］プリン（化合物４−１）の製造 （±）−９−［（１β，２α，３β）−２−アセトキシ
ー３−アセトキシメチルシクロプタンｌ−イル］　−２
−アミノプリン（１２ｍｇ，　３８μｌＯ！）をメタノ
ール（　１　ｎｒｌ　）に溶解し炭酸カリウム（１２ｍ
ｇ＋　８７μｍｏｌ）を加え０゜Ｃで３０分間攪拌する
。反応液をＯ．ＩＮ＝塩酸で中和した後、セファデック
スＨＰ２０（水−５０％メタノール水溶液）で？／＃製
し（±）−２−アミノー９−　［　（１β，２α，３β
）２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルシクロブタン
−　１−イル１プリン（８．６ｍｇ，　９７％）を得る
。

ＮＭＩＩ（２００旧ｌｚ−ＦＴ，Ｄｉｄ）　　δ　：１
．７８（ｉｌｌ，ｍ）， ２．２３（ｉｌｌ，ｍ）， ２．４１（ｌｆｔ，ｍ）， ３．６０−３．８０（２１１，ｓ１），４．２９（ｉｌ
ｌ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｔ，Ｊ＝７．７１Ｉｚ）４．
４９（ＩＩＩ，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ，Ｊ＝８．５１
１ｚ）．８．ＯＢ（１１１．ｓ） ８．４２（ｌＩｌ，ｓ）， ＵＶ　　λ　Ｉｌａｘ（ｌｌｇＯ）　　ｒ＋＋ｗ　　：
ｐｌｌｌ．２４９（ｓｈ），３１３；ｐｌｌ７，２４２
，３０４：ｐｌｌ１３，２４５（ｓｈ），３０３． 実施例２５． （±）−９−［（ｌβ，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロブタン１−イル］ヒポキ
サンチン（化合物４−２）の製造 （±）−９−［（１β，２α，３β）−２−ヒドロキシ
−３−ヒドロキシメチルシクロプタンｌ−イノレ］アデ
ニン（　９　ｍｇ．　３８　ｕ　ｍｏｌ）及びアデノシ
ンデアミネース（３０ｍｇ，　２？ｕｎｉｔ）をＯ．ｌ
Ｍ−リン酸緩衝液（ｐｏ６．８）　（　９　ｙｄ　）に
溶解し３０゜Ｃで５日間攪拌する．反応液は、セファデ
ソクスＨＰ２０（水５０％メタノール水溶液）で精製し
（±）−９＝［（ｌβ，２α，３β）−２−ヒドロキシ
＝−３ヒドロキシメチルシクロブタンーｌ−イル１ヒボ
キサンチン（９ｍｇ，　１００％）を得る。

ＮＭＲ（２０θ旧１ｚ　・ＦＴ，ＤＤｚＯＤ）　　δ　
：２．０１（ＩＩＩ，ｍ）， ２．２２（ＩＩＩ　ｍ） ２．４５（ＩＩＩ，ｍ）　＋ ３．７３−３．８３（２１１，＋ｎ），４．４７（ＩＩ
Ｉ，ａｐｐａｒｅｎＬ　ｔ，Ｊ，＝７，ｌｌｌｚ），４
．６７（Ｉｌｌ，ａｐｐａｒｅｎＬＱ，Ｊ＝８．５１１
１２），８．０５（ｉｌｌ，ｓ）， ８．１８（ｉｌｌ，ｓ）， Ｕν　λ　Ｉｌａｘ（１１２０）　　＋１＋１：ｐｌｌ
１，２５０；ｐｌｌ７，２４９：ｐｌｌ１３，２５４．
実施例２６． １［（ｌβ，３β）−３−ヒドロキシメチルシクロブタ
ン＝１−イル］一５−メチル−２．４（ＩＨ，３１１）
一ビリミジンジオン（化合物３２１）の製造 アルゴン雰囲気中、（ｌα，３β）−３−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシメチル−１−メタンスルホニルオ
キシシク口ブタン（１２６ＩＩｌｇ．　０．３　ｔｎ０
１）をジメチルホルムアミトギ（　３　ｍｌｌ　）に溶
解し、ビストリメチルシリル−５−メチルウラシル（３
２５ｍｇ，　１．２ｍｎｏ１）を加え、１２０゜Ｃで−
