JPH02307830A - 石英ガラス粉末の製造方法 - Google Patents
石英ガラス粉末の製造方法Info
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- JPH02307830A JPH02307830A JP1125687A JP12568789A JPH02307830A JP H02307830 A JPH02307830 A JP H02307830A JP 1125687 A JP1125687 A JP 1125687A JP 12568789 A JP12568789 A JP 12568789A JP H02307830 A JPH02307830 A JP H02307830A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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-
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は石英ガラス粉末の製造方法に関し、さらに詳し
く言うと、不純物の混入を避けることのできない機械的
粉砕工程か不要であり、たとえば、半導体工業用石英ガ
ラス製品、光通信用多成分ガラスの原料等の各種の用途
に好適に利用することのできる高純度の石英ガラス粉末
を、簡単な操作で効率良く得ることのできる石英ガラス
粉末の製造方法に関する。
く言うと、不純物の混入を避けることのできない機械的
粉砕工程か不要であり、たとえば、半導体工業用石英ガ
ラス製品、光通信用多成分ガラスの原料等の各種の用途
に好適に利用することのできる高純度の石英ガラス粉末
を、簡単な操作で効率良く得ることのできる石英ガラス
粉末の製造方法に関する。
[従来技術および発明が解決しようとする課題]たとえ
ば半導体工業用石英ガラス製品、光通信用多成分ガラス
等の原料である石英ガラス粉末には、高純度化の要請が
高まる一方である。
ば半導体工業用石英ガラス製品、光通信用多成分ガラス
等の原料である石英ガラス粉末には、高純度化の要請が
高まる一方である。
たとえば、近年、半導体素子の高集積化に伴い超高純度
のシリコン単結晶の要求か高まり、その製造用ルツボの
高純度化が求められている。
のシリコン単結晶の要求か高まり、その製造用ルツボの
高純度化が求められている。
ところで、従来の半導体単結晶引き上げ用ルツボは、天
然石英の溶融粉砕品をカーボンアーク炉中て焼き上げる
ことにより製造されている。
然石英の溶融粉砕品をカーボンアーク炉中て焼き上げる
ことにより製造されている。
しかしながら、この方法において原料に使用される天然
石英の溶融粉砕品においては、天然石英中に含まれる不
純物や粉砕工程で使用するアルミナボールミルに由来す
るアルミニウム等の不純物の混入が避けられない。
石英の溶融粉砕品においては、天然石英中に含まれる不
純物や粉砕工程で使用するアルミナボールミルに由来す
るアルミニウム等の不純物の混入が避けられない。
したがって、この原料粉末を用いて製造したルツボには
1通常、1Opp職程度のA文、数ppm程度のFe、
Ti、Zr、Na、Ca、に、10分の数ppm程度の
B、Cu、Ni等の不純物が含まれており、このような
ルツボな用いてシリコン単結晶を引き上げると、ルツボ
中の不純物が単結晶中に移行するので、超高純度のシリ
コン単結晶を得ることはできない。
1通常、1Opp職程度のA文、数ppm程度のFe、
Ti、Zr、Na、Ca、に、10分の数ppm程度の
B、Cu、Ni等の不純物が含まれており、このような
ルツボな用いてシリコン単結晶を引き上げると、ルツボ
中の不純物が単結晶中に移行するので、超高純度のシリ
コン単結晶を得ることはできない。
また、半導体ウェハーの熱処理工程に用いられる炉芯管
等には、高純度の透明石英ガラス管が要求される。
等には、高純度の透明石英ガラス管が要求される。
しかしながら、従来の透明石英ガラス管は、アルミニウ
ム、アルカリ等の微量不純物を含有する天然水晶を原料
に用いて形成されているので、従来の透明石英ガラス管
にもこれらの微量不純物が含まれている。
ム、アルカリ等の微量不純物を含有する天然水晶を原料
に用いて形成されているので、従来の透明石英ガラス管
にもこれらの微量不純物が含まれている。
したがって、従来の透明石英ガラス管においては、不純
物に起因する熱変形や失透を避けることができないとい
う問題がある。
物に起因する熱変形や失透を避けることができないとい
う問題がある。
また、一般に、石英ガラス材における熱変形や失透は、
不純物にアルカリ金属が存在する場合に!rl著に現れ
ることが知られており、原料粉末の高純度化が求められ
ている。
