JPH0237232B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0237232B2 JPH0237232B2 JP58120760A JP12076083A JPH0237232B2 JP H0237232 B2 JPH0237232 B2 JP H0237232B2 JP 58120760 A JP58120760 A JP 58120760A JP 12076083 A JP12076083 A JP 12076083A JP H0237232 B2 JPH0237232 B2 JP H0237232B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- solvent
- cleaning solvent
- cleaned
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は洗浄方法及び装置に関するものであ
り、例えば油等で汚染された精密機器類（IC、
電子機器、液晶パネル、ポンプ等）を洗浄する洗
浄方法及び装置として用いて有効である。
り、例えば油等で汚染された精密機器類（IC、
電子機器、液晶パネル、ポンプ等）を洗浄する洗
浄方法及び装置として用いて有効である。
洗浄装置は、例えば油等で汚染された精密機器
類（例えばIC、電子機器、液晶パネル、ポンプ
等）をフロン、トリクレン等の洗浄用溶剤中に浸
漬するなどして油等を除去する装置であつて、従
来その構造は第１図に示すように、洗浄装置本体
８と蒸留器９とにより成り、洗浄装置本体１内は
ヒータ３ａを有する温浴槽３、超音波振動子４ａ
を有する冷浴槽４、ヒータ５ａを有するベーパー
槽５より構成されている。その洗浄方法は、まず
被処理物（ワーク）を治具付チエンコンベア１９
に乗せ、温浴槽３に浸漬する。この温浴槽３内で
ワークに付着している油等は膨張し、一部洗浄溶
剤中に溶解する。次に、冷浴槽４内に浸漬し、超
音波により油等の異物をワークより剥離させると
同時に、ワークの温度を下げる。さらにベーパー
槽５内に搬送しベーパー雰囲気中に設置する。す
ると、ワーク表面で洗浄溶剤が凝縮しワーク表面
をすすぎ洗いする。この後、ワークを冷却蛇管７
の上部に移動させ、ワークを乾燥して取り出す。
類（例えばIC、電子機器、液晶パネル、ポンプ
等）をフロン、トリクレン等の洗浄用溶剤中に浸
漬するなどして油等を除去する装置であつて、従
来その構造は第１図に示すように、洗浄装置本体
８と蒸留器９とにより成り、洗浄装置本体１内は
ヒータ３ａを有する温浴槽３、超音波振動子４ａ
を有する冷浴槽４、ヒータ５ａを有するベーパー
槽５より構成されている。その洗浄方法は、まず
被処理物（ワーク）を治具付チエンコンベア１９
に乗せ、温浴槽３に浸漬する。この温浴槽３内で
ワークに付着している油等は膨張し、一部洗浄溶
剤中に溶解する。次に、冷浴槽４内に浸漬し、超
音波により油等の異物をワークより剥離させると
同時に、ワークの温度を下げる。さらにベーパー
槽５内に搬送しベーパー雰囲気中に設置する。す
ると、ワーク表面で洗浄溶剤が凝縮しワーク表面
をすすぎ洗いする。この後、ワークを冷却蛇管７
の上部に移動させ、ワークを乾燥して取り出す。
この様な洗浄過程において、例えば１個のワー
クに付着している油分量が70mg／個のものを洗浄
して、油分量が１〜２mg／個以下の洗浄品質を得
るには温浴槽３、冷浴槽４、ベーパー槽５に各
180秒間浸漬する必要があり、設備自体が大型に、
かつヒータ３ａ，５ａ容量も大きくなり、設備
費・エネルギ費が高くなるという問題点があつ
た。
クに付着している油分量が70mg／個のものを洗浄
して、油分量が１〜２mg／個以下の洗浄品質を得
るには温浴槽３、冷浴槽４、ベーパー槽５に各
180秒間浸漬する必要があり、設備自体が大型に、
かつヒータ３ａ，５ａ容量も大きくなり、設備