晩撹拌する。反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝？＆（ｐｌ
＋７．０）を加え、酢酸エチルで抽出する。抽出液は無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去し、
残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフイ−（塩化メチ
レン：メタノール−５０：　ｌ　（ｖ／ｖ））で精製し
、粗ｌ−［（１β、３β）−３−ｔ−プチルジフエニル
シリルオキシメチルシクロブタンーｌ−イル１５−メチ
ル−２．４　（ＩＨ，３Ｈ）一ピリミジンジオン（４０
ｍｇ）を得る． これを、メタノーノレ（１ｄ）に？容解した？容液に、
４Ｎ−塩酸／ジオキサン（　０　．　２　ａｌｌ　，　
０　．　８　１ＩＩｌｏ　ｌ　）を加え、室温で終夜攪
拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、エーテル
可溶部を除き、分取用逆相高速液体クロマトグラフイ−
（ＯＤＳ，５％−アセトニトリル水溶液）及びセファデ
ツクスＬＨ−２０カラムクロマトグラフイー（メタノー
ル）で分離精製しＩ−［（１β５　３β）−３−ヒドロ
キシメチルシクロブタンーｌ−イル］一＝５−メチル−
２．　　４　（ｌ　Ｈ，　　３　Ｈ）　−　ピリミジン
ジオン（化合物３−２１）を得る． 実施例２−１． ９−［（１β，３β）〜３−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−１−イル］一アデニン（化合物２−１）の製造 工程】． ９　−　［　（　１β．３β）−３−ｔ−プチルジフエ
ニルシリルオキシメチルシクロブタン−１−イル１一ア
デニンの製造 アルゴン雰囲気中、アデニン（　８　１　ｍ　ｇ　，　
０　．　Ｇ　＋ｎａ＋　ｏ　Ｉ　）のジメチルホルムア
ミド（　２　ｍｌ　）懸澗液に５０％水素化ナ１リウム
（２８．８＋ｎｇ＋　０．６ｍａｏｌ）　を加え室温で
１時間攪拌する。この溶液に（１α，３β）−３【−プ
チルジフエニルシリルオキシメチルー１メタンスルホニ
ルオキシンクロブタン（２０９ａ＋ｇ，０　．　５　０
１ｍ　ｏ　ｌ　）　　をジメチノレホノレムアミド（　
３　ｍｌ　）に？容解した７８液を加え、１２０゜Ｃで
５時間攪拌する。反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐ
ｌ＋７．０）を加え、酢酸エチルで抽出する。抽出液は
無水硫酸ナトリウムで乾＋Ｈ　Ｌだ後、減圧下溶媒を溜
去し、残清をシリゲル力ラムクロマトグラフィー（塩化
メチレンメタノール−４０：　１　　（ｖ／ｖ））で精
製し，９［（Ｉβ，３β）−３−ブチルジフエニルンリ
ルオキソメチルソクロブタン−　１−イル］　（１０２
ｍｇ，４５％）を得る。

Ｎ）１１７（４００旧ｌｚ　　・　ＦＴ　　ＣＤＣＩ３
）　　　δ　：１　．　１０　（９１１　，　ｓ） ２．３５−２．５５（３１１，ｍ）　，２．５５−２．
６６（２１１．ｍ）， ３．７３（２１１　ｄ，Ｊ＝４，Ｏｌｌｚ）４．９４（
ｉｌｌ，ｍ＞ ５．７０（２１１，ｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ
　ｗｉｔｈ　０２０）７．３１−７．５１（６１Ｌ＋ａ
） ７．６４−７．７３（４１１，ｍ） ７．９２（ｉｌｌ，ｓ）， ８．３４（ＩＩＩ，ｓＬ 工程２． ９−［（Ｉβ，３β）−３−ヒドロキンメチルンクロブ
