JPH02282479A - 磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造装置Info
- Publication number
- JPH02282479A JPH02282479A JP1103843A JP10384389A JPH02282479A JP H02282479 A JPH02282479 A JP H02282479A JP 1103843 A JP1103843 A JP 1103843A JP 10384389 A JP10384389 A JP 10384389A JP H02282479 A JPH02282479 A JP H02282479A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling
- gap
- deposition
- incidence
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、特に高入射部のレートを高め角形の優れた磁
気特性を有する蒸着磁気記録媒体を得るための磁気記録
媒体の製造装置に関するものである。
気特性を有する蒸着磁気記録媒体を得るための磁気記録
媒体の製造装置に関するものである。
従来の技術
近年、磁気記録はアナログ記録からデジタル記録へと高
性能化、高密度記録化の方向に進んでおシ、それにとも
なって記録媒体としても優れた高密度記録媒体が要求さ
れるようになった。特に磁気記録テープにおいては、ｒ
−Ｆ ｅ２０５ 、メタル等の塗布型テープから高エ
ネルギーの金属薄膜型テープへと移行しつつ有る。金属
薄膜型テープの記録方式としては、垂直記録１面内記録
があり、製膜法としては、蒸着法、ヌパ・ツタ法、イオ
ンブレーティング法等がある。
性能化、高密度記録化の方向に進んでおシ、それにとも
なって記録媒体としても優れた高密度記録媒体が要求さ
れるようになった。特に磁気記録テープにおいては、ｒ
−Ｆ ｅ２０５ 、メタル等の塗布型テープから高エ
ネルギーの金属薄膜型テープへと移行しつつ有る。金属
薄膜型テープの記録方式としては、垂直記録１面内記録
があり、製膜法としては、蒸着法、ヌパ・ツタ法、イオ
ンブレーティング法等がある。
面内記録に好適な蒸着法としては斜め蒸着法が知られて
いるが、この面内記録の斜め蒸着法においては蒸着の効
率化、磁気特性の向上が図られている。
いるが、この面内記録の斜め蒸着法においては蒸着の効
率化、磁気特性の向上が図られている。
以下図面を参照しながら従来の蒸着法の一例について説
明する。
明する。
第７図は従来のＣｏ、Ｎ１斜め蒸着法の蒸着部を示す。
第７図において、１は冷却キャン、２は蒸発源、３は高
入射部の防着板、４は低入射部の防着板、ｌｔシャッタ
ー、６はベーヌフィルム、７は電子ビーム、１２は０２
ノズルである。
入射部の防着板、４は低入射部の防着板、ｌｔシャッタ
ー、６はベーヌフィルム、７は電子ビーム、１２は０２
ノズルである。
以上のように構成された従来の真空蒸着機の蒸着部につ
いて、以下その動作について説明する。
いて、以下その動作について説明する。
まず、蒸着槽の真空度を１０−５Ｔｏｒｒ以上にし。
電子ビーム７により蒸着材を十分に溶解する。その後、
冷却キャン１に沿わせたベースフィルム６を矢印の方向
に走行させ、０２ ノズル１２より適量の０２を供給
し、シャッター５を開けることによりベースフィルム６
上に蒸着材を蒸着し、最適な磁気特性を有する磁性層を
形成する。
冷却キャン１に沿わせたベースフィルム６を矢印の方向
に走行させ、０２ ノズル１２より適量の０２を供給
し、シャッター５を開けることによりベースフィルム６
上に蒸着材を蒸着し、最適な磁気特性を有する磁性層を
形成する。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、従来装置では、蒸発レートを多くしたり
、長時間蒸着を行なうと、高入射部の防着板３において
は冷却キャン１との隙間に結晶が堆積し、ベースフィル
ム６に傷が入ることが有る。
、長時間蒸着を行なうと、高入射部の防着板３において
は冷却キャン１との隙間に結晶が堆積し、ベースフィル
ム６に傷が入ることが有る。
その為、高入射部の防着板３を下方に下げて隙間への堆
積を防止すると共にある程度堆積してもべ一ヌフィルム
６にキズが入らないように冷却キャン１との隙間を広げ
る等の対策を行なっているが、それにより高入射部の付
着効率が低下し、高入射成分の減少によりト分な磁気特
性が得られなくなり、又、ｙ着の開口部も狭くなるため
に生産性も低下する等の課題を有している。
積を防止すると共にある程度堆積してもべ一ヌフィルム
６にキズが入らないように冷却キャン１との隙間を広げ
る等の対策を行なっているが、それにより高入射部の付
着効率が低下し、高入射成分の減少によりト分な磁気特