不純物にアルカリ金属が存在する場合に!rl著に現れ
ることが知られており、原料粉末の高純度化が求められ
ている。
さらに、天然石英や合成石英を機械的に粉砕すると、半
導体工業用石英ガラス製品、特に、石英ルツボな形成す
るための原料粉末として好ましい粒度である75μmか
ら30OJLmの粉末は50%以下しか得られず、残り
は75g、m以下の微粉末になってしまうという問題も
ある。
導体工業用石英ガラス製品、特に、石英ルツボな形成す
るための原料粉末として好ましい粒度である75μmか
ら30OJLmの粉末は50%以下しか得られず、残り
は75g、m以下の微粉末になってしまうという問題も
ある。
本発明の目的は、こうした従来法の問題点を解消し、産
業上の需要を満たすべく、高純度石英ガラス粉末を効率
良く製造するための新規技術を提供することにある。
業上の需要を満たすべく、高純度石英ガラス粉末を効率
良く製造するための新規技術を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
前記課題を解決するために、本発明者等が鋭意検討を重
ねた結果、珪酸エステルと特定量の水との混合溶液に、
特定の粒径な有するとともに特定量の珪酸質粒子の分散
された分散液をゲル化させ、得られたゲルを乾燥すると
、乾燥中にゲルが容易に粉末化すること、およびこのシ
リカゲル粉末を焼成すると、破砕状の高純度合成石英ガ
ラス粉末か得られることを見い出して、本発明に到達し
た。
ねた結果、珪酸エステルと特定量の水との混合溶液に、
特定の粒径な有するとともに特定量の珪酸質粒子の分散
された分散液をゲル化させ、得られたゲルを乾燥すると
、乾燥中にゲルが容易に粉末化すること、およびこのシ
リカゲル粉末を焼成すると、破砕状の高純度合成石英ガ
ラス粉末か得られることを見い出して、本発明に到達し
た。
本発明の構成は、珪酸エステルと前記珪酸エステル中の
アルコキシ基の0.5倍当量以上の水との混合溶液に1
粒径400pmを超える粒子の含有率か10重量%未満
であり、かつ粒径20#Lm未満の粒子の含有率が50
重量%未満であるとともに、使用に供される前記珪酸エ
ステルと同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成する
シリカ重量に対して10重量%以上の珪酸質粒子の分散
された分散液をゲル化させた後、ゲルを乾燥し、その後
、焼成することを特徴とする石英ガラス粉末の製造方法
である。
アルコキシ基の0.5倍当量以上の水との混合溶液に1
粒径400pmを超える粒子の含有率か10重量%未満
であり、かつ粒径20#Lm未満の粒子の含有率が50
重量%未満であるとともに、使用に供される前記珪酸エ
ステルと同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成する
シリカ重量に対して10重量%以上の珪酸質粒子の分散
された分散液をゲル化させた後、ゲルを乾燥し、その後
、焼成することを特徴とする石英ガラス粉末の製造方法
である。
以下に、本発明の製造方法について詳述する。
■珪酸エステルの種類
メチルシリケート、エチルシリケート、およびプロピル
シリケートの他、酸またはアルカリの共存下で水と溶液
を形成し得るものは全て使用できるが、アルコキシ基の
炭素原子数が1〜3のものは特に好適に使用することが
できる。アルコキシ基の炭素原子数が1〜3の珪酸エス
テルは、加水分解が速やかに進行するからである。
シリケートの他、酸またはアルカリの共存下で水と溶液
を形成し得るものは全て使用できるが、アルコキシ基の
炭素原子数が1〜3のものは特に好適に使用することが
できる。アルコキシ基の炭素原子数が1〜3の珪酸エス
テルは、加水分解が速やかに進行するからである。
■水の使用量など
本発明の方法においては、前記珪酸エステル中のアルコ
キシ基の0.5倍当量以上、好ましくは2〜lO倍当量
、さらに好ましくは2〜5倍当量の木を使用する。
キシ基の0.5倍当量以上、好ましくは2〜lO倍当量
、さらに好ましくは2〜5倍当量の木を使用する。
また、前記水の使用量が前記珪酸エステル中のアルコキ
シ基の0.5倍当量未満であると、加水分解が不充分に
なり、焼成すると残留するアルコキシ基が炭化して製品
が黒色を帯びることがある。
シ基の0.5倍当量未満であると、加水分解が不充分に
なり、焼成すると残留するアルコキシ基が炭化して製品
が黒色を帯びることがある。
なお、使用に供される前記水としては、充分に精製した
ものが好ましい。
ものが好ましい。
また、本発明の方法においては、前記水とともに触媒を
使用することができる。
使用することができる。
好適に使用することのできる前記触媒としては、前記珪
酸エステルと前記水との混合溶液のPHを変動させるこ
とのできるものであれば特に制限はなく、具体的には、
