JPH02302928A

JPH02302928A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH02302928A
Application number: JP12369689A
Authority: JP
Inventors: Akira Kamata; 晃鎌田; Kiyomi Ejiri; 清美江尻; Noburo Hibino; 信郎日比野
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1989-05-17
Filing date: 1989-05-17
Publication date: 1990-12-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（発明の技術分野夕本発明は、磁気記録媒体、特に磁気変換特性を著しく改
良した磁気記録媒体に関する。

（従来の技術）近年磁気記録媒体は高密度記録が要求され、高度の電磁
変換特性が要求されると共に、走行性も満足することが
必要であった。良好な電磁変換特性を得るために従来よ
り平坦な磁性層面が検討され、カレンダー処理工程が採
用されてきた。又走行性を改良するためにバック層にフ
ィラーを混入して適度な粗さにすることが行なわれてき
た。

ところが最近の８１ビデオテープに代表される微粒子の
強磁性粉末の採用のビデオテープにおいては、更なる高
密度記録のための表面設計が要求されており、ドロップ
アウト　（記録ぬけ）密度の抑制に対しても要求特性が
非常に厳しい。すなわち従来の１／２“用ベースフィル
ムでは粗すぎて電磁が悪（なってしまう。

これを解決するためには、１つの方法として、表裏とも
平坦面（触針式粗さ計でのＲａが０．００５μｍ以下）
であるベースを使い、マグネ層・バック層の処方で望み
の表面粗さを有した磁気テープとする方法があり、これ
に対応して製造できるペースライルムとしては、特開６
２−１３０８’４８に示されているものがある。しかし
、このベースフィルムは製膜工程における巻取部でシワ
やキズを発生させる比率が高く、ベースフィルムの製造
得率を著しく下げ、コストを５〜１０倍（対１／２イン
チ用ヘース）にしてしまうものである　。

また別の方法として特開６２−２４８１３１には、表裏
の表面粗さが違う、いわゆるデュアルサーフェスベース
フィルムで本課題を解決しようとする方法が記されてい
るが、パック層側に使用するベースフィルム面の表面粗
さが粗ずぎるために、磁性層面への形状転写が巻取保存
時におこり、型持を下げてしまうことがわかった。また
、表面突起物の規定が０．３ｍｍ２という微小面積で行
なわれているため、ドロップアウトになる様な粗大突起
物の抑制が全くできないことも判明した。現在５μｓぬ
けのドロップアウト数で良好なレベルが数１０コ／分、
悪いレベルが約５００コ／分以上あたりなので、１分長
の面積を検査対象にしないと良否はわからない。従って
約５０００ｍｍ”以上の粗大突起評価が必要であった。

近年ハイエイトシステムが提案されているがハイエイ！
・システムとは、現行の８龍ビデオシステムを更に発展
させて高画質化するために、記録波長を７ＭＨｚにアッ
プ（従来の８鶴システムは５ＭＨｚ）Ｌ−たものである
。一般に記録波長とスペーシングに又は比例するため、
従来の８Ｉｍシステムよりハイエイトシステムの方が磁
気テープと磁気ヘッドの密着性を強く要求する。従って
、同じ磁気テープを使えば、ハイエイトシステムの方が
ドロップアウト数は増大する事になる。また、再生出力
も当然のことながら、ハイエイトシステムの方が、同じ
テープでは低くなってしまう。

上記の考案から、ハイエイトに使用される磁気テープに
は、従来の８１ビデオテープを凌ぐ磁性層表面平坦性と
ドロップアウト因子の抑制が必要になる。この磁性層表
面平坦性は、使用ベースフィルムの磁性層面側表面平坦
性に比例し、また、ベースフィルムの磁性層面側表面の
粗大突起（高さ０．５μｍ以上）がドロップアウト因子
の１つとなる。ハイエイト用磁気テープに必要なベース
フィルムの磁性層面側表面平坦性と粗大突起密度につい
て、調査したところ、従来ビデオテープ用として市販さ
れてきた単層ベースフィルムでは、到達し得ない範囲で
あることが明らかになった。

