JPH04328325A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、強磁性金属薄膜を磁性
層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より磁気記録の分野においては、ポ
リエステルやポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等
からなる非磁性支持体の上に、γ−Ｆｅ２　Ｏ３　、酸
化クロム等の磁性酸化物やＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分
とする磁性合金等の粉末を有機高分子材料からなるバイ
ンダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布することにより
磁性層を形成した、所謂塗布型の磁気記録媒体が広く使
用されている。これに対して、高密度磁気記録への要求
の高まりとともに、金属あるいはＣｏ−Ｎｉ等の合金か
らなる磁性材料をメッキや真空薄膜形成技術（真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等）に
より直接ポリエステルフィルム等の非磁性支持体上に被
着して強磁性金属薄膜を形成した、所謂蒸着型の磁気記
録媒体が知られている。この蒸着型の磁気記録媒体は、
抗磁力、角形比及び短波長域における電磁変換特性等に
優れていること、磁性層の薄膜化が可能であるために記
録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さいこと、或いは
磁性層中に非磁性材料であるバインダー等を含有しない
ために磁性材料の充填密度を高くできること等、数々の
利点を有している。

【０００３】上記真空薄膜形成技術のうち、特に真空蒸
着法は、メッキ法のように排液処理を必要とすることが
なく、製造工程が簡単である上、膜の成膜速度を大きく
することが可能であることから、非常に実用的と考えら
れている。このような真空蒸着法により強磁性金属薄膜
を成膜する場合、例えば図３に示すように、ドラム１１
の外周面１１ａに非磁性支持体１２を巻回させ、上記ド
ラム１１の回転に応じて上記非磁性支持体１２を所定の
方向に移動させながら、ルツボ１３内に充填された蒸発
源１４からの蒸気流を上記非磁性支持体１２の表面に入
射させて、上記非磁性支持体１２上に強磁性材料を被着
させている。この時、上記ドラム１１の近傍にマスク１
５を配設し、上記非磁性支持体１２の法線方向に対する
上記蒸気流の入射角θを規制している。即ち、上記非磁
性支持体１２に対する蒸着は、上記マスク１５から露出
する上記非磁性支持体１２に対してなされ、当該非磁性
支持体１２が上記マスク１５により遮蔽される時点で終
了される。従って、上記蒸気流の入射角θは、上記非磁
性支持体１２の移動とともに高角度から低角度に徐々に
変化し、上記マスク１５が配設された位置で最小値をと
る。また、得られる磁性層の磁気特性を向上させる目的
から、上記マスク１５の端部にはＯ２　ガス導入口１６
が設けられ、このＯ２　ガス導入口１６より上記蒸気流
中にＯ２　ガスが導入されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような真空蒸着法
により磁性層を成膜する方法においては、磁性層を構成
している強磁性金属薄膜の結晶配向性が電磁変換特性に
大きく影響する。従って、電磁変換特性の向上を図るた
めには、蒸発源からの蒸気流の非磁性支持体に対する入
射方向を良好に制御し、得られる強磁性金属薄膜の結晶
配向性を改善することが要求される。ところが、図３に
示されるような従来の技術では、蒸発せしめられた蒸発
粒子は何ら束縛されることなく蒸発源から非磁性支持体
の表面に向かって飛ばされる。このため、上記蒸発粒子
の飛来方向はある程度は揃っているものの、決して十分
な制御性が保たれているとは言い難い。そこで本発明は
、上述の従来の実情に鑑みて提案されたものであり、蒸
発源からの蒸気流の入射角を良好に制御して、強磁性金
属薄膜の配向性の向上を図り、電磁変換特性に優れた磁
気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の目的
を達成するために検討を重ねた結果、強磁性金属薄膜を
成膜するための蒸着の際に、スリットを用いて蒸発せし
められた蒸発粒子の飛来方向を揃えることにより、配向
性の良い結晶成長を行うことができ、電磁変換特性が向
上することを見出し、本発明に至ったものである。即ち
、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基体上に強磁性
金属薄膜を真空蒸着法により成膜するに際し、蒸発源と
前記基体との間に前記蒸発源からの蒸気流の方向に対し
て平行となるようにスリットを配設することを特徴とす
るものである。

