JPH0677302B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPH0677302B2
JPH0677302B2 JP12534685A JP12534685A JPH0677302B2 JP H0677302 B2 JPH0677302 B2 JP H0677302B2 JP 12534685 A JP12534685 A JP 12534685A JP 12534685 A JP12534685 A JP 12534685A JP H0677302 B2 JPH0677302 B2 JP H0677302B2
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film
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metal thin
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紘一 篠原
貴志 鈴木
紀台 能智
茂樹 河瀬
幹夫 村居
秀樹 ▲吉▼田
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体に高分子フイルム上に強磁性金属
から成る磁気記録層を配したいわゆる金属薄膜型の磁気
記録媒体に関する。
従来の技術 従来、磁気記録層として広く実用に供されているもの
は、γ−Fe2O3,Coをドープしたγ−Fe2O3,CrO2、或いは
鉄等の強磁性金属又は合金微小粉末磁性材料を塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体,スチレンブタジエン共重合
体,エポキシ樹脂等の有機バインダ中に分散させて高分
子フイルム等の基板上に塗布,乾燥させた塗布型磁性層
である。近年高密度記録への要求の高まりと共に高密度
域で優れた信号対雑音比(S/Nと以下記す)を与えうる
期待の大きい強磁性金属薄膜を磁気記録層とするいわゆ
る金属薄膜型磁気記録媒体が注目され、実用化に向けて
努力が続けられている。
〔例えば、外国論文誌:アイイーイーイー磁気学会報
(IEEE Transaction on Magnetics)第MAG−10巻,No2,P
P.368〜373(1974)参照〕 かかる磁気記録媒体の課題は、電磁変換特性と実用耐久
性のバランスをいかに高い水準でとるかにあり、各種の
提案がなされている。
第3図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である。
第3図に於て1は高分子フイルム2は強磁性金属薄膜か
らなる磁気記録層3は保護膜である。3の保護膜によ
り、磁気記録層に磁気ヘッドとの高速摺接時に発生する
スリ傷を防止することや走行性の改善を図る上で一部成
功を収めている。〔例えば、特開昭52−153707号,特開
昭53−88704号,特開昭59−171026号の公報〕 更に高分子フイルム1として、特開昭59−84928号公
報,特開昭59−121631号公報に開示されたものを用い
て、磁気記録層表面に磁気ヘッドとの真空接触面積を減
らすための凹凸を多数設けることが、耐スリ傷性,走行
性の一層の改善を図ることができることも知られてい
る。
又磁気記録層としての酸素を含むCo合金薄膜が、スチル
耐久性,S/Nの点でも優れていることも知られている。
〔外国論文誌:アイイーイーイー磁気学会報(IEEE Tra
nsaction on Magnetics)Vol MAG−20,PP.824−826(19
84)参照〕 発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記したような構成では、高密度化が進ん
で信号の面積が6×10-8cm2以上になると、S/Nと、実用
耐久性とりわけヘッド摩耗とのバランスが不十分になる
という問題点を有していた。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体は高分
子フイルム上に酸素を含む強磁性金属薄膜を配し、その
上に微粒子塗布層、更に酵素を含む強磁性金属薄膜を配
した構成を備えたものである。
作 用 本発明は上記した構成により、微粒子により形成される
突起が飽和出力を得る上で必要な磁気記録層の膜厚を一
度で形成した場合に比して、酸素を含む強磁性金属薄膜
では均一で異常結晶成長による粗大突起の発生がなくな
るためと思われることと、微粒子塗布層上の薄膜の外力
による破壊も、薄膜の厚みが小さい方が、内部応力の蓄
積が小さいため起りにくくなることから、磁気記録層が
微小量けずれてその摩耗粉で磁気ヘッドを摩耗させるこ
とが極めて少なくなり、且つ酸素を含む強磁性金属薄膜
の構成粒子が微粒子化することからS/Nも改良され、双
方のバランスが良好となるものである。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。第1図,第2図は本発明の実施例の磁気記録媒体
の拡大断面図である。
第1図に於て4は厚み10μmのポリエチレンテレフタレ
ートフイルムから成る高分子フイルムで5はCo−Ni−O
膜で原子%比で夫々が70:18:12の膜で厚みは0.1μmで
ある。この薄膜を含め実施例に用いた強磁性金属薄膜の
形成は、直径1mの円筒キヤンと電子ビーム蒸発源を内包
した巻取式真空蒸着機により行った。磁気特性の調整
は、最小入射角,酸素分圧,蒸着速度,等で行った。
6は、微粒子塗布層で、微粒子7と微粒子を固定するた
めの樹脂層8から成るもので、用いた微粒子は、直径30
0Åのシリカ微粒子で、樹脂はポリアリレートを用い
た。シリカ微粒子の密度は100ケ/(μm)2,ポリアリ
レート樹脂厚みは平均50Åとした。
この上にCo−Ni−O膜9を蒸着した。原子%比66:16:18
の膜で厚みは0.05μmである。
比較テープとして、高分子フイルム4の上に、同一仕様
の微粒子塗布層6を配しその上にCo−Ni−O膜を0.15μ
m配したものを用いた。磁気特性を同一のものにして比
較した。そのためCo−Ni−O膜の原子%比は68:17:15で
あった。保磁力は1050(Oe)角形比は0.76であった。
実施例と比較例の双方のテープには、真空蒸着法でステ
