JPH02282344A - １―（２―ハロエトキシ）―４―（２―アルコキシエチル）ジアルキルベンゼン類及びその合成中間体並びにそれらの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、新規な１−（２−ハロエトキシ）−４−（２
−アルコキシエチル〕ジアルキルベンゼン類（以下、「
化合物（■）」という）及びその合成中間体並びにそれ
らの製造法に関する。

化合物（Ｉ）は、一般に、医薬、農薬の有用な中間体で
あること、特に、殺虫剤として高活性を示す化合物の中
間体の一群に属することが知られているが、従来、文献
未記載の新規な化合物である。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）従来の
公知技術を利用して化合物（Ｉ）を製造する場合、工業
的に安価なジアルキルフェノール類を出発原料とし、こ
れにまずクロロエチル基を導入し、１−（２−クロロエ
トキシ）ジアルキルベンゼン類を製造し、次いでアルコ
キシエチル基を導入し、化合物（Ｉ）を製造する方法が
工程数も少なく有利である。

まず、り四ロエチル基の導入については、フェノール類
のハロエチルエーテル化法がよく知られており（例えば
、Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｃａ１ｌ　　
↓。

４３５）、この場合、同様の方法でジアルキルフェノー
ルに、安価な１，２−ジクロロエタンを作用させること
により、容易に１−（２−クロロエトキシ）ジアルキル
ベンゼン類を製造することができる。

しかし、次工程のアルコキシエチル基の導入は、従来の
公知の方法で、収率よく行なうことは困難である。例え
ば、芳香環へのエトキシエチル基の導入例である、（２
−アルコキシエチル）ベンゼン類の合成法としては、従
来、１−アルコキシ−２−フェニルアセチレンの還元＋
Ｔ、　ＬＪａｃｏｂｓ、　　Ｗ、　　Ｒ，５ｃｏｔｔ　
Ｊｒ、、　Ｊ、　　Ａｍ、　　Ｃｈｅｍ、　　５ｏｃ７
５、５４９７（１９５３））　、フェニルリチウムと１
−クロロ−２−アルコキシエタンとの反応［Ｌ、　Ｓｕ
ｍｍｅｒｓＭ、　Ｌ、　Ｌａｒｓｏｎ　　Ｊ、　Ａｍ、
　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　　７４．４４９８（１９５２
））　、フェネチルアルコール体の〇−エチル化（Ｓ、
　Ｍａｍｅｄｏｖ、　Ｄ、　Ｎ、　Ｋｈｙｄｙｒｏｖ、
　Ｚｈ、　０ｂｓｈ。

Ｋｈｉｍ、、　３２．１４３１（１９６２）；　Ａ、　
Ｍｅｒｓ、　Ａｎｇｅｗ、　ＣｈｅｍＩｎｔｅｒｎａｔ
、　Ｅｄｉｔ、、　１２．８１６（１９７３１１などの
方法が知られている。

しかし、これらは工業的に実施するには、原料が高価で
経済性に乏しい、あるいは、工程数が多くなるなどの欠
点があり、工業的製法としては満足できるものではなか
った。

本発明者らは、これらの実情に鑑み、安価な原料から少
ない工程数で化合物（Ｉ）を製造できる工業的製法を開
発することを目的として鋭意検討を行なった結果、１−
（２−ハロエトキシ）ジアルキルベンゼン類から少ない
工程数で安価に製造できる各種合成中間体を利用するこ
とにより化合物（Ｉ）を製造することに成功し、本発明
を完成した。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段及び作用）本発明は、 次式（１）： （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、低
級アルキル基を表わし；ｘ′はハロゲン原子を表わす。

） で示される化合物及びその合成中間体並びにそれらの製
造法に関するものである。

本発明の化合物（Ｉ）は、以下に示す種々のルートに従
って合成することができる。

前記式中、Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ５は、それぞれ独立
して、低級アルキル基を表わし：ＸＸ２及びＸ４は、そ
れぞれ独立して、ハロゲン原子を表わす。

前記低級アルキル基とは、炭素数１〜６の直鎖状又は分
枝状のアルキル基をいい、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基
、５ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基
、ヘキシル基が挙げられ、前記ハロゲン原子としては、
例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

本発明の化合物（Ｉ）の具体例としては以下のような化
合物が挙げられる。

１−（２−クロロエトキシ）　−４−（２−エトキシエ
チル）−２，３−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロ
エトキシ）−４−（２−メトキシエチル）−２，３−ジ
メチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（
２−エトキシエチル）−２，５−ジメチルベンゼン、１
−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエチル
）−２，５−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエト
キシ）−４−（２−工［・キシエチル）−２，６−ジメ
チルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２
−メトキシエチル）−２，６−ジメチルベンゼン、１−
（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチル）
−３，５−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキ
シ）−４−（２−メトキシエチル）−３，５−ジメチル
ベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エ
トキシエチル）−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルベンゼ
ン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエチ
ル）−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−３，５−ジー５ｅｃ−ブチルベンゼン、 ■−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエチ
ル）−３，５−ジー５ｅＣ−プチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−２，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエチ
ル）−２，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−２，６−シーｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエチ
ル）−２，６−シーｔｅｒｔ−ブチルベンゼン。

工程」」ｕ二ニエＩｆ） 前記式（ＩＩＩ）で示される化合物と、ホルムアルデヒ
ド又はその重合物と、ハロゲン化水素とを反応させるこ
とにより前記式（ＩＩ）で示される化合物を製造するこ
とができる。

本反応は、通常、化合物（ＩＩＩ）を適当な有機溶媒と
ハロゲン化水素酸中に入れておき、そこヘホルムアルデ
ヒド又はその重合物とハロゲン化水素ガスを導入するこ
とにより行う。また、本反応は有機溶媒だけ又はハロゲ
ン化水素酸だけでも行うこともできる。

本反応に用いられるホルムアルデヒドは、そのまま、又
は水溶液（ホルマリン）の状態で用いられる。ホルマリ
ンを用いる場合、その濃度が５０〜１０重量％のものが
好ましい。濃度が高すぎると沈殿が生じやすく、濃度が
低すぎると反応速度が遅くなり収率が低下する。ホルム
アルデヒドの重合物としては、バラホルムアルデヒドや
トリオキサンが用いられる。ホルムアルデヒドは化合物
（ＩＩＩ）に対して、通常１〜２０倍（モル比）、好ま
しくは２〜１０倍（モル比）が用いられる（ホルマリン
や重合物の場合にはホルムアルデヒドに換算して用いる
）。ホルムアルデヒドが少なすぎると反応液がうまく混
ざらなくなり収率が低下し、多すぎると副生物が増加す
る。

本反応に用いられる有機溶媒としては、例えば四塩化炭
素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエクン、テ
トラクロロエタン、ジオキサン、酢酸、ベンゼン、トル
エン、クロルベンゼン、炭素数が４〜１０の飽和炭化水
素が挙げられる。この中でも四塩化炭素が最も好適に用
いられる。化合物（ＩＩＩ　）の濃度は、有機溶媒に対
して、通常０．１〜１５モル／氾、好ましくは０，５〜
１０モル／℃である。あまり濃度が高すぎると撹拌が困
難となり、低すぎると反応速度が遅くなり収率が低下す
る。

ハロゲン化水素酸（ハロゲン化水素の１０〜６０％水溶
液）は化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、通常０〜５０
モル、好ましくは０．２〜１０モル用いる。ハロゲン化
水素酸が多すぎると反応速度が遅くなり、導入するハロ
ゲン化水素ガスが多量に必要となる。少なすぎると導入
するハロゲン化水素が充分吸収されなくなる。このハロ
ゲン化水素酸を相当する水に置き換えて導入するハロゲ
ン水素ガスをその分増加させてもよい。

