JPH02283012A - 有機被膜除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、半導体デバイス上に表面保護のために形成さ
れた有機被膜を溶剤により溶解・除去するための装置に
関するものである。

（従来の技術） 従来、半導体デバイス上の有機被膜除去の方法としては
、有機被膜をピンセット等を用いてはがし取ることによ
って除去していた。すなわち、有機被膜の形成された半
導体デバイスを顕微鏡で観察しながら、１つ１つ単体で
処理していた。

（発明が解決しようとする課題） 有機被膜をピンセラＩ−ではがし取る場合は、ピンセッ
トの先で半導体デバイスに傷をつけたり、また有機被膜
の形成された半導体デバイス１つ１つについて単体で処
理を行なうため、多大な時間と労力とを必要とした。

（課題を解決するための手段） 以上のような問題を解決するために、本発明は次のよう
な構成としている。すなわち、本発明に係る装置は、第
１−溶剤噴出用ノズルのついた有機被膜溶解ユニット（
Ａ）と、第２溶剤噴出用ノズルのついた有機被膜溶解ユ
ニット（Ｂ）と、超純水噴出用ノズルのついた有機被膜
溶解後の半導体デバイスの水洗ユニット（Ｃ）、および
室温を含む温度制御も可能な加熱乾燥用送風口のついた
乾燥ユニット（Ｄ）との４つのユニットの組合せにより
なっている。

そして、ユニツ１’（Ａ）およびユニット（Ｂ）には溶
剤の飛散防止のために、ユニット（Ｃ）には超純水の飛
散防止のために、ユニット（Ｄ）には乾燥効果を高める
ために、それぞれ壁でノズルおよび送風１コの少なくと
も一方向を囲んでいる。

マタ、ユニット（Ａ）、ユニット（Ｂ）、ユニット（Ｃ
）、ユニット（Ｄ）のそれぞれのユニットは単体ではな
く、複数の構成とすることも可能である。

（作　用） 有機被膜溶解ユニット（Ａ）のノズルより第１溶剤を噴
出して半導体デバイス上に形成された有機被膜に吹き付
け、有機被１摸を溶解し１次に、有機被膜溶解ユニット
（Ｂ）のノズルより第２溶剤を噴出して半導体デバイス
上の溶解した有機被膜を完全に溶解・除去し、次に、有
機被膜が溶解・除去された半導体デバイスを水洗ユニッ
ト（Ｃ）のノズルより超純水を、噴出させ、半導体デバ
イスを水洗し、最後に、水洗された半導体デバイスを乾
燥ユニット（Ｄ）より乾燥する。

ユニット（Ａ）、ユニット（Ｂ）、ユニット（Ｃ）。

ユニット（Ｄ）のそれぞれのユニットを複数で構成すわ
ば同時に多数の有機被膜を溶解・除去して、半導体デバ
イスの洗浄、に燥をすることができる。

（実施例） 本発明の実施例を、図面を参照しながら説明する。

第１図は、本発明の有機被膜溶解ユニット（Ａ）の実施
例を示している。第１図の有機被膜溶解ユニッ１−（Ａ
）は、第１溶剤噴出用ノズル１．溶剤飛散防止用壁２．
廃液回収用配管３．溶剤供給装置４、溶剤供給用配管５
．溶剤タンク６からなっている。

第２図は１本発明の有機被膜溶解ユニットＣＢ）の実施
例を示している。第２図の有機被膜溶解ユニット（Ｂ）
は、第２溶剤噴出用ノズル７、溶剤飛散防止用壁２．廃
液回収用配管３．溶剤供給装置４、溶剤供給用配管５．
溶剤タンク６からなっている。

第３図は１本発明の水洗ユニット（Ｃ）の実施例を示し
ている。第３図の水洗ユニット（Ｃ）は、超純水噴出用
ノズル８．超純水飛散防止用壁９．廃液回収用配管３．
超純水供給装置１０．超純水供給用配管１１．超純水タ
ンク】２からなっている。

第４図は、本発明の乾燥ユニット（Ｄ）の実施例を示し
ている。第４図の乾燥ユニット（Ｄ）は、室温を含む温
度制御も可能な加熱乾燥用送風口１３゜乾燥効果向上用
壁１４．廃水回収用配管１５．乾燥用ガス供給袋［１６
，乾燥用ガス供給用配管１７．ガス加熱用ヒータ１８．
ガス供給口１９からなっている。