性が得られなくなり、又、ｙ着の開口部も狭くなるため
に生産性も低下する等の課題を有している。
本発明は、上記課題に鑑み、蒸着部の高入射側の開口部
を最大限床げるとともに冷却キャンと防着板との隙間を
狭くし、良好な磁気特性と蒸着効率を得ることができる
磁気記録媒体の製造装置を提供することを目的とするも
のである。
を最大限床げるとともに冷却キャンと防着板との隙間を
狭くし、良好な磁気特性と蒸着効率を得ることができる
磁気記録媒体の製造装置を提供することを目的とするも
のである。
課題を解決するだめの手段
上記課題を解決するために本発明の磁気記録媒体の製造
装置は、蒸発源の中心から冷却キャン円周を結ぶ線分が
冷却キャンの接線となる接点部もしくはその接点部より
蒸着源に対し離れる上方位置に、上記冷却キャンとの間
に所定の隙間を形成するように高入力部防着板を配設し
たことを特徴とするものである。
装置は、蒸発源の中心から冷却キャン円周を結ぶ線分が
冷却キャンの接線となる接点部もしくはその接点部より
蒸着源に対し離れる上方位置に、上記冷却キャンとの間
に所定の隙間を形成するように高入力部防着板を配設し
たことを特徴とするものである。
作用
本発明は、上記した構成によって高入射部の付着効率を
最大眼窩めると共に冷却キャンと防着板との隙間を狭く
することにより生産性の向上をはかり、かつ良好な磁気
特性を得ることが出来る。
最大眼窩めると共に冷却キャンと防着板との隙間を狭く
することにより生産性の向上をはかり、かつ良好な磁気
特性を得ることが出来る。
実施例
以下、本発明の実施例の磁気記録媒体の製造装置につい
て、図面を参照しながら説明する。第１図は本発明の第
１の実施例のＣｏ、Ｎｉ斜め蒸着機の蒸着部を示すもの
である。第１図において、１は冷却キャン、２は蒸発源
、４は低入射部防着板、５はシャッター、６はベースフ
ィルム、７は電子ビーム、８は高入力部防着板としての
回転ローラと冷却キャンとの隙間であり、その位置は蒸
発源２の中心から冷却キャン１の円周を結ぶ線分が冷却
キャン１の接線となる接点部に設けられている。
て、図面を参照しながら説明する。第１図は本発明の第
１の実施例のＣｏ、Ｎｉ斜め蒸着機の蒸着部を示すもの
である。第１図において、１は冷却キャン、２は蒸発源
、４は低入射部防着板、５はシャッター、６はベースフ
ィルム、７は電子ビーム、８は高入力部防着板としての
回転ローラと冷却キャンとの隙間であり、その位置は蒸
発源２の中心から冷却キャン１の円周を結ぶ線分が冷却
キャン１の接線となる接点部に設けられている。
９は直径１６０絹の高入力部防着板としての回転ローラ
、１ｏは掻き落とし用ブレード、１１は掻き落としたＧ
ｏ、Ｎｉを入れる受は皿、１２はｏ２ノズルである。蒸
着条件は、蒸着速度１００ ｍ ／ｍｉｎ、透過率３％
、０２量２．ＯＬ／ｍｉｎであり、高入力部防着板転ロ
ー２９の周速は１０／ ｓ ｅ ｃである。又、蒸発源
２の中心部から７ヤツター６の先端を結ぶ延長線とその
線が冷却キャン１の円周線上で交差する点と冷却キャン
１の中心からその点を結ぶ延長線とのなす角度θを湿低
入射角といい、その値は２ｏ度とした。このような条件
で。
、１ｏは掻き落とし用ブレード、１１は掻き落としたＧ
ｏ、Ｎｉを入れる受は皿、１２はｏ２ノズルである。蒸
着条件は、蒸着速度１００ ｍ ／ｍｉｎ、透過率３％
、０２量２．ＯＬ／ｍｉｎであり、高入力部防着板転ロ
ー２９の周速は１０／ ｓ ｅ ｃである。又、蒸発源
２の中心部から７ヤツター６の先端を結ぶ延長線とその
線が冷却キャン１の円周線上で交差する点と冷却キャン
１の中心からその点を結ぶ延長線とのなす角度θを湿低
入射角といい、その値は２ｏ度とした。このような条件
で。
冷却キャン１と高入射部防着回転ローラ１ｏとの隙間を
変え、蒸着した時の磁気特性を第２図、第３図に示す。
変え、蒸着した時の磁気特性を第２図、第３図に示す。
第２図において、縦軸は作出力、横軸は冷却キャンと高
入射部防着回転ローラとの隙間を示す。第３図において
、縦軸は角形比、横軸は冷却キャンと高入射部防着回転
ローラとの隙間を示す。本実施例によれば、冷却キャン
と高入射部防着回転ローラとの隙間を５朋以下とするこ
とにより、結晶の配向性が向上し、休出力、角形比の向
上を図ることができることが判明した。又。
入射部防着回転ローラとの隙間を示す。第３図において
、縦軸は角形比、横軸は冷却キャンと高入射部防着回転
ローラとの隙間を示す。本実施例によれば、冷却キャン
と高入射部防着回転ローラとの隙間を５朋以下とするこ
とにより、結晶の配向性が向上し、休出力、角形比の向
上を図ることができることが判明した。又。
高入射部の防着板をブレード付き回転ローラとすること
により蒸着材の堆積によるベースフィルムへのキズもな
く、安定した隙間を確保することができた。
により蒸着材の堆積によるベースフィルムへのキズもな
