JPH02301044A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH02301044A JPH02301044A JP1121816A JP12181689A JPH02301044A JP H02301044 A JPH02301044 A JP H02301044A JP 1121816 A JP1121816 A JP 1121816A JP 12181689 A JP12181689 A JP 12181689A JP H02301044 A JPH02301044 A JP H02301044A
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- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
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- F26B13/10—Arrangements for feeding, heating or supporting materials; Controlling movement, tension or position of materials
- F26B13/101—Supporting materials without tension, e.g. on or between foraminous belts
- F26B13/103—Supporting materials without tension, e.g. on or between foraminous belts with mechanical supporting means, e.g. belts, rollers, and fluid impingement arrangement having a displacing effect on the materials
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
- G11B11/10584—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the form, e.g. comprising mechanical protection elements
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ｒａｎ気ディスクの製造方法に関するもの
である。
である。
近年、情報の書換えが可能な光メモリ素子としての光磁
気ディスクの開発が活発に進められている。第５図に示
すように、この光磁気ディスクは、基本的には、透光性
の基板ｌ上に光磁気記録膜２を成膜してなり、光磁気記
録膜２上の所望の記録領域にレーザ光等を照射して昇温
させながら、磁気的に記録・消去を行うものである。
気ディスクの開発が活発に進められている。第５図に示
すように、この光磁気ディスクは、基本的には、透光性
の基板ｌ上に光磁気記録膜２を成膜してなり、光磁気記
録膜２上の所望の記録領域にレーザ光等を照射して昇温
させながら、磁気的に記録・消去を行うものである。
ところで、光磁気記録膜２は、一般に希土類遷移金属非
晶質合金からなっているので、空気、水分等に接するこ
とにより容易に劣化するものであるから、第５図の如く
、通常、光磁気記録膜２上に樹脂製の保護膜３を形成し
、光磁気記録膜２を保護するようにしている。その場合
、光磁気記録膜２の外周縁部２ａが保護膜３から露出し
ていると、光磁気記録膜２が外周縁部２ａから劣化する
恐れがあるため、通常は光磁気記録膜２の外周縁部２ａ
を基板１の外周縁部１ａより４〜５ｍｍ程度内周側に位
置させ、保護膜３により光磁気記録膜２の外周縁部２ａ
をも被覆するようにしている。
晶質合金からなっているので、空気、水分等に接するこ
とにより容易に劣化するものであるから、第５図の如く
、通常、光磁気記録膜２上に樹脂製の保護膜３を形成し
、光磁気記録膜２を保護するようにしている。その場合
、光磁気記録膜２の外周縁部２ａが保護膜３から露出し
ていると、光磁気記録膜２が外周縁部２ａから劣化する
恐れがあるため、通常は光磁気記録膜２の外周縁部２ａ
を基板１の外周縁部１ａより４〜５ｍｍ程度内周側に位
置させ、保護膜３により光磁気記録膜２の外周縁部２ａ
をも被覆するようにしている。
このように、光磁気記録膜２の外周縁部２ａを保護膜３
により被覆する場合、光磁気記録膜２の成膜は、第６図
に示すように、基板１の外周部を環状のホルダ４により
支持し、矢印への如く、下方から蒸着、スパッタリング
等により行い、基板ｌにおけるホルダ４で支持された以
外の領域に光磁気記録膜２を形成するものであった。
により被覆する場合、光磁気記録膜２の成膜は、第６図
に示すように、基板１の外周部を環状のホルダ４により
支持し、矢印への如く、下方から蒸着、スパッタリング
等により行い、基板ｌにおけるホルダ４で支持された以
外の領域に光磁気記録膜２を形成するものであった。
ここで、第７図に基板ｌとして半径６５ｍｍのポリカー
ボネイト製基板を使用し、基板１の各半径位置における
再生信号品質Ｃ／Ｎを測定した結果を示す。同図中Ｏ印
のプロットはディスクのプレーン部における測定値、Ｘ
印のプロットはディスクのグループ部における測定値を
示す。但し、上記のプレーン部はディスク外周における
グループの設けられていない領域であり、一方、グルー
プ部はグループの設けられた領域である。
ボネイト製基板を使用し、基板１の各半径位置における
再生信号品質Ｃ／Ｎを測定した結果を示す。同図中Ｏ印
のプロットはディスクのプレーン部における測定値、Ｘ
印のプロットはディスクのグループ部における測定値を
示す。但し、上記のプレーン部はディスク外周における
グループの設けられていない領域であり、一方、グルー
プ部はグループの設けられた領域である。
同図から明らかなように、基板ｌの外周縁部から３〜５
ｍｍ程度の領域では、複屈折等の影響でＣ／Ｎが大幅に
低下する。なお、第７図のデータの測定条件は、光磁気
ディスクの回転速度：９００ｒｐｍ 、レーザ出カニ６
ｍＷ、外部磁場の強さ； ３０００ｅ、記録周波数：
３．１４〜３．３５Ｍ１ｌｚ （ビット長０．９μｍ）
、パルスデューティ（１回の記録周期中に実際に記録の
行われる時間の割合）：１７％である。
ｍｍ程度の領域では、複屈折等の影響でＣ／Ｎが大幅に
低下する。なお、第７図のデータの測定条件は、光磁気
ディスクの回転速度：９００ｒｐｍ 、レーザ出カニ６
ｍＷ、外部磁場の強さ； ３０００ｅ、記録周波数：
３．１４〜３．３５Ｍ１ｌｚ （ビット長０．９μｍ）
、パルスデューティ（１回の記録周期中に実際に記録の
行われる時間の割合）：１７％である。
上記のように、ポリカーボネイト製等の基板１を使用す
る場合は、外周縁部近傍でＣ／Ｎが低下するので、第５
図の如く、基板ｌの外周縁部から４〜５ｍｍ程度の範囲
に、光磁気記録膜２を設けないことがＣ／Ｎを維持する
上からも好都合であった。但し、ガラス製基板等の外周
縁部近傍でもＣ／Ｎが低下しない基板１を使用する場合
も、第６図の方法で光磁気記録膜２を成膜する際に、ホ
