JPH022833B2 - - Google Patents
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は陶磁器・ガラス用インキに関し、更に
詳しくは硫化カドミウム系顔料を着色剤とする緑
味の黄色〜赤味の赤色の耐熱性良好な陶磁器・ガ
ラス用インキに関する。
詳しくは硫化カドミウム系顔料を着色剤とする緑
味の黄色〜赤味の赤色の耐熱性良好な陶磁器・ガ
ラス用インキに関する。
(従来の技術)
従来、陶磁器やガラス製品に印刷を施す1つの
手段として低融点フリツトと顔料からなる陶磁
器・ガラス用インキを使用して陶磁器やガラス製
品の表面に印刷を施し、これを500〜700℃の温度
で焼付ける方法が行われている。このような陶磁
器・ガラス用インキ用の顔料としては、高い耐熱
性を有する顔料が要求されるため、通常は各種の
無機顔料が使用されている。
手段として低融点フリツトと顔料からなる陶磁
器・ガラス用インキを使用して陶磁器やガラス製
品の表面に印刷を施し、これを500〜700℃の温度
で焼付ける方法が行われている。このような陶磁
器・ガラス用インキ用の顔料としては、高い耐熱
性を有する顔料が要求されるため、通常は各種の
無機顔料が使用されている。
(発明が解決しようとしている問題点)
上記無機顔料のうちで緑色の黄色〜赤味の赤色
の顔料については硫化カドミウム系顔料が各種性
能に優れているため、陶磁器・ガラス用インキ用
顔料として広く使用されているが、フリツトとし
て酸化鉛を含有する低融点フリツトを使用する
と、この酸化鉛と硫化カドミウム系顔料とが焼付
焼成時の高温で反応し、色調が不鮮明となる場合
が多く、そのため焼付焼成を窒素雰囲気下で行つ
たり、あるいは予めフリツト中にCd分を多量に
含有させておく必要がある。
の顔料については硫化カドミウム系顔料が各種性
能に優れているため、陶磁器・ガラス用インキ用
顔料として広く使用されているが、フリツトとし
て酸化鉛を含有する低融点フリツトを使用する
と、この酸化鉛と硫化カドミウム系顔料とが焼付
焼成時の高温で反応し、色調が不鮮明となる場合
が多く、そのため焼付焼成を窒素雰囲気下で行つ
たり、あるいは予めフリツト中にCd分を多量に
含有させておく必要がある。
従つてこのような高温な設備と煩雑な条件設定
をすることなく、また高価で特殊なCd含有フリ
ツトを使用することなく、通常の雰囲気下で酸化
鉛を含有する安価な低融点フリツトを使用しても
その焼付焼成時に変色を生じない硫化カドミウム
系顔料の開発が要望されている。
をすることなく、また高価で特殊なCd含有フリ
ツトを使用することなく、通常の雰囲気下で酸化
鉛を含有する安価な低融点フリツトを使用しても
その焼付焼成時に変色を生じない硫化カドミウム
系顔料の開発が要望されている。
本発明者は上記の如き従来技術の要望に応える
べく鋭意研究の結果、陶磁器・ガラス用インキ用
の硫化カドミウム系顔料に特定の処理を施すこと
によつて、通常の雰囲気下でも低融点フリツトに
よつて変色を生じない硫化カドミウム系顔料が得
られることを知見して本発明を完成した。
べく鋭意研究の結果、陶磁器・ガラス用インキ用
の硫化カドミウム系顔料に特定の処理を施すこと
によつて、通常の雰囲気下でも低融点フリツトに
よつて変色を生じない硫化カドミウム系顔料が得
られることを知見して本発明を完成した。
(問題点を解決するための手段)
すなわち、本発明は低融点フリツトおよび顔料
からなる陶磁器・ガラス用インキにおいて、顔料
が粒子表面にハロゲンイオンを吸着した硫化カド
ミウム系顔料であることを特徴とする陶磁器・ガ
ラス用インキである。
からなる陶磁器・ガラス用インキにおいて、顔料
が粒子表面にハロゲンイオンを吸着した硫化カド
ミウム系顔料であることを特徴とする陶磁器・ガ
ラス用インキである。
本発明を更に詳細に説明すると、本発明におい
て使用し本発明を主として特徴づけるハロゲンイ
オンを吸着した硫化カドミウム系顔料は、従来公
知のいずれの技術によつても得ることができる
が、特に好ましい方法は、硫化カドミウム系顔料
を、LiCl、NaCl、KCl、MgCl2、CaCl2、
ZnCl2、AlCl3、CdCl2、SnCl2等の水溶性ハロゲ
ン化金属、好ましくは塩素化金属の水溶液中に分
散させ、これらの塩のハロゲンイオンを充分に吸
着させる方法である。
て使用し本発明を主として特徴づけるハロゲンイ
オンを吸着した硫化カドミウム系顔料は、従来公
知のいずれの技術によつても得ることができる
が、特に好ましい方法は、硫化カドミウム系顔料
を、LiCl、NaCl、KCl、MgCl2、CaCl2、
ZnCl2、AlCl3、CdCl2、SnCl2等の水溶性ハロゲ
ン化金属、好ましくは塩素化金属の水溶液中に分
散させ、これらの塩のハロゲンイオンを充分に吸
着させる方法である。
硫化カドミウム系顔料をハロゲン化金属の水溶
液中に分散させる方法は、従来公知の顔料の分散
方法はいずれも使用でき、例えばガラスビーズを
メデイアとしたサンドミル等の分散機を用いるこ
とができる。
液中に分散させる方法は、従来公知の顔料の分散
方法はいずれも使用でき、例えばガラスビーズを
