JPH02299742A - 印用蝋母型における印面部の成形方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明はロストワックス法で鋳造中を成形するのに用
いられる印用蝋母型、特に印用蝋母型の印面部の成形に
関し、より詳細には光、特に紫外線の照射によって水あ
るいは有機溶剤に対し不溶性となる高分子物質を原型材
として作られる原型にシリコンゴム等の中間型材を用い
て印用蝋母型の印面部の成形をなす方法に関する。

［従来の技術］ 日常使用されている印には種々のものがあり、権利の得
喪に関する重要な意味を有する印から、帳簿類の誤記訂
正の確認印等のように、比較的軽微な内容の確認に用い
られる印等がある。

かする点から日常用いられている印は、その印材と印の
成形方法とを異にした種々の内容のものが提供されてい
る。

もフとも基本的な印は古来から手彫又は機械形の方法で
ツゲ材、象牙材、水牛角材等に直接印稿を彫込むことが
なされていた。かＳる印材に直接印稿を彫込む方法は逐
一印材に印稿通りの文字、紋様、図形等を彫込む必要が
ある。しかしながら、この印稿通りに精密に文字、紋様
、図形等を彫込むことは至難の技とされ、高度の技術と
多くの彫込手間を必要としていた。この結果、印稿通り
の精度の高い印面の形成には不向きであり、特に量産化
には通していなかった。

又、この種の印材に直接印稿を彫込む印の成形方法では
通例、水晶、メノウ等の貴石や、象牙、水牛の角や紫た
ん、黒たん等の硬い印材が用いられることが多く、印稿
通りの彫込みが特に難しく、しかも彫込まれた印面が欠
は易い等の欠点を有していると共に近時この種の印材の
入手が難しくなる傾向におかれている。

そこで近時、より簡易な方法として金型面に印稿を彫込
み、この金型を用いてインジェクション成形等の方法で
合成樹脂製又は天然ないしは合成ゴム製の印面を形成し
、この印面を釘に接着して用いることが試みられている
。

か）る方法は金型の成形に手間どる割には印面の成形が
容易であり、しかも！産に適することから各方面で′用
いられている。しかしながら、この方法で作られた合成
樹脂ないしはゴム製の印面は耐候性が充分でなく老化し
易く、しかも反復使用に伴う物理的な変化を受は易い欠
点を有していると共に印肉と反応して変質し易い不都合
を有している。このことから印影の忠実な転写性、再現
性の要請される印鑑証明用の印等のような公的な印とし
て用いることができない欠点があった。

か＼る点から印影が鮮明に再現でき、しかも使用に伴う
老化ないしは劣化も少なく、特に印面が衝撃等により欠
損されることのない金属製の印が近時注目されるにいた
っている。

この金属製の印は、天然の印材が、その印材が木来有し
ている形状、性状等に影響されるのに対し、随意の形状
とされ、又随意の硬さのものとすることができると共に
印材の入手前もなく、官印、公印、私印のいずれにも用
い得ることができる特長を有している。

［発明が解決しようとする課題］ かＳる金属製の印は通例ダイキャスト成形か、ロストワ
ックス成形の方法で提供されるのが一般的であった。

このダイキャスト成形で成形される金属製の印は、印影
が鮮明であり、反復使用に際しても押捺される印影が均
一であって、その転写性並びに再現性が特に良好である
特長を有している。しかしながら、かＳるダイキャスト
成形では金型の成形コストが割高とされ、しかもダイキ
ャスト装置の設備コストが割高であることから特殊な要
請がある場合以外には実用的な方法でなく、印の成形コ
ストが極端に割高となる不都合があった。

これに対し、印稿を石膏板、粘土板、ゴム板、木板に直
接鉄筆、きり又は鋭利な刃物で彫りつけ、又は印稿をこ
れらの板面に転写ないしは貼付した状態で同様に彫込み
、この彫込まれた面に溶かした蝋を流して印面の母型を
作ると共に、この印面の母型に螺装の釘を同質の螺材を
用いて接着することによって印の母型を作り、更に、こ
の母型を利用して、ロストワックスの手法により金属中
の鋳込み成形をなす所謂ロストワックス成形印がある。

しかしながら、かＳるロストワックス成形の方法では石
膏板、粘土板、ゴム板あるいは木板等に逐−印稿を彫込
む必要があり、この印稿の彫込みに特殊な技術並びに熟
練と多くの作業手間を要請され、これが結果的に成形金
戊申を割高とする不都合があった。