く、安定した隙間を確保することができた。
また、第４図に示すように冷却キャン１に対する回転ロ
ーラ９の対向位置を変え、磁気特性を測定した。ここで
、冷却キャンと高入射部防着回転ローラとの隙間の位置
が蒸発源の中心から冷却キャン円周を結ぶ線分が冷却キ
ャンの接線となる接点部にあるものを人、その接点部よ
り円周方向に２０度下方の位置にあるものをＢ、接点部
より円周方向に３ｏ度下方の位置にあるものをＣ１接点
部より円周方向に１０度上方の位置にあるものをＤとし
、このような４つの位置において、蒸着条件を蒸着速度
１００ ｍ ／ ｍ ｉ ｎ 、最低入射角２０度。
ーラ９の対向位置を変え、磁気特性を測定した。ここで
、冷却キャンと高入射部防着回転ローラとの隙間の位置
が蒸発源の中心から冷却キャン円周を結ぶ線分が冷却キ
ャンの接線となる接点部にあるものを人、その接点部よ
り円周方向に２０度下方の位置にあるものをＢ、接点部
より円周方向に３ｏ度下方の位置にあるものをＣ１接点
部より円周方向に１０度上方の位置にあるものをＤとし
、このような４つの位置において、蒸着条件を蒸着速度
１００ ｍ ／ ｍ ｉ ｎ 、最低入射角２０度。
透過率３％、０２景２．ＯＬ／ｍｉｎとした時の電子ビ
ームの電力と磁気特性の結果を第６図、第６図に示す。
ームの電力と磁気特性の結果を第６図、第６図に示す。
第５図において、縦軸は透過率３％一定時の電子ビーム
の電力、横軸は冷却キャンと高入射部防着回転ローラと
の隙間位置ム、Ｂ、Ｃ，Ｉ）を示す。第６図において、
縦軸は角形比、横軸は冷却キャンと高入射部防着回転ロ
ーラとの隙間位置Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄを示す。このように高
入射部防着回転ローラと、冷却キャンの隙間を蒸発倣の
中心からキャン円周を結ぶ線分が冷却キャンの接線とな
る接点部もしくはそれより上方に設けることにより、蒸
着効率が高まり、同一膜厚（同一透過率）では電子ビー
ムの電力を低く抑えることが可能になると共に、さらに
は高入射成分の増加により、角形比の向上を図ることが
できることが判明した。
の電力、横軸は冷却キャンと高入射部防着回転ローラと
の隙間位置ム、Ｂ、Ｃ，Ｉ）を示す。第６図において、
縦軸は角形比、横軸は冷却キャンと高入射部防着回転ロ
ーラとの隙間位置Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄを示す。このように高
入射部防着回転ローラと、冷却キャンの隙間を蒸発倣の
中心からキャン円周を結ぶ線分が冷却キャンの接線とな
る接点部もしくはそれより上方に設けることにより、蒸
着効率が高まり、同一膜厚（同一透過率）では電子ビー
ムの電力を低く抑えることが可能になると共に、さらに
は高入射成分の増加により、角形比の向上を図ることが
できることが判明した。
尚、高入射部防着回転ローラの径を直径１５０朋とした
が、蒸着槽のヌベーヌにあわせ、多少の変更を行なって
もさしつかえない。又、そのローラの回転速度は１α／
ｓ ｅ ｃとしたが、蒸着レート。
が、蒸着槽のヌベーヌにあわせ、多少の変更を行なって
もさしつかえない。又、そのローラの回転速度は１α／
ｓ ｅ ｃとしたが、蒸着レート。
蒸着時間等により回転速度の調整を行なえばよい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、蒸発源の中、Ｕから冷却
キャン円周を結ぶ線分が冷却キャンの接線となる接点部
もしくはその接点部より蒸着源に対して離れる上方位置
に、冷却キャンとの間で所定の隙間を形成するように高
入力側の防着板を配設したことにより、蒸着効率の向上
と角形比の優れた磁気特性を得ることができる。又、そ
の高入射部の防着板をブレード付き回転ローラとするこ
とにより、高レートでの長時間の蒸着でもベーヌフィル
ムにキズを入れること無く、安定した隙間を確保するこ
とができる。
キャン円周を結ぶ線分が冷却キャンの接線となる接点部
もしくはその接点部より蒸着源に対して離れる上方位置
に、冷却キャンとの間で所定の隙間を形成するように高
入力側の防着板を配設したことにより、蒸着効率の向上
と角形比の優れた磁気特性を得ることができる。又、そ
の高入射部の防着板をブレード付き回転ローラとするこ
とにより、高レートでの長時間の蒸着でもベーヌフィル
ムにキズを入れること無く、安定した隙間を確保するこ
とができる。
第１図は本発明のＳ気記録媒体の製造装置の第１の実施
例を示すＧｏ、Ｎｉ斜め蒸着機の蒸着部の構成図、第２
図は同装置における冷却キャンと高入射部回転ローラと
の隙間と保磁力の関係を示す特性図、第３図は同装置に
おける冷却キャンと高入射部回転ローラとの隙間と角形
比との関係を示す特性図、第４図は同装置における高入
射部の防着回転ローラの位置を示す説明図、第５図は同
装置における高入射部防着回転ローラの位置と電子ビー