酸、アルカリを挙げることができる。
酸エステルと前記水との混合溶液のPHを変動させるこ
とのできるものであれば特に制限はなく、具体的には、
酸、アルカリを挙げることができる。
前記酸の中でも、好ましいのは、硝酸、シュウ酸、酢酸
である。
である。
前記アルカリの中でも、好ましいのは、アンモニア、ト
リエチルアミン、エチレンジアミンである。
リエチルアミン、エチレンジアミンである。
いずれにせよ、前記触媒を用いた場合、前記珪酸エステ
ルと前記水との混合溶液のpHについては、特に制限は
ないが、前記珪酸エステルの加水分解を速やかに進行さ
せるために好ましいpHの範囲は1通常、3〜10であ
る。
ルと前記水との混合溶液のpHについては、特に制限は
ないが、前記珪酸エステルの加水分解を速やかに進行さ
せるために好ましいpHの範囲は1通常、3〜10であ
る。
■珪酸質粒子
前記珪酸エステルと前記水との混合溶液に添加する珪酸
質粒子は、その粒径が400pmを超えるものの含有率
が10重量%以下であり、かつ粒径が20JLm未渦の
ものの含有率が50重量%未満、好ましくは粒径が30
04 mを超えるものの含有率が1Offi量%以下で
あり、かつ粒径が20gm未満のものの含有率が30重
量%未満であることが必要である。この珪酸質粒子の粒
径が400uLmを超えるものの含有率が10重量%以
上であったり、粒径か201Lm未満のものの含有率が
50重量%以上でありたりすると、得られる石英ガラス
粉末中に、粒径:100gmを超える粒子が増加し、特
に1石英ルツボな形成するための原料粉末として好まし
い粒度である7S7zmから300gmの粉末の収率か
低下することがある。
質粒子は、その粒径が400pmを超えるものの含有率
が10重量%以下であり、かつ粒径が20JLm未渦の
ものの含有率が50重量%未満、好ましくは粒径が30
04 mを超えるものの含有率が1Offi量%以下で
あり、かつ粒径が20gm未満のものの含有率が30重
量%未満であることが必要である。この珪酸質粒子の粒
径が400uLmを超えるものの含有率が10重量%以
上であったり、粒径か201Lm未満のものの含有率が
50重量%以上でありたりすると、得られる石英ガラス
粉末中に、粒径:100gmを超える粒子が増加し、特
に1石英ルツボな形成するための原料粉末として好まし
い粒度である7S7zmから300gmの粉末の収率か
低下することがある。
また、前記珪酸質粒子の使用割合は前記珪酸エステルと
同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成するシリカ重
量に対して10重量%以上、好ましくは20重量%以上
であることか必要である* 1111記珪酸エステルと
同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成するシリカ重
量に対する前記珪酸質粒子の使用割合が10重量%未満
であると、石英ガラス粉末の収率が著しく低くなること
かある。
同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成するシリカ重
量に対して10重量%以上、好ましくは20重量%以上
であることか必要である* 1111記珪酸エステルと
同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成するシリカ重
量に対する前記珪酸質粒子の使用割合が10重量%未満
であると、石英ガラス粉末の収率が著しく低くなること
かある。
使用に供される前記珪酸質粒子としては、シリカゲル、
合成シリカ粉末、天然石英粉等が使用できる。特に、高
純度の石英ガラス粉末を得るためには未決により合成さ
れた合成石英ガラス粉末のうち、分級後の100μm以
下の粒子を再利用することか好ましい。
合成シリカ粉末、天然石英粉等が使用できる。特に、高
純度の石英ガラス粉末を得るためには未決により合成さ
れた合成石英ガラス粉末のうち、分級後の100μm以
下の粒子を再利用することか好ましい。
■珪酸質粒子の分散及びゲルの乾燥方法本発明の方法に
おいては、前記珪酸エステルと前記水との混合溶液を、
たとえば容器回転型の乾燥機(例:ロータリーエバボレ
ーター)に収め。
おいては、前記珪酸エステルと前記水との混合溶液を、
たとえば容器回転型の乾燥機(例:ロータリーエバボレ
ーター)に収め。
これに粒径400gmを超える粒子の含有率が10重量
%未満であり、かつ粒径207zm未満の粒子の含有率
が50重量%未満であるとともに、前記珪酸エステルと
同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成するシリカ重
量に対して10重量%以上の前記珪酸質粒子を添加した