費・エネルギ費が高くなるという問題点があつ
た。
本発明は上記問題点に鑑み、より短時間にて被
洗浄物の洗浄を行うことを目的とする。
洗浄物の洗浄を行うことを目的とする。
この目的を達するため本発明では、洗浄溶剤を
圧縮及び大気圧沸点以上に加熱し、その洗浄溶剤
を被洗浄物に噴射して洗浄を行う構成とした。
圧縮及び大気圧沸点以上に加熱し、その洗浄溶剤
を被洗浄物に噴射して洗浄を行う構成とした。
次に本発明の実施例を図に基づいて説明する。
第２図は本実施例の洗浄装置８全体を示す断面
図である。洗浄装置８はその外形を外枠２１によ
つて形成され、この外枠２１によつて形成される
空間が内枠２２によつて区画されている。この外
枠２１の上方側面には搬送開口部２１ａが形成さ
れ、この搬送開口部２１ａより治具付チエンコン
ベア１９に取付けられた被洗浄物２３が洗浄装置
８内に搬入される。治具付チエンコンベア１９は
ターンホイール２０によつてその進行方向を変え
られており、搬送開口部２１ａより洗浄装置８内
に進行した直後に下方に向つて進行する。この治
具付チエンコンベア１９が下方に向う途中にコイ
ル状の第１冷却蛇管１７が配され、この第１冷却
蛇管１７の内方を治具付チエンコンベア１９が通
過している。第１冷却蛇管１７の内部には冷水が
流れており、第１冷却蛇管１７の近傍を冷却して
いる。下方に進行する治具付チエンコンベア１９
は洗浄装置８の下部までると２つのターンホイー
ル２０によつて進行方向を上方に逆転している。
図である。洗浄装置８はその外形を外枠２１によ
つて形成され、この外枠２１によつて形成される
空間が内枠２２によつて区画されている。この外
枠２１の上方側面には搬送開口部２１ａが形成さ
れ、この搬送開口部２１ａより治具付チエンコン
ベア１９に取付けられた被洗浄物２３が洗浄装置
８内に搬入される。治具付チエンコンベア１９は
ターンホイール２０によつてその進行方向を変え
られており、搬送開口部２１ａより洗浄装置８内
に進行した直後に下方に向つて進行する。この治
具付チエンコンベア１９が下方に向う途中にコイ
ル状の第１冷却蛇管１７が配され、この第１冷却
蛇管１７の内方を治具付チエンコンベア１９が通
過している。第１冷却蛇管１７の内部には冷水が
流れており、第１冷却蛇管１７の近傍を冷却して
いる。下方に進行する治具付チエンコンベア１９
は洗浄装置８の下部までると２つのターンホイー
ル２０によつて進行方向を上方に逆転している。
そして、この方向転換箇所には溶剤タンク１０
が設けられ、治具付チエンコンベア１９に取付け
られた被洗浄物は溶剤タンク１０に貯えられた溶
剤中を進む。
が設けられ、治具付チエンコンベア１９に取付け
られた被洗浄物は溶剤タンク１０に貯えられた溶
剤中を進む。
方向転換して上方に進む治具付チエンコンベア
１９の周囲には内枠２２によつてスプレーブース
１４が区画形成され、その両脇には洗浄溶剤を被
洗浄物に噴射する噴射手段として直進性のノズル
１３が配設されている。このスプレーブース１４
は溶剤タンク１０内に浸漬し液シールしている。
１９の周囲には内枠２２によつてスプレーブース
１４が区画形成され、その両脇には洗浄溶剤を被
洗浄物に噴射する噴射手段として直進性のノズル
１３が配設されている。このスプレーブース１４
は溶剤タンク１０内に浸漬し液シールしている。
そしてスプレーブース１４の上方には、スプレ
ーブース１４の開口部１４ａより溶剤噴霧が洗浄
装置８内を飛散するのを防止するために、バツフ
アーブース１６が区画形成されている。
ーブース１４の開口部１４ａより溶剤噴霧が洗浄
装置８内を飛散するのを防止するために、バツフ
アーブース１６が区画形成されている。
このバツフアーブース１６内で治具付チエンコ
ンベア１９は２つのターンホイール２０によつて
180゜方向転換され、バツフアーブース１６を抜け
出た直後にまた180゜方向転換されて上方に向つて
進行する。そして上方に進む途中には第２冷却蛇
管２４が配され、第２冷却蛇管２４の内方を通過