又、印稿を逐一彫込むことから、印稿がそのまＳ忠実に
印面に彫込み再現されることは難しく、彫込みに際して
印稿と若干異なるのが一般的であり、より正確な印面の
成形には不向きとされていた。

更に、石膏板等に彫込まれた印稿部分に溶融蝋を流し込
んで取出す都合上、この石膏板等の面に彫込まれる印稿
部分には蝋母型の抜き出しに適する抜き勾配を設ける必
要があった。しかしながらかする抜き勾配まで設けた印
稿面の彫込みは更に難しく、しかもこの抜き勾配を設け
ることによって成形される印の印影がシャープさを失う
不都合があった。

更に、蝋母材の印面となるべき面に直接印稿を彫込むこ
とがなされている。かＳる蝋母材の印面となるべき面に
直接印稿を彫込む場合には蝋母型を成形するための原型
を作る必要がなく、鋳造中の成形がより容易になされる
利点を有している。しかしながら、か＼る蝋母材の印面
となるべき面に直接印稿を彫込む方法では、印稿の彫込
みが難しく、特殊な技術と熟練とが要請されると共に同
一の印面を有する鋳造中の成形ができない不都合を有し
ていた。

本発明にか＼る印用母型における印面部の成形方法は、
か＼る従来中の不都合及び従来の印の成形上の不都合に
鑑み、作り易く、しかも成形された印の印影がシャープ
さを存すると共に同一の印面を有する金属製の印を安価
に提供することを目的としている。

［課題を解決するための手段］ 印面形成用の原型材を光年溶性化感光剤層を存する材料
からなるものとし、この原型材の光年溶性化感光剤層の
面に印の原版を重ね合せて露光し、その未露光の部分を
水、有機溶剤等で洗い出して、露光、硬化した部分を浮
き出し状にして印面の原型を形成する。

次いで、この原型の印面部にシリコンゴム等の中間型材
を注入又は圧入硬化させて中間型の形成をなし、更に、
この中間型の印面部に蝋を注入又は圧入して中層蝋母型
の印面部を形成する。

［作用］ 本発明にか＼る中層蝋母型の印面部の成形方法では、蝋
母型の印面部が光年溶性化感光剤層を有する原型材に対
する単なる露光で形成されていることから、母型の印面
を印稿に沿りて彫込む必要がなく、牟に印稿となる原版
を印面形成用の原型材の光年溶性化感光剤層の面に添装
した上で露光し、その未露光の部分を水又は溶剤で洗い
出すことによって印稿通りの印面を有する原型を形成す
ることができる、この原型の印面部にシリコンゴム等の
中間型材を注入又は圧入硬化させて中間型を形成した上
で、この中間型の印面部の面に蝋を注入又は圧入するこ
とによって中層蝋母型の印面部の成形をする。

又、この蝋母型を鋳型砂で覆って加熱することにより蝋
母型の螺材が溶出され、中層の鋳込型が作り出される。

［実施例］ 以下本発明にかする中層蝋母型の印面部の成形方法を添
付の図面にもとづいて説明する。

１は印稿であって、この印稿通りの印面を有する印の製
作をなす、先ず、この印稿１が透明のフィルム等に描か
れている場合には、このフィルム製の印稿１自体を原版
２として裏返し状に原型材３′の光年溶性化感光剤層３
ａの面に添装して露光する。又、一般的には印稿１を撮
影したネガフィルム２ａを同様に原版２として原型材３
の光年溶性化感光剤層３ａの面に添装して露光する。こ
の際に、文字等の印稿１を二眼レフカメラで撮影したネ
ガフィルムは第１図の２ａのようになっており、文字等
の部分が抜けた状態とされていることから第１図Ｃのよ
うに凸版状に原型材３′の面に印面が形成される。そこ
で、このネガフィルム２ａを反転してポジフィルム２ｂ
を用意し、このポジフィルム２ｂを裏返し状にして原版
２として原型材３′の光年溶性化感光剤層３ａの面に添
装して露光した場合、第１図Ｃ°のように凹版状に原型
材３°の面に印面が形成される。

尚、原型材３°は、典型的には第２図のＡで示されてい
るようにベースフィルム３ｂの面にハーレーション防止
を兼ねた接着ｆｆＪ３ｃを介して光年溶性化感光剤層３
ａを設けた構造からなり、保護カバー３ｄによって光年
溶性化感光剤層３ａの感光が防止される構造とされてい
る。又、光子溶性化感光剤層３ａは原型材３“の印面部
の形成に要請される印刻の深さに合せて一層又は多層の
ものとされ、必要とされる肉厚の層とされる。