即ち、磁性層面側に使用するベースフィルム表面の平坦
度向上と粗大突起密度低減をハイエイト用磁気テープに
必要な程度、単層ベースで行なうと、バンク面側も同時
に平坦化されてしまうため、ベースロールとして巻取る
際に巻姿が悪化しシワやキズが発生して得率を大幅に落
としてしまう。この事情は、前述の現行８１ビデオ用ベ
ースフイルムの場合より更に厳しいことがわかった。

（発明の目的）すなわち本発明の目的はハイエイトシステムのような高
密度記録システムにおいても出力向上ができ、ドロップ
アウト数が大巾に低減し、が製造のコストダウンも図れ
る磁気記録媒体を提供することにある。

〔発明の構成〕

すなわち本発明は非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤
中に分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体において、
前記非磁性支持体の磁性層面側の光波干渉式三次元表面
粗さのＲａＩが０．３〜４．０ｎｍ、Ｐｒｏが１〜２０
ｎｍ、粗大突起密度ｐｎｏが５０個／　１００　ｃＪ以
下であり、磁性層と反対の面が、光波干渉式三次元表面
粗さのＲａＩが４．０〜９、Ｑｎｍ、、Ｐｒｏが３０〜
１０００ｍであることを特徴とする磁気記録媒体であり
好ましくは、前記強磁性粉末の結晶子サイズが３００Å
以下で、かつ前記結合剤がエポキシ基を有する繰返し単
位と特定の極性基を有する塩化ビニル共重合体と特定の
極性基を有する繰返し単位を含むポリウレタン系樹脂を
含むことを特徴とする磁気記録媒体である。

すなわち本発明はデュアルサーフェスベースを用い、磁
性層面側は磁性表面上にベース表面粗さが残らない範囲
内に表面粗さを調節し、又、ハイエイトシステムにおい
てトロツブアウトを生じないように粗大突起密度を下げ
、ハック面側は、磁気テープが製造工程中で巻かれて、
ハ、り層の表面粗さが磁性層面に転写してもＳ／Ｎを悪
化させない表面粗さとし、好ましくはこのようなベース
を用いてその上に結晶子サイズが３００Å以下の強磁性
粉末を用いるかつ極性基含有の結合剤を用いることによ
り本発明の目的が達成させるものである。

本発明においてＲａＩとｐｒｏは光波干渉式三次元粗さ
計により測定されたものである。

尚測定面積は０．２５ｍ角−０，０６ｍ１２である。

光波干渉式三次元粗さ計は、ＵＳＡアリシナ州立大のＷ
ＹＡＮＴ教授によって提唱され、ＷＹＫＯ社の名によっ
て米国特許ＵＳ４６３９１３９として開示されている測
定原理に基づくものである。

アウトプット形式としては、ＪＩＳ−ＢＯ６０１に表さ
れている様な、表面粗さ曲線が基本であるが、三次元的
に微小面積内の表面座標情報を鳥観図（第１図）として
出力できる。尚、ＪＩｓ−Ｂ１２Ｏ３に示されている様
に、表面粗さを定量化しようとすれば、必ず、規定長さ
内の形状全体にわたる傾斜・うねり等を除去しなければ
ならない。

光波干渉計の情報は直接の画像情報には、この傾斜・う
ねりが含まれてしまうため、画像からの座標情報に下記
の３つの補正を加えて、２５０μｍ角内の傾斜・うねり
を排除した。

（１１傾斜補正ある平面を想定した際に、その平面と原信号座標の偏差
の二乗平均平方根（ＲＭＳ）が最小となる様な平面を算
出し、その平面の座標分を各点の原信号座標から引く。

これを第１補正座標と呼ぶ。

（２）球面補正第１補正座標に対し、ある球面を想定し、その球面と第
１補正座標の偏差のＲＭＳが最小となる様な球面を算出
し、その球面の座標分を第１補正座標から引く。これを
第２補正座標と呼ぶ。

（３）円筒補正第２補正座標に対し、中心面（全点の相加平均レベル）
に平行な中心軸をもつ円筒面を想定し、その円筒面と第
２補正座標の偏差のＲＭＳが最小となる様な円筒面を算
出し、その円筒面の座標分を第２補正座標から引く。こ
れを第３補正座標と呼ぶ。