後は洗浄装置８の外形に沿つて進行し、前記搬送
開口部２１ａに達する。
ンベア１９は２つのターンホイール２０によつて
180゜方向転換され、バツフアーブース１６を抜け
出た直後にまた180゜方向転換されて上方に向つて
進行する。そして上方に進む途中には第２冷却蛇
管２４が配され、第２冷却蛇管２４の内方を通過
後は洗浄装置８の外形に沿つて進行し、前記搬送
開口部２１ａに達する。
また、第２冷却蛇管２４の下方には内枠２２に
よつてポンプ室２５が区画形成されており、この
ポンプ室２５内部には洗浄溶剤を圧縮吐出する圧
縮手段としてスプレーポンプ１１が配設され、さ
らにスプレーポンプ１１より圧縮吐出された洗浄
溶剤を大気圧沸点以上に加熱するための加熱手段
として熱交換器１２が配されている。尚、この熱
交換器１２は温水等により間接加熱するものであ
る。
よつてポンプ室２５が区画形成されており、この
ポンプ室２５内部には洗浄溶剤を圧縮吐出する圧
縮手段としてスプレーポンプ１１が配設され、さ
らにスプレーポンプ１１より圧縮吐出された洗浄
溶剤を大気圧沸点以上に加熱するための加熱手段
として熱交換器１２が配されている。尚、この熱
交換器１２は温水等により間接加熱するものであ
る。
前記溶剤タンク１０と前記ポンプ室２５との間
には清浄溶剤タンク１０ａが形成されており、こ
の清浄溶剤タンク１０ａには蒸留装置９で蒸留さ
れたきれいな洗浄溶剤が流入している。そして前
記スプレーポンプ１１の吸収管がこの清浄溶剤タ
ンク１０ａ内に開口しており、清浄溶剤タンク１
０ａ内中に蒸留された溶剤は前記スプレーポンプ
１１によつて吸い上げられ、圧縮された後前記熱
交換器１２に送られる。そして熱交換器１２で大
気圧沸点以上に加熱された後配管１５を通つて前
記ノズル１３まで圧送され、ノズル１３より噴射
される。
には清浄溶剤タンク１０ａが形成されており、こ
の清浄溶剤タンク１０ａには蒸留装置９で蒸留さ
れたきれいな洗浄溶剤が流入している。そして前
記スプレーポンプ１１の吸収管がこの清浄溶剤タ
ンク１０ａ内に開口しており、清浄溶剤タンク１
０ａ内中に蒸留された溶剤は前記スプレーポンプ
１１によつて吸い上げられ、圧縮された後前記熱
交換器１２に送られる。そして熱交換器１２で大
気圧沸点以上に加熱された後配管１５を通つて前
記ノズル１３まで圧送され、ノズル１３より噴射
される。
洗浄溶剤はノズル１３より大気圧沸点以上の高
温液となつて噴射されるため、被洗浄物に掛つた
高温液、及び掛らなかつた高温液溶剤は蒸発し、
蒸気になつて洗浄装置８内を浮遊するが、第１、
第２冷却蛇管１７，２４によつて冷却液化され
る。第１冷却蛇管１７及び第２冷却蛇管２４にて
冷却液化された洗浄溶剤は、洗浄装置８の外面に
設置された水分分離器１８に流入する。この水分
分離器１８は溶剤と水とを比重によつて分離する
装置で、分離された溶剤は前記蒸留器９によつて
蒸留された溶剤と合流し、前記清浄溶剤タンク１
０ａ内に流入する。また、前記溶剤タンク１０よ
り溢れ出た溶剤は回収れ、蒸留器９に送られて蒸
留精製される。尚、洗浄装置８内の蒸留溶剤は第
１、第２冷却蛇管１７，２４のみによつて冷却液
化されるのではなく、洗浄装置８内を浮遊してい
る間に自然冷却され、液化して溶剤タンク１０あ
るいは清浄溶剤タンク１０ａに流れ込むものもあ
る。また本実施例では洗浄溶剤としてフロン溶剤
を用いている。
温液となつて噴射されるため、被洗浄物に掛つた
高温液、及び掛らなかつた高温液溶剤は蒸発し、
蒸気になつて洗浄装置８内を浮遊するが、第１、
第２冷却蛇管１７，２４によつて冷却液化され
る。第１冷却蛇管１７及び第２冷却蛇管２４にて
冷却液化された洗浄溶剤は、洗浄装置８の外面に
設置された水分分離器１８に流入する。この水分
分離器１８は溶剤と水とを比重によつて分離する
装置で、分離された溶剤は前記蒸留器９によつて
蒸留された溶剤と合流し、前記清浄溶剤タンク１
０ａ内に流入する。また、前記溶剤タンク１０よ
