JPH0413432B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0413432B2 JPH0413432B2 JP59146105A JP14610584A JPH0413432B2 JP H0413432 B2 JPH0413432 B2 JP H0413432B2 JP 59146105 A JP59146105 A JP 59146105A JP 14610584 A JP14610584 A JP 14610584A JP H0413432 B2 JPH0413432 B2 JP H0413432B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main electrode
- particles
- chamber
- cathode
- electrode chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、各種金属の回収や精製、粒体への電
気めつき及び有機化合物及び/またはシアン化合
物の分解等各種の電気化学反応に使用する流動床
を用いる電解方法と電解槽に関する。
気めつき及び有機化合物及び/またはシアン化合
物の分解等各種の電気化学反応に使用する流動床
を用いる電解方法と電解槽に関する。
(従来技術)
金属粒子等を流動化させた電極粒子を用いて、
溶液中の金属を回収したり、粒体にめつきしたり
する流動床電解は公知である(特開昭53−92302
号公報、米国特許第3457152号明細書、米国特許
第4212722号明細書)。この流動床電解法が開発さ
れる以前には、溶液中から金属を回収するには次
のような方法が試みられていた。
溶液中の金属を回収したり、粒体にめつきしたり
する流動床電解は公知である(特開昭53−92302
号公報、米国特許第3457152号明細書、米国特許
第4212722号明細書)。この流動床電解法が開発さ
れる以前には、溶液中から金属を回収するには次
のような方法が試みられていた。
(a) 溶液中に還元剤を加え、溶液中で直接金属を
析出させる。
析出させる。
(b) 金属イオン、金属シアン錯イオンを含む溶液
をイオン交換樹脂塔に導入して金属イオン、金
属シアン錯イオンをイオン交換樹脂に固定す
る。
をイオン交換樹脂塔に導入して金属イオン、金
属シアン錯イオンをイオン交換樹脂に固定す
る。
(c) 溶液を低電流密度の電解槽で電解して、金属
を陰極に析出させる。
を陰極に析出させる。
これらの方法を使用すると、溶液中から金属を
回収できるが、各方法には次のような欠点があつ
た。つまり、(a)法は、処理液量が増加し、反応時
間が長く、さらに運転費が高騰するという欠点が
あり、(b)法では、運転は容易であるが、装置建設
費、再生薬剤費等の運転費が高くなるという欠点
があり、さらに(c)法は高濃度の金属含有廃液には
適しているが、低濃度の廃液の場合には、更に電
流密度を下げないと経済的な電流効率を得ること
ができず、電解槽が大型化して建設費が高くな
り、低電流密度運転を行うため、析出状態が極め
て良好なめつき状となり、陰極からの剥離作業が
困難であり、実際には金属の剥離剤を使用して再
溶解する必要があるという欠点があつた。
回収できるが、各方法には次のような欠点があつ
た。つまり、(a)法は、処理液量が増加し、反応時
間が長く、さらに運転費が高騰するという欠点が
あり、(b)法では、運転は容易であるが、装置建設
費、再生薬剤費等の運転費が高くなるという欠点
があり、さらに(c)法は高濃度の金属含有廃液には
適しているが、低濃度の廃液の場合には、更に電
流密度を下げないと経済的な電流効率を得ること
ができず、電解槽が大型化して建設費が高くな
り、低電流密度運転を行うため、析出状態が極め
て良好なめつき状となり、陰極からの剥離作業が
困難であり、実際には金属の剥離剤を使用して再
溶解する必要があるという欠点があつた。
また、溶液中からの金属と回収だけでなく、少
量の不純物を含む金属を高純度の金属に精製する
際、あるいは、粉粒体に所望の金属を電気めつき
を行う際にも同様の方法が採用され、同様の欠点
が指摘されていた。
量の不純物を含む金属を高純度の金属に精製する
際、あるいは、粉粒体に所望の金属を電気めつき
を行う際にも同様の方法が採用され、同様の欠点
が指摘されていた。
流動床電解技術は、これらの欠点を解消するた
めに開発されたもので、処理すべき電解液側の電
極室に微細粒子を収容し、この粒子を電解液単独
または電解液と供給ガスを用いて流動させること
により、電極表面積を飛躍的に増大させ、高電流
効率、低電解電圧にて電極粒子上に金属を析出さ
せることを可能にしたものである。
めに開発されたもので、処理すべき電解液側の電
極室に微細粒子を収容し、この粒子を電解液単独
または電解液と供給ガスを用いて流動させること
により、電極表面積を飛躍的に増大させ、高電流
効率、低電解電圧にて電極粒子上に金属を析出さ
せることを可能にしたものである。
しかし、従来の流動床電解では対極側の電極と
して板状電極を使用しているため、流動状態の電
極粒子や対極側の電極と、両極室を区画する隔膜
との間に対極室側で発生するガスが進入して、電
解電圧を上昇させて電解条件を不安定にさせた
り、隔膜を波打たせて損傷させたり、さらに湾曲
度が大きいと電極粒子の流動化を阻げてより一層
電解条件を不安定にするという欠点がある。
して板状電極を使用しているため、流動状態の電
極粒子や対極側の電極と、両極室を区画する隔膜
との間に対極室側で発生するガスが進入して、電
解電圧を上昇させて電解条件を不安定にさせた
り、隔膜を波打たせて損傷させたり、さらに湾曲
度が大きいと電極粒子の流動化を阻げてより一層
電解条件を不安定にするという欠点がある。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、主電極室を電解液の上昇流にともな
つて上昇する主電極粒子が電解液とともに主電極
室から流出することを防止するとともに、対極側
すなわち補助電極を有孔性とし、補助電極面で発
生するガスを電極の背面に排出し、電極と隔膜と
の間にガスの存在によつて生じる電流分布の不均
一とそれによつて生じる隔膜への悪影響を防止す
ることを目的とするものである。
つて上昇する主電極粒子が電解液とともに主電極
室から流出することを防止するとともに、対極側
すなわち補助電極を有孔性とし、補助電極面で発
