JPH02281764A - クライオスタット - Google Patents
クライオスタットInfo
- Publication number
- JPH02281764A JPH02281764A JP1101605A JP10160589A JPH02281764A JP H02281764 A JPH02281764 A JP H02281764A JP 1101605 A JP1101605 A JP 1101605A JP 10160589 A JP10160589 A JP 10160589A JP H02281764 A JPH02281764 A JP H02281764A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- activated carbon
- container
- cryostat
- vacuum
- carbon block
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、極低温物体を収納するクライオスタットに関
する。
する。
(従来の技術)
液体窒素や液体ヘリウムや超電導コイルのような極低温
物体を収納するクライオスタットには、多段熱シールド
および多層断熱材を施した断熱真空容器が用いられてい
る。これらのクライオスタットは、断熱空間を高真空に
保ち、対流および残留気体による熱伝導を防ぐとともに
多層断熱材によって輻射の影響を軽減している。一般に
クライオスタットは、封じ切り状態で使用することが多
いにの為長期間使月することにより、断熱空間内に配置
されている構成材の放出ガスによって。
物体を収納するクライオスタットには、多段熱シールド
および多層断熱材を施した断熱真空容器が用いられてい
る。これらのクライオスタットは、断熱空間を高真空に
保ち、対流および残留気体による熱伝導を防ぐとともに
多層断熱材によって輻射の影響を軽減している。一般に
クライオスタットは、封じ切り状態で使用することが多
いにの為長期間使月することにより、断熱空間内に配置
されている構成材の放出ガスによって。
真空度は劣化しクライオスタットの断熱性能が低下する
。これを防止するために、従来のクライオスタットでは
、放出ガスを吸着するためのガス吸着剤としてチャコー
ルなどの活性炭が用いられている。
。これを防止するために、従来のクライオスタットでは
、放出ガスを吸着するためのガス吸着剤としてチャコー
ルなどの活性炭が用いられている。
(発明が解決しようとする課題)
以上のように従来のクライオスタットでは、放出ガス吸
着用活性炭が、低温容器側に取り付けであるが、活性炭
には吸着能力が定まっており、それ以上の放出ガスに対
しては、活性炭が効果をなさず真空度は劣化するばかり
である。この場合。
着用活性炭が、低温容器側に取り付けであるが、活性炭
には吸着能力が定まっており、それ以上の放出ガスに対
しては、活性炭が効果をなさず真空度は劣化するばかり
である。この場合。
再排気もしくは、活性炭の再生あるいは交換という作業
が必要となる。再排気を行う場合、タライオスタット内
部の温度が十分高くないと意味をなさず加温してやる必
要がある。又、活性炭の再生、交換という作業も従来、
クライオスタット内部を開放しないかぎり取りはずして
行うことはできなかった。取りはずさずに行う場合は、
再生はクライオスタット真空層に加温ガスを流してクラ
イオスタット内部及び活性炭の温度を高くしてから真空
排気をしなければならず、特に大きなりライオスタット
については、その作業にかなりの時間を要した2例えば
、MHI(核磁気共鳴イメージング装置)や、デユワ−
のような長期間低温状態で使用するようなりライオスタ
ットについては、加温、再排気、再冷却に、多大の時間
および作業を要すなどの不都合があった。
が必要となる。再排気を行う場合、タライオスタット内
部の温度が十分高くないと意味をなさず加温してやる必
要がある。又、活性炭の再生、交換という作業も従来、
クライオスタット内部を開放しないかぎり取りはずして
行うことはできなかった。取りはずさずに行う場合は、
再生はクライオスタット真空層に加温ガスを流してクラ
イオスタット内部及び活性炭の温度を高くしてから真空
排気をしなければならず、特に大きなりライオスタット
については、その作業にかなりの時間を要した2例えば
、MHI(核磁気共鳴イメージング装置)や、デユワ−
のような長期間低温状態で使用するようなりライオスタ