タン−１−・イル］一アデニン（化合物２−１）の製造 ９−［　（　Ｉβ，３β）−３−Ｌ−プチルジフェニノ
レシリノレオキンメチノレンクロフ゛タン−１−−イノ
レ１アデニン（９４ｍｇ．　０．２１ｍｎ＋ｏｌ）を、
メタノール（　２　ｍｌ　）に溶解した溶液に、４Ｎ−
塩酸／シオキサン（　０　．　３　ｒｎｌ　，　１　．
　２　＋ｉｍ　ｏ　Ｉ　）を加え、室温で終夜ｌｆｉ　
外する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、水を加え
エーテル可溶部を除いた後、Ｏ．ＩＮ水酸化ナトリウム
溶液で中和し溶媒を溜去する．　ｉｎ生成物はセファデ
，クスＬＨ−２０カラムクロマトグラフィ−（メタノー
ル：水−１　：　ｌ　（ｖ／ｖ）　）で分離Ｉ＃製し９
−［　（　１β．３β）−３−ヒドロキンメチルシクロ
ブタンーｌ−イル］一アデニン（化合物１）（４８閣ｇ
．定量的）を得る。

ＮＭＲ（４００旧１２−ＦＴ　　ＣＤｚＯＤ）　　δ　
：２．３７−２．５２（３１１，輻》， ２．５７−２．７３（２１１，ｍ）， ３．６５（２１１，ｄ，Ｊ−４．４１ｌｚ），４．９４
（ＩＨ，ｍ）． ８．２３（ｉｌｌ，ｓ）， ８．３２（ＩＩＩ，ｓ）， ｕｖ　λ　−ａｘ（ｌｌｇｏ）　　ｎｍ　：ρ旧，　２
５８；ｐｌｌ７．　２６１：ρ旧３．２６１．ＩＩＲＭ
Ａ（ＦＡＢ）Ｃａｌｃｄ　　ｆｏｒ　　［Ｃｔａｌｌ．
ｓＮｓＯ＋ｌｌ］　　”；２２０．１１９８．　　Ｆｏ
ｕｎｄ　　；　　２２０．１１９６．実施例２−２． ９−［（ｌβ，３β）一３−ヒドロキシメチルシクロブ
タンーｌ−イル〕−グアニン（化合物２−２）の製造 工程１． ２−アミノー９−［（１β２　３β）−３−ｔ−プチル
ジフェニルシリルオキシメチルシクロプタンーｌ−イル
］−６−（２−メトキシ）エトキシプリンの製造 アルゴン雰囲気中、２−アミノー６〜　（２−メトキシ
）エトキシフ゜リン（１６８ｍｇ，　０．８１ｍｏｌ）
　のジメチルホルムアミド（３ａＭ）懸濁液に水素化リ
チウム（６．４ｍｇ，　０．８ｍｏｌ）を加え室温で１
時間撹拌する。この溶液に（ｌα，３β）−３−ｔ−プ
チルジフエニルソリルオキシメチル−１一メタンスホニ
ルオキシシク口ブタン（２８０ｍｇ，　０．６７＋ｍｏ
ｌ）をジメチルホルムアミド（３戚）に溶解した溶液を
加え、１２０゜Ｃで３時間、１４０゜Ｃで４時間攪拌す
る。

反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐｌ１７．０）を加
え、酢酸エチルで抽出する。抽出液は無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜去し、残渣をシリカゲ
ル力ラムクロマトグラフィ−（塩化メチレン二メタノー
ル−２０：　ｌ　（ｖ／ｖ））で精製し、２−アミノー
９−［（１β，３β）　−３　−　Ｌ−プチルジフエニ
ルシリルオキシメチルシクロプタン１−１　−６−　（
２−メトキシ）エトキシプリン（６５ａ＋ｇ．　Ｉｌｌ
％）を得る． ＮＩＩＲ　（４００旧１ｚ−ＦＴ，ＣＤＣｌ３）　　δ
　；１．０９（９１１，ｓ）， ２．３０−２．４８（３１１，ａ）， ２．４８−２．６０（２１１，ｍ）， ３．４３（３１１，ｓ）， ３．７１（２１Ｌｄ，Ｊ＝３．７１１ｚ），３．８１（
２１１，ｄｄ，ＩＩ＝４．８＋１ｚ，Ｊ＝５．ｌＩＩｚ
），４．６４（２１１，ｄｄ，ｌＩ＝４．１ｌＩＩｚ，
Ｊ＝５．１１ｌｚ），４。６Ｂ−４．８４（３＋１，輸