生するガスを電極の背面に排出し、電極と隔膜と
の間にガスの存在によつて生じる電流分布の不均
一とそれによつて生じる隔膜への悪影響を防止す
ることを目的とするものである。
本発明は、第1に隔膜で主電極室と補助電極室
に区画した電解槽の主電極室に主電極粒子を収容
し、主電極室に電解液を供給して主電極粒子を流
動状態に維持しながら電解する流動床を用いる電
解方法において、主電極室の上部において電解液
の上昇流の流速を低下させて、上昇流に随伴する
主電極粒子を上昇流から分離して主電極粒子の外
部への流出を防止するとともに、有孔性の補助電
極を隔膜に密着し、補助電極表面で発生するガス
を補助電極の背面へ排出しながら電解する流動床
を用いる電解方法であり、第2に隔膜で主電極室
と補助電極室に区画した筒状の電解槽の主電極室
に主電極粒子を収容した電解槽において、主電極
室の底部に電解液の供給口を設け、主電極室の上
部には断面積が上部に向かつて漸増する流動粒子
逸散防止塔を設け、流動粒子逸散防止塔の壁面に
は電解液の流出口を設けるとともに、有孔性の補
助電極を隔膜に密着した流動床を用いる電解槽で
ある。
に区画した電解槽の主電極室に主電極粒子を収容
し、主電極室に電解液を供給して主電極粒子を流
動状態に維持しながら電解する流動床を用いる電
解方法において、主電極室の上部において電解液
の上昇流の流速を低下させて、上昇流に随伴する
主電極粒子を上昇流から分離して主電極粒子の外
部への流出を防止するとともに、有孔性の補助電
極を隔膜に密着し、補助電極表面で発生するガス
を補助電極の背面へ排出しながら電解する流動床
を用いる電解方法であり、第2に隔膜で主電極室
と補助電極室に区画した筒状の電解槽の主電極室
に主電極粒子を収容した電解槽において、主電極
室の底部に電解液の供給口を設け、主電極室の上
部には断面積が上部に向かつて漸増する流動粒子
逸散防止塔を設け、流動粒子逸散防止塔の壁面に
は電解液の流出口を設けるとともに、有孔性の補
助電極を隔膜に密着した流動床を用いる電解槽で
ある。
本発明方法及び電解槽の用途は、主として金属
の回収及び精製、粉粒体へのめつき、有機化合物
及び/またはシアン化合物の分解である。
の回収及び精製、粉粒体へのめつき、有機化合物
及び/またはシアン化合物の分解である。
金属の回収及び精製、粉粒体へのめつきを行う
際には、主電極室を陰極室、補助電極室を陽極室
として電解を行う。又、有機化合物及び/または
シアン化合物の分解を行う際には、主電極室を陽
極室、補助電極室を陰極室として分解反応を行
う。従つて金属の回収等の場合には、主電極粒
子、補助電極及び主電極室の主電極は、それぞ
れ、陰極粒子、陽極及び陰極となり、有機化合物
及び/またはシアン化合物の分解の場合には、そ
れぞれ陽極粒子、陰極及び陽極となる。
際には、主電極室を陰極室、補助電極室を陽極室
として電解を行う。又、有機化合物及び/または
シアン化合物の分解を行う際には、主電極室を陽
極室、補助電極室を陰極室として分解反応を行
う。従つて金属の回収等の場合には、主電極粒
子、補助電極及び主電極室の主電極は、それぞ
れ、陰極粒子、陽極及び陰極となり、有機化合物
及び/またはシアン化合物の分解の場合には、そ
れぞれ陽極粒子、陰極及び陽極となる。
陰極粒子を用いる場合、その材質としては、
金、銀、銅、ニツケル、鉛等の金属、それらの酸
化物、硫化物、あるいはそれらの合金、グラフア
イト、活性炭等の導電性非金属を使用することが
でき、さらにグラフアイト、ガラス、セラミツク
等の粒子上に金、銀、銅、ニツケル、鉛等の金属
をコーテイングしたものも使用することができ、
陽極粒子を用いる場合には、グラフアイト、ガラ
ス、セラミツク等の粒子又はチタン上に貴金属、
貴金属酸化物、鉛等の被覆されたものなど、電解
しても溶液におかされないものを使用することが
できる。この陰極または陽極粒子の粒径は、0.05
〜3.0mm程度、好ましくは0.1〜0.5mmとする。又、
陰極及び陽極の材質としては、グラフアイト、ス
テンレス、白金あるいは貴金属酸化物をコーテイ
ングしたチタン及びフエライト等の一般に使用さ
れているものを使用することができる。
金、銀、銅、ニツケル、鉛等の金属、それらの酸
化物、硫化物、あるいはそれらの合金、グラフア
イト、活性炭等の導電性非金属を使用することが
でき、さらにグラフアイト、ガラス、セラミツク
等の粒子上に金、銀、銅、ニツケル、鉛等の金属
をコーテイングしたものも使用することができ、
陽極粒子を用いる場合には、グラフアイト、ガラ
ス、セラミツク等の粒子又はチタン上に貴金属、
貴金属酸化物、鉛等の被覆されたものなど、電解
しても溶液におかされないものを使用することが
できる。この陰極または陽極粒子の粒径は、0.05
〜3.0mm程度、好ましくは0.1〜0.5mmとする。又、
陰極及び陽極の材質としては、グラフアイト、ス
テンレス、白金あるいは貴金属酸化物をコーテイ
ングしたチタン及びフエライト等の一般に使用さ
れているものを使用することができる。
主電極室と補助電極室とを区画する隔膜は、電
気イオンを通すものであれば無孔性でも有孔性で
あつてもよいが、有孔性隔膜を用いる場合、その
孔径は、主電極粒子の粒径より小さく、好ましく
は10〜100μとする。また、隔膜の材質は、ナイ
ロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテト
ラフルオロエチレン等の非電導性有機化合物ある
いは非電導性無機化合物とするのがよい。また、
この隔膜は、イオン交換基を有するものであつて
もよい。
気イオンを通すものであれば無孔性でも有孔性で
あつてもよいが、有孔性隔膜を用いる場合、その
孔径は、主電極粒子の粒径より小さく、好ましく
は10〜100μとする。また、隔膜の材質は、ナイ
ロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテト
ラフルオロエチレン等の非電導性有機化合物ある
いは非電導性無機化合物とするのがよい。また、
この隔膜は、イオン交換基を有するものであつて
もよい。
補助電極は、該電極と隔膜との間に発生するガ
スを該電極の背面に抜くために、有孔状とすると
ともに、隔膜に密着させる。該有孔状補助電極
は、エキスパンデツドメタルを用いても、板状体
に穿孔を設けたものや多孔質体、焼結体を用いて
もよい。
スを該電極の背面に抜くために、有孔状とすると
ともに、隔膜に密着させる。該有孔状補助電極
は、エキスパンデツドメタルを用いても、板状体