ルダ４による基板１の支持化ｌが４〜５ｍｍ程度は必要
となるため、光磁気記録膜２の外周縁部２ａは基板１の
外周縁部１ａより４〜５ｍｍ程度内周側に位置するもの
であった。
る場合は、外周縁部近傍でＣ／Ｎが低下するので、第５
図の如く、基板ｌの外周縁部から４〜５ｍｍ程度の範囲
に、光磁気記録膜２を設けないことがＣ／Ｎを維持する
上からも好都合であった。但し、ガラス製基板等の外周
縁部近傍でもＣ／Ｎが低下しない基板１を使用する場合
も、第６図の方法で光磁気記録膜２を成膜する際に、ホ
ルダ４による基板１の支持化ｌが４〜５ｍｍ程度は必要
となるため、光磁気記録膜２の外周縁部２ａは基板１の
外周縁部１ａより４〜５ｍｍ程度内周側に位置するもの
であった。
その場合、上記の光磁気ディスクでは、基板１の外周縁
部１ａ近傍のかなり広い領域（半径方向に４〜５ｍｍ程
度）に光磁気記録１１１！２が形成されないので、記憶
容量を増大させる上で不利になるという問題を有してい
る。
部１ａ近傍のかなり広い領域（半径方向に４〜５ｍｍ程
度）に光磁気記録１１１！２が形成されないので、記憶
容量を増大させる上で不利になるという問題を有してい
る。
本発明は上記の課題を解決して、光磁気記録膜を可能な
限り基板の外周縁部近４まで延長して形成し、しかも、
光磁気記録膜の外周縁部を保護膜により被覆できるよう
にした光磁気ディスクの製造方法を提供することを目的
としている。
限り基板の外周縁部近４まで延長して形成し、しかも、
光磁気記録膜の外周縁部を保護膜により被覆できるよう
にした光磁気ディスクの製造方法を提供することを目的
としている。
そのため、本明細書の特許請求の範囲の欄における請求
項第１項記載の光磁気ディスクの製造方法は、少なくと
も透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保
護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの製造
方法において、基板の全域に光磁気記録膜を成膜した後
、光磁気記録膜の外周縁部近傍に光磁気記録膜を通過し
て基板に到達する深さを有する環状溝を設け、続いて、
上記環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に保護膜を形成
するようにしたことを特徴とするものである。
項第１項記載の光磁気ディスクの製造方法は、少なくと
も透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保
護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの製造
方法において、基板の全域に光磁気記録膜を成膜した後
、光磁気記録膜の外周縁部近傍に光磁気記録膜を通過し
て基板に到達する深さを有する環状溝を設け、続いて、
上記環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に保護膜を形成
するようにしたことを特徴とするものである。
又、請求項第２項に記載の光磁気ディスクの製造方法は
、請求項第１項の方法とは若干異なる方法で請求項第１
項のものと同等の機能を有する光磁気ディスクの製造を
行うものであって、少なくとも透光性の基板と、光磁気
記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを
備えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の全域
に光磁気記録膜を成膜した後、基板の外周縁部の角部及
びその表面の光磁気記録膜を除去して基板の外周縁部の
角部にテーパ状部を形成し、続いて、上記基板のテーパ
状部及び光磁気記録膜の表面に保護膜を形成するように
したことを特徴としている。
、請求項第１項の方法とは若干異なる方法で請求項第１
項のものと同等の機能を有する光磁気ディスクの製造を
行うものであって、少なくとも透光性の基板と、光磁気
記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを
備えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の全域
に光磁気記録膜を成膜した後、基板の外周縁部の角部及
びその表面の光磁気記録膜を除去して基板の外周縁部の
角部にテーパ状部を形成し、続いて、上記基板のテーパ
状部及び光磁気記録膜の表面に保護膜を形成するように
したことを特徴としている。
請求項第３項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、更
に若干異なる方法で上記と同様の光磁気ディスクの製造
を行うものであって、少なくとも透光性の基板と、光磁
気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜と
を備えた光磁気ディスクの製造方法において、予め、基
板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成した後、基板上
に光磁気記録膜を成膜し、続いて、上記テーパ状部を含
む光磁気記録膜の表面に保護膜を形成するようにしたこ
とを特徴としている。
に若干異なる方法で上記と同様の光磁気ディスクの製造
を行うものであって、少なくとも透光性の基板と、光磁
気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜と
を備えた光磁気ディスクの製造方法において、予め、基
板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成した後、基板上
に光磁気記録膜を成膜し、続いて、上記テーパ状部を含
む光磁気記録膜の表面に保護膜を形成するようにしたこ
とを特徴としている。
請求項第４項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、更
に他の方法で上記と類似した光磁気ディスクの製造を行
うものであって、少なくとも透光性の基板と、光磁気記
録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備
えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の全域に
光磁気記録膜を成膜した後、その内径が基板の外径より
やや大きく、その深さが基板の厚みと同等又はそれ以上
である有底筒状のホルダ内に基板を挿入し、続いて、光
磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁
部とホルダの内周面との間の間隙に樹脂を充填すること
により光磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板
の外周縁部に保護膜を形成するようにしたことを特徴と
している。
に他の方法で上記と類似した光磁気ディスクの製造を行
うものであって、少なくとも透光性の基板と、光磁気記
録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備
えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の全域に
光磁気記録膜を成膜した後、その内径が基板の外径より
やや大きく、その深さが基板の厚みと同等又はそれ以上
である有底筒状のホルダ内に基板を挿入し、続いて、光
磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁
部とホルダの内周面との間の間隙に樹脂を充填すること
により光磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板
の外周縁部に保護膜を形成するようにしたことを特徴と
している。
上記請求項第１項の製造方法では、予め基板の全域に光
磁気記録膜を成膜しておき、その後、光磁気記録膜の外
周縁部近傍に光磁気記録膜を通過して基板に到達する環
状溝を設け、この環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に
保護膜を形成するようにしている。この場合、環状溝よ
り内周側の光磁気記録膜が記録に使用されるが、この範
囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された保護膜により
その外周縁部を被覆されることになる。そして、この場
合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に近接した位置
に設けること、具体的には、例えば、環状溝が基板の外
周縁部から１ｍｍ以内程度の狭い領域に含まれるように
することが可能であるので、光磁・気記録膜を基板の外
周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、記憶容量
の増加を図ることが可能になる。
磁気記録膜を成膜しておき、その後、光磁気記録膜の外
周縁部近傍に光磁気記録膜を通過して基板に到達する環
状溝を設け、この環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に
保護膜を形成するようにしている。この場合、環状溝よ
り内周側の光磁気記録膜が記録に使用されるが、この範
囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された保護膜により
その外周縁部を被覆されることになる。そして、この場
合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に近接した位置
に設けること、具体的には、例えば、環状溝が基板の外
周縁部から１ｍｍ以内程度の狭い領域に含まれるように
することが可能であるので、光磁・気記録膜を基板の外
周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、記憶容量
の増加を図ることが可能になる。
又、請求項第２項の製造方法では、予め、基板の全域に
光磁気記録膜を成膜しておき、その後、基板の外周縁部
の角部をその表面の光磁気記録膜とともに切り欠いて基
板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成し、続いて、上
記基板のテーパ状部及び光磁気記録膜の表面に保護膜を
形成するようにしている。この場合は、上記基板のテー
パ状部より内周側に光磁気記録膜が残存することになる
が、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テーパ状部上の
保護膜により被覆されることになる。そして、この場合
も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外周縁部から１
ｍｍ以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気記録膜を基板
の外周縁部の極く近傍まで延長することができる。
光磁気記録膜を成膜しておき、その後、基板の外周縁部
の角部をその表面の光磁気記録膜とともに切り欠いて基
板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成し、続いて、上
記基板のテーパ状部及び光磁気記録膜の表面に保護膜を
形成するようにしている。この場合は、上記基板のテー
パ状部より内周側に光磁気記録膜が残存することになる
が、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テーパ状部上の
保護膜により被覆されることになる。そして、この場合
も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外周縁部から１
ｍｍ以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気記録膜を基板
の外周縁部の極く近傍まで延長することができる。
次に、請求項第３項の製造方法では、外周縁部の角部に
テーパ状部を形成した基板上に光磁気記録膜を成膜した
後、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表面に保護膜
を形成するようにしている。この場合、保護膜の形成時
に、保護膜を構成する樹脂が基板のテーバ状部に沿って
自重により流下するので、光磁気記録膜の外周縁部が保
護膜により被覆される。そして、この場合も、テーパ状
部は基板の外周縁部の極く近傍の領域のみに設ければ良
いので、光磁気記録膜を基板の外周縁部の極（近傍まで
延長して形成することが可能になる。
テーパ状部を形成した基板上に光磁気記録膜を成膜した
後、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表面に保護膜
を形成するようにしている。この場合、保護膜の形成時
に、保護膜を構成する樹脂が基板のテーバ状部に沿って
自重により流下するので、光磁気記録膜の外周縁部が保
護膜により被覆される。そして、この場合も、テーパ状
部は基板の外周縁部の極く近傍の領域のみに設ければ良
いので、光磁気記録膜を基板の外周縁部の極（近傍まで
延長して形成することが可能になる。
又、請求項第４項に記載の製造方法は、まず、基板の全
域に光磁気記録膜を成膜し、続いて、基板を有底筒状の
ホルダ内に挿入して、光磁気記録膜の表面並びに光磁気
記録膜及び基板とホルダ間の空間に樹脂を充填すること
により、光磁気記録膜の表面並びに基板及び光磁気記録
膜の外周縁部に保護膜を形成するようにしている。この
方法によれば、基板の全域に光磁気記録膜を形成・し、
しかも、光磁気記録膜の外周縁部を保護膜で覆うことが
できる。
域に光磁気記録膜を成膜し、続いて、基板を有底筒状の
ホルダ内に挿入して、光磁気記録膜の表面並びに光磁気
記録膜及び基板とホルダ間の空間に樹脂を充填すること
により、光磁気記録膜の表面並びに基板及び光磁気記録
膜の外周縁部に保護膜を形成するようにしている。この
方法によれば、基板の全域に光磁気記録膜を形成・し、
しかも、光磁気記録膜の外周縁部を保護膜で覆うことが
できる。
〔実施例１〕