【０００６】本発明において、磁性層とされる強磁性金
属薄膜は真空蒸着法により成膜される。ここで、真空蒸
着法としては、典型的に斜め蒸着が採用される。上記斜
め蒸着とは、蒸発源から蒸発せしめられた強磁性金属材
料の蒸気流を移動する基体の表面の法線方向に対して所
定の入射角をなす方向から入射させ、上記基体上に強磁
性金属材料を蒸着させる方法である。

【０００７】このような蒸着に際し、蒸発源と前記基体
との間にスリットを配設する。このスリットは、前記蒸
発源からの蒸気流の方向（蒸発せしめられた蒸発粒子全
体としての流れの方向）に対して平行となるように配設
される。これにより、上記蒸発源からの蒸気流の方向に
対して平行に飛んできた蒸発粒子は、そのまま上記基体
の表面に被着し、それ以外の散乱されて飛んできた蒸発
粒子は上記スリットに衝突して、上記基体の表面には到
達できなくなる。従って、上記蒸発粒子の飛来方向が前
記蒸発源からの蒸気流の方向に揃えられる。これにより
、配向性の良い結晶成長を行うことができ、電磁変換特
性の向上が図られる。上記スリットは、一定の厚さ及び
上記蒸気流の方向に一定の長さを有し、且つ上記基体の
幅方向に長い平板状とされる。上記厚さや基体の幅方向
の長さは、装置の種類や蒸発源の大きさ、形状等によっ
て適宜選定されることが望ましい。また、上記蒸気流の
方向の長さも、装置や蒸発源等の制約から適宜選定され
れば良いが、好ましくは３ｃｍ以上とされる。このよう
なスリットは、上記基板の走行方向に複数枚配列させて
も良い。この場合、各スリット間の間隔は、適宜選定さ
れれば良い。

【０００８】本発明において、上記強磁性金属薄膜を構
成する金属材料としては、特に限定されるものではなく
、例えばＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ−
Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ等の従来公
知の強磁性金属材料が何れも使用可能である。また、上
記基体としては、通常この種の磁気記録媒体において使
用されるものが何れも使用可能である。更に、本発明に
おいては、必要に応じて、上記基体上に下塗り膜を形成
する工程やバックコート層、トップコート層等を形成す
る工程等を加えても良い。この場合、下塗り膜、バック
コート層、トップコート層等の成膜条件は、通常この種
の磁気記録媒体の製造方法に適用される方法であれば良
く、特に限定されない。

【０００９】

【作用】基体上に強磁性金属薄膜を成膜するに際し、蒸
発源と前記基体との間に前記蒸発源からの蒸気流の方向
に対して平行となるようにスリットを配設することによ
り、蒸発せしめられた蒸発粒子の上記基体の表面に対す
る入射方向が一定に揃えられる。これは、上記蒸発粒子
のうち、蒸発源からの蒸気流の方向と平行に飛んできた
ものは、そのまま上記基体の表面に入射されるが、それ
以外の散乱されて飛んできたものは上記スリットに衝突
して、上記基体の表面には到達できなくなるためである
。従って、上記蒸発粒子が上記基体の表面に対して常に
一定の方向から入射されるので、配向性の良い結晶成長
が行われ、電磁変換特性が向上する。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の好適な実施例について実験結
果にもとづき説明する。本実施例は、蒸発源と非磁性支
持体との間に複数のスリットを前記蒸発源からの蒸気流
の方向に対して平行となるようにそれぞれ配設して、斜
め蒸着により強磁性金属薄膜を成膜した例である。先ず
、図１に示すように、ドラム１の外周面１ａに非磁性支
持体２を巻回させ、上記ドラム１の回転に応じて上記非
磁性支持体２を図中ａ方向に５ｍ／分の速度で移動させ
ながら、ルツボ３内に充填された蒸発源（Ｃｏ１００　
）４からの蒸気流Ｙを上記非磁性支持体２の表面の法線
方向Ｘに対してある入射角θを持たせて入射させ、上記
非磁性支持体２上に強磁性金属薄膜８を成膜する。