に穿孔を設けたものや多孔質体、焼結体を用いて
もよい。
このような各要素から成る電解槽の主電極室に
電解液を供給して電解を行う。電解液は電解の目
的によつて適切なものを選択すればよく、金属の
回収を行う際には、たとえば金、白金、銀等の貴
金属、カドミウム、クロム等の公害金属、及び亜
鉛、ガリウム、ビスマス、アルミニウム等の他の
金属等各種金属の少なくとも一部を有する溶液、
特にめつき廃液またはエツチング液を使用する。
電解液を供給して電解を行う。電解液は電解の目
的によつて適切なものを選択すればよく、金属の
回収を行う際には、たとえば金、白金、銀等の貴
金属、カドミウム、クロム等の公害金属、及び亜
鉛、ガリウム、ビスマス、アルミニウム等の他の
金属等各種金属の少なくとも一部を有する溶液、
特にめつき廃液またはエツチング液を使用する。
また、金属の精製の際には、比較的純度の高い
精製すべき金属と少量の不純物を含む溶液を用
い、粉流体へのめつきを行う場合には、めつきす
べき金属の溶液を用いる。
精製すべき金属と少量の不純物を含む溶液を用
い、粉流体へのめつきを行う場合には、めつきす
べき金属の溶液を用いる。
主電極粒子は、電解槽内に供給された電解液の
上昇力により流動状態が形成される。この上昇力
は通過面積を拡大することによつて弱められ、流
動状態が維持される。ここで「流動状態」とは、
主電極粒子相互が溶液中でくつついたり離れたり
する間に溶液が通過していく状態をいう。
上昇力により流動状態が形成される。この上昇力
は通過面積を拡大することによつて弱められ、流
動状態が維持される。ここで「流動状態」とは、
主電極粒子相互が溶液中でくつついたり離れたり
する間に溶液が通過していく状態をいう。
この状態で電解を行うと、流動状態の主電極粒
子を使用しているため、主電極の表面積が非常に
大きくなつて電流密度を下げると共に、主電極粒
子が相互に衝突して電気二重層を不安定としてい
るので、電解電圧が低く電流効率の高い状態で電
解を行うことができる。また、異種金属の析出電
位差を利用すれば特定金属のみを選択的に析出さ
せることができ、金属の精製に好都合である。
子を使用しているため、主電極の表面積が非常に
大きくなつて電流密度を下げると共に、主電極粒
子が相互に衝突して電気二重層を不安定としてい
るので、電解電圧が低く電流効率の高い状態で電
解を行うことができる。また、異種金属の析出電
位差を利用すれば特定金属のみを選択的に析出さ
せることができ、金属の精製に好都合である。
さらに、補助電極を隔膜に密着させ、かつ該電
極を有孔性としてあるため、補助電極と隔膜の間
に発生ガスが進入して、電解電圧が上昇したり、
隔膜が波打つて損傷したりすることがない。
極を有孔性としてあるため、補助電極と隔膜の間
に発生ガスが進入して、電解電圧が上昇したり、
隔膜が波打つて損傷したりすることがない。
金属の回収または精製、粉粒体へのめつきの場
合には、上記電解操作により表面に金属がコーテ
イングされた陰極粒子が生成するので、これを電
解槽外に取り出す。粉粒体めつきの場合は、所望
の粒体が取り出されるので、そのまま各用途に供
すればよく、金属の回収、精製の場合には、析出
金属と陰極粒子が同一成分である場合を除き、析
出金属と陰極粒子とを分離する必要がある。分離
には、従来の分離手段、たとえば乾式分離法や湿
式分離法をそのまま使用すればよい。金属を陰極
粒子から乾式分離法により分離するには、たとえ
ば、金や白金の場合には次のように行えばよい。
金がコーテイングされた陰極粒子を溶融し、、こ
の溶融物に酸素ガスや塩素ガスなどを吹き込む
と、金、白金以外の金属は酸化物、塩化物等とな
つて大気中に飛散し、陰極粒子としてのガラス等
はスラグとなつて、溶融金属上に浮遊し、分離さ
れる。その後、冷却固化すると、白金と金以外に
ほとんど不純物を含まない金または白金を得るこ
とができる。また、貴金属と卑金属とを含む希薄
溶液から合金として析出させた場合には、通常の
湿式分離法で再溶解して分離することができる。
この再溶解した液は金属元素以外の有機物等が含
まれず、また高濃度で少量の液がえられるので経
済的に回収できる。
合には、上記電解操作により表面に金属がコーテ
イングされた陰極粒子が生成するので、これを電
解槽外に取り出す。粉粒体めつきの場合は、所望
の粒体が取り出されるので、そのまま各用途に供
すればよく、金属の回収、精製の場合には、析出
金属と陰極粒子が同一成分である場合を除き、析
出金属と陰極粒子とを分離する必要がある。分離
には、従来の分離手段、たとえば乾式分離法や湿
式分離法をそのまま使用すればよい。金属を陰極
粒子から乾式分離法により分離するには、たとえ
ば、金や白金の場合には次のように行えばよい。
金がコーテイングされた陰極粒子を溶融し、、こ
の溶融物に酸素ガスや塩素ガスなどを吹き込む
と、金、白金以外の金属は酸化物、塩化物等とな
つて大気中に飛散し、陰極粒子としてのガラス等
はスラグとなつて、溶融金属上に浮遊し、分離さ
れる。その後、冷却固化すると、白金と金以外に
ほとんど不純物を含まない金または白金を得るこ
とができる。また、貴金属と卑金属とを含む希薄
溶液から合金として析出させた場合には、通常の
湿式分離法で再溶解して分離することができる。
この再溶解した液は金属元素以外の有機物等が含
まれず、また高濃度で少量の液がえられるので経
済的に回収できる。
また、有機化合物及び/またはシアン化合物の
分解の場合には、陽極粒子上には何も析出しない
ので、分離操作は不要である。
分解の場合には、陽極粒子上には何も析出しない
ので、分離操作は不要である。
本発明方法による金属回収に関する電流効率は
10%以上、溶液からの金属の回収率は、金属含有
量及び電解時間により異なるが、1回の操作で、
含有量が低い場合には低電力でほぼ100%、比較
的高い場合には、90%以上となる。後者の場合に
も、溶液を循環させることによりほぼ定量的に金
属を回収することができる。
10%以上、溶液からの金属の回収率は、金属含有
量及び電解時間により異なるが、1回の操作で、
含有量が低い場合には低電力でほぼ100%、比較
的高い場合には、90%以上となる。後者の場合に
も、溶液を循環させることによりほぼ定量的に金
属を回収することができる。
以下、本発明を添付図面に示す第1実施例及び
第2実施例に基いてより詳細に説明する。両実施
例では、主電極を陰極、補助電極を陽極とした金
属と回収、精製及び粉粒体へのめつき用電解槽と