本明細書の特許請求の範囲の欄における請求項第１項に
関連する一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。
関連する一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。
第１図（Ｃ）に示すように、本実施例に係る光磁気ディ
スク１０は、透光性の基板１１と、膜面と垂直な方向に
磁化容易軸を有する光磁気記録膜１２と、光磁気記録膜
１２を覆う樹脂製の保護膜１３とを備えている。基板１
１の外周縁部１１ａ近傍には、光磁気記録膜１２を通過
して基板１１に到る断面はぼ■字形の環状溝１−４が設
けられ、環状溝１４内には保護膜１３を構成する樹脂が
充填されている。
スク１０は、透光性の基板１１と、膜面と垂直な方向に
磁化容易軸を有する光磁気記録膜１２と、光磁気記録膜
１２を覆う樹脂製の保護膜１３とを備えている。基板１
１の外周縁部１１ａ近傍には、光磁気記録膜１２を通過
して基板１１に到る断面はぼ■字形の環状溝１−４が設
けられ、環状溝１４内には保護膜１３を構成する樹脂が
充填されている。
以下、光磁気ディスク１０の製造手順を説明する。
まず、第１図（ａ）に示すように、ガラス、ポリカーボ
ネイトあるいはＰＭＭＡ （ポリメタクリル酸メチル）
等の樹脂又は金属等からなる透光性の基板１１の表面の
全域に蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜１２
を形成する。ここで、基＋ｆｆ１ｌｌの材料として、ポ
リカーボネイト等の外周縁部近傍で複屈折等の影響で再
生信号品質Ｃ／Ｎの低下するものを使用する場合、予め
基板１１を製品サイズより若干大きめに形成しておいて
、外周縁部近傍を裁断して除去するのが好ましい。
ネイトあるいはＰＭＭＡ （ポリメタクリル酸メチル）
等の樹脂又は金属等からなる透光性の基板１１の表面の
全域に蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜１２
を形成する。ここで、基＋ｆｆ１ｌｌの材料として、ポ
リカーボネイト等の外周縁部近傍で複屈折等の影響で再
生信号品質Ｃ／Ｎの低下するものを使用する場合、予め
基板１１を製品サイズより若干大きめに形成しておいて
、外周縁部近傍を裁断して除去するのが好ましい。
例えば、直径１２０ｍｍの基板１１を使用する場合、予
め直径１３０ｍｍ程度に形成しておいて、Ｃ／Ｎの低下
する外周縁部近傍を裁断すれば、基板１１をポリカーボ
ネイト等で形成する場合でも外周縁部近傍でのＣ／Ｎを
確保することができるようになる。なお、第１図（ａ）
には中央部に円形孔を設けた基板１１を示したが、この
円形孔は必ずしも設けなくて良い。
め直径１３０ｍｍ程度に形成しておいて、Ｃ／Ｎの低下
する外周縁部近傍を裁断すれば、基板１１をポリカーボ
ネイト等で形成する場合でも外周縁部近傍でのＣ／Ｎを
確保することができるようになる。なお、第１図（ａ）
には中央部に円形孔を設けた基板１１を示したが、この
円形孔は必ずしも設けなくて良い。
光磁気記録膜１２が成膜されれば、続いて、第１図（ｂ
）に示すように、光磁気記録膜１２の外周縁部近傍に、
光磁気記録膜１２を通過して基板１１に到達する断面は
ぼＶ字状の幅の狭い環状溝１４を形成する。例えば、基
板１１の直径、が１２０ｍｍの場合、基板１１の外周縁
部１１ａと環状溝１４の内周端部との間の半径方向の間
隔１１は１ｍｍｍｍ以内色なるようにする。
）に示すように、光磁気記録膜１２の外周縁部近傍に、
光磁気記録膜１２を通過して基板１１に到達する断面は
ぼＶ字状の幅の狭い環状溝１４を形成する。例えば、基
板１１の直径、が１２０ｍｍの場合、基板１１の外周縁
部１１ａと環状溝１４の内周端部との間の半径方向の間
隔１１は１ｍｍｍｍ以内色なるようにする。
次に、第１図（Ｃ）の如く、環状溝１４内を含む光磁気
記録膜１２の表面にスピンコーティング、つまり、基板
１１を回転させながら樹脂を滴下させるコーティング法
等により保護膜１３を塗布し、続いて、この保護膜１３
を硬化させる。保護膜１３の材料としては熱硬化型樹脂
、紫外線硬化型樹脂等適宜の樹脂を使用でき、加熱又は
紫外線の照射等により硬化が行われる。
記録膜１２の表面にスピンコーティング、つまり、基板
１１を回転させながら樹脂を滴下させるコーティング法
等により保護膜１３を塗布し、続いて、この保護膜１３
を硬化させる。保護膜１３の材料としては熱硬化型樹脂
、紫外線硬化型樹脂等適宜の樹脂を使用でき、加熱又は
紫外線の照射等により硬化が行われる。
上記の手順で製造された光磁気ディスクｌＯは、環状溝
１４より内周側の光磁気記録膜１２が記録領域として利
用される。そして、この領域の光磁気記録膜１２の外周
縁部１２ａは、環状溝１４内に充填された保護膜１３に
より被覆され、外周縁部１２ａからの光磁気記録膜１２
の劣化が防止される。しかも、基板１１の外周縁部１１
ａと光磁気記録膜１２の外周縁部１２ａとの間の間隔ｌ
。
１４より内周側の光磁気記録膜１２が記録領域として利
用される。そして、この領域の光磁気記録膜１２の外周
縁部１２ａは、環状溝１４内に充填された保護膜１３に
より被覆され、外周縁部１２ａからの光磁気記録膜１２
の劣化が防止される。しかも、基板１１の外周縁部１１
ａと光磁気記録膜１２の外周縁部１２ａとの間の間隔ｌ
。
は、１ｍｍｍｍ以下色極めて短いので、光磁気ディスク
１０の記憶容量を増加させる上で有利となる。
１０の記憶容量を増加させる上で有利となる。
〔実施例２〕
次に、第２図に基づいて特許請求の範囲の欄の請求項第
２項に関連する第２実施例を説明する。
２項に関連する第２実施例を説明する。
第２図（ｃ）に示すように、光磁気ディスク２０は基板
２１を備え、基板２１の外周縁部２１ａにおける角部に
はテーパ状部２１ｂが形成されている。基板２１のテー
パ状部２１ｂを除く表面には光磁気記録膜２２が形成さ
れ、テーパ状部２１ｂ及び光磁気記録膜２２の表面は保
護膜２３により被覆されている。
２１を備え、基板２１の外周縁部２１ａにおける角部に
はテーパ状部２１ｂが形成されている。基板２１のテー
パ状部２１ｂを除く表面には光磁気記録膜２２が形成さ
れ、テーパ状部２１ｂ及び光磁気記録膜２２の表面は保
護膜２３により被覆されている。
以下、光磁気ディスク２０の製造手順を説明する。
まず、第２図（ａ）に示すように、基板２１の表面の全
域に蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜２２を
形成する。
域に蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜２２を
形成する。
続いて、基板２１の外周縁部２１ａにおける角部を斜め
に裁断し、第２図（ｂ）に示すように、基板２１の角部
にテーパ状部２１ｂを形成する。
に裁断し、第２図（ｂ）に示すように、基板２１の角部
にテーパ状部２１ｂを形成する。
この際、基板２１の角部上の光磁気記録膜２２は除去さ
れる。なお、テーパ状部２１ｂを形成した後の光磁気記
録膜２２の外周縁部２２ａと基板２１の外周縁部２１ａ
との間の間隔１２は１ｍｍ以下程度とされる。
れる。なお、テーパ状部２１ｂを形成した後の光磁気記