第５図は、第１図、第２図、第３図および第４図で示し
たそれぞれのユニットを複数にして。

括にしたものである。

本発明に係る有機被膜除去装置により半導体デバイス上
に形成された有機被膜を除去するには、次のようにする
。

まず、有機被膜の形成された半導体デバイスを有機被膜
の面をノズル側に向けて、有機被膜溶解ユニット（Ａ）
のノズル１上方に固定する。この場合、ノズル１と半導
体デバイスとの間には距離をおく。ここでノズル１から
第１溶剤が噴出され半導体デバイス上に形成された有機
被膜にふきつけられ、有機被膜は溶解される。次に、有
機被膜の溶解された半導体デバイスを有機被膜溶解ユニ
ット（Ｂ）のノズル７上方に固定する。この場合もノズ
ルと半導体デバイスとの間には距離をおく。ここでノズ
ル７から第２溶剤が噴出され半導体デバイス上に形成さ
れた有機被膜は完全に溶解・除去される。次に、有機被
膜が溶解・除去された半導体デバイスを水洗ユニットＣ
Ｃ’）のノズル８上方に固定する。この場合もノズルは
半導体デバイスとの間には距離をおく。ここで超純水が
ノズル８から噴出され、半導体デバイスは水洗される。

最後に水洗された半導体デバイスを乾燥ユニット（Ｄ）
の送風口１３上に固定する。この場合も送風口と半導体
デバイスとの間には距離をおく。ここで送風口１３から
の加熱ガスによって、半導体デバイスは乾燥される。

ユニット（Ａ）、ユニット（Ｂ）、ユニット（Ｃ）。

ユニット（Ｄ）のそれぞれのユニットは複数で構成され
ているので、同時に多数の有機被膜を溶解・除去して、
半導体デバイスの水洗・乾燥をすることができる。

（発明の効果） 本発明によれば、従来のように顕微鏡でｗｌ察しながら
ピンセットで１枚１枚有機被膜をはがし取る必要がなく
、神経を使うことなくきわめて容易にかつ正確に有機被
膜を除去することができるのである。もちろん、ピンセ
ラ１〜ではがし取るといった物理的な力は用いていない
ので、半導体デバイスに傷をつけることはない。そして
、同時に多数の有機被膜を除去できるので、労力２時間
を最少限におさえることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の有機被膜溶解ユニット（Ａ）の実施
例を示す断面図、第２図は、本発明の有機被膜溶解ユニ
ット（Ｂ）の実施例を示す断面図、第３図は１本発明の
水洗ユニット（Ｃ）の実施例を示す断面図、第４図は、
本発明の乾燥ユニット（Ｄ）の実施例を示す断面図、第
５図は、第１図、第２図、第３図および第４図のそれぞ
れのユニットを一括し、本発明に係る有機被膜除去装置
を示した断面図である。 ｌ　・・・第１溶剤噴出用ノズル、　２・・・溶剤飛散
防止用壁、　３　・・・廃液回収用配管、４・・・溶剤
供給装置、　５・・・溶剤供給用配管、　６　・・・溶
剤タンク、　７　・・・第２溶剤噴出用ノズル、　８・
・・超純水噴出用ノズル、　９　・・・超純水飛散防止
用壁、１０・・・超純水供給装置、１１・・・超純水供
給用配管、１２・・・超純水タンク、１３・・・室温を
含む温度制御も可能な加熱乾燥用送風口、１４・・・乾
燥効果向上用壁、１５・・廃水回収用配管、　　１６・
・・乾燥用ガス供給装置、　　１７・・・乾燥用ガス供
給用配管、１８・・・ガス加熱用ヒータ、　１９・・・
ガス供給口。 第１図 屑機桔ｌ爽迫解ユニット（Ａ） 特許出願人　松下電子工業株式会社 第 図 内機キ友オ屹透シカ早ユニ７ト（Ｂ） 第 図 第 図 水洗ユニット （Ｃ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）有機物で形成された被膜を溶解するための、第１
   の溶剤を噴出させるノズルを有し、かつ溶剤の飛散を防
   止するために少なくとも一方向の壁を設けて上記ノズル
   を囲む溶剤飛散防止用壁、該溶剤飛散防止用壁の下部に
   接続した、廃液回収用配管および溶剤供給装置を備えた
   第１の有機被膜溶解ユニットと、第１の有機被膜溶解ユ
   ニットにより溶解された溶解被膜をさらに溶解・除去す
   るための第２の溶剤を噴出させるノズルを有し、かつ溶
   剤の飛散を防止するために少なくとも一方向の壁を設け
   て上記ノズルを囲む溶剤飛散防止用壁、該溶剤飛散防止
   用壁の下部に接続した廃液回収用配管および溶剤供給装
   置を備えた第２の有機被膜溶解ユニットと、有機被膜溶
   解後の半導体デバイスを洗浄するための、超純水を噴出
   させるノズルを有し、かつ、超純水の飛散を防止するた
   めに少なくとも一方向の壁を設けて上記ノズルを囲む超
   純水飛散防止用壁、該超純水飛散防止用壁の下部に接続
   した廃液回収用配管および超純水供給装置を備えた水洗
   ユニットと洗浄後の半導体デバイスを乾燥させるための
   乾燥ユニットとからなることを特徴とする有機被膜除去
   装置。
2. （２）各ユニットをそれぞれ複数で構成する請求項（１
   ）に記載する有機被膜除去装置。