して本発明を説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
第2実施例に基いてより詳細に説明する。両実施
例では、主電極を陰極、補助電極を陽極とした金
属と回収、精製及び粉粒体へのめつき用電解槽と
して本発明を説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
第1図は、本発明の第1実施例を示す一部破断
正面図、第2図は、第1図の−線横断面図で
ある。
正面図、第2図は、第1図の−線横断面図で
ある。
電解槽本体1は、溶液供給口2が下向きに連設
された皿状の下部枠体3と、円筒状の陰極4とか
ら成り、陰極4の上下両端は、それぞれ外方に向
けて折曲されている。下部枠体3の周縁のフラン
ジ部5上には、周縁部が1対のガスケツト6によ
り挾持された有孔の下部隔膜7が載置され、さら
に該下部隔膜7上には、中央上面に凹部8が設け
られ、該凹部8と周縁部以外の部分に、上下方向
の多数の通孔9が穿設された溶液分散板10が載
置されている。陰極4の下部の外向き折曲部11
はガスケツト12を介して、溶液分散板10上に
載置され、ボルト13により、下部枠体3と一体
化されている。
された皿状の下部枠体3と、円筒状の陰極4とか
ら成り、陰極4の上下両端は、それぞれ外方に向
けて折曲されている。下部枠体3の周縁のフラン
ジ部5上には、周縁部が1対のガスケツト6によ
り挾持された有孔の下部隔膜7が載置され、さら
に該下部隔膜7上には、中央上面に凹部8が設け
られ、該凹部8と周縁部以外の部分に、上下方向
の多数の通孔9が穿設された溶液分散板10が載
置されている。陰極4の下部の外向き折曲部11
はガスケツト12を介して、溶液分散板10上に
載置され、ボルト13により、下部枠体3と一体
化されている。
陰極4の上部の外向き折曲部14上には、ガス
ケツト15を介して、流動粒子逸散防止塔16の
下端部外向きフランジ17が載置され、ボルト1
8により締着されている。流動粒子逸散防止塔1
6は下から順に前記下端部外向きフランジ17、
小径部19、テーパー部20、大径部21、上端
部外向きフランジ22から構成され、該外向きフ
ランジ22上には、円盤状の蓋体23がボルト2
4により締着されている。蓋体23下面中央に
は、棒状体25を介して、下端が前記凹部8近傍
に達する円筒状の陽極26が垂設され、該陽極2
6には、ガス抜きのための多数の孔27が穿設さ
れている。陽極26の下面と側面には、ポリテト
ラフルオロエチレン等実質的に電極液を透過させ
ない材質から成り、上面が開口する円筒状の隔膜
28が密着状態で装着され、該隔膜28の上端
は、Oリング29で陽極26に固定されている。
隔膜28より外方の電解槽本体1内には、陰極粒
子30が流動状態で収容されている。31は、流
動粒子逸散防止塔16の大径部21側面に連設さ
れた電解液抜出口、32は、蓋体23上面に連設
された発生ガス取出口、33は、陰極の下部側面
に設けられた陰極粒子取出口である。
ケツト15を介して、流動粒子逸散防止塔16の
下端部外向きフランジ17が載置され、ボルト1
8により締着されている。流動粒子逸散防止塔1
6は下から順に前記下端部外向きフランジ17、
小径部19、テーパー部20、大径部21、上端
部外向きフランジ22から構成され、該外向きフ
ランジ22上には、円盤状の蓋体23がボルト2
4により締着されている。蓋体23下面中央に
は、棒状体25を介して、下端が前記凹部8近傍
に達する円筒状の陽極26が垂設され、該陽極2
6には、ガス抜きのための多数の孔27が穿設さ
れている。陽極26の下面と側面には、ポリテト
ラフルオロエチレン等実質的に電極液を透過させ
ない材質から成り、上面が開口する円筒状の隔膜
28が密着状態で装着され、該隔膜28の上端
は、Oリング29で陽極26に固定されている。
隔膜28より外方の電解槽本体1内には、陰極粒
子30が流動状態で収容されている。31は、流
動粒子逸散防止塔16の大径部21側面に連設さ
れた電解液抜出口、32は、蓋体23上面に連設
された発生ガス取出口、33は、陰極の下部側面
に設けられた陰極粒子取出口である。
次に、上記構成から成る電解槽による被電解液
の電解の要領を金属の回収を例にとつて説明す
る。
の電解の要領を金属の回収を例にとつて説明す
る。
電解槽本体1に、金属含有廃液などの金属含有
溶液を溶液供給口2から供給する。この溶液は、
一般に水溶液が用いられるが、溶媒抽出で利用さ
れるアルコール等の有機溶液の場合もある。供給
された溶液は、下部隔膜7の細孔と溶液分散板1
0の通孔9を通つて陰極室内に加圧されて導入さ
れる。この場合、溶液は陰極粒子30を流動状態
に維持する役割を果たす。陰極粒子30の間を通
過した溶液はテーパー部20で断面積が大きくな
り、溶液の流速が減速されるため陰極粒子30と
溶液が分離され、陰極粒子中で均一な層流が得ら
れる。溶液中の金属イオンは、陰極粒子30上で
電解還元され、金属原子となつて陰極粒子30上
に析出するとともに副反応として水が分解されて
水素が発生し、この水素は、発生ガス取出口32
から取出される。また、陽極26表面では通常の
水電解反応による酸素発生が生じる。この酸素
は、陽極26表面全体から発生するが、隔膜28
と陽極26の間で発生する酸素も陽極26の間で
発生する酸素も陽極26の孔27から陽極26の
背面に抜かれ、陽極26上面の孔を通つて発生ガ
ス取出口32から取出されるため、発生するガス
が隔膜と陽極との間に存在して電解電圧を上昇さ
せたり、隔膜を波打たせて電解条件を不安定にし
たり、隔膜を傷つけたりすることがない。電解さ
れて金属イオン濃度が減少した溶液は、電解液抜
出口31からオーバーフローして電解槽外に取り
出される。
溶液を溶液供給口2から供給する。この溶液は、
一般に水溶液が用いられるが、溶媒抽出で利用さ
れるアルコール等の有機溶液の場合もある。供給
された溶液は、下部隔膜7の細孔と溶液分散板1
0の通孔9を通つて陰極室内に加圧されて導入さ
れる。この場合、溶液は陰極粒子30を流動状態
に維持する役割を果たす。陰極粒子30の間を通
過した溶液はテーパー部20で断面積が大きくな
り、溶液の流速が減速されるため陰極粒子30と
溶液が分離され、陰極粒子中で均一な層流が得ら
れる。溶液中の金属イオンは、陰極粒子30上で
電解還元され、金属原子となつて陰極粒子30上
に析出するとともに副反応として水が分解されて
水素が発生し、この水素は、発生ガス取出口32