ハロゲン化水素ガスは、化合物（Ｉｌｌ）１モルに対し
て、通常１〜２００モル、好ましくは５〜５０モル用い
る。ハロゲン化水素ガスが少なずぎると反応速度が非常
に遅く収率が低下し、多すぎると過剰のハロゲン化水素
ガスが吸収されずむだになり、かつ副生成物が増加する
。

反応温度は、通常−３０〜２０°Ｃ１好ましくは一２０
〜１０°Ｃである。反応温度が高すぎると副反応が進行
してしまい収率が低下し、低すぎると反応速度が低下し
て収率が低下する。

ハロゲン化水素ガスの導入は、通常０５〜５０時間、好
ましくは１〜２０時間で行う。短すぎるとハロゲン化水
素ガスが充分には吸収されず、温度制御も困難になる。

長ずざると副生成物が増加して収率が低下する。ホルム
アルデヒド又はその重合物はハロゲン化水素ガス導入中
に加え終るようにする。

ハロゲン化水素ガス導入終了後に未反応原料が残ってい
る場合は、更に０．５〜５時間反応させる。長すぎると
副反応が進行する。

また、前記式（ＩＩ）で示される化合物は、前記式（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物と、 次式（Ｃ）：　　　Ｒ’０ＣＨ２Ｘ２　　　（Ｃ）（式
中、Ｒ４は前述の低級アルキル基を表わし、Ｘ２は前記
と同義である。） で示される化合物を、酢酸及びｘ２に対応するハロゲン
化水素水溶液の存在下で反応させることによっても製造
することができる。

本反応は、高価な金属触媒を必要とせず、かつ、ハロゲ
ン化水素ガス又は硫酸、発煙硫酸等の取り扱いの難しい
酸を使用することなく、温和な条件下、簡便な設備、簡
便な装置で化合物（ＩＩ　）を製造できることから、工
業的に適した優れた製造法である。

前記式（Ｃ）で示される化合物の具体例としては、り四
ロメチルメチルエーテル、ブロモメチルメチルエーテル
、ヨードメチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエ
ーテル、ブロモメチルエチルエーテル、ヨードメチルエ
チルエーテル、クロロメチルブチルエーテル、クロロメ
チル−ｔｅｒｔブチルエーテル、クロロメチルプロピル
エーテル等が挙げられる。

化合物（Ｃ）は、化合物（ＩＩＩ）に対して、通常Ｏｌ
〜２０．０倍モル、好ましくは１０〜５０倍モル使用す
る。

酢酸の使用量は化合物（Ｉｌｌ　）に対して、通常０５
倍モル以上であることが好ましい。

これ以下でも構わないが、反応速度が低下する。

ハロゲン化水素水溶液のハロゲン水素濃度は５％以上、
好ましくは１５％以上で、特に好ましくは２０〜５０％
である。ハロゲン化水素量は、化合物（Ｉｌｌ　）に対
して、通常０２モル以上、好ましくは０．５モル以上で
ある。

溶媒は使用しても、しなくてもよいが、使用する場合は
、溶媒として、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレ
ン、ジクロロエタン、ジオキサン、ベンゼン、り四ロベ
ンゼン、炭素数５〜１０の飽和炭化水素が用いられる。

中でも四塩化炭素が好適である。反応温度は、通常８０
℃以下、好ましくは０〜４０°Ｃである。これ以下でも
構わないが反応速度が低下する。

工呈（ＴＩ　　→（Ｉ） 前記式（ＩＩ）で示される化合物と、 次式（Ａ）：　　　Ｘ”ＣＨ２０Ｒ’　　　　（Ａ）（
式中、Ｒ１は前記と同義であり；ｘ３は前述のハロゲン
原子を表わす。） で示される化合物を、金属マグネシウムの存在下で反応
させることにより前記式（Ｉ）で示される化合物を製造
することができる。

金属マグネシウムは、通常グリニヤール反応に使用する
ものであれば、形状その他、特に制限はない。

化合物（Ａ）は、化合物（ＩＩ）に対して、通常０．１
〜２００倍モル、好ましくは１０〜５．０倍モル使用す
る。金属マグネシウムは、化合物（ＩＩ）に対して、通
常Ｏｌ〜２０，０倍グラム原子、好ましくは１．０〜５
．０倍グラム原子使用する。

溶媒は、化合物（ＩＩ）が瀉解さえしていれば、使用し
ても、しなくてもよいが、使用する場合は、一般にグリ
ニヤール反応に用いられる溶媒、即ち、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルセロソ
ルブ、ジグリム、ジメトキシメタン、ジェトキシメタン
等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン
、トルエン等の炭化水素類の単一又は混合系溶媒が挙げ
られる。

反応温度は、通常８０°Ｃ以下、好ましくは３０℃以下
、特に好ましくは０℃〜−２０℃である。

この反応を行うに際し、触媒を共存させてもよい。共存
させる場合、触媒としては、ヨウ素、塩化第二水銀、臭
化メチル、臭化エチル等りリ二ヤール反応で一般に使用
されているものが挙げられる。

この反応は、空気存在下で行っても構わないが、通常は
アルゴン、ヘリウム、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下
に行う方が好適である。

次に、反応の実施方法について説明する。

溶媒又は触媒の共存下又は非共存下、マグネシウムに化
合物（１■）を作用させ、クリ二ヤール反芯剤を製造し
、これに化合物（Ａ）を作用させることにより、化合物
（丁）を製造することができる。

ただし、マグネシウムに化合物（１丁）及び（Ａ）を作
用させる順序は、これに限られることはなく、マグネシ
ウムに化合物（Ａ）を作用させた後、化合物（ＩＩ）を
作用させても、また化合物（ｉｉ　）及び（Ａ＞をマグ
ネシウムに同時に作用させてもよい。

本反応に用いる前記式（Ａ）で示される化合物は、好ま
しくは、アルカリを含有する、次式（Ｂ）：　　　Ｒ’
ＯＦ（（Ｂ） （式中、Ｒ１は前記と同義である。） で示されるアルコールと、パラホルムアルデヒドを反応
させた後、ハロゲン化水素で処理することにより製造す
ることができる。

本反応に用いられるパラホルムアルデヒドは、好ましく
は市販の純度８０％以上のものである。

アルコール（Ｂ）は、パラホルムアルデヒドに対して、
通常０．５〜２倍モル、好ましくは０．７〜１．５倍モ
ル、更に好ましくは０．９〜１．１（音モルが用いられ
る。アルコール（Ｂ）が少なすぎると未反応のパラホル
ムアルデヒドが残り、多すぎるとホルムアルデヒドジア
ルキルアセタールの副生が増加する。

本反応で用いるアルカリとしては、水酸化すトリウム、
水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化リチウム、ナトリウムアルコラード、カリウ
ムアルコラード、マグネシウムアルコラード、リチウム
アルコラードが挙げられ（アルコラードは反応に用いる
アルコール由来のものが好ましい。）、好ましくは、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアルコラ
ード、カリウムアルコラードが用いられる。

これらのアルカリは、そのまま又は水溶液もしくはアル
コール溶液としてアルコール中に加えられる。用いられ
るアルカリの量は、パラホルムアルデヒドに対して、通
常０．００００１〜Ｏ１倍モル、好ましくは０．０００
１〜０．０１倍モルである。アルカリ量が少なすぎると
パラホルムアルデヒドの溶解速度が遅くなり、多すぎる
とハロゲン化水素ガス導入初期の発熱が多くなり温度調
節が困難になる。