こ１で原型材３°の印面部の形成に用いられる光子溶性
化感光剤層３ａは、光とくに紫外線照射によつて水ある
いは有機溶剤に不溶解性となる高分子物質が用いられて
おり、瓜クロム酸塩−ポリビニルアルコール感光剤、ジ
アゾニウム塩類、オルトキノンジアト類等のジアゾ感光
剤、アジド感光剤、ポリケイ皮酸ビニル、ポリアミド、
ジアクリレート類、不飽和脂肪酸エステル等が一般的に
用いられている。

次いで、印面を形成する原型材３°を用いて蝋母型の印
面となる原型３を成形する手順を第２図のＡ−Ｆをもと
に説明する。先ず、用意した原型材３°の保護カバー３
ｄを剥離し、このカバー３ｄの剥離面にある光子溶性化
感光剤層３ａの面に原版２を密着状態で重ね、略５．Ｏ
ｃ＋ｓの距離からケミカルランプで３〜４分間露光４す
る。この露光４後、水又は有機溶剤を用いて未露光部分
をブラシ５あるいは高圧洗滌水等を用いて洗い出す。

更に、未硬化部分が充分に取り除かれた原型材３°の光
年溶性化感光剤ｆｉ３ａの面をスポンジロール６を用い
て充分に水切りをした後、温風７で乾燥させる。か＼る
水洗い乾燥後に再度原型材３°の光子溶性化感光剤層３
ａの面に露光８を施し、未硬化部分が残らないようにす
る。

このようにして成形した原型３では、原版２における光
の透過する部分の光子溶性化感光剤層３ａの部分が残り
、原型３における印面部を凸又は凹の状態で形成し、第
１図Ｃ及びＣ′の状態とされる。

かくして形成された原型３を用いて、この原型３の印面
部にシリコンゴム等の中間型材９゛を注入又は圧接して
中間型９を形成する。この中間型９の形成は型材９°の
素材的な特性により種々の方法でなされる０図示の第１
図り、Ｄ’ではペースト状、軟質ゴム状ないしは溶液状
の中間型材９゛を用いて印面部の中間型９を形成するも
のであり、成形型１０ａと開き方１０ｂとの間に原型３
を挟持し、成形型１０ａ内に中間型材９゛を注入又は圧
入し、この中間型材９°の冷却硬化、溶剤の揮散硬化、
反応硬化等種々の経緯のもとに中間型材９゛の硬化（ゴ
ム状物を含む）して中間型９とする。

カくシて形成された中間型９を用いて、この中間型９の
印面部に蜜蝋、パラフィン、松脂、合成樹脂等を配合し
て作られた合成蝋又は低融点プラスチックス等からなる
蝋１１’を注入又は圧入する。この蝋１１’の注入又は
圧入は、形成される蝋母型１１の形状と、成形型の構造
とによりて随意の方法が用いられる。

図示の′Ｍ１図Ｅ、Ｅ’では、蝋１１’を注入する筒状
０成形型１２ａと、この成形型１２ａとの間に中間型９
を挟持する開き型１２ｂとを用意し、中間型９をセット
した後、成形型１２ａ内に溶融し・た蝋１１’　を注入
し、これを冷却硬化させて型外しを行って蝋母型１１の
印面部１１ａを形成する。

このようにして形成された印面部＋１ａに別途蝋１１’
からなる１ｌｌｌｂを螺材を用いて接着して蝋母型１１
とする。尚、この蝋母型１１は印面部１１ａと、１ｌｌ
ｂとを別々に用意せず、第１図Ｅの成形型１２ａを′蝋
母型１１の注入型とすることによって一体に注入成形を
なすこともできる。

次いで、ｍ母型１１に蝋１１’からなる鋳込口ｌｉｅ等
の鋳込みに必昇とされる部分等を合成蝋等を用いて接着
で取付け、鋳込み用の完全な蝋母型１１とする。

かくして成形用意された蝋母型１１を耐熱性の特殊鋳型
砂１３ａで覆う、この耐熱性の特殊鋳型砂１３ａは通例
インベストメント酸等と称されているものであって、シ
リカ、ジルコン、アルミナを粘結剤の水ガラス、けい酸
塩、リン酸塩等を用いて水で泥状にしたもの、けい砂を
同様の粘結剤を用いてスラーリー状としたもの、ジルコ
ンサンド、アルミナ、溶融シリカを前記の粘結剤を用い
てスラーリー状としたもの等種々のものがある。