から取出される。また、陽極26表面では通常の
水電解反応による酸素発生が生じる。この酸素
は、陽極26表面全体から発生するが、隔膜28
と陽極26の間で発生する酸素も陽極26の間で
発生する酸素も陽極26の孔27から陽極26の
背面に抜かれ、陽極26上面の孔を通つて発生ガ
ス取出口32から取出されるため、発生するガス
が隔膜と陽極との間に存在して電解電圧を上昇さ
せたり、隔膜を波打たせて電解条件を不安定にし
たり、隔膜を傷つけたりすることがない。電解さ
れて金属イオン濃度が減少した溶液は、電解液抜
出口31からオーバーフローして電解槽外に取り
出される。
電解が進行してくると、陰極粒子30上に金属
が析出してくる。析出量がふえるほど陰極粒子3
0は重くなつて陰極室下部に集まり、陰極室の上
部には、比較的析出量の少ない陰極粒子30が存
在する。金属が十分に析出し、陰極室下部に集ま
つた陰極粒子30は、陰極粒子取出口33から電
解槽外へ取出され、取出された分に相当する陰極
粒子を上方から陰極室に供給する。これにより、
運転を止めることなく陰極粒子の供給及び取出し
を行うことができ、長期に亘る連続運転が可能と
なる。
が析出してくる。析出量がふえるほど陰極粒子3
0は重くなつて陰極室下部に集まり、陰極室の上
部には、比較的析出量の少ない陰極粒子30が存
在する。金属が十分に析出し、陰極室下部に集ま
つた陰極粒子30は、陰極粒子取出口33から電
解槽外へ取出され、取出された分に相当する陰極
粒子を上方から陰極室に供給する。これにより、
運転を止めることなく陰極粒子の供給及び取出し
を行うことができ、長期に亘る連続運転が可能と
なる。
この電解操作において、流動層内の微粒子に効
率よく陰極電位をもたせて金属を高電流効率、低
電解電圧で陰極上に析出させるためには、次に挙
げる電解条件下で電解を行うことが望ましい。
率よく陰極電位をもたせて金属を高電流効率、低
電解電圧で陰極上に析出させるためには、次に挙
げる電解条件下で電解を行うことが望ましい。
陰極電流密度:30A/dm2以下(好ましくは
10A/dm2以下) 陽極電流密度:20A/dm2以下(好ましくは
5A/dm2以下) 流動層内電流濃度:30A/−流動層以下(好ま
しくは10A/−流動層以下) 流動層空間率:40〜90%(好ましくは60〜75%) ここで、陰極電流密度及び陽極電流密度が、そ
れぞれ30A/dm2、20A/dm2を越えると電圧が
不必要に高くなり好ましくない。さらに、流動層
内電流濃度が30A/−流動層を越えると、電圧
が上がるだけでなく、プラツギングが発生し、流
動層空間率90%を越えると電圧が上がり、40%よ
り下がると、溶液供給口付近でプラツギングが生
ずるので、上記範囲内とするのがよい。
10A/dm2以下) 陽極電流密度:20A/dm2以下(好ましくは
5A/dm2以下) 流動層内電流濃度:30A/−流動層以下(好ま
しくは10A/−流動層以下) 流動層空間率:40〜90%(好ましくは60〜75%) ここで、陰極電流密度及び陽極電流密度が、そ
れぞれ30A/dm2、20A/dm2を越えると電圧が
不必要に高くなり好ましくない。さらに、流動層
内電流濃度が30A/−流動層を越えると、電圧
が上がるだけでなく、プラツギングが発生し、流
動層空間率90%を越えると電圧が上がり、40%よ
り下がると、溶液供給口付近でプラツギングが生
ずるので、上記範囲内とするのがよい。
また、この電解操作を引き続いて行うと、金属
の析出に伴つて陰極粒子の径が大きくなつて、流
動条件(流動層高、流動層空間率、流動層圧力損
失)が変化するので、本電解槽の流動床部分は次
のように設計することが好ましい。すなわち、流
動層の高さは、初期流動層の1.2倍以上、好まし
くは1.4倍以上とし、流動粒子逸散防止塔の断面
積を電解槽本体の断面積の1.5倍以上、好ましく
は2倍以上として、陰極粒子が流動状態に維持で
きるようにし、かつ粒子の逸散を防止する。この
ようにすれば、陰極粒子の元の径の倍以上まで、
金属を析出させることができる。
の析出に伴つて陰極粒子の径が大きくなつて、流
動条件(流動層高、流動層空間率、流動層圧力損
失)が変化するので、本電解槽の流動床部分は次
のように設計することが好ましい。すなわち、流
動層の高さは、初期流動層の1.2倍以上、好まし
くは1.4倍以上とし、流動粒子逸散防止塔の断面
積を電解槽本体の断面積の1.5倍以上、好ましく
は2倍以上として、陰極粒子が流動状態に維持で
きるようにし、かつ粒子の逸散を防止する。この
ようにすれば、陰極粒子の元の径の倍以上まで、
金属を析出させることができる。
第3図は、本発明の第2実施例を示す縦断面図
である。この電解槽は、第1実施例の電解槽の改
良に係わるものであり、第1実施例の部材と同一
部材には同一符号を付して説明を省略する。
である。この電解槽は、第1実施例の電解槽の改
良に係わるものであり、第1実施例の部材と同一
部材には同一符号を付して説明を省略する。
電解槽本体1′は上面が開口し、上端に外向き
フランジ41が連設された円筒体から成り、該本
体1′内壁の下端近傍には、陰極支持用円筒42
が内設され、該円筒42上には、有孔性隔膜43
を介して、格子状の支持片44が内設されたドー
ナツ状の陰極下部フレーム45が載置されてい
る。陰極下部フレーム45の上縁には、多孔性円
筒状の陰極4′が溶接等により立設され、該陰極
下部フレーム45の内縁には溶液分散板10′が
載置されている。
フランジ41が連設された円筒体から成り、該本
体1′内壁の下端近傍には、陰極支持用円筒42
が内設され、該円筒42上には、有孔性隔膜43
を介して、格子状の支持片44が内設されたドー
ナツ状の陰極下部フレーム45が載置されてい
る。陰極下部フレーム45の上縁には、多孔性円
筒状の陰極4′が溶接等により立設され、該陰極
下部フレーム45の内縁には溶液分散板10′が
載置されている。
陰極4′の上端には、上端に外向き折曲部46
が連設された短寸円筒状の陰極上部フレーム47
の下端部が溶接等により連結され、外向き折曲部
46の外端部は、前記外向きフランジ41の外端
部と整合している。
が連設された短寸円筒状の陰極上部フレーム47
の下端部が溶接等により連結され、外向き折曲部
46の外端部は、前記外向きフランジ41の外端
部と整合している。
陽極26の下面と側面には、ナイロン等から成
り、陰極粒子は通過させないが、電解液を比較的
自由に通過させる有孔の隔膜28′が密着状態で