ＲａＩ：第３補正座標において全点の相加平均を算出し
、その平均レベルを中心面とする。

全点と中心面の平均偏差を、光波干渉式中心面平均粗さ
くＲａ１）と定義する。

ｐｌｏ：第３補正座標により描き出された表面形状にお
いて凸城の部分の山頂の座標で、値の大きいもの１０点
の平均値である。

粗大突起密度（Ｐｏｏ）は以下の如くに測定した。

使用ベースフィルムの磁性層表面を三光束干渉顕微鏡に
コンオフチフォｌ−）を用い総合倍率４００ＸのＴＶ画
像として観察する。この画像を最大輝度と最小輝度の平
均値を境として、輝度の高い方を白、低い方を黒という
二値化画像に変換し、その二値化画像内に存在する黒の
２重環の数をカウントする。但し、黒縞環の中心に黒点
がある場合は、黒点も１重環としてカランｌ〜する。

この作業を、試料台に自動ＸＹテーブルをつけ、画像を
ＣＯＤで画像解析機（ルーゼソクスー■：ニレコ■製）
にインプットして処理することで高速化し、１０ｏｃＩ
ＩＩ分をカウントしてＰＤＯとした。

本発明において、特に光波干渉式三次元表面粗さの規定
を設けた理由は触針式表面粗さ計では、本件の様な微妙
な表面粗さを記述する事が不可能であるからである。こ
のことは、後述の実施例からも明らかである。

本発明に使用される非磁性支持体はポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポ
リエステル頬；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類；セルローストリアセテート、セルロース
ダイアセテート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導
体；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル計
樹脂；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミトイミ
ド等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、
銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹銅
などの非磁性金属類；紙、バライタまたはポリエチレン
、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの炭
素数２〜１ｏのα−ポリオレフィン類を塗布またはチミ
不一トした紙などである。

最も好ましい非磁性支持体は、上述にあるプラスチック
フィルムに不活性無機粒子、或いは有機粒子の類を含有
させて表裏の表面粗さを所定の範囲に調整したものであ
る。表裏の表面粗さに違いを持たせる手段は色々考えら
れるが、最も現実的なものは多層フィルＪ・で、ポリエ
チレンテレフタレートを使った厚さ５〜３０μｍのもの
が良い。

この場合２層フィルムで目的とするヘースフィルムが得
られるが、例えば、３層フィルムにして昼間層はカーボ
ン粒子を混入させてフィルム全体の光透過率を下げる等
の付加価値をっけてもよい。

いずれにしても、表面を形成する層と裏面を形成する層
に含有させる粒子の径や密度を調整する事で、表、裏の
表面粗さを特許請求の範囲に示した様な範囲に調整でき
る。

上述の不活性無機粒子の例としては、無機粉体もしくは
研磨剤と称されるもので、成分をあげること、α−アル
ミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、リン化鉄、炭化チタン、窒化チタン、α−
とβ−酸化ケン素、アルミニウム、蓚酸カルシウム、鉄
、α−酸化第１鉄、亜鉛、二酸化亜鉛、酸化第２ニッケ
ル、ニッケル、銅、クロミア、水酸化マグネシウム、ジ
ルコニア、イツトリア、セリア、ジルコン、酸化アンチ
モンなどがある。

有機微粒子としては、ベンゾグアナミンホルムアルデヒ
ド、ポリテトラフルオロエチレンのように有機マント材
として市販されているものが使用できる。これら粒子の
平均粒径は０．００１〜３μｍ好ましくは０．０１〜０
．５μｍであることが好ましい。

尚、前述のように粗大突起密度を低減するには、上記の
粒子添加後、多段フィルターにより濾過して除去するこ
ともできるが、もともとの添加粒子粉体自身に粗大粒子
が存在しない方が好ましい。

その点からみて、α−とβ−酸化ケン素或いは有機微粒
子が好ましい。

本発明に使用する強磁性粉末としては強磁性金属粉末を
用いることが好ましい。

強磁性金属粉末の例としては、強磁性金属粉末中の金属
分が７５重量％以上であり、そして金属分の８０重量％
以上が少なくとも一種類の強磁性金属あるいは合金（例
、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−
Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｆｅ）であり、該金属分の２０重
量％以下の範囲内で他の成分（例、Ａ１、Ｓｌ、５ＸＳ
ｃ、Ｔｉ、■、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、、ＺｎＸＹＸＭｏ、
、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、、Ｓｎ、、Ｓｂ、、Ｔｅ、、Ｂａ
、Ｔａ、、Ｗ。