録膜２２の外周縁部２２ａと基板２１の外周縁部２１ａ
との間の間隔１２は１ｍｍ以下程度とされる。
次に、光磁気記録膜２２の表面上と基板２１のテーパ状
部２’ｌｂ上に適宜の樹脂を上述のスピンコーティング
等により塗布することにより保護膜２３を形成し、硬化
させる。この状態で、光磁気記録膜２２の外周縁部２２
ａはテーパ状部２１ｂ上の保護膜２３により被覆される
。
部２’ｌｂ上に適宜の樹脂を上述のスピンコーティング
等により塗布することにより保護膜２３を形成し、硬化
させる。この状態で、光磁気記録膜２２の外周縁部２２
ａはテーパ状部２１ｂ上の保護膜２３により被覆される
。
〔実施例３〕
続いて、第３図に基づいて特許請求の範囲の欄の請求項
第３項に関連する第３実施例を説明する。
第３項に関連する第３実施例を説明する。
第３図（Ｃ）に示すように、光磁気ディスク３０は基板
３１を備え、基板３１の外周縁部３１ａにおける角部に
はテーパ状部３１ｂが設けられている。このテーパ状部
３１ｂを含む基板３１の表面には光磁気記録膜３２が形
成されている。更に、光磁気記録膜３２の外周縁部３２
ａを含む表面は保護膜３３により被覆されている。
３１を備え、基板３１の外周縁部３１ａにおける角部に
はテーパ状部３１ｂが設けられている。このテーパ状部
３１ｂを含む基板３１の表面には光磁気記録膜３２が形
成されている。更に、光磁気記録膜３２の外周縁部３２
ａを含む表面は保護膜３３により被覆されている。
以下、光磁気ディスク３０の製造手順を説明する。
まず、第３図（ａ）に示すように、基板３１の外周縁部
３１ａにおける角部にテーパ状部３１ｂを形成する。こ
こで、テーパ状部３１ｂの内周端と外周縁部３１ａとの
間の半径方向の間隔１３は１ｍｍ以下程度とする。
３１ａにおける角部にテーパ状部３１ｂを形成する。こ
こで、テーパ状部３１ｂの内周端と外周縁部３１ａとの
間の半径方向の間隔１３は１ｍｍ以下程度とする。
次に、第３図（ｂ）に示すように、テーパ状部３１ｂを
含む基板３１の表面に光磁気記録膜３２を形成する。
含む基板３１の表面に光磁気記録膜３２を形成する。
続いて、第３図（Ｃ）に示すように、光磁気記録膜３２
の表面に保護膜３３をスピンコーティング等により塗布
し、硬化させる。上記の塗布時に保護膜３３を構成する
樹脂はテーパ状部３１ｂ上の光磁気記録膜３２に沿って
自重により流下し、光磁気記録膜３２の外周縁部３２ａ
をも被覆するものである。
の表面に保護膜３３をスピンコーティング等により塗布
し、硬化させる。上記の塗布時に保護膜３３を構成する
樹脂はテーパ状部３１ｂ上の光磁気記録膜３２に沿って
自重により流下し、光磁気記録膜３２の外周縁部３２ａ
をも被覆するものである。
なお、本実施例の光磁気ディスク３０において、基板３
１のテーパ状部３１ｂ上に形成された光磁気記録膜３２
は、記録に使用しても、使用しなくても、いずれでも良
い。仮に、テーパ状部３１ｂ上の光磁気記録膜３２を記
録に使用しない場合でも、テーパ状部３１ｂは半径方向
に高々１ｍｍ程度の幅を有するのみであるから、充分な
記憶容量を確保できる。
１のテーパ状部３１ｂ上に形成された光磁気記録膜３２
は、記録に使用しても、使用しなくても、いずれでも良
い。仮に、テーパ状部３１ｂ上の光磁気記録膜３２を記
録に使用しない場合でも、テーパ状部３１ｂは半径方向
に高々１ｍｍ程度の幅を有するのみであるから、充分な
記憶容量を確保できる。
〔実施例４〕
次に、第４図に基づいて特許請求の範囲の欄の請求項第
４項に関連する第４実施例を説明する。
４項に関連する第４実施例を説明する。
第４図（Ｃ）に示すように、光磁気ディスク４０は基板
４１と、基板４１の表面の全域に形成された光磁気記録
膜４２とを備え、光磁気記録膜４２０表面並びに光磁気
記録膜４２及び基板４１の外周縁部４２ａ・４１ａは樹
脂製の保護膜４３により被覆されている。
４１と、基板４１の表面の全域に形成された光磁気記録
膜４２とを備え、光磁気記録膜４２０表面並びに光磁気
記録膜４２及び基板４１の外周縁部４２ａ・４１ａは樹
脂製の保護膜４３により被覆されている。
以下、光磁気ディスク４０の製造手順を説明する。
まず、第４図（ａ）に示すように、基板４１の表面の全
域に光磁気記録膜４２を形成する。
域に光磁気記録膜４２を形成する。
次に、第４図（ｂ）に示すように、基板４１を、その内
径が基板４１の外径よりやや太き（、その深さが基板４
１の厚さと同等又はそれ以上である有底筒状のホルダ４
４内に回忌となるように位置決めして挿入する。
径が基板４１の外径よりやや太き（、その深さが基板４
１の厚さと同等又はそれ以上である有底筒状のホルダ４
４内に回忌となるように位置決めして挿入する。
続いて、光磁気記録膜４２上に保護膜４３を構成する樹
脂をスピンコーティング法等により滴下すると、この樹
脂は光磁気配・録膜４２の表面を被覆し、更に、光磁気
記録膜４２及び基板４１の外周縁部４２ａ・４１ａとホ
ルダ４４の内周面との間の間隙にも流入する。この状態
で、樹脂を硬化させると、光磁気記録膜４２の表面並び
に光磁気記録膜４２及び基板４１の外周縁部４２ａ・４
１ａに保護膜４３が形成される。その後、第４図（Ｃ）
の如く、光磁気ディスク４０がホルダ４４から取り出さ
れる。
脂をスピンコーティング法等により滴下すると、この樹
脂は光磁気配・録膜４２の表面を被覆し、更に、光磁気
記録膜４２及び基板４１の外周縁部４２ａ・４１ａとホ
ルダ４４の内周面との間の間隙にも流入する。この状態
で、樹脂を硬化させると、光磁気記録膜４２の表面並び
に光磁気記録膜４２及び基板４１の外周縁部４２ａ・４
１ａに保護膜４３が形成される。その後、第４図（Ｃ）
の如く、光磁気ディスク４０がホルダ４４から取り出さ
れる。
なお、ホルダ４４における底面及び内周面に４フツ化エ
チレン樹脂（商品名：テフロン）等の離型性の良好な材
料からなる離型層４４ ａを形成しておくと、ホルダ４
４からの光磁気ディスク４０の取出しが容易に行える。
チレン樹脂（商品名：テフロン）等の離型性の良好な材
料からなる離型層４４ ａを形成しておくと、ホルダ４
４からの光磁気ディスク４０の取出しが容易に行える。
上記の各実施例では、片面記録型の光磁気ディスクにつ
いて述べたが、両面記録型の光磁気ディスクを製造する
場合は、上記のいずれかの方法で製造された２枚の光磁
気ディスクを接着剤等で貼り合わせれば良い。
いて述べたが、両面記録型の光磁気ディスクを製造する
場合は、上記のいずれかの方法で製造された２枚の光磁
気ディスクを接着剤等で貼り合わせれば良い。
〔発明の効果］
以上のように、本発明は光磁気ディスクの製造方法に関
するものであって、その内、特許請求の範囲の欄におけ
る請求項第１項記載の製造方法は、少なくとも透光性の
基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂
製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの製造方法におい
て、基板の全域に光磁気記録膜を成膜した後、光磁気記
録膜の外周縁部近傍に光磁気記録膜を通過して基板に到
達する深さを有する環状溝を設け、続いて、上記環状溝
内を含む光磁気記録膜の表面に保護膜を形成するように