装着され、陽極26内部には、ガラスビーズ等か
ら成る多数の粒体48が収容されている。
り、陰極粒子は通過させないが、電解液を比較的
自由に通過させる有孔の隔膜28′が密着状態で
装着され、陽極26内部には、ガラスビーズ等か
ら成る多数の粒体48が収容されている。
この電解槽に溶液供給口2から金属含有溶液を
供給すると、第1実施例の場合と同様に金属が回
収される。また、この電解槽では、陰極室に加圧
状態で溶液を供給し、かつ、陽極室と陰極室を区
画する隔膜が多孔性であるため、陽極室内に粒体
を存在させないと、被電解液が陰極室から陽極室
に移動し、抵抗の少ない陽極室を通り抜け、陰極
粒子と接触せずに電解槽から取り出され、金属が
回収されないことになるが、陽極室内に存在させ
た多数の粒体により、抵抗が増大して陽極室内の
被電解液の流通が阻害されるため、被電解液は十
分に陰極粒子と接触し、高収率で金属が回収され
る。
供給すると、第1実施例の場合と同様に金属が回
収される。また、この電解槽では、陰極室に加圧
状態で溶液を供給し、かつ、陽極室と陰極室を区
画する隔膜が多孔性であるため、陽極室内に粒体
を存在させないと、被電解液が陰極室から陽極室
に移動し、抵抗の少ない陽極室を通り抜け、陰極
粒子と接触せずに電解槽から取り出され、金属が
回収されないことになるが、陽極室内に存在させ
た多数の粒体により、抵抗が増大して陽極室内の
被電解液の流通が阻害されるため、被電解液は十
分に陰極粒子と接触し、高収率で金属が回収され
る。
実施例 1
第1図に示す流動床型電解槽を用いて金めつき
廃液からの金の回収を行つた。電解槽の各部の寸
法は、電解槽本体の高さ113.5cm、内径14.0cm、
有孔性陽極の高さ105cm、直径4.9cm、流動粒子逸
散防止塔の高さ35cm、大径部の外径21cmとした。
廃液からの金の回収を行つた。電解槽の各部の寸
法は、電解槽本体の高さ113.5cm、内径14.0cm、
有孔性陽極の高さ105cm、直径4.9cm、流動粒子逸
散防止塔の高さ35cm、大径部の外径21cmとした。
各部の材質は、電解槽本体及び流動粒子逸散防
止塔がアクリル樹脂、陽極が白金コーテイングチ
タン、陰極粒子が粒径0.1〜0.15mmの金めつきし
たグラフアイト粒子、隔膜がポリテトラフルオロ
エチレン製無孔製膜、溶液分散板が塩化ビニル樹
脂であるものを用いた。
止塔がアクリル樹脂、陽極が白金コーテイングチ
タン、陰極粒子が粒径0.1〜0.15mmの金めつきし
たグラフアイト粒子、隔膜がポリテトラフルオロ
エチレン製無孔製膜、溶液分散板が塩化ビニル樹
脂であるものを用いた。
試験用溶液としては、PH値4.1、全有機炭素量
(TOC)15.0g/、二酸化ケイ素量56mg/、
全リン量が1.6mg/であり、各イオン濃度が次
のものを用い、電解槽に供給する前に水で希釈し
て全濃度が1650ppmになるよう調整した。
(TOC)15.0g/、二酸化ケイ素量56mg/、
全リン量が1.6mg/であり、各イオン濃度が次
のものを用い、電解槽に供給する前に水で希釈し
て全濃度が1650ppmになるよう調整した。
Au 2580ppm Ni 25ppm
Na 51ppm K 13300ppm
CN- 1000ppm SO4 3- 43000ppm
Cl- 530ppm
この調整した金廃液を約2.8/mmの流速で電
解槽に供給し、陽極電流密度2.60A/dm2、陰極
電流密度1.0A/dm2、流動層内電流濃度10.7A/
−流動層、陰極粒子の流動層空間率70%の条件
となるよう電解したところ、電解電圧2.1〜2.5V、
平均電流効率38%であり、電解層出口における金
濃度は3ppmであつた。なお、ニツケル濃度は減
少していなかつた。
解槽に供給し、陽極電流密度2.60A/dm2、陰極
電流密度1.0A/dm2、流動層内電流濃度10.7A/
−流動層、陰極粒子の流動層空間率70%の条件
となるよう電解したところ、電解電圧2.1〜2.5V、
平均電流効率38%であり、電解層出口における金
濃度は3ppmであつた。なお、ニツケル濃度は減
少していなかつた。
実施例 2
隔膜として細孔径が50μ程度であるナイロン網
を用い、陽極室内に粒径が0.3〜0.6mm程度のガラ
スビーズを多数収容したこと以外は、実施例1と
同一の電解槽を用い、銅粒子(平均粒径100μの
球状粒子)に下記の方法により金めつきを施し
た。
を用い、陽極室内に粒径が0.3〜0.6mm程度のガラ
スビーズを多数収容したこと以外は、実施例1と
同一の電解槽を用い、銅粒子(平均粒径100μの
球状粒子)に下記の方法により金めつきを施し
た。
まず、銅粒子5Kgを脱脂し、次いで水洗、酸
洗、水洗を行つて、銅粒子表面の汚れ、酸化物を
除去し、その後下記条件により電気金めつきを施
した。
洗、水洗を行つて、銅粒子表面の汚れ、酸化物を
除去し、その後下記条件により電気金めつきを施
した。
金めつき条件
めつき液:金3g/のオークロネクスC(日本
エレクトロプレーテイングエンジニヤーズ(株)製
酸製シアンめつき液) 不純物:銅40ppm めつき液量:50 電 流:45A 電 圧:4V めつき温度:50℃ めつき時間:60分 流 速:0.3cm/sec 銅粒子は約10分で全体が金色にかわつてきた。
エレクトロプレーテイングエンジニヤーズ(株)製
酸製シアンめつき液) 不純物:銅40ppm めつき液量:50 電 流:45A 電 圧:4V めつき温度:50℃ めつき時間:60分 流 速:0.3cm/sec 銅粒子は約10分で全体が金色にかわつてきた。
金めつき後、めつき液を除き、よく水洗してか
ら濾過し、乾燥して銅粒子に金めつき膜が0.1μ被
膜した粒子(Au/Cu粒子)を得た。
ら濾過し、乾燥して銅粒子に金めつき膜が0.1μ被
膜した粒子(Au/Cu粒子)を得た。
上述した方法で得られたAu/Cu粒子につき、
SEM写真とX線マイクロアナライザーによる金
分布像を調べた結果、金が銅粒子に均一に電着し
ていることが認められた。また、不純物としての
銅はめつき後も40ppmであつた。
SEM写真とX線マイクロアナライザーによる金
分布像を調べた結果、金が銅粒子に均一に電着し
ていることが認められた。また、不純物としての
銅はめつき後も40ppmであつた。
このようにしてえられたAu/Cu粒子は電気接
点用素材に利用できた。
点用素材に利用できた。
実施例 3
平均粒径1mmのAl2O3粒子2を用い、下記方
法によりめつきを行つた。
法によりめつきを行つた。
まず、Al2O3粒子を脱脂し、次いで水洗、酸