Ｒｅ、Ａｕ、、Ｈｇ、Ｐｂ＝　Ｂ、、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐ　
ｒ、Ｎｄ、Ｂｉ、Ｐ）を含むことのある合金を挙げるこ
とができる。また、上記強磁性金属分が少量の水、水酸
化物または酸化物を含むものなどであってもよい。これ
らの強磁性金属微粉末の製造方法は既に公知であり、本
発明で用いる強磁性粉末の一例である強磁性金属微粉末
についても、これら公知の方法に従って製造することが
できる。

結晶子サイズは３００人であることが好ましい。

前記本発明のデュアルサーフェスヘースと組み合わせて
用いることにより、顕著に表面性が良化し、出力、Ｃ／
Ｎが上る。

また本発明に開示された非磁性支持体に酸化鉄系強磁性
粉末やバリウムフェライ１−系強磁性粉末を結合剤と共
に塗設した場合も同様な効果が得られる。

本発明の磁気記録媒体の磁性層中に＆Ｊ、上記強磁性粉
末１００重量部に対して、通常１０〜４０重量部（好ま
しくは１５〜３０重量部）の結合剤が含有されている。

最も好まし結合剤は、エポキシ基を有する繰返し単位と
特定の極性基を有する繰返し単位とを含む塩化ビニル系
共重合体および特定の極性基を有する繰返し単位を含む
ポリウレタン系又ポリエステル系樹脂を含む樹脂成分か
らなるものである。

塩化ビニル系共重合体は、塩化ビニル繰返し単位と、エ
ポキシ基を有する繰返し単位と、」−記特定の極性基を
有する繰返し単位とを含む塩化ヒュル系共重合体である
。

塩化ビニル系共重合体を構成する極性基を有する繰返し
単位は、−３Ｏ，Ｍ、−０８０３Ｍ、−０００Ｍおよび
−ＰＯ（ＯＭ′）２を有するものである、塩化ビニル系
重合体にはこれらが単独であっても二以上が組合わされ
て含まれていてもよい。

ここで、Ｍ及びＭ′は前記と同じ意味である。

これらのなかでも極性基として一３ＯＪＮａを有する繰
返し単位を含む塩化ビニル系共重合体が好ましい。

極性基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率
は、通常０．０１〜５．０モル％（好ましくは、０．５
〜３．０モル％）の範囲内にある。

エポキシ基を有する繰返し単位の共重合体中における含
有率は、通常１．０〜３０モル％（好ましくは１〜２０
モル％）の範囲内にある。ぞして、塩化ビニル系重合体
は、塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１
〜０．５モル（好ましくは０．０１〜０．３モル）のエ
ポキシ基を有する繰返し単位を含有するものである。

エポキシ基を有する繰返し単位の含有率が１モル％より
低いか、あるいは塩化ビニル繰返し単位１モルに対する
エポキシ基を有する繰返し単位の量が０．０１モルより
少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸ガスの放出を
有効に防止することができないことがあり、一方、３０
モル％より高いか、あるいは塩化ビニル繰返し単位１モ
ルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．５
モルより多いと塩化ビニル系共重合体の硬度が低くなる
ことがあり、これを用いた場合には磁性層の走行耐久性
が低下することがある。

また、特定の極性基を有する繰返し単位の含有率が０．
０１モル％より少ないと強磁性粉末の分散性が不充分と
なることがあり、５．０モル％より多いと共重合体が吸
湿性を有するようになり耐候性が低下することがある。

通常、このような塩化ビニル系共重合体の数平均分子量
は、１，５万〜６万の範囲内にある。

、１発明で使用するポリウレタン系又はポリエステル系
樹脂を構成する極性基を有する繰返し単位は、　Ｓ　Ｏ
：ｌ　Ｍ、−０ＳＯ，Ｍ、−ＣＯＯＭ及び−ＰＯ（ＯＭ
’）２を有するものであり、これらは単独であっても二
以上が組合わされて使用されていてもよい。