メデイアとしたサンドミル等の分散機を用いるこ
とができる。
硫化カドミウム系顔料の分散濃度は特に限定さ
れないが、経済性および製品の均一性を考慮すれ
ば、約5〜15重量%程度が好ましい。
れないが、経済性および製品の均一性を考慮すれ
ば、約5〜15重量%程度が好ましい。
上記において使用するハロゲン化金属は、任意
の量でよいが、好ましくは顔料の5〜20重量%の
割合で使用する。吸着させるハロゲンイオンの量
は、顔料の約0.2〜2重量%程度が好ましい。
の量でよいが、好ましくは顔料の5〜20重量%の
割合で使用する。吸着させるハロゲンイオンの量
は、顔料の約0.2〜2重量%程度が好ましい。
本発明の陶磁器・ガラス用インキは上記の如き
ハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム系顔料
を使用することを主たる特徴としており、それ以
外の成分、例えば低融点フリツトおよびベヒクル
等はいずれも従来公知のものがそのまま使用でき
る。
ハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム系顔料
を使用することを主たる特徴としており、それ以
外の成分、例えば低融点フリツトおよびベヒクル
等はいずれも従来公知のものがそのまま使用でき
る。
例えば低融点フリツトとしては、酸化鉛を主成
分として、その他アルミナ、シリカ、酸化カルシ
ウム、酸化チタン、酸化ナトリウム、酸化カリウ
ム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ホウ素等
から形成されるものであり、酸化鉛のモル比を調
節してその融点を550℃〜620℃程度に調節したも
のが好ましい。このような低融点フリツトはいず
れも市場から容易に入手することができる。
分として、その他アルミナ、シリカ、酸化カルシ
ウム、酸化チタン、酸化ナトリウム、酸化カリウ
ム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ホウ素等
から形成されるものであり、酸化鉛のモル比を調
節してその融点を550℃〜620℃程度に調節したも
のが好ましい。このような低融点フリツトはいず
れも市場から容易に入手することができる。
またベヒクルとしては、従来陶磁器・ガラス用
インキに用いられているスキージオイルが好まし
く使用される。
インキに用いられているスキージオイルが好まし
く使用される。
本発明の陶磁器・ガラス用インキは上記の三成
分を必須成分とするが、その他各種の無機顔料等
の如く従来公知の添加剤はいずれも必要に応じて
併用し得るものである。
分を必須成分とするが、その他各種の無機顔料等
の如く従来公知の添加剤はいずれも必要に応じて
併用し得るものである。
以上の如き好ましい方法または他の方法で得ら
れるハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム系
顔料は、その全量のうち約0.2〜2重量%がハロ
ゲンイオンであるのが好適であり、約0.2重量%
未満の量では、得られる硫化カドミウム系顔料の
耐熱変色性が不十分であり、また約2重量%を越
える量では得られる硫化カドミウム系顔料の着色
力、隠蔽力やその他の顔料としての性質が低下す
るので好ましくない。
れるハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム系
顔料は、その全量のうち約0.2〜2重量%がハロ
ゲンイオンであるのが好適であり、約0.2重量%
未満の量では、得られる硫化カドミウム系顔料の
耐熱変色性が不十分であり、また約2重量%を越
える量では得られる硫化カドミウム系顔料の着色
力、隠蔽力やその他の顔料としての性質が低下す
るので好ましくない。
上記方法で使用する硫化カドミウム系顔料とし
ては従来公知の硫化カドミウム系顔料はいずれも
使用でき、例えば硫化亜鉛を15重量%程度まで含
有してもよい黄色系の硫化カドミウム系顔料か
ら、適当な量のセレン化カドミウム(〜50重量
%)を含むオレンジ色〜赤色の硫化カドミウム系
顔料がいずれも使用できる。その他少量の硫酸バ
リウム等の体質顔料を含有するものでもよいのは
当然である。
ては従来公知の硫化カドミウム系顔料はいずれも
使用でき、例えば硫化亜鉛を15重量%程度まで含
有してもよい黄色系の硫化カドミウム系顔料か
ら、適当な量のセレン化カドミウム(〜50重量
%)を含むオレンジ色〜赤色の硫化カドミウム系
顔料がいずれも使用できる。その他少量の硫酸バ
リウム等の体質顔料を含有するものでもよいのは
当然である。
本発明の陶磁器・ガラス用インキにおいては、
前記のハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム
系顔料は、インキ中において約4〜8重量%を占
める割合で使用するのが好ましく、また低融点フ
リツトはインキ中で約60〜70重量%を占める割合
で使用するのが好ましく、またベヒクルはインキ
中で約25〜30重量%を占める割合で使用するのが
好ましい。