バラホルムアルデヒドにアルカリ含有アルコールを作用
させる温度は、通常１０〜２００°Ｃ１好ましくは３０
〜１００℃である。温度が低すぎるとバラホルムアルデ
ヒドの溶解に時間を要し、高すぎるとハロゲン化水素導
入前の冷却に時間を要する。

塩化水素ガスの量は、通常、パラホルムアルデヒドの１
．２〜３倍モルである。ハロゲン化水素ガスが少なすぎ
るとホルムアルデヒドジアルキルアセクールが増加して
、多すぎるとハロメチルアルキルエーテルの水層への溶
解量が増加してしまう。

ハロゲン化水素ガス導入時の温度は、通常１５〜−２５
℃、好ましくは１０〜−２０℃である。反応温度が高す
ぎるとホルムアルデヒドジアルキルアセクールが増加し
、低すぎると反応速度が遅くなる。ハロゲン化水素導入
の時間は、冷却能力により大きく異なる。通常１〜１０
時間程度で導入を行うが、短すぎると温度調節が困難と
なる。しかし、ハロゲン化水素ガス導入の時間が１０時
間をはるかに超えても反応には何らさしつかえない。

直重」璽Ｙ二」ヱエ 前記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物を、次式（Ｄ）：
　　　（Ｒ’ＣＣ００）ｎ　　　（Ｄ）（式中、Ｒ６は
前記と同義であり１Ｍは１価又は２価の金属を表わし：
ｎは１又は２を表わす。） で示される化合物と反応させることにより前記式（■）
で示される化合物を製造することができる。

前記式（Ｄ）において、Ｍで表わされる金属原子は、１
価又は２価のアルカリ金属又はアルカリ土類金属であり
、好ましくはナトリウム又はカリウムである。

用いる溶媒は、原料（■）を溶解し、カルボン酸金属塩
（Ｄ）の全部又は一部を溶解し、反応を阻害しないもの
であれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エ
タノール、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロ
リドン等が挙げられ、特にジメチルホルムアミドが好ま
しい。

反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは３０〜６０
°Ｃである。カルボン酸金属塩（Ｄ）の使用量は、原料
（■）に対して、通常１〜１０倍、好ましくは１．５〜
３倍当量である。

反応の進行は、反応溶液の一部をとり、ガスクロマトグ
ラフィーにより分析し、追跡することができる。原料（
■）が消費されたところで常圧又は減圧下において反応
溶媒を留去し、残渣を水中にあけ、有機溶媒で抽出後、
水洗、乾燥し、抽出溶媒を留去すると化合物（Ｖ）が得
られる。必要に応じて、カラムクロマトグラフィー、再
結晶、蒸留等の方法を用いて精製することができるが、
通常は精製なしで十分な純度のものが得られる。

本反応で用いる前記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物は
、例えば以下のようにして製造することができる。

前記式（ＩＸ）で示されるフェノール類と、次式（Ｅ）
：　　　Ｚ’ＣＨ２ＣＨ，Ｘ’　　　（Ｅ）（式中、Ｚ
′はハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基又はア
リールスルホニルオキシ基を表わし；ｘｌは前記と同義
である。）で示される化合物を塩基の存在下で反応させ
ると、前記式（ＩＩＩ　）で示される化合物が得られる
。

次いで、この化合物（ＩｆＦ　）をルイス酸の存在下、 次式（Ｆ）：　　　Ｘ５ＣＯＣＨ２Ｘ’　　　　（Ｆ）
（式中、×６はハロゲン原子、水酸基又は式ニー０ＣＣ
Ｈ，Ｘ’で示される基を表わし＋Ｘ’は前記と同義であ
る。） で示される化合物と反応させることにより化合物（■）
を製造することができる。

前記式（Ｆ）で示される化合物としては、クロロ酢酸ク
ロリド、ブロモ酢酸プロミド等の酸ハロゲン化物、無水
クロロ酢酸、無水ブロモ酢酸等の酸無水物；及びクロロ
酢酸、ブロモ酢酸等のカルボン酸が挙げられるが、好ま
しくはクロロ酢酸クロリドが挙げられる。その使用量は
、化合物（ＩＩＩ）に対して、通常１〜３倍当量、好ま
しくは１〜１．５倍当量である。

用いる溶媒としては、ニトロベンゼン、り四ロベンゼン
、ジクロロベンゼン、ニトロメタン、塩化メチレン、四
塩化炭素、二硫化炭素等、反応に関与しないものであれ
ば如何なるものでもよい。

反応温度は、通常−２０〜１００℃、好ましくは０〜３
０℃である。

用いるルイス酸としては、塩化アルミニウム、臭化アル
ミニウム、三塩化ホウ素、四塩化チタン、三フッ化ホウ
素、塩化第二スズ、塩化亜鉛等が挙げられる。その使用
量は、化合物（ＩＩＩ）に対して、通常１〜５倍当量、
好ましくは１〜３倍当量である。

反応の進行は、反応液の一部に水を加えて反応を停止し
、有機層をガスクロマトグラフィーにより分析して追跡
することができる。化合物（ＩＩＩ　）が消費されたら
、水を加えてルイス酸を分解し、有機溶媒で抽出後、水
洗、乾燥する。溶媒を留去することにより、化合物（■
）を得ることができる。必要に応じてカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶、蒸留等により精製することができる
。

上平　■　→　ＩＶ 前記式（Ｖ）で示される化合物を、水素化ホウ素ナトリ
ウム及び三フッ化ホウ素エーテル錯塩からなる還元剤で
処理することにより前記式（ＩＶ）で示される化合物を
製造することができる。

従来、芳香族ケトンをメチレン鎖に還元する方法はいく
つか知られているが、例えば亜鉛アマルガムを用いるク
レメンゼン還元、ヒドラジンと水酸化アルカリを用いる
つオルフーキッシュナー還元及び金属触媒を用いた水素
添加法等が一般的である。しかし、これらの方法を用い
、化合物（Ｖ）を還元する場合、次のような問題点があ
る。

ｌ）ウォルフーキッシュナー還元では、強塩基を用いる
ため原料のアシルオキシアシル基の分解、重合が起こる
。

２）タレメンゼン還元では、水銀を用いるため医農薬中
間体合成には適当でなく、またアマルガムの発火の危険
及び反応後の処理の問題がある。

３）金属触媒を用いる水素添加では、例えばＲＬ、　　
Ｃ１ａｒｋらが　Ｊ、　　Ａｍ、　　Ｃｈｅｍ、　　Ｓ
ｏｃ、、　　７７、　６６１（１９５５）中で示してい
るように、Ｐｄ−炭素ではアシルオキシアシル基はアシ
ル基に還元され、本反応で目的とするヒドロキシエチル
基を与えない。

また、Ｈ，Ａｄｋｉｎｓらは、Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ
、　５ｏｃ５３、１０９１（１９３１）及び７０．３１
２１　（１９４８）中でＣｕＣ’ｒ○触媒を用い、アセ
ト酢酸エチルを還元し、３−ヒドロキシ酪酸及び１．３
−ブタンジオールをそれぞれ選択的に合成しているが、
従来、ケトエステルのケトン部をメチレンにエステル部
をアルコールに選択的に同時に還元する方法は文献記載
がなかった。