した構成である。
するものであって、その内、特許請求の範囲の欄におけ
る請求項第１項記載の製造方法は、少なくとも透光性の
基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂
製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの製造方法におい
て、基板の全域に光磁気記録膜を成膜した後、光磁気記
録膜の外周縁部近傍に光磁気記録膜を通過して基板に到
達する深さを有する環状溝を設け、続いて、上記環状溝
内を含む光磁気記録膜の表面に保護膜を形成するように
した構成である。
この方法により製造された光磁気ディスクでは、環状溝
より内周側の光磁気記録膜が記録に使用されるが、この
範囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された保護膜によ
りその外周縁部を被覆されることになる。そして、この
場合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に近接した位
置に設けること、具体的には、例えば、環状溝が基板の
外周縁部から１ｍｍ以内程度の狭い領域に含まれるよう
にすることが可能であるので、光磁気記録膜を基板の外
周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、記憶容量
の増加を図名ことが可能になる。
より内周側の光磁気記録膜が記録に使用されるが、この
範囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された保護膜によ
りその外周縁部を被覆されることになる。そして、この
場合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に近接した位
置に設けること、具体的には、例えば、環状溝が基板の
外周縁部から１ｍｍ以内程度の狭い領域に含まれるよう
にすることが可能であるので、光磁気記録膜を基板の外
周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、記憶容量
の増加を図名ことが可能になる。
又、請求項第２項に記載の光磁気ディスクの製造方法は
、少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気
記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディ
スクの製造方法において、基板の全域に光磁気記録膜を
成膜した後、基板の外周縁部の角部及びその表面の光磁
気記録膜を除去して基板の外周縁部の角部にテーパ状部
を形成し、続いて、上記基板のテーパ状部及び光磁気記
録膜の表面に保護膜を形成するようにした構成である。
、少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気
記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディ
スクの製造方法において、基板の全域に光磁気記録膜を
成膜した後、基板の外周縁部の角部及びその表面の光磁
気記録膜を除去して基板の外周縁部の角部にテーパ状部
を形成し、続いて、上記基板のテーパ状部及び光磁気記
録膜の表面に保護膜を形成するようにした構成である。
この方法により製造された光磁気ディスクでは、上記基
板のテーパ状部より内周側に光磁気記録膜が残存するこ
とになるが、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テーパ
状部上の保護膜により被覆されることになる。そして、
この場合も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外周縁
部がら１ｍｒｒｉ以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気
記録膜を基板の外周縁部の極く近傍まで形成することが
できる。
板のテーパ状部より内周側に光磁気記録膜が残存するこ
とになるが、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テーパ
状部上の保護膜により被覆されることになる。そして、
この場合も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外周縁
部がら１ｍｒｒｉ以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気
記録膜を基板の外周縁部の極く近傍まで形成することが
できる。
請求項第３項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、少
なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録
膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスク
の製造方法において、予め、基板の外周縁部の角部にテ
ーパ状部を形成した後、基板上に光磁気記録膜を成膜し
、続いて、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表面に
保護膜を形成するようにした構成である。
なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録
膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスク
の製造方法において、予め、基板の外周縁部の角部にテ
ーパ状部を形成した後、基板上に光磁気記録膜を成膜し
、続いて、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表面に
保護膜を形成するようにした構成である。
この製造方法では、保護膜の形成時に、保護膜を構成す
る樹脂が基板のテーパ状部に沿って自重により流下する
ので、光磁気記録膜の外周縁部が保護膜により被覆され
る。そして、この場合も、テーパ状部は基板の外周縁部
の掻く近傍の領域のみに設ければ良いので、光磁気記録
膜を基板の外周縁部の極く近傍まで延長して形成するこ
とが可能になる。
る樹脂が基板のテーパ状部に沿って自重により流下する
ので、光磁気記録膜の外周縁部が保護膜により被覆され
る。そして、この場合も、テーパ状部は基板の外周縁部
の掻く近傍の領域のみに設ければ良いので、光磁気記録
膜を基板の外周縁部の極く近傍まで延長して形成するこ
とが可能になる。
請求項第４項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、°
少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記
録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディス
クの製造方法において、基板の全域に光磁気記録膜を成
膜した後、その内径が基板の外径よりやや大きく、その