前記のハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム
系顔料は、インキ中において約4〜8重量%を占
める割合で使用するのが好ましく、また低融点フ
リツトはインキ中で約60〜70重量%を占める割合
で使用するのが好ましく、またベヒクルはインキ
中で約25〜30重量%を占める割合で使用するのが
好ましい。
本発明の陶磁器・ガラス用インキを製造する方
法自体は従来公知の方法、例えば3本ロール等を
用いて配合物を十分に混合・磨砕・練肉すること
によつて得ることができる。
法自体は従来公知の方法、例えば3本ロール等を
用いて配合物を十分に混合・磨砕・練肉すること
によつて得ることができる。
(作用・効果)
以上の如き本発明の陶磁器・ガラス用インキは
各種の陶磁器・ガラス器、ホーロー製品の表面に
各種の文字、図形等の絵柄を付与するインキとし
て有用であり、例えば本発明の陶磁器・ガラス用
インキをシルクスクリーン印刷がその他の各種の
曲面印刷技術によつて任意の絵柄を印刷し、これ
を約500〜700℃の温度で焼付焼成することにより
緑味の黄色〜赤味の赤色の諸堅牢性に優れた絵柄
を付与することができる。
各種の陶磁器・ガラス器、ホーロー製品の表面に
各種の文字、図形等の絵柄を付与するインキとし
て有用であり、例えば本発明の陶磁器・ガラス用
インキをシルクスクリーン印刷がその他の各種の
曲面印刷技術によつて任意の絵柄を印刷し、これ
を約500〜700℃の温度で焼付焼成することにより
緑味の黄色〜赤味の赤色の諸堅牢性に優れた絵柄
を付与することができる。
本発明の陶磁器・ガラス用インキの最大の特徴
は、従来の硫化カドミウム系顔料を着色成分とす
る陶磁器・ガラス用インキにおいては、その焼成
焼付を窒素雰囲気下等の如き実質上無酸素の雰囲
気下で行わない限り、あるいはCdを多量に含む
高価で特殊なフリツトを使用しない限り、使用し
た硫化カドミウム系顔料が低融点フリツト中の酸
化鉛の1部と反応して硫化カドミウム系顔料の鮮
明性が失われ、高彩色の印刷が不可能であつたの
に対して、本発明の陶磁器・ガラス用インキはこ
のような煩雑でコスト高な窒素雰囲気や特殊なフ
リツト等を何ら使用することなく、通常の大気雰
囲気下で従来と同様な安価なフリツトを用いて焼
付焼成しても、インキ中の硫化カドミウム系顔料
が何ら変色することなく高い鮮明性を有する絵柄
が何ら変色することなく高い鮮明性を有する絵柄
を与えることができる点である。
は、従来の硫化カドミウム系顔料を着色成分とす
る陶磁器・ガラス用インキにおいては、その焼成
焼付を窒素雰囲気下等の如き実質上無酸素の雰囲
気下で行わない限り、あるいはCdを多量に含む
高価で特殊なフリツトを使用しない限り、使用し
た硫化カドミウム系顔料が低融点フリツト中の酸
化鉛の1部と反応して硫化カドミウム系顔料の鮮
明性が失われ、高彩色の印刷が不可能であつたの
に対して、本発明の陶磁器・ガラス用インキはこ
のような煩雑でコスト高な窒素雰囲気や特殊なフ
リツト等を何ら使用することなく、通常の大気雰
囲気下で従来と同様な安価なフリツトを用いて焼
付焼成しても、インキ中の硫化カドミウム系顔料
が何ら変色することなく高い鮮明性を有する絵柄
が何ら変色することなく高い鮮明性を有する絵柄
を与えることができる点である。
従つて本発明の陶磁器・ガラス用インキを使用
することによつて、簡単な設備で優れた着色陶磁
器、着色ガラス器、着色ホーロー製品等を安価に
提供することができる。
することによつて、簡単な設備で優れた着色陶磁
器、着色ガラス器、着色ホーロー製品等を安価に
提供することができる。
次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明
する。なお、文中%とあるのは重量基準である。
する。なお、文中%とあるのは重量基準である。
実施例 1
硫化カドミウム系黄色顔料(CdS96%・ZnS4
%)150gを水850c.c.中に十分に分散させ、次いで
NaCl25gを加え、10〜20分間かきまぜる。
%)150gを水850c.c.中に十分に分散させ、次いで
NaCl25gを加え、10〜20分間かきまぜる。
次いで常法により濾過、水洗および乾燥して、
ハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム系顔料
151.5gを得た。この顔料中のハロゲンイオンは、
顔料の1.0重量%を占めるものであつた。
ハロゲンイオンを吸着した硫化カドミウム系顔料
151.5gを得た。この顔料中のハロゲンイオンは、
顔料の1.0重量%を占めるものであつた。
実施例 2
実施例1における食塩の代わりにZnCl229gを
使用したことを除いて、他は実施例1と同様にし
てハロゲンイオン量が全体の1.0重量%である硫
化カドミウム系顔料を得た。
使用したことを除いて、他は実施例1と同様にし
てハロゲンイオン量が全体の1.0重量%である硫
化カドミウム系顔料を得た。
実施例 3
実施例1〜2で得られたハロゲンイオンを吸着
した硫化カドミウム系顔料0.5g、低融点フリツ
ト5gおよびスキージオイル2gをセラミツク用