水素化ホウ素ナトリウムの使用量は、原料（Ｖ）に対し
て、通常１〜１０倍当量、好ましくは２〜５倍当量であ
る。

三フッ化ホウ素エーテル錨塩の使用量は、原料（Ｖ）に
対して、５〜５０倍当量、好ましくは１０〜３０イ音当
量である。

本反応は無溶媒でも行うことができるが、通常は溶媒を
用いる。溶媒としては、反応を阻害しないものであれば
如何なるものでもよいが、好ましくはテトラヒドロフラ
ン、ジグリム、ジオキサン、ジエチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル等のエーテル系溶媒を挙げられる。

反応温度は、通常０〜８０℃である。

反応の進行は、反応液の一部をとり、水又は希酸により
反応試薬を分解した後、適当な有機溶媒で抽出し、有機
層をガスクロマトグラフィー又は薄層クロマトグラフィ
ー等により分析して追跡することかできる。原料が消費
されたところで、水又は希鉱酸を加えて反応試薬を分解
し、適当な有機溶媒で抽出後、水洗、乾燥して抽出溶媒
を留去すると化合物（ＩＶ）が得られる６必要に応じて
カラムクロマトグラフィー、蒸留等の方法を用いて精製
することができるが、通常は精製なしで充分な純度のも
のが得られる。

工１（ＩＶ　　→（■ 前記式（ＩＶ　）で示される化合物を、アルカリの存在
下でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式（Ｉ
）で示される化合物を製造することができる。

１呈（Ｖ　→　Ｖｌ 前記式（Ｖ）で示される化合物を、ラネーニッケルの存
在下、水素加圧下で処理することにより前記式（ＶＩ）
で示される化合物を製造することができる。

従来、アシルオキシアシル基を２−アシルオキシエチル
基に選択的に還元する方法は知られていない。

用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられる溶媒で
あれば如何なるものでもよ（、例えばメタノール、エタ
ノール、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ジオキサン、
シクロヘキサン、水、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド等が挙げられる。

反応温度は、通常５０〜２００°Ｃ１好ましくは８０〜
１５０℃である。

ラネーニッケルの使用量は、原料（Ｖ）に対して、通常
１〜１００重量％、好ましくは５〜５０重量％である。

水素圧は、通常１０〜１００ｋｇ／Ｃｍ２Ｇであり、好
ましくは２０〜７０　ｋｇ／　ｃｍ２Ｇである。反応の
進行は、反応中の圧力の減少、又は反応液の一部をとり
ガスクロマトグラフィーで分析して追跡することができ
る。反応後は、放冷して水素を解放後、ラネーニッケル
を決別し、反応溶媒を留去することにより粗製の化合物
（ＶＩ）を得ることができる。必要に応じてカラムクロ
マトグラフィ蒸留、再結晶等の方法を用いて精製するこ
とがてきる。

工　（■　→　■ 前記式（Ｖ）で示される化合物を、ラネーニッケルの存
在下、常圧で処理することにより前記式（ｖｎ　）で示
される化合物を製造することができる。

従来、アシルオキシアシル基を１−ヒドロキシ−２−ア
シルオキシエチル基に選択的に還元する方法は知られて
いない。

用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられるもので
あれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エタ
ノール、酢酸エチル、ジオキサン、水、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルホルムアミド等が挙げられるが、好まし
くはエタノール及びメタノールである。

反応温度は、通常０〜１００°Ｃ１好ましくは２０〜８
０℃である。

ラネーニッケルの使用量は、原＄１（Ｖ）に対して、通
常１〜１５０重量％、好ましくは５〜５０重量％である
。

反応の進行は、反応液の一部をとり、薄層クロマトグラ
フィーにより分析して追跡することができる。反応後は
、ラネーニッケルを炉別し、反応溶媒を留去することに
より化合物（ｖｎ）を得ることができる。通常は精製な
しで充分な純度のものが得られるが、必要に応じてカラ
ムクロマトグラフィー、再結晶等で精製することができ
る。

１呈　ｖｎ　　→　Ｖｌ 前記式（ｖｎ　）で示される化合物を、ラネーニッケル
の存在下、常圧水素で還元することにより前記式（ＶＩ
）で示される化合物を製造することができる。

１我」Ｊｕ二二工上り 前記式（ＶＩ）で示される化合物を、アルカリの存在下
でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式（Ｉ）
で示される化合物を製造することができる。

以上詳述したように、本発明の化合物（Ｉ）は、ルート
　［１］ （Ｉｘ）　−（Ｉｒｒ）　−（Ｈ）　−（Ｉ　）、ルー
ト　［２］ （ＩＸ）　−（Ｉｌｌ）　−（■）−（Ｖ）−（ＩＶ）
−（Ｉ）　　、 ルート　［３］ （ＩＸ）　−（１丁）　−（■）　−（Ｖ）　−（Ｖｒ
）　−（ＩＶ）　→　（Ｉ）　　、 ルート　［４］　： （ＩＸ）　−（ＩＩＩ）　−（ＶＩＩ［）　−（Ｖ）　
−（Ｖｎ）　−（ＶＩ）　−（ＪＶ）→（Ｉ）、 及び ルート　［５］ （ＩＸ）　−（ＩＩＴ）　−（■）−（Ｖ）−（Ｖ旧→
（ｖｒ）→（Ｉ） の５通りの合成ルートで製造することができるが、工程
数が少ないルート［１］が特に好ましい。

（発明の実施例） 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、こ
れらの実施例は、本発明の範囲を何ら制限するものでは
ない。

実施例１ｌ−（２−クロロエトキシ）−４（クロロメチ
ル）−２，３−ジメチル ベンゼン（１■）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン１８４．６９ｇ　（１，００モル）を四塩化炭素４０
０−に溶解させておき、３６％濃塩酸３００−を加え一
５°Ｃに冷却した。撹拌しながら塩化水素ガスの導入と
３５％ホルマリン４３０．９０ｇ　（５，００モル）の
滴下を行った。ホルマリンは３時間で滴下した。塩化水
素ガスは４時間で６６５．０ｇ　（１８，２０モル）の
導入を終了した。この間、温度は一１０〜０°Ｃに保っ
た。塩化水素ガス導入終了後に一５°Ｃで４５分間撹拌
した。

有機相を分取して無水塩化カルシウムで乾燥した。窒素
を導入して塩化水素ガスを除き、濃縮して得た２９３．
ＯＯｇの残渣は減圧蒸留で精製した。

収量　　１９５．８４ｇ　（８４％） ｂｐ　　　　　１４５−１５２℃（２，５ｍｍＨｇ）ｍ
ｐ　　　　　　５８〜６１℃ 元素分析　　ＣＨＣｆｆ 理論値　５６６７％　６．０５％　　３０．４１％実測
値　５６．４３％　６．０１％　　３０６９％ＭＳ　（
ｍ／ｅ）　：　２３３ Ｈ−ＮＭＲ（（１：ＤＣム）δ：　２．２０　（３Ｈ，
ｓｌ　、　２．３３　（３Ｈ，ｓ）３、８２　（２Ｈ，
ｔ、　Ｊ・６Ｈｚ）　、　４．２１　（２Ｈｔ、Ｊ−６
Ｈｚｌ、　４．６１（２Ｈ，ｓ）、　６．６５（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚｌ、　７．１１ＤＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） ＩＲｆＫＢｒ）ｃｍ−’：２９１５．　１５８５．　１
４７５．　１２９５１２５５、１１００．１０３０．７
９５．６５０実施例２ｌ−（２−クロロエトキシ）−４
−（クロロメチル）−２，３−ジメチル ベンゼン（ＩＩ　）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン６０．００ｇ　（０，３４８モル）を四塩化炭素１７
０−に溶解させておき、水６８−を加え室温で２０分間
塩化水素ガスを導入した。−５℃まで冷却して３５％ホ
ルマリン１４９．３９ｇ　（１，６７ｉモル）を１．５
時間で滴下した。ホルマリンの滴下中も塩化水素ガスは
続けて導入して２２４．０ｇ　（６，１４５モル）を３
時間で加えた。この間温度は−８〜−２°Ｃに保ち激し
く撹拌した。更にその温度で０．５時間撹拌した。後処
理と精製は実施例１と同様に行った。