深さが基板の厚みと同等又はそれ以上である有底筒状の
ホルダ内に基板を挿入し、続いて、光磁気記録膜の表面
並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部とホルダの内周
面との間の間隙に樹脂を充填することにより光磁気記録
■々の表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部に保
護膜を形成するようにした構成である。
少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記
録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディス
クの製造方法において、基板の全域に光磁気記録膜を成
膜した後、その内径が基板の外径よりやや大きく、その
深さが基板の厚みと同等又はそれ以上である有底筒状の
ホルダ内に基板を挿入し、続いて、光磁気記録膜の表面
並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部とホルダの内周
面との間の間隙に樹脂を充填することにより光磁気記録
■々の表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部に保
護膜を形成するようにした構成である。
この方法により製造された光磁気ディスクでは、光磁気
記録膜の外周縁部を保護膜で被覆して保護膜の劣化を確
実に防止できるばかりでなく、基板の全域に光磁気記録
膜が形成されるので、記憶容量を一層増大させることが
できる。
記録膜の外周縁部を保護膜で被覆して保護膜の劣化を確
実に防止できるばかりでなく、基板の全域に光磁気記録
膜が形成されるので、記憶容量を一層増大させることが
できる。
第１図（ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ本発明の一実施例にお
ける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図であ
る。 第２図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の他の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第３図（ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ本発明の更に別の実施
例における光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面
図である。 第４図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の別の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第５図乃至第７図は従来例を示すものである。 第５図は従来の光磁気ディスクを示す概略縦断面図であ
る。 第６図は従来の光磁気ディスクにおける光磁気記録膜の
成膜工程を示す概略縦断面図である。 第７図はポリカーボネイト製基板における半径方向の再
生信号品質の分布を示すグラフである。 ｌＯ・２０・３０・４０は光磁気ディスク、１１・２１
−３１−４１は基板、１１ａ２１ａ・３１ａ・４１ａは
外周縁部、１２・２２・３２・４２は光磁気記録膜、１
３・２３・３３・４３は保護膜、１４は環状溝、２１ｂ
・３１ｂはテーパ状部、４４はホルダである。 特許出願人 シャープ 株式会社−２５： １１ 図 節２ 図 簡４Ｗ！ 第５図 ｊＩＳ図 第７図
ける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図であ
る。 第２図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の他の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第３図（ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ本発明の更に別の実施
例における光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面
図である。 第４図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の別の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第５図乃至第７図は従来例を示すものである。 第５図は従来の光磁気ディスクを示す概略縦断面図であ
る。 第６図は従来の光磁気ディスクにおける光磁気記録膜の
成膜工程を示す概略縦断面図である。 第７図はポリカーボネイト製基板における半径方向の再
生信号品質の分布を示すグラフである。 ｌＯ・２０・３０・４０は光磁気ディスク、１１・２１
−３１−４１は基板、１１ａ２１ａ・３１ａ・４１ａは
外周縁部、１２・２２・３２・４２は光磁気記録膜、１
３・２３・３３・４３は保護膜、１４は環状溝、２１ｂ
・３１ｂはテーパ状部、４４はホルダである。 特許出願人 シャープ 株式会社−２５： １１ 図 節２ 図 簡４Ｗ！ 第５図 ｊＩＳ図 第７図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁
気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気デ
ィスクの製造方法において、基板の全域に光磁気記録膜
を成膜した後、光磁気記録膜の外周縁部近傍に光磁気記
録膜を通過して基板に到達する深さを有する環状溝を設
け、続いて、上記環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に
保護膜を形成するようにしたことを特徴とする光磁気デ
ィスクの製造方法。 ２、少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁
気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気デ
ィスクの製造方法において、基板の全域に光磁気記録膜
を成膜した後、基板の外周縁部の角部及びその表面の光
磁気記録膜を除去して基板の外周縁部の角部にテーパ状
部を形成し、続いて、上記基板のテーパ状部及び光磁気
記録膜の表面に保護膜を形成するようにしたことを特徴
とする光磁気ディスクの製造方法。 ３、少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁
気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気デ
ィスクの製造方法において、予め、基板の外周縁部の角
部にテーパ状部を形成した後、基板上に光磁気記録膜を
成膜し、続いて、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の
表面に保護膜を形成するようにしたことを特徴とする光