ここで、Ｍ及びＭ′は前記と同じ意味である。

これらのなか−こも−３ｏ−、、Ｎａを有する繰返し単
位を有するボ；１ウレタン系又はポリエステル系樹脂が
好ましい。

このよう６ご特昇の極性基およびエボ〜ｉ・シ基が導入
されている塩化ビニル系共重合体と特定の極性基が導入
されているポリウレタン系又はポリエステル系樹脂を使
用すること心こより、塩化ビニル系共重合体およびポリ
ウレタン系又はポリエステル系樹脂の極性基が強磁性）
５〕末との親和性を向上さゼるように作用して強磁性粉
末力’　Ｌ’ｔ３性層中に良好に分散する。従って、磁
性層の角型比が向上するので良好な再生出力を示す。さ
らに、塊状体で分散している強磁性粉末が少ないので走
行中に強磁性粉末が脱離することがなく、従って、瞬間
磁気ヘッド目詰まりなどの発生も低減することができる
。

結合剤としては、上記の塩化ビニル系共重合体およびポ
リウレタン系又はポリエステル系樹脂の外に以下に記載
する樹脂を混合して使用することもできる。混合して使
用することのできる他の樹脂の例としては、塩化ビニル
・酢酸ビニル共重合体および塩化ビニル・酢酸ビニルと
ビニルアルコール、無水マレイン酸および／またはアク
リル酸との共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重
合体、塩化ヒニル・アクリロニトリル共重合体、エチレ
ン・酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース樹脂などの
セルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセクー
ル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂およ
びフェノキシ樹脂を挙げることができる。

ただし、ごれらの樹脂を（ｊｌ用する場合に、これらの
樹脂の使用量は結合剤１００重量部に対して通常は２０
重量部以下とする。

さらに２、本発明の磁気記録媒体の磁性層を調製する際
にポリイソシアネート化合物を添加するごともできる。

なお、ポリイソシアネート化合物を使用する場合にはポ
リウレタン系樹脂を製造する際に使用したポリイソシア
ネート化合物を使用することができる。

通常、本発明の磁気記録媒体の磁性層には研磨材が含有
されている。使用する研磨材に特に制限はなく、通常使
用されている研磨材を使用することができる。研磨材は
、通常強磁性粉末１００重量部に対して０．２〜１０重
量部となるように配合される。

−また、上記の研磨材以外にも、導電性を存するカーボ
ンブランク、潤滑剤などを含有することが好ましい。

（発明の効果）本発明は従来の触針式表面粗さ計では検出できないよう
な微小な表面粗さが出力、Ｃ／ＮやＤＯ（ドロップアウ
トに大きく影響することを見出したもので、デュアルサ
ーフェスヘースを用い、磁性層面側は磁性層面上にベー
ス表面粗さが残らない範囲内に表面粗さを訓節し、又ハ
イエイトシステムにおいてドロップアウトを生じないよ
うに粗大突起密度を下げ、ハック面側は磁気テープが製
造工程中で巻かれて、ハック面の表面粗さが磁性層面に
転写してもＳ／Ｎを悪化させない表面粗さとして光波干
渉式三次元表面粗さの規定を導入し、更に粗大突起密度
を規定した。これにより、顕著に電磁変換特性（出力、
Ｃ／Ｎ）が改良され、ドロップアウトが減少した。又微
粒子の強磁性粉末を用いることにより、表面性が良化し
出力、Ｃ／Ｎが向上し、極性基含有結合剤と組み合せて
用いることにより分散性が向上し上記平滑ベースの使用
とあいまってきわめて良好な効果を示した。

（実施例）以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。こ
こに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるものであることは本業
界に携わるものにとって容易に理解されることである。

従って、本発明は下記の実施例に制限させるべきではな
い。なお、実施例中の「部」は「重量部」を示す。

（実施例１）下記の組成物をボールミルを用いて４８時間混線分散し
た後、１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いて濾過
し、磁性塗料を調製した。得られて磁性塗料を乾燥後の
磁性層の厚さが３．０μｍになるように、厚さ１０μｍ
の第１表に記載の各種のポリエチレンテレフタレート支
持体の表面にリバースロールを用いて塗布した。