ムの電力との関係を示す特性図、第６図は同装置におけ
る高入射部防着回転ローラの位置と角形比との関係を示
す特性図、第７図は従来のＣｏ。 Ｎ１斜め蒸着機の蒸着部を示す構成図である。 ８・・・・・・ギＩ−シと高入射部防着回転ローラとの
隙間、９・・・・・・高入射部防着回転ローラ、１ｏ・
・・・掻き落とし用ブレード、１１・・・・・・受皿。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１基筒 図 １−一一仝４氾キＴソ ２−１１源 ８−−−ａｈｋｔＰＰＡ；ｌｉ＠ｋｎ−ラｌ：ｊＮ、間
ｑ −、、！Ｎ打部吋普日乾υう １０−一才蓋トさ〕Ｓ−とＬ用フ’ｂ−Ｇ第・ 図 ｒ菟 閣 （ｍｍ ） 第 図 第 図 ｒ糸 間 ＜ｍｍ） 第 図 高入約＼齢財看回七ローラ社扁ｔ 第 図 ｍｈ＃ｕ ＰＥ＊Ｄｋｏ −ラｔ＝’！第 図
例を示すＧｏ、Ｎｉ斜め蒸着機の蒸着部の構成図、第２
図は同装置における冷却キャンと高入射部回転ローラと
の隙間と保磁力の関係を示す特性図、第３図は同装置に
おける冷却キャンと高入射部回転ローラとの隙間と角形
比との関係を示す特性図、第４図は同装置における高入
射部の防着回転ローラの位置を示す説明図、第５図は同
装置における高入射部防着回転ローラの位置と電子ビー
ムの電力との関係を示す特性図、第６図は同装置におけ
る高入射部防着回転ローラの位置と角形比との関係を示
す特性図、第７図は従来のＣｏ。 Ｎ１斜め蒸着機の蒸着部を示す構成図である。 ８・・・・・・ギＩ−シと高入射部防着回転ローラとの
隙間、９・・・・・・高入射部防着回転ローラ、１ｏ・
・・・掻き落とし用ブレード、１１・・・・・・受皿。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１基筒 図 １−一一仝４氾キＴソ ２−１１源 ８−−−ａｈｋｔＰＰＡ；ｌｉ＠ｋｎ−ラｌ：ｊＮ、間
ｑ −、、！Ｎ打部吋普日乾υう １０−一才蓋トさ〕Ｓ−とＬ用フ’ｂ−Ｇ第・ 図 ｒ菟 閣 （ｍｍ ） 第 図 第 図 ｒ糸 間 ＜ｍｍ） 第 図 高入約＼齢財看回七ローラ社扁ｔ 第 図 ｍｈ＃ｕ ＰＥ＊Ｄｋｏ −ラｔ＝’！第 図
Claims (2)
- （１）蒸発源の中心から冷却キャン円周を結ぶ線分が上
記冷却キャンの接線となる接点部、もしくはその接点部
より上記蒸着源に対し離れる上方位置に、上記冷却キャ
ンとの間に所定の隙間を形成するように高入力側の防着
板を配設したことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置
。 - （２）高入射側の防着板はブレード付き回転ローラであ
ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103843A JPH02282479A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103843A JPH02282479A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02282479A true JPH02282479A (ja) | 1990-11-20 |
Family
ID=14364714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1103843A Pending JPH02282479A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02282479A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0617414A1 (en) * | 1993-03-22 | 1994-09-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for producing magnetic recording medium |
| DE10345936A1 (de) * | 2003-09-30 | 2005-04-28 | Ald Vacuum Techn Ag | Elektronenstrahl-Beschichtungsanlage zum Aufbringen keramischer Werkstoffe |
| CN106328370A (zh) * | 2015-06-30 | 2017-01-11 | 贵州雅光电子科技股份有限公司 | 各向异性磁阻坡膜合金及其固定易磁化轴的制备方法 |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP1103843A patent/JPH02282479A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0617414A1 (en) * | 1993-03-22 | 1994-09-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for producing magnetic recording medium |