ットについては、加温、再排気、再冷却に、多大の時間
および作業を要すなどの不都合があった。
そこで本発明の目的は、クライオスタンド全体を加温す
ることなく、ガス吸着剤の再生又は交換を行うことによ
り、常に高真空を保つ断熱性能のすぐれたクライオスタ
ットを提供することにある。
ることなく、ガス吸着剤の再生又は交換を行うことによ
り、常に高真空を保つ断熱性能のすぐれたクライオスタ
ットを提供することにある。
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するための本発明のクライオスタットは
真空容器内に真空層を介在して収容された低温容器の表
面に着脱可能に取付けられたガス吸着剤と、このガス吸
着剤の外方にあけられた真空容器の開口部に設けられた
開開部材と、この開口部の外方に着脱可能に取付けられ
前記ガス吸着剤を操作する部材と加熱器と排気口を具え
た容器とを具えた構成とする。
真空容器内に真空層を介在して収容された低温容器の表
面に着脱可能に取付けられたガス吸着剤と、このガス吸
着剤の外方にあけられた真空容器の開口部に設けられた
開開部材と、この開口部の外方に着脱可能に取付けられ
前記ガス吸着剤を操作する部材と加熱器と排気口を具え
た容器とを具えた構成とする。
(作 用)
本発明のクライオスタットは上記のように構成されてい
るので、クライオスタット全体を加温することなく、ガ
ス吸着剤の再生もしくは交換を行うことにより、常に高
真空を保つことができる。
るので、クライオスタット全体を加温することなく、ガ
ス吸着剤の再生もしくは交換を行うことにより、常に高
真空を保つことができる。
(実施例)
以下、本発明の一実施例について第1図を用いて説明す
る。
る。
例えば液体ヘリウムのような極低温流体1を収納する低
温容器2は外部からの侵入熱を防ぐため断熱空間3を介
して温度レベルの異なる熱シールド4、熱シールド5に
おおわれている。各シールド4,5の表面には、輻射を
低減するための多層断熱材6が備えられている。熱シー
ルド5の外側には、断熱空間3を介して真空容器7が配
置されている。低温容器2の外表面には、活性炭ブロッ
ク8の取付台9が熱接触を考慮して図示されていないイ
ンジウムなどをはさんでボルトlOにより取付けである
。活性炭ブロック8の一端面には、ガス吸着剤であるチ
ャコールなどの活性炭11が多数、熱接触が良好なよう
に半田などで取付けられている。又、活性炭ブロック8
には、メネジ12が設けである。活性炭ブロック8と取
付台9の接触面には、各々インジウム13がコーティン
グされている。
温容器2は外部からの侵入熱を防ぐため断熱空間3を介
して温度レベルの異なる熱シールド4、熱シールド5に
おおわれている。各シールド4,5の表面には、輻射を
低減するための多層断熱材6が備えられている。熱シー
ルド5の外側には、断熱空間3を介して真空容器7が配
置されている。低温容器2の外表面には、活性炭ブロッ
ク8の取付台9が熱接触を考慮して図示されていないイ
ンジウムなどをはさんでボルトlOにより取付けである
。活性炭ブロック8の一端面には、ガス吸着剤であるチ
ャコールなどの活性炭11が多数、熱接触が良好なよう
に半田などで取付けられている。又、活性炭ブロック8
には、メネジ12が設けである。活性炭ブロック8と取
付台9の接触面には、各々インジウム13がコーティン
グされている。
一方、活性炭ブロック8の取付箇所の対向面に位置する
真空容器7の壁面には、ゲートバルブ14を備えたフラ
ンジ付ボート15が設けである。
真空容器7の壁面には、ゲートバルブ14を備えたフラ
ンジ付ボート15が設けである。
次にこのように構成した本発明のクライオスタットの作
用を第2図(a)、 (b)を用いて説明する。
用を第2図(a)、 (b)を用いて説明する。
クライオスタットの真空度が劣化して断熱性能が低下す
ると、活性炭ブロック8にうめこまれた活性炭11の再
生を行う。第2図(a)においてまずケートバルブのつ
いたフランジ付ボート15にヒーター16、排気ポート
17、駆動シャフト18のついた容器20を取付ける。
ると、活性炭ブロック8にうめこまれた活性炭11の再
生を行う。第2図(a)においてまずケートバルブのつ
いたフランジ付ボート15にヒーター16、排気ポート
17、駆動シャフト18のついた容器20を取付ける。
駆動シャフト18は先端部にメネジ12に対応したオネ
ジがきってあり、又容器20の上部に備えたウィルソン
シール19を介して気密性を保ったまま上下駆動および
