JPH0230447Y2

JPH0230447Y2 -

Info

Publication number: JPH0230447Y2
Application number: JP1986104993U
Authority: JP
Priority date: 1986-07-10
Filing date: 1986-07-10
Publication date: 1990-08-16
Also published as: JPS6311566U

Description

【考案の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本考案は、有価金属又は有害金属を低濃度で含
有する溶液からこれら金属を採取する電解採取装
置の改良に関する。

〔従来の技術〕

メツキ廃水等に含まれる低濃度の有価金属の回
収や有害金属の除去に用いられる装置として、充
填床式の電解採取装置が知られている。この装置
は、電解室内の一側面に設けられた板状アノード
と、該アノードに対置された板状カソードを備
え、アノードとカソードとの間に導電性媒体粒子
として例えばグラフアイト粒子等を充填したもの
で、処理すべき溶液を下方から上方へ両電極間を
流すことにより含まれている低濃度金属を電解に
より前記グラフアイト粒子等の表面に析出させ、
回収するものである。

しかしながら、隔膜と板状アノードとは接触に
より短絡が起きないように間隙を保つておく必要
があり、このためにスペーサーが設けられてい
る。第４図は従来装置の一典型例として、隔膜、
板状アノードおよびその間隙を保つスペーサーの
構造を示すものであるが、この図に即して説明す
ると、隔膜４を介して垂直に設けられた板状アノ
ード２は、隔膜４と接触しないように間隙を保つ
ためのスペーサー８がそれらの間に設けられてい
る。スペーサー８は単に隔膜と板状アノードとの
間隙を保つ目的のため、単純な格子状あるいはス
パイラル状の構造を有する。被処理溶液は導電性
媒体粒子の充填された充填床５を下方から上方へ
流されることにより、溶液中の低濃度金属が電解
採取される。

〔考案が解決しようとする問題点〕

被処理溶液が電解槽下部から供給されるとき、
充填床５は通液抵抗が大きいために、溶液は通液
抵抗がほとんどないスペーサー８の部分へ流入
し、電解採取されることなく上方へ流出してしま
い、そのため金属の採取効率が低下するという欠
点を有していた。

そこで、本考案の目的は従来の電解採取装置の
スペーサー部分を改良し、溶液がスペーサー部分
から電解採取されることなく上方へ流出する欠点
を改めて金属の採取効率を高めた電解採取装置を
提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は、従来技術の前記問題点を解決するも
のとして、電解室内の一側面に設けられた板状ア
ノードと、隔膜を介して該アノードに対向する側
面に配設された板状カソードと、該隔膜とカソー
ドとの間の電解室に充填された導電性媒体粒子と
を備え、溶液を前記電解室内に下方から上方へ流
すことにより溶液中の低濃度金属を電解採取する
充填床式電解採取装置において、前記アノードと
隔膜との間に、アノード幅の全面にわたつて横断
し、溶液の上昇流を阻止する複数段の棚を有する
スペーサーを設けることにより、低濃度金属の電
解採取装置を構成したものである。

〔実施例〕

以下、本考案を図面をもつて詳しく説明する。
第１図は本考案による電解採取装置の一実施例の
断面を示すものである。塩化ビニルで作られた容
器である電解槽１内には、電解槽１の一方の側壁
に密着する状態で、グラフアトで作られた板状ア
ノード２、これと対向する他の側壁に板状カソー
ド３が設置されている。アノード２とカソード３
との間の空間にはグラフアイトからなる導電性媒
体粒子５が充填され、該粒子はカソードと電気的
に接触して運転の際にカソードの一部として機能
とする。該粒子はアノード２からは、ポリプロピ
レンで作られた隔膜４により電気的に絶縁された
状態にある。アノード２と隔膜４との間隙を保つ
ように、塩化ビニルで作られたスペーサー８が設
置される。第２図はより詳細なスペーサーの平面
断面図および側面断面図の一例である。スペーサ
ー８はアノード２と隔膜４との間に、該アノード
の幅の全面にわたつて横断する複数段の棚９と、
これら棚の内側部を貫通し、且つ固定された複数
箇の支柱１０からなり、複数段の棚９はアノード
２側から隔膜４の方向へ上向きの傾斜がつけられ
ている。また棚９の隔膜４の側には透孔および／
または切欠き１１を複数箇設けてある。電解槽１
の下部および上部には、それぞれ被処理溶液の入
口６および処理済液を排出するオーバフロー口７
が設置されている。