り、前記珪酸エステルまたは前記水に前記珪酸質粒子を
添加したものを前記乾燥機に収めた後、前記水または前
記珪酸エステルを添加したりして、好ましくは20〜6
0℃で加熱することにより、珪酸質粒子の分散及びゲル
化を行なう。
%未満であり、かつ粒径207zm未満の粒子の含有率
が50重量%未満であるとともに、前記珪酸エステルと
同量の珪酸エステルを焙焼したときに生成するシリカ重
量に対して10重量%以上の前記珪酸質粒子を添加した
り、前記珪酸エステルまたは前記水に前記珪酸質粒子を
添加したものを前記乾燥機に収めた後、前記水または前
記珪酸エステルを添加したりして、好ましくは20〜6
0℃で加熱することにより、珪酸質粒子の分散及びゲル
化を行なう。
このとき、前記珪酸質粒子を前記珪酸エステルと前記水
との混合溶液中に良く分散することか重要である。前記
珪酸質粒子の分散か充分てないと、得られる石英ガラス
粉末の粒度分布かシャープではなくなることがある。
との混合溶液中に良く分散することか重要である。前記
珪酸質粒子の分散か充分てないと、得られる石英ガラス
粉末の粒度分布かシャープではなくなることがある。
本発明の方法においては、次いて、生成したゲルの乾燥
を行なう。
を行なう。
乾燥温度は、通常、 100°C以上であり、たとえば
乾燥機を所定の温度に加温することによりゲルを乾燥さ
せる。
乾燥機を所定の温度に加温することによりゲルを乾燥さ
せる。
■焼成温度、時間
本発明における焼成温度は、いわゆるゾルゲル法におけ
る焼成温度と同様、1000℃以七であればよく、焼成
時間は、通常、1時間以上である。
る焼成温度と同様、1000℃以七であればよく、焼成
時間は、通常、1時間以上である。
■その他
以上のようにして得られる合成石英ガラス粉末の形状は
破砕状であり、半導体工業用石英ガラス製品、特に、石
英ルツボの原料に好適に利用することがてきる。また、
高純度品でもあるため光通信用多成分ガラス等の原料と
しても利用可能である。
破砕状であり、半導体工業用石英ガラス製品、特に、石
英ルツボの原料に好適に利用することがてきる。また、
高純度品でもあるため光通信用多成分ガラス等の原料と
しても利用可能である。
[実施例]
次いで1本発明の実施例および比較例を示し。
本発明についてさらに具体的に説明する。
(実施例1)
テフロン被覆攪拌羽を取り付けた三ツロガラスフラスコ
に、メチルシリケート3044 gを収め、温度20℃
の条件下で2時間かけてイオン交換水4:120 gを
加えることにより加水分解を行った。
に、メチルシリケート3044 gを収め、温度20℃
の条件下で2時間かけてイオン交換水4:120 gを
加えることにより加水分解を行った。
その後、この加水分解液をロータリーエバポレーター用
フラスコに移し、粒径150pmを超える粒子の含有率
が3重量%であり、かつ粒径20gm未満の粒子の含有
率が25重量%C平均粒径約601Lm)である石英ガ
ラス粉末240gを加え、温度40℃でロータリーエバ
ポレーターを回転させ。
フラスコに移し、粒径150pmを超える粒子の含有率
が3重量%であり、かつ粒径20gm未満の粒子の含有
率が25重量%C平均粒径約601Lm)である石英ガ
ラス粉末240gを加え、温度40℃でロータリーエバ
ポレーターを回転させ。
石英ガラス粉末の良く分散したゲルを得た。 さらにこ
のゲルを、温度150℃、圧力100冒■Hgの条件下
で減圧乾燥処理した。
のゲルを、温度150℃、圧力100冒■Hgの条件下
で減圧乾燥処理した。
このようにして得た乾燥ゲルは、乾燥中に壊れて粉末化
し最大粒径350 h m 、平均粒径214gmてあ
った。
し最大粒径350 h m 、平均粒径214gmてあ
った。
この粉末状のゲルを石英ガラス製ルツボに移し、電気炉
中で温度1050℃、4時間焼成して破砕状の合成シリ
カ粉末を得た。
中で温度1050℃、4時間焼成して破砕状の合成シリ
カ粉末を得た。
得られた合成シリカ粉末を、さらにふるいにより分級し
、ルツボ形成に好適な75JL111から3004mの
粒径な有する合成シリカ粉末を得た。加水分解に使用し
たメチルシリケートから生成するシリカを基準にしたと
きの収率は74%であった。
、ルツボ形成に好適な75JL111から3004mの
粒径な有する合成シリカ粉末を得た。加水分解に使用し
たメチルシリケートから生成するシリカを基準にしたと
きの収率は74%であった。
このシリカ粉末についてXM回折を行なったところ、X
線回折パターンには水晶等の結晶性ピークが見られず、
通常の石英ガラス同様にブロードて、得られた粉体は石
英ガラスであることか確認された。また、不純物の含有
量を調べるために発光分光分析を行った。
線回折パターンには水晶等の結晶性ピークが見られず、
通常の石英ガラス同様にブロードて、得られた粉体は石