回転することができる。容器20をフランジ付ボートI
5に取付けた後、図示していない排気装置にてバルブ2
1を介して排気ポート17から容器20内を高真空に排
気する。排気が完了するとゲートバルブ14を開にして
真空層を共通にする。次に駆動シャフト18をクライオ
スタット内に挿入し、活性炭ブロック8のメネジ12部
にネジ込み固定する。この場合、駆動シャフト18の振
れ止めとしてガイド22が設けであるその後、第2図(
b)に示すように容器20内に活性炭ブロック8が収納
されるまで駆動シャフト18を引きだしてゲートバルブ
14を閉める。この後、排気ポート17から大気を導入
し、大気圧状態でヒーター16をON状態にして容器2
0内を加熱する。この操作によって活性炭ブロック8を
加熱して活性炭11が吸着した放出ガスを再度放出させ
る。次に排気ポート17から再排気して加熱した活性炭
11より、放出されたガスを排気する。これにより活性
炭11の再生作業を終了する。
ジがきってあり、又容器20の上部に備えたウィルソン
シール19を介して気密性を保ったまま上下駆動および
回転することができる。容器20をフランジ付ボートI
5に取付けた後、図示していない排気装置にてバルブ2
1を介して排気ポート17から容器20内を高真空に排
気する。排気が完了するとゲートバルブ14を開にして
真空層を共通にする。次に駆動シャフト18をクライオ
スタット内に挿入し、活性炭ブロック8のメネジ12部
にネジ込み固定する。この場合、駆動シャフト18の振
れ止めとしてガイド22が設けであるその後、第2図(
b)に示すように容器20内に活性炭ブロック8が収納
されるまで駆動シャフト18を引きだしてゲートバルブ
14を閉める。この後、排気ポート17から大気を導入
し、大気圧状態でヒーター16をON状態にして容器2
0内を加熱する。この操作によって活性炭ブロック8を
加熱して活性炭11が吸着した放出ガスを再度放出させ
る。次に排気ポート17から再排気して加熱した活性炭
11より、放出されたガスを排気する。これにより活性
炭11の再生作業を終了する。
次に乾燥した不活性ガスを容器20に流して活性炭ブロ
ック8の冷却をした後、再び容器20内を高真空に排気
する。排気完了後、ゲートバルブ14を開放して駆動シ
ャフト18を挿入していく、活性炭ブロック8が取付台
9に接触した後、加圧して所定の位置になるまでその状
態を保つ。これは活性炭ブロック8が取付台9から伝導
によって冷却され熱収縮しても取付台9と隙間なく接触
するようにするためである。この場合、活性炭ブロック
8および取付台9はともにテーパー構造を有しているた
め、熱収縮しても駆動シャフト18にて加圧することで
両テーパー面をスライドしてより良好な熱接触を得るこ
とができる。所定の位置に達した後、第2図(a)の状
態になるので、駆動シャフト18を回転して活性炭ブロ
ック8のメネジ部12から取りはずす。この場合再接触
面には、インジウム13がコーティングしであるため、
その粘着性によって活性炭ブロック8が駆動シャフト1
8の回転にともなって回転することはなく、容易に取り
はずすことができる。この後ゲートバルブ14を閉じる
ことによってクライオスタットの断熱空間3を大気にす
ることなく、短時間で、低温容器2を低温状態のまま活
性炭8の再生を行うことができる。
ック8の冷却をした後、再び容器20内を高真空に排気
する。排気完了後、ゲートバルブ14を開放して駆動シ
ャフト18を挿入していく、活性炭ブロック8が取付台
9に接触した後、加圧して所定の位置になるまでその状
態を保つ。これは活性炭ブロック8が取付台9から伝導
によって冷却され熱収縮しても取付台9と隙間なく接触
するようにするためである。この場合、活性炭ブロック
8および取付台9はともにテーパー構造を有しているた
め、熱収縮しても駆動シャフト18にて加圧することで
両テーパー面をスライドしてより良好な熱接触を得るこ
とができる。所定の位置に達した後、第2図(a)の状
態になるので、駆動シャフト18を回転して活性炭ブロ
ック8のメネジ部12から取りはずす。この場合再接触
面には、インジウム13がコーティングしであるため、
その粘着性によって活性炭ブロック8が駆動シャフト1
8の回転にともなって回転することはなく、容易に取り
はずすことができる。この後ゲートバルブ14を閉じる
ことによってクライオスタットの断熱空間3を大気にす
ることなく、短時間で、低温容器2を低温状態のまま活
性炭8の再生を行うことができる。