収量　　５９．７９ｇ　（７３，７％）実施例３ｌ−（
２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−２，３
−ジメチル ベンゼン（ＩＩ）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン８９．２０ｇ　（０，４８３モル）を四塩化炭素２０
０−に溶解させておき、３６％濃塩酸１４５−を加え一
４℃に冷却した。撹拌しながら塩化水素ガスの導入と３
５％ホルマリン８５．７８ｇ　（１，０００モル）の滴
下を行った。ホルマリンは２時間で滴下した。塩化水素
ガスは４時間で８２０ｇ　（２２，５０モル）の導入を
終了した。この間、温度は一５〜０℃に保つた。塩化水
素ガス導入終了後、更にその温度で２時間撹拌した。後
処理と精製は実施例１と同様に行った。

収量　　８０．４０ｇ（７１％） 実施例４ｌ−（２−クロロエトキシ）−４＝（クロロメ
チル）−２，３−ジメチル ベンゼン（ＩＩ　）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン２．９８ｇ　（１５，６ｍｍｏｌ）　、酢酸５−１濃
塩酸（３５％）５−１四塩化炭素５−を採り、これにり
四ロメチルエチルエーテル３、Ｌｏｇ　（３２，４ｍｍ
ｏｌ）を滴下して加えた。

室温下２時間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウ
ムで乾燥後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ
、１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）
−２，３−ジメチルベンゼンが９２％の収率で生成して
いた。

実施例５ｌ−（２−クロロエトキシ）−４（クロロメチ
ル）−２，３−ジメチル ベンゼン（ＩＩ）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン９．３５ｇ　（４８，９ｍｍｏｌ）、酢酸４５ｄ、濃
塩酸（３５％）１５ｉ、四塩化炭素１５ｍ１を採り、こ
れにクロロメチルエチルエーテル９　、　５６　ｇ　（
ｌ　Ｏ０、１ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。室温下３時
間撹拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで乾燥後
、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、１−（２
−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−２，３−
ジメチルベンゼンが８６％の収率で生成していた。

実施例６ｌ−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメ
チル）−２，３−ジメチル ベンゼン（ＩＴ）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン４６．０ｇ　（２４０，５ｍｍｏｌ）、酢酸５０ｄ、
濃塩酸（３５％）５０−１四塩化炭素５Ｏ−Ｉｎ！！を
採り、これにクロロメチルエチルエーテル４．７．　５
６　ｇ　（４９７，８ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。室
温下３時間撹拌後、分液した。有機相を塩化カルシウム
で乾燥後、溶媒を留去して５３．７７ｇの残渣を得た。

これを減圧下蒸留して１２０〜１２５°Ｃ１０，５ｍｍ
Ｈｇの留分として４５．６０ｇの１−（２−クロロエト
キシ）−４−〔クロロメチル）−２，３−ジメチルベン
ゼンを得た。（収率８０％） 比較例１ ｌ−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン３．　Ｏｌ　ｇ　（１５，７ｍｍｏｌ）　、酢酸５−
１四塩化炭素５−を採り、クロロメチルエチルエーテル
３．０８ｇ　（３２，２ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。

室温下１３時間撹拌後、分液し有機相をガスクロマトグ
ラフィーで分析したところ、１−（２−クロロエトキシ
）−２，３−ジメチルベンゼンが７９％未反応のまま残
存し、ビス［４−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジ
メチルフェニル］メタンが１９％の収率で生成していた
。

比較例２ ｌ−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン９．３２ｇ　（４８，７ｍｍｏｌ）、酢酸１５ｍ１、
四塩化炭素１５−を採り、水冷下塩化水素ガスを吹き込
みながら、クロロメチルエチルエーテル９．６３ｇ　（
１００，８ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。５時間反応後
、塩化水素ガスの吹き込みを止め分液した。有機相をガ
スクロマトグラフィーで分析したところ、ビス［４−（
２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルフェニル１メ
クンが９２％の収率で生成していた。

比較例３ ｌ−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン３．００ｇ　（１５，７ｍｍｏｌ）　、四塩化炭素５
ｍＡ’、濃塩酸（３５％）５−を採り、これにクロロメ
チルエチルエーテル３．１０ｇ（３２，４ｍｍｏｌ）を
滴下して加えた。室温下１時間撹拌後、分液し有機相を
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、１−（２−
クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼンが５７％
未反応のまま残存し、ビス［４−（２−クロロエトキシ
）−２，３−ジメチルフェニル１メクンが３８％の収率
で生成していた。

比較例４ ｌ−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼ
ン３．０３ｇ　（１５，８ｍｍｏｌ）、酢酸５ｉ、四塩
化炭素５−１濃塩酸（３５％）５艷を採り、これにホル
マリン（３７％）２．５５ｇ（３１、４ｍｍｏｌ）を滴
下して加えた。室温下２０時間撹拌後、分液した。有機
相をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１−（
２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチルベンゼンが３
５％未反応のまま残存し、ビス［４−（２−クロロエト
キシ）−２，３−ジメチルフェニルコメタンが４４％の
収率て生成していた。

実施例７　クロロメチルエチルエーテル（Ａ）の合成 エタノール１０１８．６ｇ　（２２，００モル）に水酸
化すトリウム１．２０ｇ　（０，０２７９モル）を加え
６５°Ｃで撹拌して溶解させた。

そこへ、バラホルムアルデヒド（市販８０％）８２５．
８ｇ（ホルムアルデヒドに換算して、２２．００モル）
を加え、１時間６５℃で加熱撹拌してバラホルムアルデ
ヒドを溶解させた。

バラホルムアルデヒド溶解後に冷却して０〜１０°Ｃに
保ちながら、塩化水素ガス１１２７ｇ（３０，９２モル
）を６５時間かけて導入撹拌した。

反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム５．
ＯＯｇを加えて乾燥後に炉別して、炉液な８０℃で１．
５時間加熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した。

収量　１６１３．４ｇ（７８％） ｂｐ　　　８０〜８４℃ 実施例８　クロロメチルブチルエーテル（Ａ）の合成 ブタノール７４．１２ｇ　（１，ｏｏｏモル）に水酸化
ナトリウム０．０５ｇ　（０，００１モル）を加え６５
℃で撹拌して溶解させた。そこへ、バラホルムアルデヒ
ド（市販８０％）３７．５４ｇ（ホルムアルデヒドに換
算して１．０００モル）を加え、１時間６５°Ｃで加熱
撹拌した。

バラホルムアルデヒド溶解後に冷却して０〜１０℃に保
ちながら、塩化水素ガス５１．２３ｇ（１，４０６モル
）を３時間かけて導入撹拌した。

反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム０．
３０ｇを加えて乾燥後に炉別して、炉液な１３０℃で１
．５時間加熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した
。