）． ７．３０−７．５０（６１１．ｍ）， ７．５８〜７．７０（４１１，ｓ）， ７．７２（Ｉｌｌ　　ｓ）． 工程２． １−［（ｌβ．３β）−３−ヒドロキシメチルシクロブ
タン−１−イル〕−グアニン（化合物２一２）の製造 ２−アミノ−９−［（１β．３β）−３−ｔ−プチルジ
フエニルシリルオキシメチルシクロブタン−１−イル］
−６−（２−メトキシ）エトキシプリン（６３屠ｇ＋　
０．１２騙０１）に、２Ｎ一塩酸水溶液加え、１時間加
熱還流する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した後、水を
加えエーテル可溶部を除いた後、０．ＩＮ水酸化ナトリ
ウム溶液で中和し溶媒を溜去する。残渣は水から再結晶
を繰り返し９［（１β，３β）−３−ヒドロキシメチル
シクロブタンーｌ−イル］−グアニン（化合物２）（７
ｔａｇ，　２５％）を得る。

ＮＭＲ（４００旧ｌｚ　・ｌ’Ｔ，ＤＭＳＯ−ｄｉ）　
　δ　：２．１４−２．３０（３１１，ａ）， ２．３５−２．５０（２１１．ｍ）， ３．４６（２１１，ｔ，Ｊ＝４．８１Ｉｚ，ｃｈａｎｇ
ｅｄ　　ｔｏ　　ｄ（Ｊ＝４．旧Ｉｚ）ａｆｔｅｒ　ａ
ｄｄｉｔｉｏｎ　ｏｆ　ＤｚＯ），４．５５（２１１，
ｍ，ｃｈａｎｇｅｄ　Ｌｏ　Ｉｌｌ，ＩＩＩａｆｔｅｒ
　ａｄｄｉｔｉｏｎ　ｏｆＤｚＯ）， ６．４１（２１１，ｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ
　　Ｗｉｔｈ　　ロｚＯ）７．８６（ｌｌＩ，ｓ）， １０．５６（ＩＩＩ，ｂｒｓ，ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌ
ｅ　ｗｉｔｈ　０２０）．ｕｖ　　λｍａｘ（ｌｌｚＯ
）　ｎｍ　：ｐｌｌｌ　，　２５３，　２７７　＜ｓｈ
）　：　ｐｌｌ７，　２５２，　２７２　（ｓｈ）　；
　ｐｌｌ１３，　２５７　（ｓｈ）　，２６８． ＩＩＲＭＳ（ＦＡＢ）Ｃａｌｃｄ　　　ｆｏｒ　　［Ｃ
＋ｏｌｌ＋Ｊｓ０２＋ｌｌ　コ　゛；２３Ｇ．１１４７
．　　Ｆｏｕｎｄ；２３６．１１３０．［参考例コ （１α．３β，−３−ｔ−プチルジフェニルシリルオキ
シメチルーｌ−メタンスルホニルオキシシク口ブタンの
製造 工程１， （ｌα，３β）−３−ヒト加キシメチルシクロブタノー
ルの製造 （±）−　（Ｉα．２β，４α）−２−ｔ−プチルジフ
エニルシリルオキシメチル−５−オキサビシク口［２．
１．（Ｎペンタン（３．ＯＯｇ　，　１．１１ｍｏｆ）
をテトラヒド口フラン（ｌｏｄ）に｝容解し，ｌＭ−テ
トラブチルアンモニウムフルオライド／テｉ・ラヒドロ
フラン（　８　．　６　ｍｌ　，　８　．　６　ｎｌｌ
Ｉｌｏ　ｌ　）を加え，室温で３．５時間攪拌する。反
応液を濃縮した後、水を加えて溶解しヘキサンで洗浄す
る。水層は、エーテルで１口間連続抽出する。エーテル
抽出液は無水硫酸ナトＩＪウムで乾燥した後、減圧下溶
媒を溜去する。残渣をテトラヒド口フラン（２４ｄ）に
溶解し、７０％−ナトリウム　水素化ビス（２−メトキ
シエトキシ）アルミニウム（４．１３　ｇ　，　１４．
３ｍｍｏ１）　をテトラヒド口フラン８ｄに？容解した
？８　ｔ夜を水冷下滴下した後、室温で７時間撹拌する
。反応・液にイソプロビルアルコールを加え、しばらク
１見拌した後、不溶物を濾去する。ｄ液は減圧下溶媒を
溜去し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（
塩化メチレン：メタノール−２０：１（ｖ／■））で分