英ガラスであることか確認された。また、不純物の含有
量を調べるために発光分光分析を行った。
天然品と本実施例で得られた粉末の分析結果を表1に示
す。
す。
(本頁、以下余白)
(実施例2)
前記実施例1において、メチルシリケート3044 g
に代えてエチルシリケート4166gを用いたほかは、
前記実施例1に′おけるのと同様に処理して乾燥ゲルを
得た。
に代えてエチルシリケート4166gを用いたほかは、
前記実施例1に′おけるのと同様に処理して乾燥ゲルを
得た。
得られた乾燥ゲルの最大粒径は350pm、平均粒径は
232終mであった。
232終mであった。
この粉末状のゲルを、前記実施例1におけるのと同様に
して電気炉中で焼成して破砕状の石英ガラス粉末を得た
。
して電気炉中で焼成して破砕状の石英ガラス粉末を得た
。
得られた石英ガラス粉末を、更にふるいにより分級し、
75μmから300μmの粒径な有する合成石英ガラス
粉末を得た。加水分解に使用したエチルシリケートから
生成するシリカを基準にしたときの収率は79%であっ
た。
75μmから300μmの粒径な有する合成石英ガラス
粉末を得た。加水分解に使用したエチルシリケートから
生成するシリカを基準にしたときの収率は79%であっ
た。
(実施例3)
前記実施例1において、硝酸を添加してpt+3に調節
したイオン交換水を用いたほかは、前記実施例1におけ
るのと同様に処理して乾燥ゲルな得た。
したイオン交換水を用いたほかは、前記実施例1におけ
るのと同様に処理して乾燥ゲルな得た。
得られた乾燥ゲルの最大粒径は3507zm、平均粒径
は216μmてあった。
は216μmてあった。
得られた乾燥ゲルを、前記実施例1におけるのと同様に
して電気炉中で焼成して破砕状の石英ガラス粉末を得た
。
して電気炉中で焼成して破砕状の石英ガラス粉末を得た
。
この破砕状の石英ガラス粉末を、更に分級して、7Sp
mから300μmの粒径な有する合成石英ガラス粉末を
得た。加水分解に使用したメチルシリケートから生成す
るシリカを基準にしたときの収率は76%であった。
mから300μmの粒径な有する合成石英ガラス粉末を
得た。加水分解に使用したメチルシリケートから生成す
るシリカを基準にしたときの収率は76%であった。
(比較例1)
前記実施例1において、加水分解液に石英ガラス粉末を
加えなかったほかは、前記実施例1におけるのと同様に
処理して乾燥ゲルを得た。
加えなかったほかは、前記実施例1におけるのと同様に
処理して乾燥ゲルを得た。
得られた乾燥ゲルは粒状てあり粉末化せず、その平均粒
径は3−■と非常に大きなものであった。
径は3−■と非常に大きなものであった。
この粒状のゲルを、前記実施例1におけるのと同様に電
気炉中で焼成して粒状の石英ガラスを得た。
気炉中で焼成して粒状の石英ガラスを得た。
この粒状の石英ガラスを分線して75g、mから300
μmの粒径な有する合成石英ガラス粉末を得た。
μmの粒径な有する合成石英ガラス粉末を得た。
加水分解に使用したメチルシリケートから生成するシリ
カを基準にしたときの収率は僅か5%であった。
カを基準にしたときの収率は僅か5%であった。
(比較例2)
前記比較例1において、焼成して得られた粒状ゲルをア
ルミナ製ボールミル及びボールを用いて粉砕した。得ら
れた石英ガラス粉末の平均粒径は、 205鉢mであっ
た。
ルミナ製ボールミル及びボールを用いて粉砕した。得ら
れた石英ガラス粉末の平均粒径は、 205鉢mであっ
た。
その後、この石英ガラス粉末を分級して、75gmから
300gmの粒径を有する合成石英ガラス粉末を得た。
300gmの粒径を有する合成石英ガラス粉末を得た。
加水分解に使用したメチルシリケートから生成するシリ
カを基準にしたときの収率は19%であった。
カを基準にしたときの収率は19%であった。
また、不純物含有量を測定したところアルミニラムが3
2ppm含まれていた。
2ppm含まれていた。
[発明の効果]
本発明によると、
(1) 機械的粉砕工程が不要であるのて、不純物の
混入を防止することができるとともに、(2) 簡単
な操作で高純度品を得ることができるとともに、生成す
る粉末の粒度分布がシャープであるので、収率が高い、 等の種々の利点を有する工業的に有用な石英ガラス粉末
の製造方法を提供することがてきる。
混入を防止することができるとともに、(2) 簡単
な操作で高純度品を得ることができるとともに、生成す
る粉末の粒度分布がシャープであるので、収率が高い、 等の種々の利点を有する工業的に有用な石英ガラス粉末
の製造方法を提供することがてきる。
Claims (1)
- (1)珪酸エステルと前記珪酸エステル中のアルコキシ
基の0.5倍当量以上の水との混合溶液に、粒径400
μmを超える粒子の含有率が10重量%未満であり、か
つ粒径20μm未満の粒子の含有率が50重量%未満で