収量　１０５．４３ｇ　（８６％） ｂｐ　　　１３０〜１３４℃ 比較例５ ３５％ホルマリン１２８．７０ｇ　（１，５００モル）
とエタノール６９．４５ｇ　（１，５００モル）を混合
しておき、塩化水素ガス１９９．０ｇ（５，６１４モル
）を５．５時間かけて導入して撹拌した。塩化水素ガス
導入中は３〜８℃に保った。

塩化水素ガス導入終了後に無水塩化カルシウム３０．０
ｇを加えて撹拌して溶解させた（この塩析を行わないと
目的物が水層に溶解する。）。

有機物を分取して無水塩化カルシウムで乾燥した。

乾燥剤を？戸別して窒素を３０分間通して塩化水素を除
き、蒸留した。

収量　９５．９５ｇ ｂｐ　　　７７〜８３℃ ここで得られたオイルのＮＭＲスペクトルを測定した結
果、クロロメチルエチルエーテル：り四ロメチルメチル
エーテル−８７：１３のモル比であることがわかった。

従って、クロロメチルエチルエーテルの収率は６１％と
低かった。また、蒸留だけでクロロメチルエチルエーテ
ルを単離しようとすると、その収率は２０〜３０％程度
まで低下してしまった。

実施例９ｌ−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エト
キシエチル）−２，３−ジ メチルベンゼン（１）の合成 金属マグネシウム２７．４３ｇ　（１，１３ｇａｔｍｌ
、テトラヒドロフラン２００−を採り、窒素気流下−５
℃に撹拌しながら冷却した。これに、１−（２−クロロ
エトキシ）−４−（クロロメチル）−２，３〜ジメチル
ベンゼン１８８．８ｇ　（８０９，８ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン（１１４０ｍｆ’）溶液を反応液温が０
℃を越えないように３．５時間かけて滴下して加えた。

次いで、クロロメチルエチルエーテル１０８２ｇ（１１
３２，５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２００ｍｆ
ｆ）溶液を２時間かけて滴下して加えた。−５〜１０℃
で３０分反応した。水３０〇−加え３０分撹拌後、トル
エン５００−を加えた。

分液後、有機相を飽和食塩水２００ｉで洗浄した。これ
を濃縮して２１３．８４ｇの釜残を得た。これを減圧蒸
留して１３７〜ｂ 闘Ｈｇの留分として、１６６．３ｇの１−（２−クロロ
エトキシ）−４−（２−エトキシエチル）２．３−ジメ
チルベンゼンを得た。収率８０％元素分析　　ＣＨＣβ 理論値　６５．４９　　　Ｂ、２４　　１３．８７実測
値　６５，２６　　８．０１　　１３．９１ＭＳ（ｍ／
ｅ）：　２５６（Ｍ″″１．１９７（Ｍ”−ＣＨ２０Ｃ
Ｊｓｌ。

１３５　（１９７−ＣＨ２＝ＣＨＣ，＆１’　Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ｆｌ；Ｃム）δ：　１．１５〜１．２３　（３Ｈ，
ｔ）、２、１５　（３Ｈ，ｓ） ２、２０　（３Ｈ，ｓ）　。

２．８２〜２．９０　２Ｈ，ｔ ３．４５−３．６０　４Ｈ，ｍ ３．７５〜３．８０　２Ｈ，ｔ　　。

４．１０〜４．２０　２Ｈ，ｔ ６．６０〜６．６５　１Ｈ，ｄ　　。

６．９５〜７．００　　ＬＨ，ｄ ＩＲｊＮａＣＪ板）ｃｍ−’：２８５０−２９６０．１
５９０．１４８０１３７０．１３００．１２６０．１１
００実施例１０　１−（２−クロロエトキシ）−４−（
２−エトキシエチル）−２，３ ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム９．７５ｇ　（４０１，２ｍｇａｔｍ
）、テトラヒドロフラン５０−を採り、窒素気流下撹拌
しなから０°Ｃに冷却した。これに、■（２−クロロエ
トキシ）−４−（クロロメチル）−２，３−ジメチルベ
ンゼン４６９２ｇ　（２０１，３ｍｍｏｌ）のテトラヒ
ドロフラン（１５０ｄ）溶液を数−加えた。グリニヤー
ル化反応が開始したことを確認後、上記溶液をテトラヒ
ドロフラン（１５０ｉ）で更に希釈し、これを反応液温
がＯ′Ｃを越えないように滴下して加えた。滴下後、−
８〜０°Ｃで２時間反応させた。不溶のマグネシウムを
決別後、クロロメチルエチルエーテル２１．２６ｇ　（
２２２，５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍ＆
）溶液を滴下して加えた。滴下後、同温度で２時間更に
反応させた。トルエン５００−１水５０−を加えた後、
ＩＮ塩酸を２０−加え酸性にした。分液後、水相をトル
エン２５０献で抽出し、有機相を合わせて水２００ｄで
２回洗浄した。芒硝で乾燥後、溶媒を留去して淡黄色液
体５４．４４ｇを得た。これを減圧下蒸留して１３６〜
１３９°Ｃ／　２　ｍｍＨｇの留分として、３２．８２
ｇの１−（２−クロロエトキシ）　−４−（２−エトキ
シエチル）−２，３−ジメチルベンゼンを得た。収率６
７％ 実施例１１　１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−
エトキシエチル）−２，３ ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム１．８１ｇ　（７４，４７ｍｇａｔｍ
）、痕跡量のヨウ素を採り、室温下、窒素気流下１−（
２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−２，３
−ジメチルベンゼン９９６ｇ（４２，７２ｍｍｏｌ）の
テトラヒドロフラン４０ｍ１溶液を数ｉ加えた。グリニ
ヤール化反応が起こったことを確認後、上記溶液を更に
テトラヒドロフラン３０−で希釈後、冷却し反応液温が
Ｏ′Ｃを越えないように滴下して加えた。滴下後、−５
〜０°Ｃで３時間反応後、クロロメチルエチルエーテル
７、ＯＯｇ　（７３，２７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフ
ラン５〇−溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後２時
間同温度で反応させた後、１０％塩化アンモニウム水溶
液３００−を加え、１時間撹拌後、トルエン５００献を
加え抽出した。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残渣に
ヘキサン５０艷を加え不溶物を決別した。７戸液を濃縮
し淡黄液体１０．４７ｇを得た。これをシリカゲル力ラ
ム（展開液トルエン）にかけ、１−（２−クロロエトキ
シ）−４−（２−エトキシエチル）−２３−ジメチルベ
ンゼン９．０２ｇを分離した。収率８２％ 実施例１２　１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−
エトキシエチル）−２，３− ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム１２．５１ｇ　（５１４，６ｍｇａｔ
ｍ）、痕跡量のヨウ素、テトラヒドロフラン１００艷を
窒素気流下採り、冷却下１−（２−クロロエトキシ）−
４−（り四口メチル）−２゜３−ジメチルベンゼン１０
０．３ｇ　（４３０，２ｍｍｏｌ）　、クロロメチルエ
チルエーテル４９．２０ｇ　（５１５，０ｍｍｏｌ）の
テトラヒドロフラン６００ｍｆ’溶液を反応液温が０°
Ｃを越えないように２．５時間かけて滴下して加えた。

