JPH02298214A - 真空炉内のガス流を制御する装置 - Google Patents

真空炉内のガス流を制御する装置

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JPH02298214A
JPH02298214A JP2079053A JP7905390A JPH02298214A JP H02298214 A JPH02298214 A JP H02298214A JP 2079053 A JP2079053 A JP 2079053A JP 7905390 A JP7905390 A JP 7905390A JP H02298214 A JPH02298214 A JP H02298214A
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ventilator
furnace
gas flow
gas
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JP2079053A
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Karlheinz Neubecker
カールハインツ・ノイベツカー
Cordt Rohde
コルト・ローデ
Gerhard Welzig
ゲルハルト・ヴエルツイヒ
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Evonik Operations GmbH
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Degussa GmbH
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    • C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
    • C21D1/767—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material with forced gas circulation; Reheating thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、真空炉内のガス流を制御する装置であって、
装入室内の装入物がベンチレータの行うガス循環によっ
て、約７５０℃まで加熱され、かつ冷却される形式のも
のに関する。
［従来の技術］ 真空炉は、通常円筒状の圧力ケーシングから形成されて
いる。さらに圧力ケーシング内には、断熱材によって取
囲まれた加熱される装入室と、熱交換器上、加熱及び冷
却ガスを循環させるためのベンチレータとが設けられて
いる。有利には、装入物がガス流の対流によって加熱さ
れる加熱過程時にも、冷却過程時にも、ガスは管状の熱
伝導体を通って装入室内へ案内される。この場合、熱伝
導体は円筒状の装入室の外周面に軸方向に取付けられて
おり、かつ装入室内へ向かうノズルを有している。さら
に有利には、ガスが上記２つの駆動過程時に同じベンチ
レータによって循環される。このような形式の炉はＤＥ
−ＰＳ＠３７　３６　５０２号明細書に開示されている
。
装入物を同じガスによって確実に加熱及び冷却するため
には、炉の内部に制御装置を設けなければならない。制
御装置は、ベンチレータによって循環されるガス流を２
つの回路間で切換え制御するものである。この切換え制
御によってガスが、一方の場合では、断熱材によって被
覆された炉の加熱範囲内部のみで循環され、他方の場合
では、断熱材とケーシング壁との間に配置された熱交換
管を通って案内される。
ＤＥ−ＰＳ第３７　３６　５０２号明細書に開示された
炉では、上記制御装置は以下の様に構成されている。即
ち、断熱材とケーシング壁との間に形成されかつ熱交換
管の配置された環状室へ向いた開口及び装入室へ向いた
開口を有するケースが、ガス分配装置内に設けられたベ
ンチレータの吸気側と装入室との間に組込まれている。
このケース内に配置されｊ；スライダは、炉の軸線に対
して横向きのピストンロッドによって移動させられる。
スライダの調節に応じて、上記装入室へ向いた開口及び
上記環状室へ向いた開口のどちらか一方が開放されて、
それと同時に残りの一方が閉鎖される。
しかし、上記明細書に記載された制御装置が有する欠点
は、スライダによっては横断面の小さな開口しかシール
されず、それによってガスの貫流時におけるガス流内の
圧力損失が大きくなってしまう点にある。さらに、ガス
流は非対称にベンチレータへ供給されるので、加熱管へ
一様に分配されない。また、スライダは２つの最終位置
間の極めて長い距離を移動しなければならない。さらに
、このスライダを操作するためには、炉のケーシングか
ら突出する程長いシリンダが必要であり、このシリンダ
によって炉の構成が制限されてしまう。
【発明が解決しようとする課題ｊ 従って本発明の課題は、ベンチレータの吸気開口が装入
室又は上記環状室と選択的に連通されると共に、ガス流
が充分に放射相対称に供給されて流れ損失が極めてわず
かとなり、さらには制御装置の操作量が極めてわずかと
なるような、はじめに述べた形式の制御装置を提供する
ことにある。
Ｌ課題を解決するための手段ｊ 上記課題は、本発明によればはじめに述べた形式の制御
装置において、炉の中心軸線に対して同軸的で相対的に
移動可能な２つのシリンダが、装入室とベンチレータと
の間に配置されており、これらのシリンダのうちで外側
のシリンダが装入室と堅固に結合されており、内側のシ
リンダがリンク機構によって、装入室内に固定された衝
突プレートとベンチレータの吸気開口との間を軸方向に
移動させられることによって解決されている。
〔実施例］ 次に図示の実施例につき本発明を説明する。
真空炉は受容体１１から形成されており、受容体１１内
で断熱材１２の内側に装入室１３が形成されている。装