あるとともに、使用に供される前記珪酸エステルと同量
の珪酸エステルを焙焼したときに生成するシリカ重量に
対して10重量%以上の珪酸質粒子の分散された分散液
をゲル化させた後、ゲルを乾燥し、その後、焼成するこ
とを特徴とする石英ガラス粉末の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125687A JPH02307830A (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 石英ガラス粉末の製造方法 |
| US07/511,253 US5028247A (en) | 1989-05-18 | 1990-04-19 | Process for the preparation of silica glass powders |
| DE90108438T DE69003311T2 (de) | 1989-05-18 | 1990-05-04 | Verfahren zur Herstellung von Silicaglaspulvern. |
| EP90108438A EP0402610B1 (en) | 1989-05-18 | 1990-05-04 | Process for the preparation of silica glass powders |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125687A JPH02307830A (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 石英ガラス粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02307830A true JPH02307830A (ja) | 1990-12-21 |
| JPH0567574B2 JPH0567574B2 (ja) | 1993-09-27 |
Family
ID=14916199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1125687A Granted JPH02307830A (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 石英ガラス粉末の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5028247A (ja) |
| EP (1) | EP0402610B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02307830A (ja) |
| DE (1) | DE69003311T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5888587A (en) * | 1992-07-07 | 1999-03-30 | Alcatel N.V. | Method of manufacturing silica powder and use of such powder in making an optical fiber preform |
| FR2693451B1 (fr) * | 1992-07-07 | 1994-08-19 | Alcatel Nv | Procédé de fabrication d'une poudre de silice et application d'une telle poudre à la réalisation d'une préforme pour fibre optique. |
| WO1996020128A1 (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing synthetic quartz powder |
| EP1170253A1 (en) * | 1996-11-20 | 2002-01-09 | Mitsubishi Chemical Corporation | Synthetic quartz powder and silica gel powder |
| JP4444559B2 (ja) * | 2002-10-09 | 2010-03-31 | ジャパンスーパークォーツ株式会社 | 石英ガラスルツボの強化方法とシリコン単結晶の引き上げ方法 |
| CN101838109B (zh) * | 2009-12-02 | 2012-02-01 | 天津大学 | 软模板法制备的空心玻璃微珠及其制备方法 |