洗、水洗した後、下記工程に従つて化学ニツケル
めつきを行つた。
洗、水洗した後、下記工程に従つて化学ニツケル
めつきを行つた。
センシタイジング:塩化第1錫溶液2
↓
水 洗
↓
アクチペイシヨン:塩化パラジウム溶液2
↓
水 洗
↓
化学ニツケルめつき:上村工業(株)製BELニツケ
ル5(還元剤ジメチルポラザン) ↓ 水 洗 次に、このAl2O3粒子につき、第3図に示す如
き装置を用い、実施例2に準じて下記条件により
電気白金めつきを施した。
ル5(還元剤ジメチルポラザン) ↓ 水 洗 次に、このAl2O3粒子につき、第3図に示す如
き装置を用い、実施例2に準じて下記条件により
電気白金めつきを施した。
白金めつき条件
めつき液:塩化白金酸 10g/
塩 酸 0.3規定
めつき液量:50
電 流:200A
電 圧:20V
めつき温度:20℃
めつき時間:60分
流 速:0.2cm/sec
上述した方法でえられたPt/Ni/Al2O3粒子
は、いずれも電気めつき膜が均一に電着している
ものであり、粒子が陰極であるめつき液に確実に
接触し、均一な電着物を得ることができることを
知見した。
は、いずれも電気めつき膜が均一に電着している
ものであり、粒子が陰極であるめつき液に確実に
接触し、均一な電着物を得ることができることを
知見した。
また、粒子が非電導性の場合、電気めつき前に
化学めつきを施す必要があるが、本発明において
は粒子に化学めつきを施す場合、その膜厚は電気
めつきが可能な程度のものでよく、化学めつき被
膜のみによつて高導電性粒子を得る場合に比較し
てその膜厚を薄くすることができ、コストを著し
く低下されることができた。
化学めつきを施す必要があるが、本発明において
は粒子に化学めつきを施す場合、その膜厚は電気
めつきが可能な程度のものでよく、化学めつき被
膜のみによつて高導電性粒子を得る場合に比較し
てその膜厚を薄くすることができ、コストを著し
く低下されることができた。
実施例 4
実施例1の電解槽において、陽極、陰極及び陰
極粒子をそれぞれ、陰極、陽極及び陽極粒子と
し、陽極粒子を粒径が0.4〜0.8mmのグラフアイト
粒子、陰極を金コーテイングチタンとして金廃液
中のシアンイオンの分解を行つた。
極粒子をそれぞれ、陰極、陽極及び陽極粒子と
し、陽極粒子を粒径が0.4〜0.8mmのグラフアイト
粒子、陰極を金コーテイングチタンとして金廃液
中のシアンイオンの分解を行つた。
試験用廃液としては、実施例1と同様のものを
用い、電解槽に供給する前に水を希釈して遊離シ
アンイオン濃度が640ppmになるよう調整した。
用い、電解槽に供給する前に水を希釈して遊離シ
アンイオン濃度が640ppmになるよう調整した。
この調整した廃液を約2.8/mmの流速で電解
槽に供給し、陽極電流密度2.60A/dm2、陰極電
流密度1.0A/dm2、流動層内電流濃度10.7A/
−流動層、グラフアイト粒子の流動層空間率70%
の条件となるよう電解したところ電解電圧2.1〜
2.5V、平均電流効率85%であり、電解槽出口に
おける遊離シアンイオン濃度は80ppmであつた。
槽に供給し、陽極電流密度2.60A/dm2、陰極電
流密度1.0A/dm2、流動層内電流濃度10.7A/
−流動層、グラフアイト粒子の流動層空間率70%
の条件となるよう電解したところ電解電圧2.1〜
2.5V、平均電流効率85%であり、電解槽出口に
おける遊離シアンイオン濃度は80ppmであつた。
本発明は、溶液から金属を回収し、または金属
を精製し、粒子にめつきを施し、あるいは溶液中
の有機化合物を分解する際に、流動床電解槽を用
いて主電極の表面積を非常に大きくしてあるた
め、低電流密度で効率よく電解できるとともに、
主電極室の上部の断面積を漸増するようにしたの
で、電極室の上部において電解液の流速が減少
し、電解液とともに上昇した主電極粒子が主電極
室の上部の電解液流出口から電解液とともに外部
へ流出することはなく、また補助電極を有孔性と
し隔膜に密着させているため、補助電極で発生す
るガスが補助電極の背面に排出されるので、補助
電極と隔膜の間にガスが進入することはなく、電
解電圧が上昇したり、電流分布が不均一となつた
り、隔膜が損傷を受けたりすることがない。
を精製し、粒子にめつきを施し、あるいは溶液中
の有機化合物を分解する際に、流動床電解槽を用
いて主電極の表面積を非常に大きくしてあるた
め、低電流密度で効率よく電解できるとともに、
主電極室の上部の断面積を漸増するようにしたの
で、電極室の上部において電解液の流速が減少
し、電解液とともに上昇した主電極粒子が主電極
室の上部の電解液流出口から電解液とともに外部
へ流出することはなく、また補助電極を有孔性と
し隔膜に密着させているため、補助電極で発生す
るガスが補助電極の背面に排出されるので、補助
電極と隔膜の間にガスが進入することはなく、電
解電圧が上昇したり、電流分布が不均一となつた
り、隔膜が損傷を受けたりすることがない。
第1図は本発明の第1実施例を示す一部破断正
面図、第2図は、第1図の−線横断面図、第
3図は、本発明の第2実施例を示す縦断面図であ
る。 1,1……電解槽本体、4,4′……陰極、1
6……流動粒子逸散防止塔、26……陽極、27
……孔、28,28′……隔膜、30……陰極粒
子。
面図、第2図は、第1図の−線横断面図、第
3図は、本発明の第2実施例を示す縦断面図であ
る。 1,1……電解槽本体、4,4′……陰極、1
6……流動粒子逸散防止塔、26……陽極、27
……孔、28,28′……隔膜、30……陰極粒
子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 隔膜で主電極室と補助電極室に区画した電解
槽本体の主電極室に主電極粒子を収容し、該主電
極室に電解液を供給して主電極粒子を流動状態に
維持しながら電解する方法において、主電極室の
上部において電解液の上昇流の流速を低下させて
上昇流に随伴する主電極粒子を上昇流から分離し
て主電極粒子の外部への流出を防止するととも
に、有孔性の補助電極を隔膜に密着し、補助電極
面で発生するガスを補助電極の背面へ排出しなが
ら電解することを特徴とする流動床を用いる電解
方法。 2 主電極室が陰極室、陽極室のいずれかであ
り、補助電極室が主電極室の対極室であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の流動床を
用いる電解方法。 3 隔膜で主電極室と補助電極室に区画した筒状