電解槽１の材質としては、他にポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリスチレン等の絶縁性構造
材用プラスチツクならば好適に用いられる。アノ
ード２の材質としては、他に、チタン、白金、酸
化ルテニウム等が用いられる。カソード３の材質
としては他にチタン、銅等の処理液に溶出しない
金属ならば用いることができる。導電性媒体粒子
５の材質としては、他に活性炭、コークス、木
炭、カソードとして使用できる金属粒子等が用い
られ、粒径は１〜６mm程度のものが好ましい。ス
ペーサー８の材質としては、他にポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン等の絶縁性構造材
用プラスチツクならば好適に用いられる。

本考案の装置に用いられるスペーサーの他の実
施例を第３図に示す。このスペーサー８は棚１２
がアノード２の面に対して垂直で且つ上方向に対
してジグザグ状にアノード２の幅全面にわたつて
横断し、各棚１２は支柱１０によつて貫通固定さ
れていることは、第２図Ａに示されるものと同様
である。１つの棚の上端近くには、透孔１３が設
けられている。

次に、この装置の動作を説明する。

処理液入口６から電解槽の下部に供給された被
処理液は上昇しながら電解され、金属は導電性媒
体粒子５の表面に析出し、除去されてゆき、処理
後の液はオーバーフロー口７から装置外へ取出さ
れる。溶液が槽内を上昇する過程で、電解機構を
有しないスペーサー８の部分へ入ると、棚９によ
り上方への液流が阻止され、再び導電性媒体粒子
５の方向へ逆流させられることにより、電解され
金属が除去されるので、採取効率が大幅に向上す
る。また、アノード２の表面で副反応として起こ
る水の電解により生じた酸素ガスは効率的に棚９
に開けられた切欠き１１あるいは透孔１３から上
方へ散逸させられるので、アノード２と隔膜４と
の間隙でのガス滞留が防止され、絶縁とか電圧変
動とかの不良現象が起こらない。

本考案の装置を使用して、処理液としてAu4.0
mg／を含有する金メツキ溶液をSV（空間速度）
1.0、電流0.5A／ｄm²で処理したところ、電解槽
出口のAu濃度は0.08mg／となり、Au回収率は
98％と、高い結果を得た。また、電解槽中の電圧
変動も認められなかつた。

一方、同じ溶液を従来の装置を使用して処理し
た場合には、電解槽出口のAu濃度は0.9mg／と
なり、回収率は77.5％と著しく低い結果であつ
た。

〔考案の効果〕以上詳細に説明したように、本考案はアノード
と隔膜との間に、アノード幅の全面にわたつて横
断し、溶液の上昇流を阻止する複数段の棚からな
るスペーサーを設けることにより、スペーサー部
分に流入する溶液の上昇を阻止し、導電性媒体粒
子と再接触させ電解を行うことができる結果、金
属の採取効率が大幅に向上するので、実用的価値
は大なるものがある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の電解装置の縦断面図、第２図
Ａは本考案の一実施例を示すスペーサー側面断面
図、第２図Ｂはその平面断面図、第３図は本考案
の他の実施例を示すスペーサー側面図、第４図は
従来例の電解装置の縦断面図である。１……電解槽、２……板状アノード、３……板
状カソード、４……隔膜、５……導電性媒体粒
子、６……処理液入口、７……オーバーフロー
口、８……スペーサー、９，１２……棚、１０…
…支柱、１１……切欠、１３……透孔。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

電解室内の一側面に設けられた板状アノード
と、隔膜を介して該アノードに対向する側面に配
設された板状カソードと、該隔膜とカソードとの
間の電解室に充填された導電性媒体粒子とを備
え、溶液を前記電解室に下方から上方へ流すこと
により溶液中の低濃度金属を電解採取する充填床
式電解採取装置において、前記アノードと隔膜と
の間に、アノード幅の全面にわたつて横断し、溶
液の上昇流を阻止する複数段の棚を有するスペー
サーを設けたことを特徴とする低濃度金属の電解
採取装置。