更に、−５〜−１０℃で２時間反応させた後、水１５０
艷を加えた。３０分撹拌後、トルエン２５０−を加え分
液した。有機相を濃縮して釜残１１５．７２ｇを得た。

これを減圧蒸留し、１４２〜１４９°Ｃ／３ｍｍＨｇの
留分として１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エ
トキシエチル）−２，３−ジメチルベンゼン６９．５９
ｇを得た。収率６３％実施例１３　１−（２−クロロエ
トキシ）−４−（２−メトキシエチル）−２，３− ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム１．９４ｇ　（７９，８２ｍｇａｔｍ
）、痕跡量のヨウ素を採り、室温下、窒素気流下１−（
２−クロロエトキシ）−４−（り四口メチル）−２，３
−ジメチルベンゼン１２．４１ｇ（５３，２３ｍｍａｌ
）のテトラヒドロフラン５０−溶液を数−加えた。グリ
ニヤール化反応が起こったことを確認後、上記溶液を更
にテトラヒドロフラン３０−で希釈後、冷却し反応液温
が０°Ｃを越えないように滴下して加えた。滴下後、−
５〜０℃で３時間反応後、クロロメチルエチルエーテル
６　、４０　ｇ　（７９、４９ｍｍｏｌ）のテトラヒド
ロフラン５０−溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後
２時間同温度で反応させた後、ｌＯ％塩化アンモニウム
水溶液３００−を加え、１時間撹拌後、トルエン５００
ｄを加え抽出した。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残
渣にヘキサン５０−を加え不溶物を炉別した。炉液を濃
縮し淡黄液体９．６９ｇを得た。これをシリカゲルカラ
ム（展開液トルエン）にかけ、１−（２−クロロエトキ
シ）−４−（２−メトキシエチル）−２，３−ジメチル
ベンゼン８．４０ｇを分離した。収率６５％ 元素分析　　ＣＨＣ氾 理論値　６３．９３％　８６１％　　１４．３４％実測
値　６３．７５％　８．５３％　　１４．５２％ＭＳｆ
ｍ／ｅｌ：　２４４（Ｍ”）、　１９７．１３５実施例
１４　１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロアセ
チル）−２，３−ジメ チルベンゼン（■）の合成 ニトロベンゼン３６０艷に塩化アルミニウム８７．２５
ｇ　（０，６５ｍｏｌ）を溶解し氷冷した。これに、り
ロワ酢酸クロリド６５．０５ｇ（０，６６ｍｏｌ）を３
０分間で滴下し、次いで１−（２−クロロエトキシ）−
２，３−ジメチルベンゼン９２．３５ｇ　（０，５ｍａ
ｌｌを滴下した。水冷下で１時間撹拌した後、室温で１
．５時間撹拌した。再び水冷し、氷水４００ｄを加え塩
化アルミニウムを分解した。塩化アルミニウムを完全に
分解した後、静置し、ニトロベンゼン層を分液した。水
層を塩化メチレン２００−で抽出し、これを先のニトロ
ベンゼン層と合わせて３％塩酸３００−で２回、次いて
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液３００献で２回、最後に
水洗し乾燥した。

溶媒を留去した後、塩化メチレン１００−に瀉解し、こ
れにヘキサン４００−を加え、析出する白色固体を枦集
した。炉集物を減圧乾燥し、９７．２２ｇの１−（２−
クロロエトキシ）４−（クロロアセチル）−２，３−ジ
メチルベンゼンを得た。収率７５％ ＭＳ（ｍ／ｅ）　：　Ｍ”２Ｂ０．２１１．１４９．１
２１１Ｒ（ｃ＋ｔ＋−’）：　１７７０．１２６０．１
２２（１，１０９５，７９５’Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ；ＤＣム
）δ　２．２０（３Ｈ，ｓ）、　２．４０（３Ｈ，ｓ）
３．８７Ｆ２Ｈ，ｔｌ、　４．２７（２＋（、ｔｌ４．
５６（３Ｈ，ｓ）、　６．７０（］、Ｈ，ｄ）７、４４
　（１１（、ｄ） 実施例１５　４−アセトキシアセチル−１−（２−クロ
ロエトキシ）−２，３ ジメチルベンゼン（Ｖ）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロアセチル）
−２，３−ジメチルベンゼン１３．０６ｇ　（０，０５
ｍｏｌ）、酢酸ナトリウム８．２０ｇ（０、１ｍａｉｌ
をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１２０ｍｌ’に加え
、５０°Ｃで１．５時間撹拌した。

その後、減圧下（５〜８　ｍｍＨｇ）でＤＭＦを留去し
た。放冷後、５％塩酸１００艷、トルエン１００−を加
え分液した。水層をトルエン７〇−で抽出し、先のトル
エン層と合わせ５％塩酸１００−で１回、水１００ｄで
２回洗浄し乾燥した。その後、トルエンを留去し、４−
アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキシ）−２
３−ジメチルベンゼン１３．６１ｇを得た。収率９６％ ＭＳ（ｍ／ｅｌ　：　Ｍ”２８４．２１１．１４９．１
２１１Ｒ（ｃｍ−’）：　１７４５．１５９０．１２３
０．１１１０．１０１０６０Ｈ−Ｎ　［ＣＯＯム）δ：
　２．１５（６Ｈ，ｓ）、　２．３８（３１（、ｓ１３
．８２（２Ｈ，ｔｌ、　　４．２２（２Ｈ，ｔ、）５．
１Ｏｆ２）１．ｓ）、　　６．６８［ＩＨ，ｄ）。

７．４２（ＩＨ，ｄ） 実施例１６　１−（２−クロロエトキシ）−２３−ジメ
チル−４−（２−ヒドロキ シエチル）ベンゼン（ＩＶ）の合成 窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム１．３３ｇをテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）１５ｍｊ＋に懸濁し氷冷した
。これに、同温で三フッ化ホウ素エーテル錯塩２４．５
ｇ　（１７３ｍｍｏｌ）を１０分間で滴下し、これに４
−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキシ）−
２，３−ジメチルベンゼン４．　７２　ｇ　（１６，６
ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５−に溶解した溶液を５分間で滴下
した。水冷下で１時間撹拌した後、２時間還流した。反
応後、再び氷冷し、５％塩酸を滴下し、完全に反応試薬
を分解し、イソプロピルエーテル１００−を加え抽出し
た。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で有機相
を洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。硫
酸ナトリウムを決別後、イソプロピルエーテルを留去し
１−（２−クロロエトキシ）−２，３−ジメチル−４−
（２−ヒドロキシエチル）ベンゼン３．６３ｇを得た。

収率９６％ ＩＲ（ｃｍ−’ｌ：　　３４００．　１２６０．　１１
０５．　８００’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＯＯム）δ：　１．
６９（ＩＨ，ｓ）、　２．１９（３Ｈ，ｓ）２．２２（
３Ｈ，ｓ）、　　２．８６（２Ｈ，ｔｌ３．７６２Ｈ，
ｔ　、　　３．８０（２Ｈ，ｔ）４．１８（２Ｈ，ｔｌ
、　　６．６４（ＩＬｄｌ。

６．９６　１Ｈ，ｄ ＭＳ（ｍ／ｅ）　　：　Ｍ”２２８．　１９７．　１３
５．　１０５実施例１７　１−（２−クロロエトキシ）
−２３−ジメチル−４−（２−ヒドロキ シエチル）ベンゼン（ＩＶ）の合成 窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム０，２７ｇ　（７
、０２ｍｍｏｌ）をＴＦ（Ｆ６−に懸濁し水冷した。こ
れに、４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエト
キシ）−２，３−ジメチルベンゼン１００ｇを三フッ化
ホウ素エーテル錯塩５５７ｇに溶解したものを１時間で
滴下した。