【００１１】ここで、上記ドラム１の近傍で、且つ上記
非磁性支持体２に対して蒸着をなす領域（蒸着領域）の
最終部にはマスク５が配設される。これにより、上記非
磁性支持体２に対する蒸着は、上記非磁性支持体２の表
面が上記マスク５から露出する領域においてなされ、当
該非磁性支持体２の表面が上記マスク５で遮蔽される時
点で終了される。従って、上記蒸気流Ｙの入射角θは、
上記非磁性支持体２の移動とともに高角度から低角度に
徐々に変化し、上記マスク５が配設された位置で最小値
をとる。この蒸気流Ｙの入射角θの最小値は３０°に設
定されることが好ましい。このように、上記蒸気流Ｙの
入射角θを規制することにより、良好な蒸着効率を確保
できると同時に、磁気特性の向上を図ることができる。 このマスク５の端部側にはＯ２　ガス導入口７が設けら
れ、このＯ２　ガス導入口７から上記非磁性支持体２の
表面にＯ２　ガスが供給される。このように、Ｏ２　ガ
スを上記蒸発源４からの蒸気流Ｙ中に導入することによ
り、得られる強磁性金属薄膜８の磁気特性が改善される
。

【００１２】また、上記蒸着領域の中間部における上記
ドラム１の近傍で、且つ上記蒸発源４と上記非磁性支持
体との間には、複数のスリット板６が配設される。これ
らスリット板６は、図２に示すように、上記非磁性支持
体２の走行方向に互いに一定間隔ｄを空けて配列され、
且つ各スリット板６の板面が上記蒸気流Ｙの方向（蒸発
せしめられた蒸発粒子全体としての流れの方向）に対し
て平行となるように配設される。上記スリット板６の間
隔ｄは、適宜選定されれば良く、狭いほど蒸発粒子の飛
来方向を効果的に揃えることができるが、狭すぎると蒸
着効率が低下する虞れがある。上記スリット板６は上記
蒸気流Ｙの方向に一定の長さｌを有し、且つ上記非磁性
支持体２の幅方向の長さｋが当該非磁性支持体２の幅と
ほぼ等しくされている。上記蒸気流Ｙの方向の長さｌは
、電磁変換特性の向上を図る目的から、３ｃｍ以上とさ
れることが好ましい。このようなスリット板６により、
蒸発せしめられた蒸発粒子のうち、上記蒸気流Ｙの方向
と平行に飛んできたものは、そのまま上記非磁性支持体
２の表面に入射されるが、それ以外の散乱されて飛んで
きたものは当該スリット板６に衝突して、上記非磁性支
持体２の表面には到達できなくなる。従って、上記蒸気
流Ｙの方向と平行な方向から飛んできた蒸発粒子のみが
上記非磁性支持体２の表面に被着されることになり、配
向性の良い結晶成長を行うことができる。このため、電
磁変換特性の向上を図ることができる。

【００１３】以上のような磁気記録媒体の製造方法によ
り上記蒸気流Ｙの方向の長さｌが１ｃｍ、３ｃｍ及び５
ｃｍであるスリット板６を用いて各種磁気テープを作製
し、得られた磁気テープと上記スリット板６を使用せず
に従来の斜め蒸着により磁性層を形成した磁気テープ（
比較例）について、それぞれ角形比及び出力特性を調べ
た。この結果を表１に示す。なお、出力特性は、波長０
．５４μｍにおける再生出力を８ｍｍビデオテープレコ
ーダ（商品名ＥＶＳ９００）により測定した値とした。

【表１】

【００１４】表１から明らかなように、比較例と比べる
と、本発明を適用した磁気テープでは、何れも高い角形
比が得られるとともに、再生出力が２ｄＢ程度又はそれ
以上改善することが判った。また、上述のようなスリッ
ト板の蒸気流Ｙの方向の長さｌが３ｃｍ以上とされる時
に、良好な磁気特性、電磁変換特性を確保することがで
きた。

【００１５】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気記録媒体の製造方法は、基体に対して蒸着を行
う際に、スリットによって蒸発せしめられた蒸発粒子の
飛来方向が一定方向に揃えられるので、結晶配向性が向
上し、良好な電磁変換特性を確保するとができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法における強磁
性金属薄膜の蒸着工程を示す断面図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の製造方法における強磁
性金属薄膜の蒸着工程を示す斜視図である。

【図３】従来の磁気記録媒体の製造方法における強磁性
金属薄膜の蒸着工程を示す断面図である。

【符号の説明】

２・・・非磁性支持体 ４・・・蒸発源 ５・・・マスク ６・・・スリット板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　基体上に強磁性金属薄膜を真空蒸着法
   により成膜するに際し、蒸発源と前記基体との間に前記
   蒸発源からの蒸気流の方向に対して平行となるようにス
   リットを配設することを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。