アリン酸を表面に約40Å蒸着して評価した。
S/Aを磁気ヘッドの使用時間で比較したものを表にまと
めた。S/Nは記憶波長0.75μmトラックピッチ14μmで
の相対比較である。環境条件は30℃80%RHである。
以上のように本実施例によれば、酸素を含む強磁性金属
薄膜を分割し、間に微粒子塗布層を介在させることで良
好なS/Nを長時間に渡って確保できることがわかる。
第2図は、本発明の別の実施例の拡大断面図である。
第2図に於て10は厚み6.5μmのポリエチレン2−6ナ
フタレートフイルムから成る高分子フイルム、11は高分
子フイルムに密着された水溶性高分子を主体とする不連
続皮膜で、メチルセルロースで平均粗さ100Åのものを
用いた。12は酸素を含む強磁性金属薄膜でCo−O膜0.09
μm,Co−Oの原子%比率は86:14とした。13は微粒子塗
布層でFe3O4微粒子(直径160Å)14と固室用の樹脂エポ
キシ樹脂層(平均厚み30Å)15から成るものである。16
は酸素を含む強磁性金属薄膜で0.09μmのCo−O膜(C
o:O=83:17)で、滑剤としてステアリン酸蒸着膜を約45
Å配して、テープ化した。
比較テープは、不連続皮膜上に直接Fe3O4微粒子を同一
密度〔約60ケ/(μm)〕塗布し、その上にCo−O
〔Co:O=84:16で磁気特性は保磁力1100(Oe),角形比
0.81で実式例と同一に調整した。〕膜を0.18μm形成
し、同じくステアリン酸蒸着膜を約45Å配したものを用
いた。
環境条件を25℃75%RHとして、2種類の合金ヘッドを用
いて記録波長0.66μmトラックピッチ10μmの条件で、
再生S/Nを相対比較した。
以上のように本実施例によれば、高分子フイルム上に密
着した水溶性高分子不連続皮膜上に酸素を含む強磁性金
属薄膜,微粒子塗布層,酸素を含む強磁性金属薄膜を配
することで、良好なS/Nを合金ヘッドを用いた高密度磁
気記録再生で長時間持続して得ることができることが理
解される。
なお2つの実施例において、高分子フイルムとしては他
に、ポリイミド,ポリアミド,ポリスルフオン,ポリカ
ーボネート,ポリフエニレンサルフアイド,ポリパラバ
ニック酸等でもよい。
微粒子としては、他にTiO2,CaCO3,BaSO4,ポリエステル
球などでもよく、微粒子を固定する樹脂としては、ポリ
エステル,ポリアミド,ポリイミド,ポリスチレン,ポ
リカーボネート,ポリアクリレート,シリコーン,ウレ
タン,フェノール等でもよい。
高分子フイルムに密着した水溶性高分子を主体とした不
連続皮膜は、他にポリビニルアルコール,アラビアゴ
ム,カゼイン,ゼラチン,カルボキシメチルセルロース
等でもよい。
酸素を含む強磁性金属薄膜は他に、Co−Fe−O,Co−Cr−
O,Co−Ti−C,Co−Si−O,Co−Mg−O,Co−W−O,Co−Mo−
O,Co−Cu−O,Co−Sb−O,Co−Sm−O等でもよい。
発明の効果 以上のように本発明によれば、高密度磁気記録再生での
S/Nを良好な状態で長時間持続できるといったすぐれた
効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図,第2図は本発明の実施例に係る磁気記録媒体の
拡大断面図、第3図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図
である。 4,10……高分子フイルム、5,9,12,16……酸素を含む強
磁性金属薄膜、6,13……微粒子塗布層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河瀬 茂樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 村居 幹夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 ▲吉▼田 秀樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−207422(JP,A) 特開 昭59−223934(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高分子フイルム上に酸素を含む強磁性金属
    薄膜を配しその上に微粒子塗布層、更に酵素を含む強磁
    性金属薄膜を配したことを特徴とする磁気記録媒体。
JP12534685A 1985-06-10 1985-06-10 磁気記録媒体 Expired - Lifetime JPH0677302B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP12534685A JPH0677302B2 (ja) 1985-06-10 1985-06-10 磁気記録媒体

Applications Claiming Priority (1)

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JP12534685A JPH0677302B2 (ja) 1985-06-10 1985-06-10 磁気記録媒体

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JPS61284827A JPS61284827A (ja) 1986-12-15
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JP12534685A Expired - Lifetime JPH0677302B2 (ja) 1985-06-10 1985-06-10 磁気記録媒体

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JPH04147420A (ja) * 1990-10-11 1992-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体

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JPS61284827A (ja) 1986-12-15

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