型判塗料■威強磁性金属微粉末（組成二Ｆｅ９２％、Ｚｎ４％、Ｎｉ４％、ＨＣ’：１５３００ｅ１飽和磁束密度：　１２０ｅｍｕ／ｇ、結晶子サイズ：２００オングストローム）　　　　　’　　　　　　　１００部５０
３Ｎａ、エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体（ＭＲ−’ １１０日本ゼオン製〉　　　　　　　１２部ＳＯ，Ｎａ
含有ポリウレタン系樹脂（ＵＲ８２００東洋紡製）　　　５部α−Ａｊ２ｚ
Ｏ：＋　　（平均粒子径：０．３μｍ）　　　　　　　
　　　５部ステアリン酸　　　　　　　　　　　　２部
ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　２部メチルエチ
ルケトン　　　　　　　３００部メチルイソブチルケト
ン　　　　　　５０部磁性塗料が塗布された非磁性支持
体を、磁性塗料が未乾燥の状態で３０００ガウスの磁石
で磁場配向処理を行なった。さらに乾燥後、スーパーカ
レンダー処理、加熱処理およびブレード処理を行ない、
８１ｍ幅にスリットして８ミリビデオ用テープを製造し
た。（サンプルｌ１ｋｌ〜７）（実施例２）実施例１のサンプルＭ２において、強磁性金属微粉末と
してＦｅ９４％、Ｚｎ４％、Ｎｉ２％、Ｈｃ１５０００
ｅ、結晶子サイズ３００オングストロームの強磁性金属
微粉末を用い、結合剤としてＳＯ：ｌＮａ、エポキシ基
含有塩化ビニル系共重合体を１０部用い、３０３Ｎａ含
有ポリウレタン系樹脂としてｔＪＲ８６００東洋紡製を
１０部用いた以外は、サンプルＮｏ２と同様にして８鰭
ビデオ用テープを製造した（サンプルＮα８）。

（実施例３）実施例１のサンプルＮｏ、　２において、３０３Ｎ　２
　％エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体を１５部用い
、Ｓ　Ｏ，Ｎ　ａ含有ポリウレタン系樹脂のかわりにＳ
Ｏ３Ｎａ含有ポリエステル系樹脂（バイロンＲＶ５３０
、東洋紡製）を８部用いた以外はサンプルＩＩｋ１２と
同様にして８龍ビデオテープを製造した（サンプル陽９
）。

上記の実施例を下記の手段で評価した。

■、使用ベース特性評価 ■製造得率：各実施例におりるベースフィルＪ−。

を製膜した時の得率。

製膜機から直接巻取られるベースフィルムロールは、幅
約５ｍ長さ約１００００ｍである。これを磁気テープ製
造工程に流す際には、前もって１ｍ幅Ｘｌ００００ｍ長
にスリン１−するが、その工程において巻取形状不良の
ために得率がダウンする。ここにおいて定義Ｊる得率と
は、このスリソト工程におけるｆｆ率を差す。

■光波干渉式三次元表面粗さくＲａ　ｌ　、　Ｐ’ｔｏ
）ＷＹＫＯ社（Ｕ、Ｓ、Ａ、アリシナ州）制光波干渉式
三次元粗さ計商標ｒＴＯＰＯ−３Ｄ」を用い、２５０μ
ｍ角の表面粗さを測定（対物レンズ４０Ｘ）して算出さ
れた中心面平均粗さをＲａＩ（ｎｍ）とした。

更に、この表面粗さ形状情報を元に、高い凸起から順に
１０点の凸起の高さを抽出して１０点平均凸起高さＰ＋
ｏ（ｎｍ）とした。尚測定面積は０．２５龍角−０，０
６ｍｍ”である。

■粗大突起密度（ｐｏ。）使用ベースフィルムの磁性層面表面を三光束干渉顕微鏡
にコンオフチフォト）を用い総合倍率４００ＸのＴＶ画
像として観察する。

この画像を最大輝度と最小輝度の平均値を境として、輝
度の高い方を白、低い方を黒という二値化画像に変換し
、その二値化画像内に存在する黒の２重環の数をカウン
トする。但し、黒縞環の中心に黒点がある場合は、黒点
も１重環としてカウントする。