| US8197782B2 (en) * | 2010-02-08 | 2012-06-12 | Momentive Performance Materials | Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof |
| US9249028B2 (en) | 2010-02-08 | 2016-02-02 | Momentive Performance Materials Inc. | Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4339559A (en) * | 1980-05-21 | 1982-07-13 | Phillips Petroleum Company | Polymerization using silica from single phase controlled hydrolysis of silicate ester |
| US4681615A (en) * | 1982-12-23 | 1987-07-21 | Seiko Epson Kabushiki Kaisha | Silica glass formation process |
| JPS6054929A (ja) * | 1983-09-01 | 1985-03-29 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造法 |
| JPS6065734A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-15 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
| JPS60239329A (ja) * | 1984-05-15 | 1985-11-28 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
| JPS61256928A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラスの製造方法 |
| DE3525495C1 (de) * | 1985-07-17 | 1987-01-02 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Verfahren zur Herstellung von Gegenstaenden aus synthetischem Siliziumdioxid |
| JPS62100424A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-09 | Seiko Epson Corp | ガラスの製造方法 |
| JPS62176928A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-08-03 | Mitsubishi Metal Corp | 石英ガラス粉末の製造方法 |
| US4816299A (en) * | 1987-05-20 | 1989-03-28 | Corning Glass Works | Encapsulating compositions containing ultra-pure, fused-silica fillers |
-
1989
- 1989-05-18 JP JP1125687A patent/JPH02307830A/ja active Granted
-
1990
- 1990-04-19 US US07/511,253 patent/US5028247A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-04 EP EP90108438A patent/EP0402610B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-04 DE DE90108438T patent/DE69003311T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0402610A3 (en) | 1990-12-27 |
| DE69003311D1 (de) | 1993-10-21 |
| DE69003311T2 (de) | 1994-02-24 |
| EP0402610A2 (en) | 1990-12-19 |
| EP0402610B1 (en) | 1993-09-15 |
| JPH0567574B2 (ja) | 1993-09-27 |
| US5028247A (en) | 1991-07-02 |
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