説明は省略したが、活性炭ブロック8の出し入れに際し
て、その移動線上の熱シールド4,5には穴が設けてあ
りじゃまにならないようにしである。又多層断熱材6は
、その穴をおおっているが放射状にスリットをいれて同
様に活性炭ブロック8の出し入れのじゃまにならないよ
う工夫しであることは言うまでもない。
て、その移動線上の熱シールド4,5には穴が設けてあ
りじゃまにならないようにしである。又多層断熱材6は
、その穴をおおっているが放射状にスリットをいれて同
様に活性炭ブロック8の出し入れのじゃまにならないよ
う工夫しであることは言うまでもない。
本実施例では、活性炭の再生を中心に説明したが上記の
再生を行なわず、新しい活性炭のついた活性炭ブロック
と交換することも同様の方法で可能である。
再生を行なわず、新しい活性炭のついた活性炭ブロック
と交換することも同様の方法で可能である。
また、取付台9と低温容器2とは、ボルトlOによる取
付けとしたが、何らこの構成にする必要はなく、一体構
造例えば溶接等で熱接触が良好になればその目的は達成
される。
付けとしたが、何らこの構成にする必要はなく、一体構
造例えば溶接等で熱接触が良好になればその目的は達成
される。
以上説明したように本発明によれば、クライオスタット
全体を加温することなくガス吸着剤の再生又は交換を行
うことにより、常に高真空を保つことができる。
全体を加温することなくガス吸着剤の再生又は交換を行
うことにより、常に高真空を保つことができる。
第1図は本発明の一実施例のクライオスタットの断面図
、第2図(a)、 (b)は本発明の作用を示す説明図
である。 2・・・低温容器 8・・・活性炭ブロック
9・・・取付台 11・・・活性炭13・
・・インジウム 14・・・ゲートバルブ16
・・・ヒーター 18・・・駆動シャフト2
0・・・容器 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 第子丸 健
、第2図(a)、 (b)は本発明の作用を示す説明図
である。 2・・・低温容器 8・・・活性炭ブロック
9・・・取付台 11・・・活性炭13・
・・インジウム 14・・・ゲートバルブ16
・・・ヒーター 18・・・駆動シャフト2
0・・・容器 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 第子丸 健
Claims (1)
- 真空容器内に真空層を介在して収容された低温容器の表
面に着脱可能に取付けられたガス吸着剤と、このガス吸
着剤の外方にあけられた真空容器の開口部に設けられた
開閉部材と、この開口部の外方に着脱可能に取付けられ
前記ガス吸着剤を操作する部材と加熱器と排気口を具え
た容器とを具えたことを特徴とするクライオスタット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1101605A JPH02281764A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | クライオスタット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1101605A JPH02281764A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | クライオスタット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02281764A true JPH02281764A (ja) | 1990-11-19 |
Family
ID=14305024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1101605A Pending JPH02281764A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | クライオスタット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02281764A (ja) |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP1101605A patent/JPH02281764A/ja active Pending
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