入室１３は加熱管１４によりて加熱されると同時にガス
を供給されている。受容体１１と断熱材１２との間には
熱交換・°器１５が配置されている。
本発明による制御装置は同軸的な２つのシリンダから形
成されている。これらのシリンダのうちで外側のシリン
ダｌは、装入室１３の、ベンチレータ６に向いた！！２
と堅固に結合されており、かつ、わずかな遊びのあるよ
うにこの外側のシリンダＩ内へはめ込まれた内側のシリ
ンダ３のための案内部として役立っている。上記２つの
シリンダのうちで内側のシリンダ３は、植込ボルト４に
よって装入室１３の壁２に固定された衝突プレート５と
、ベンチレータ６を取囲むガス分配装置７の壁との間を
、リンク機構によって移動させられる。炉の中心軸線に
対して横方向の軸８が受容体１１内へ案内されているこ
とにより、上記制御装置は有利に操作される。上記の軸
８には切換えフォーク９が固定されており、切換えフォ
ーク９はロッドｌＯに係合しており、ＰツドｌＯは内側
のシリンダ３内を横方向に貫通しており、かつこのシリ
ンダ３と堅固に結合されている。内側のシリンダ３をロ
ッド１０によって移動させるために、定置で外側のシリ
ンダｌには長手方向スリットが形成されている。このよ
うな構成によって、軸８がわずかな角度で回転すると、
運動可能なシリンダ３は第３図及び第４図に示された２
つの最終位置の間で移動することができる。
第３図によれば、内側のシリンダ３の一端面がガス分配
装置７の壁に当接しており、それによって、断熱材１２
よりも外側の炉室がベンチレータ６の吸気開口に対して
シールされる。それと同時に、衝突プレート５と装入室
３の壁２との間の環状のガス供給横断面が開放される。
それによって、装入室１３内のガスが内側のシリンダ３
の自由横断面を介してベンチレータ６によって吸込まれ
る。
第４図によれば、内側のシリンダ３の他端面が衝突プレ
ート５に当接しており、かつ装入室１３をシールしてい
る。それによって、断熱材１２よりも外側の炉室へ向い
た環状のガス流横断面がベンチレータ６の吸気開口だ対
して開放される。
上記２つのシリンダ１．３は有利には、全外周面を黒鉛
シートによって被覆された耐熱性の黒鉛オーステナイト
から製作される。このような材料から製作されることに
よって両シリンダ１．２の重量は軽くなり、かつ摩擦値
も小さくなるので、シリンダを操作する力がわずかで済
むようになる。
上記環状のガス供給横断面によって、上記２つの駆動過
程時にガスは完全に放射相対称にベンチレータ６へ供給
される。さらに、環状の横断面がベンチレータ６の吸気
横断面と適合されていることによって、流れ損失が減少
される。
制御装置を操作するために必要な軸８の回転は、例えば
コンパクトな旋回シリンダによって生ぜしめられるが、
この旋回シリンダによって炉の構成が制限されることは
ない。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明による装置の１実施１例を示すもので、 第１図及び第２図はＤＥ−ＰＳ第３７３６５０２号明細
書による真空炉内の本発明による制御装置を２つの最終
位置で示す概略的な一部断面図、第３図及び第４図はそ
れぞれ第１図及び第２図による制御装置の拡大図である
。 ｌ・・・外側のシリンダ、２・・・装入室の壁、３・・
・内側のシリンダ、４・・・植込ボルト、５・・・衝突
プレート、６・・・ベンチレータ、７・・・ガス分配装
置、８・・・軸、９・・・切換えフォーク、ｌＯ・・・
ロッド、１１・・・受容体、１２・・・断熱材、１３・
・・装入室、１４・・・加熱管、１５・・・熱交換器１
・・・外側のシリンダ ３・・・内側のシリンダ ６・・・ベンチレータ １３・・装入室 第１図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １、真空炉内のガス流を制御する装置であって、装入室
    内の装入物がベンチレータの行うガス循環によって加熱
    及び冷却される形式のものにおいて、炉の中心軸線に対
    して同軸的で相対的に移動可能な２つのシリンダ（１、
    ３）が、装入室（１３）とベンチレータ（６）との間に
    配置されており、これらのシリンダ（１、３）のうちで
    外側のシリンダ（１）が装入室（１３）と堅固に結合さ
    れており、内側のシリンダ（３）がリンク機構によって
    、装入室（１３）内に固定された衝突プレート（５）と
    ベンチレータ（６）の吸気開口との間を軸方向に移動さ
    せられることを特徴とする、真空炉内のガス流を制御す
    る装置。
JP2079053A 1989-03-30 1990-03-29 真空炉内のガス流を制御する装置 Pending JPH02298214A (ja)

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DE3910234A DE3910234C1 (ja) 1989-03-30 1989-03-30

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AT (1) ATE85420T1 (ja)
BG (1) BG51162A3 (ja)
BR (1) BR9001374A (ja)
CA (1) CA2013083A1 (ja)
CS (1) CS275173B2 (ja)
DD (1) DD299673A5 (ja)
DE (2) DE3910234C1 (ja)
DK (1) DK0389889T3 (ja)
ES (1) ES2037490T3 (ja)
HR (1) HRP920580A2 (ja)
HU (1) HU207155B (ja)
PL (1) PL161410B1 (ja)
RO (1) RO105580B1 (ja)
RU (1) RU1836612C (ja)
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