離精製し、（１α，３β）−３−ヒトロキシメチルンク
ロプタノール（０．６６ｇ　，　９０％）を得る， 工程２． （１α，３β）−３−｝リチルオキンメチルシクロブク
ノールの製造 （ｌα，３β）−３−ヒドロキシメチルシクロブタノー
ル（６６０ｍｇ，　６．５ｓｏｌ）をピリジン（５ｍｌ
　）に熔解し、水冷下、トリチルクロライド（２．１６
　ｇ　，　７．７５ｓｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌す
る．反応液を濃縮してビリジンを除去し、残渣をシリカ
ゲル力ラムクロマトグラフイー（塩化メチレン）で分湘
精製し、粗（ｌα、３β）−３−トリチルオキシメチル
シクロブタノール（８９８ｍｇ，　４０％）を得る． 工程３， （１αｌ　３β）−３−Ｌ−プチルジフエニルシノルオ
キシメチル−１−メタンスルホニルオキシシク口ブタン
の製造 上記、粗（ｌα５　３β）　　−３−トリチルオキシメ
チルシクロブタノール（８９０ｍｇ．　２．６ｍｎｏ１
）を塩化メチレン（１０ｍｆｆｉ）に溶解し、水冷下、
トリエチルアミン（１．０８＃ｌＩｉ，　７．７６＋謹
Ｏｌ）、及びメタンスホニルクロライド（４４５ｍｇ，
　３．８８ｍａｉｏｌ）　　を加え、３０分間撹拌する
。反応液に０．２Ｍ−リン酸緩（ｌｉ　′ｅ．（　ｐｌ
ｌ７．０）を加え、エーテルで抽出する．エーテル抽出
液は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を
溜去する。残渣は、メタノール（１０ｄ）に溶解し、Ａ
ｍｂｅｒｌｙｓｔｌ５　（５２９ｍｇ，　２．６ｉａｍ
ｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌する。反応液は、不溶物
はｉｌｌ過した後、減圧下溶媒を溜去する。残清はジメ
チルホルムアミド（　８　ｍｌ　）に溶解し、水冷下、
トリエチルアミン（１．０Ｏ＋ｄ！，　？．７ｔｉｇｕ
＊ｏｌ）　、及びＬ−プチルジフエニルク口ロシラン（
１．０７　ｇ　，　３．８１１ｍｏｌ）を加え、一晩撹
拌する．反応液に水を加え、エーテル抽出する．抽出液
は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を溜
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ！グラフィ−（へ
；トサン：エーテル−３：ｌ（ｖ／ｖ））で分離精製し
、（１α，３β）　３−Ｌ　プチルジフェニルシリルオ
キシメチル　ｌ　メタンスルホニルオキシシク口ブタン
（７２０Ｂ，　６（ｉ％）を得る． ＮＭＲ（４００旧ｌｘ−ＦＴ，（：ＤＣＩｓ）　　δ　
：１．０８（９１１，ｓ）， ２．３４−２．４１１（４１１，翔）．２．５３（ｌＩ
Ｉ．ｍｌ， ２．９（ｉ（３１１．　ｓ）　， ３．６５（２１１，ｄ　Ｊ−４．ＯＩＩｚ），５．１６
（ＩＩＩ。ｍ） ７．３７−７．４９（６１１，ｓ），

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中Ａは、水素原子、水酸基、アジド基、またはアミ
   ノ基を示し、Ｂ、プリン残基又はピリミジン残基を示す
   ］で表わされるシクロブタン誘導体。
2. （２）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中Ｒは水素原子または保護基を示す］で表されるシ
   クロブタン誘導体。