滴下後、更に１時間還流した。反応後、氷冷し、５％塩
酸で反応試薬を完全に分解した後、イソプロピルエーテ
ル５０献を加え抽出した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにより
乾燥し、イソプロピルエーテルを留去すると１−（２−
クロロエトキシ）−２，３−ジメチル−４−（２−ヒド
ロキシエチル）ベンゼン０．７３ｇが得られた。収率９
１％ 実施例１８　１−（２−クロロエトキシ）−２゜３−ジ
メチル−４−（２−アセトキ シエチル）ベンゼン（ｖｒ）の合成 ４−アセトキシアセデル−１−（２−クロロエトキシ）
−２，３−ジメチルベンゼン０．８９ｇ（３，１ｍｍｏ
ｌ）　、ジオキサン１０ｍ１、ラネーニッケル（Ｗ２１
０．５ｇをオートクレーブに仕込み、水素を３０　ｋｇ
／　’ｃｍ２Ｇまで圧入し、１２０°Ｃで６時間反応さ
せた。放冷後、水素を解放しニッケルを決別し、溶媒を
留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル／塩化メチレン）により分離し、１−（２−クロロエ
トキシ）−２，３−ジメチル−４−（２−アセトキシエ
チル）ベンゼンｏ、８０ｇを得た。収率７２％ ＭＳ（ｍ／ｅ）　：　Ｍ”２７０．２１０．１９７．１
４８．１３５ＩＲ（ｃｍ−’ｌ　：　１７３０．１２６
０．１２３５ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ：＋）δ：　２．Ｄ４
ｆ３Ｈ，ｓ）、　２．１９（３Ｈ，ｓ）２、２４　（３
Ｈ，ｓ）　、　２．９１　（２Ｈ，ｔ）　。

３．８Ｏｆ２）Ｔ、ｔｌ、　４．１−４．２５（４Ｈ，
ｍ１６．６４（ＩＨ，ｄ）、　６．９６（ｌ）Ｔ、ｄ＋
実施例１９　１−（２−クロロエトキシ）−２゜３−ジ
メチル−４−（ｌ−ヒドロキ シ−２−アセトキシエチル）ベンゼ ン（ｖｎ）の合成 ４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキシ）
−２，３−ジメチルベンゼン１．２９ｇ（４，５ｍｍｏ
ｌ）をエタノール１〇−溶解し、これにラネーニッケル
（Ｗ２１０．６ｇを加えた後、反応容器内を水素で満た
した。常に反応容器内が水素で常圧に保たれている状態
で５０℃で８時間撹拌した。反応後、ラネーニッケルを
？戸別し、溶媒を留去し、１−（２−クロロエトキシ）
−２３−ジメチル−４−（１−ヒドロキシ−２−アセト
キシエチル）ベンゼン１．２２ｇを得た。収率９４％ ＩＲ（ｃｍ−’）：　　３４００．　１７４０．　１２
６０．　１２３０ＭＳ（ｍ／ｅｌ　：　Ｍ”２８６．２
６９．２２６．１９７．１７９．１４９’Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＯＯム）δ：　２．１１（３Ｈ，ｓ）、　２．１９（
３Ｈ，ｓ）２．２５（３Ｈ，ｓ）、　２．５０（ＬＨ，
ｓ）３．８２（２Ｈ，ｔ）、　４．０−４．３（４Ｈ，
ｍ）５．１７（ｌＨ，ｄｄ）、　６．７２Ｔ１１（、ｄ
ｄ）７、３１　（ＬＨ，ｄｌ ［発明の効果］ 本発明によれば、医薬、農薬、特に殺虫剤として有用な
化合物を提供することができる。

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. （１）次式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は、それぞれ独立し
   て、低級アルキル基を表わし；Ｘ＾１はハロゲン原子を
   表わす。） で示される化合物。
2. （２）次式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾２及びＲ＾３は、それぞれ独立して、低級
   アルキル基を表わし；Ｘ＾１及びＸ＾２は、それぞれ独
   立して、ハロゲン原子を表わす。）で示される化合物。
3. （３）請求項２記載の化合物と、 次式（Ａ）：Ｘ＾３ＣＨ＿２ＯＲ＾１（Ａ）（式中、Ｒ
   ＾１は低級アルキル基を表わし；Ｘ＾３はハロゲン原子
   を表わす。） で示される化合物を、金属マグネシウムの存在下で反応
   させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造法
   。
4. （４）アルカリを含有する次式（Ｂ）： Ｒ＾１ＯＨ（Ｂ） （式中、Ｒ＾１は低級アルキル基を表わす。）で示され
   るアルコールと、パラホルムアルデヒドを反応させた後
   、ハロゲン化水素で処理することを特徴とする請求項３
   において式（Ａ）で示される化合物の製造法。
5. （５）次式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾２及びＲ＾３は、それぞれ独立して、低級
   アルキル基を表わし；Ｘ＾１はハロゲン原子を表わす。 ） で示される化合物と、ホルムアルデヒド又はその重合物
   と、ハロゲン化水素とを反応させることを特徴とする請
   求項２記載の化合物の製造法。
6. （６）請求項５において式（III）で示される化合物と
   、 次式（Ｃ）：Ｒ＾４ＯＣＨ＿２Ｘ＾２（Ｃ）（式中、Ｒ
   ＾４は低級アルキル基を表わし；Ｘ＾２はハロゲン原子
   を表わす。） で示される化合物を、酢酸及びＸ＾２に対応するハロゲ
   ン化水素水溶液の存在下で反応させることを特徴とする
   請求項２記載の化合物の製造法。
7. （７）次式（IV）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾２及びＲ＾３は、それぞれ独立して、低級
   アルキル基を表わし；Ｘ＾１はハロゲン原子を表わす。 ） で示される化合物。
8. （８）次式（Ｖ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾５は、それぞれ独立し
   て、低級アルキル基を表わし；Ｘ＾１はハロゲン原子を
   表わす。） で示される化合物。
9. （９）請求項８記載の化合物を、水素化ホウ素ナトリウ
   ム及び三フッ化ホウ素エーテル錯塩からなる還元剤で処
   理することを特徴とする請求項７記載の化合物の製造法
   。
10. （１０）次式（VI）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾５は、それぞれ独立し
    て、低級アルキル基を表わし；Ｘ＾１はハロゲン原子を
    表わす。） で示される化合物。
11. （１１）請求項８記載の化合物を、ラネーニッケルの存
    在下、水素加圧下で処理することを特徴とする請求項１
    ０記載の化合物の製造法。
12. （１２）次式（VII）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾５は、それぞれ独立し
    て、低級アルキル基を表わし；Ｘ＾１はハロゲン原子を
    表わす。） で示される化合物。
13. （１３）請求項８記載の化合物を、ラネーニッケルの存
    在下、常圧で処理することを特徴とする請求項１２記載
    の化合物の製造法。
14. （１４）次式（VIII）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） （式中、Ｒ＾２及びＲ＾３は、それぞれ独立して、低級
    アルキル基を表わし；Ｘ＾１及びＸ＾４は、それぞれ独
    立して、ハロゲン原子を表わす。）で示される化合物を
    、 次式（Ｄ）：（Ｒ＾５ＣＯＯ）＿ｎＭ（Ｄ）式中、Ｒ＾
    ５は低級アルキル基を表わし；Ｍは１価又は２価の金属
    を表わし；ｎは１又は２を表わす。） で示される化合物と反応させることを特徴とする請求項
    ８記載の化合物の製造法。
15. （１５）請求項１４において式（VIII）で示される化合
    物。