この作業を、試料台に自動ｘｙ子テーブルつけ、画像を
ＣＣＤで画像解析機（ルーゼソクス２；ニレコー株式会
社製）にインプットして処理することにより高速化しｔ
ｏｏｃｎ１分をカウントしてＰ、。とじた。

■触針式表面粗さくＲ，ｌ５）ＪＩＳ−ＢＯ６５１に従い、使用ベースフィルムの中心
線平均粗さを求めＲａＳ（ｎｍ）とした（針圧０．０７
ｇ、触針半径２μ、カットオフ値０．２５ｍｍ）。この
値から特開６２−２４８１３１の規定するベースフィル
ムと本件の規定するベースフィルムが異なる事、また、
光波干渉式三次元粗さ計での表面粗さ規定が有効である
事がわかる。

■、磁気テープ特性評価 ■電磁変換特性比較例２が従来の８１１ビデオテープそのものであるが
、これをＯｄＢとして、７　Ｍ　Ｈｚにおける記録信号
の、再生出力（７ＭＨｚ）とＣ／Ｎ　（Δｆ＝１．０Ｍ
Ｈ２）を測定した。

■ドロップアウト密度（３７分）局所的な記録抜けの数の事で、時間にして５μｓ以上の
数、及び１５μｓ以上の数をかぞえた。尚、記録ぬけの
規定している出力低下レベルは、−１６ｄ１３である。

第１表の結果より以下のことがわかる。

サンプル隘１及び２、特許請求の範囲内のベースである。実施例１の方が少し
磁性層を平滑にしすぎて若干ベース製造得率が悪いが９
０％を確保しているのでコストダウンは十分みこめる。

サンプル階３：実施例２に近いものであるが、ｐｎｏが４１コ／　１０
０　ｃｎｔと多めになっており、その分ＤＯが多くなっ
ている。

サンプル隘４：従来の平滑単層ベースで、ノーマル８１■システムで採
用されているものであるが、ハイエイトでは、Ｄｏが多
く型持も実施例１．２より低い。

サンプル陶５：単層ベースで、ＲａＩは５．Ｑｎｍと少し高めであるが
、Ｐｉを３９ｎｍ前後におさえこみ、またｐｎｏも少な
めに調整した。その結果、型持もＤｏ数も妥協できるレ
ベルであるが、巻き姿が不良となるものがあるのでベー
スの製造得率は３０〜６０％と悪く、コストダウンはみ
こめない。

サンプルｔｌｈ６：マグネ面側は実施例１と同じなので、型持やＤｏは実施
例１と同じレベルでＯＫであるが、ハック面側がクレー
ムの範囲より平滑になりすぎているためベース製造得率
が５〜３０％と極めて悪く、コストアンプとなってしま
う。

サンプルＩｌｋ＋、７：磁性層、面側のＲａＩ、Ｐｒｏはクレーム内であるがｐ
ｏｏやバンク面側のＲａＩ、Ｐｒｏが大きすぎる。この
場合Ｄｏも多くなるし、磁気テープ製造工程において磁
性層塗布後巻取られた時にハック面の粗さが磁性面に転
写し型持を悪くしてしまう。

【図面の簡単な説明】

第１図は光波干渉式三次元粗さ計により測定した表面粗
さを三次元的に微少面稜内の表面座標情報として出力し
た鳥観図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散さ
せた磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記非磁性
支持体の磁性層面側の光波干渉式三次元表面粗さのＲａ
I が０．３〜４．０ｎｍ、Ｐ＿１＿０が１〜２０ｎｍ
、粗大突起密度Ｐ＿Ｄ＿Ｏが５０個／１００ｃｍ＾２以
下であり、磁性層と反対の面が、光波干渉式三次元表面
粗さのＲａ I が４．０〜９．０ｎｍ、Ｐ＿１＿０が３
０〜１００ｎｍであることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）前記強磁性粉末の結晶子サイズが３００Å以下で
あり前記結合剤がエポキシ基を有する繰返し単位と特定
の極性基を有する塩化ビニル共重合体と特定の極性基を
有する繰返し単位を含むポリウレタン系樹脂を含むこと
を特徴とする磁気記録媒体。