このような鋳造砂１３ａの中に前記蝋母型１１を埋設さ
せてこの鋳造砂１３ａを乾燥硬化させ（第１図Ｈ，Ｈ’
　）、次いで加熱処理によって鋳造砂１３ａ内の蝋母型
１１を溶出させることによって鋳込空間を有する鋳型１
３を形成する。（第１図１，１’）更に、この鋳型１３
を＠００〜８００℃（必要に応じて１０００℃）で焼成
して鋳型１３を強固なものとした上で、金、銀、銅等の
単体又は合金を熔かした渇１４ａを該鋳型１３に注ぎ入
れる。この渇１４ａの鋳込み圧によって鋳型１３が割れ
ることが予想される場合には鋳型１３の周囲に押え砂１
５を第３図Ｂのように配する。又、第３図Ａのイ、口で
示されるように蝋母型１１に前記の鋳造砂１３ａをスラ
ーリー状にして塗布し、鋳型１３とする場合には同図口
のように鋳造砂１３ａを数回に亘って重ね合せ状に積層
して鋳型１３とするのが良く、この場合には特に前記の
押え砂１５が必要とされる。

かくして鋳込まれた湯１４ａが完全に冷却した状態で鋳
型１３を取り除き鋳込中１４’を取り出し、次いで、湯
道等の不要部分をカットすると共に適宜パフかけ処理等
の表面処理を施すことによって鋳込中１４とする。

［効果］ 本発明にかぎる中層蝋母型における印面部の成形方法で
は、蝋母型の印面部を形成する原型３の彫込みをする必
要がなく、この原型３の印稿に合った彫込みに要する作
業手間を不要とし、特殊で且つ習熟された彫込み技術を
も不要とし、格別の技術を要することなく誰もが容易に
、しかも短時間で目的とする蝋母型の印面部を形成する
原型３の成形をなすことができる。

又、蝋母型の印面部を形成する原型３が光子溶性化感光
剤層３ａを有する原型材３°に対する原版２０単なる密
着、露光と、露光処理後の洗い出し処理で良いことから
、印稿通りの印面部が容易、正確に形成される特長を有
している。

かＳる蝋母型１１が容易且つ僅かの作業手間で成形され
ることから鋳造された金属製の印を安価に提供すること
ができること＼なり天然素材に印刻した印と異なり均一
の強度、耐摩耗性を有する印を安定に提供できる特長を
有している。

さらに、蝋母型１１の原型３が光子溶性化感光剤層３ａ
を有する原型材３°に対する原版２の露光で成形される
ことがら印稿通りの印面が正確に形成されると共に、金
属製の鋳造中特有の押捺印影の鮮明さと反復使用性等か
ら官印としては勿論のこと、公印ないしは重要な私印と
しての使用に供することができる特長を有している。

又、中間型９を用いたことによって原型３の成形に際し
て生ずる印面部の凸の高さ、又は凹の深さの不揃いに関
係なく均一の平滑な押捺の面を有する金属中とすること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図のＡ〜Ｌ１同Ｂ°〜Ｌ°は本発明に係る中層蝋母
型の印面部を成形する方法及び、当該方法で成形された
中層蝋母型を用いた鋳込中の成形方法を順次に示した構
成図、第２図Ａ−Ｆは原型３の成形方法を順次に示した
構成図、第３図Ａ、Ｂは他の鋳込中の成形方法を示す構
成図である。 １・・・印稿、２・・・原版、３°・・・原型材、３・
・・原型、４・・・露光、５・・・ブラシ、６・・・ロ
ール、７・・・温風、８・・・露光、９・・・中間型、
９°・・・中間型材、ｌＯ・・・型、１１・・・蝋母型
、１１“・・・蝋、１２・・・型、１３・・・鋳型、１
４・・・鋳込中、ｌ・５・・・押え砂。 図面の浄書 第　　Ｉ １０・・・型 １１・・・蝋ｉＢ契 ＋１’・・・蝋 １２・・・型 １３・・・ｉ５型 １４・・・鋳造中 ｌト・・押え砂 図　（その１） Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　　　ｃａｂ ロ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ハ図面
の浄１ 第１図 （その２） ヘ　　　　　　　　　　　　　　　　トＪｂ　ＪＣ ２図 第３２ Ａ 手糸充ネ甫正書

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、印面形成用の原型材における光不溶性化感光剤層の
   面に印の原版を重ねて露光し、未露光部分の光不溶性化
   感光剤層を溶出して印面の原型を形成し、この原型の印
   面部にシリコンゴム等の中間型材を注入又は圧入硬化さ
   せて中間型の形成をなすと共に、この中間型の印面部に
   蝋を注入又は圧入して印用蝋母型の印面部とした印用蝋
   母型における印面部の成形方法。