3本ロールで混合分散して本発明の陶磁器・ガラ
ス用インキA(実施例1)およびB(実施例2)を
得た。一方実施例1および2に対応するハロゲン
イオンを吸着してない硫化カドミウム系顔料をそ
れぞれ用いて同様にして比較用の陶磁器・ガラス
用インキA′(実施例1に対応する顔料)および
B′(実施例2に対応する顔料)を得た。
した硫化カドミウム系顔料0.5g、低融点フリツ
ト5gおよびスキージオイル2gをセラミツク用
3本ロールで混合分散して本発明の陶磁器・ガラ
ス用インキA(実施例1)およびB(実施例2)を
得た。一方実施例1および2に対応するハロゲン
イオンを吸着してない硫化カドミウム系顔料をそ
れぞれ用いて同様にして比較用の陶磁器・ガラス
用インキA′(実施例1に対応する顔料)および
B′(実施例2に対応する顔料)を得た。
上記の本発明の陶磁器・ガラス用インキA、B
および比較用の陶磁器・ガラス用インキA′およ
びB′をガラス容器にスクリーン印刷し、次いで
大気中で620℃で20分間焼付焼成したところ、本
発明の陶磁器・ガラス用インキAおよびBを用い
たものはそれぞれ鮮明な発色を示したが、比較用
の陶磁器・ガラス用インキA′、B′を用いたもの
はいずれも色調が黒ずみ、鮮明性に劣るものであ
つた。
および比較用の陶磁器・ガラス用インキA′およ
びB′をガラス容器にスクリーン印刷し、次いで
大気中で620℃で20分間焼付焼成したところ、本
発明の陶磁器・ガラス用インキAおよびBを用い
たものはそれぞれ鮮明な発色を示したが、比較用
の陶磁器・ガラス用インキA′、B′を用いたもの
はいずれも色調が黒ずみ、鮮明性に劣るものであ
つた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 低融点フリツトおよび顔料からなる陶磁器・
ガラス用インキにおいて、顔料が粒子表面にハロ
ゲンイオンを吸着した硫化カドミウム系顔料であ
ることを特徴とする陶磁器・ガラス用インキ。 2 ハロゲンイオンの量が、顔料全体中で0.2〜
2重量%を占める特許請求の範囲第1項に記載の
陶磁器・ガラス用インキ。 3 低融点フリツトが、酸化鉛系低融点フリツト
である特許請求の範囲第1項に記載の陶磁器・ガ
ラス用インキ。 4 ハロゲンイオンが、塩素イオンである特許請
求の範囲第1項に記載の陶磁器・ガラス用イン
キ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10698485A JPS61266377A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 陶磁器・ガラス用インキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10698485A JPS61266377A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 陶磁器・ガラス用インキ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61266377A JPS61266377A (ja) | 1986-11-26 |
| JPH022833B2 true JPH022833B2 (ja) | 1990-01-19 |
Family
ID=14447525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10698485A Granted JPS61266377A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 陶磁器・ガラス用インキ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61266377A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9112041B2 (en) | 2009-10-30 | 2015-08-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Transistor having an oxide semiconductor film |
-
1985
- 1985-05-21 JP JP10698485A patent/JPS61266377A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9112041B2 (en) | 2009-10-30 | 2015-08-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Transistor having an oxide semiconductor film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61266377A (ja) | 1986-11-26 |
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