の電解槽の主電極室に主電極粒子を収容した電解
槽において、主電極室の底部に電解液の供給口を
設け、主電極室の上部には断面積が上部に向かつ
て漸増する流動粒子逸散防止塔を設け、流動粒子
逸散防止塔の壁面には電解液の流出口を設けると
ともに、有孔性の補助電極を隔膜に密着したこと
を特徴とする流動床を用いる電解槽。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14610584A JPS6126795A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | 流動床を用いる電解方法及び電解槽 |
| US06/674,063 US4569729A (en) | 1984-07-16 | 1984-11-19 | Electrolyzing method and electrolytic cell employing fluidized bed |
| CA000468351A CA1269635A (en) | 1984-07-16 | 1984-11-21 | Electrolyzing method and electrolytic cell employing fluidized bed |
| KR1019840008080A KR890002751B1 (ko) | 1984-07-16 | 1984-12-18 | 유동층을 이용한 전해방법과 전해조 |
| EP84309163A EP0171478B1 (en) | 1984-07-16 | 1984-12-31 | Electrolyzing process and electrolytic cell employing fluidized bed |
| DE8484309163T DE3481777D1 (de) | 1984-07-16 | 1984-12-31 | Elektrolytisches verfahren und elektrolysezelle mit fliessbett. |
| US06/800,528 US4626331A (en) | 1984-07-16 | 1985-11-21 | Electrolytic cell employing fluidized bed |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14610584A JPS6126795A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | 流動床を用いる電解方法及び電解槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6126795A JPS6126795A (ja) | 1986-02-06 |
| JPH0413432B2 true JPH0413432B2 (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=15400259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14610584A Granted JPS6126795A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | 流動床を用いる電解方法及び電解槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6126795A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63130792A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-02 | Matsuda Metal Kogyo Kk | 電解装置 |
| JPH0189961U (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-13 | ||
| US6409895B1 (en) * | 2000-04-19 | 2002-06-25 | Alcavis International, Inc. | Electrolytic cell and method for electrolysis |
| US9005408B2 (en) * | 2010-05-20 | 2015-04-14 | In-Soo Jin | Method and apparatus for extracting noble metals from inorganic granular waste catalysts |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3988221A (en) * | 1975-03-20 | 1976-10-26 | Occidental Petroleum Corporation | Electrolytic removal of heavy metal ions using particulate silicon alloys |
| JPS5535331Y2 (ja) * | 1976-02-29 | 1980-08-20 | ||
| JPS533961A (en) * | 1976-06-30 | 1978-01-14 | Osaka Gas Co Ltd | Dry denitration apparatus for combustion exhaust gas |
| JPS5392302A (en) * | 1977-01-25 | 1978-08-14 | Nat Res Inst Metals | Electrolytic refining of metal |
| JPS5834171A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-02-28 | Hitachi Ltd | 真空蒸着装置 |
-
1984
- 1984-07-16 JP JP14610584A patent/JPS6126795A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6126795A (ja) | 1986-02-06 |
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