磁気ディスクの製造方法。 ４、少なくとも透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁
気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気デ
ィスクの製造方法において、基板の全域に光磁気記録膜
を成膜した後、その内径が基板の外径よりやや大きく、
その深さが基板の厚みと同等又はそれ以上である有底筒
状のホルダ内に基板を挿入し、続いて、光磁気記録膜の
表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部とホルダの
内周面との間の間隙に樹脂を充填することにより光磁気
記録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部に
保護膜を形成するようにしたことを特徴とする光磁気デ
ィスクの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121816A JP2551994B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 光磁気ディスクの製造方法 |
| US07/523,756 US5082690A (en) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Process for manufacturing a magneto-optic disc |
| CA002016815A CA2016815C (en) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Process for manufacturing a magneto-optic disc |
| DE69020799T DE69020799T2 (de) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Verfahren zur Herstellung einer magnetooptischen Scheibe und magnetooptische Scheibe, hergestellt mit diesem Verfahren. |
| EP90305243A EP0398662B1 (en) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Process for manufacturing a magneto-optic disc, and a magneto-optic disc manufactured by such a process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121816A JP2551994B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP454096A Division JP2889523B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 光磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02301044A true JPH02301044A (ja) | 1990-12-13 |
| JP2551994B2 JP2551994B2 (ja) | 1996-11-06 |
Family
ID=14820643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1121816A Expired - Lifetime JP2551994B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5082690A (ja) |
| EP (1) | EP0398662B1 (ja) |
| JP (1) | JP2551994B2 (ja) |
| CA (1) | CA2016815C (ja) |
| DE (1) | DE69020799T2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6587427B1 (en) | 1998-06-01 | 2003-07-01 | Terastor Corporation | Magneto-optical recording medium |
| JP2009080871A (ja) | 2007-09-25 | 2009-04-16 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体 |
| JP4755680B2 (ja) * | 2007-12-12 | 2011-08-24 | 太陽誘電株式会社 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
| US8119216B2 (en) | 2007-12-12 | 2012-02-21 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information recording medium and manufacturing method thereof |
Citations (4)
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| JPS63122037A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-26 | Fuji Electric Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS6486342A (en) * | 1987-09-29 | 1989-03-31 | Nippon Denki Home Electronics | Optical disk and its manufacture |
| JPH02128346A (ja) * | 1988-11-08 | 1990-05-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光磁気デイスク |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS6273440A (ja) * | 1985-09-26 | 1987-04-04 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
| EP0245833B1 (en) * | 1986-05-14 | 1991-10-09 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
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1989
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