| US5458914A (en) * | 1993-03-22 | 1995-10-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
| US5472506A (en) * | 1993-03-22 | 1995-12-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for producing magnetic recording medium |
| DE10345936A1 (de) * | 2003-09-30 | 2005-04-28 | Ald Vacuum Techn Ag | Elektronenstrahl-Beschichtungsanlage zum Aufbringen keramischer Werkstoffe |
| CN106328370A (zh) * | 2015-06-30 | 2017-01-11 | 贵州雅光电子科技股份有限公司 | 各向异性磁阻坡膜合金及其固定易磁化轴的制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4426265A (en) | Method of producing a metallic thin film magnetic disk | |
| US5000995A (en) | Magnetic recording medium and method | |
| JPH03202466A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPS62185246A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3106456B2 (ja) | 対向ターゲット式スパッタ方法及び対向ターゲット式スパッタ装置 | |
| JPS6237369A (ja) | スパツタリングタ−ゲツト材 | |
| JP2894253B2 (ja) | 高機能性薄膜の製造方法 | |
| JPH01264632A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JPS63113928A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63102028A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2874419B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JP3048287B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPH04328325A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04330637A (ja) | 蒸着磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPS60164930A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59222581A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPH1088327A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH0798868A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPS5972655A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPH1064035A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0512657A (ja) | 薄膜磁気テープ、その製造方法および製造装置 | |
| JPS58126981A (ja) | 薄膜製造装置 | |
| JPH04132015A (ja) | ＣｏＣｒ垂直磁気記録テープおよびその製造方法 | |
| JPS63259838A (ja) | 磁性薄膜記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JPS62230976A (ja) | 連続スパツタリング装置 |