り溢れ出た溶剤は回収れ、蒸留器９に送られて蒸
留精製される。尚、洗浄装置８内の蒸留溶剤は第
１、第２冷却蛇管１７，２４のみによつて冷却液
化されるのではなく、洗浄装置８内を浮遊してい
る間に自然冷却され、液化して溶剤タンク１０あ
るいは清浄溶剤タンク１０ａに流れ込むものもあ
る。また本実施例では洗浄溶剤としてフロン溶剤
を用いている。
次に本実施例の作動について説明する。
まず、外枠２１の搬送開口部２１ａより外方に
出ている治具付チエンコンベア１９に、油等で汚
れた被洗浄物２３を取り付ける。治具付チエンコ
ンベア１９は図示しない駆動源により第２図中矢
印Ｒで示す方向に駆動されており、最初に被洗浄
物２３は第１冷却蛇管１７の内方を通過する。そ
の後治具付チエンコンベア１９の進行に伴い溶剤
タンク１０内に入り、洗浄溶剤に浸漬する。この
とき被洗浄物２３に付着している油等は膨張し、
一部洗浄溶剤中に溶解する。そして、次にスプレ
ーブース１４内に入り、ノズル１３から溶剤を噴
射される。前記清浄溶剤タンク１０ａよりスプレ
ーポンプ１１によつて吸い上げられた洗浄溶剤は
約２Kg／cm2（ゲージ圧）まで圧縮され、その後熱
交換器１２によつて約80℃まで加熱される。そし
てこの圧縮加熱された洗浄溶剤がノズル１３より
噴射されるものである。
出ている治具付チエンコンベア１９に、油等で汚
れた被洗浄物２３を取り付ける。治具付チエンコ
ンベア１９は図示しない駆動源により第２図中矢
印Ｒで示す方向に駆動されており、最初に被洗浄
物２３は第１冷却蛇管１７の内方を通過する。そ
の後治具付チエンコンベア１９の進行に伴い溶剤
タンク１０内に入り、洗浄溶剤に浸漬する。この
とき被洗浄物２３に付着している油等は膨張し、
一部洗浄溶剤中に溶解する。そして、次にスプレ
ーブース１４内に入り、ノズル１３から溶剤を噴
射される。前記清浄溶剤タンク１０ａよりスプレ
ーポンプ１１によつて吸い上げられた洗浄溶剤は
約２Kg／cm2（ゲージ圧）まで圧縮され、その後熱
交換器１２によつて約80℃まで加熱される。そし
てこの圧縮加熱された洗浄溶剤がノズル１３より
噴射されるものである。
ここで、洗浄溶剤に加える圧力と洗浄溶剤（フ
ロン溶剤）の沸点との関係を第３図に示す。この
第３図よりわかる様に、洗浄溶剤は大気圧下で
47.6℃で蒸発するが、２Kg／cm2加圧時では84℃で
蒸発する。従つてノズル１３内までには２Kg／
cm2、80℃の洗浄溶剤は高温液状のままであり、こ
の洗浄溶剤液を被洗浄物に向けて噴射させるので
ある。また、被洗浄物に掛らなかつた液は液自体
の保有している熱容量で蒸発する。常温と80℃と
のフロン溶剤の保有する熱エネルギは約10倍異な
る。この熱エネルギを利用して80℃の洗浄溶剤液
を被洗浄物に照射させることにより、被洗浄物表
面に付着している油等は従来540秒かかつていた
ものが約30秒で約70mg／個から１〜２mg／個の残
留油分になる。さらに、100μ程の微細な空隙に
ある油でも、80℃の洗浄溶剤液が浸透し、空隙内
で高温洗浄溶剤液が蒸発し、この洗浄溶剤蒸気の
動きにより洗浄溶剤液が複雑に挙動し微細空隙内
の油等も洗浄する。なお、被洗浄物の汚染程度に
よつては圧力、温度とも下げても良い洗浄品質が
得られる。ただし、大気圧沸点以上にする必要が
ある。
ロン溶剤）の沸点との関係を第３図に示す。この
第３図よりわかる様に、洗浄溶剤は大気圧下で
47.6℃で蒸発するが、２Kg／cm2加圧時では84℃で
蒸発する。従つてノズル１３内までには２Kg／
cm2、80℃の洗浄溶剤は高温液状のままであり、こ
の洗浄溶剤液を被洗浄物に向けて噴射させるので
ある。また、被洗浄物に掛らなかつた液は液自体
の保有している熱容量で蒸発する。常温と80℃と
のフロン溶剤の保有する熱エネルギは約10倍異な
る。この熱エネルギを利用して80℃の洗浄溶剤液
を被洗浄物に照射させることにより、被洗浄物表
面に付着している油等は従来540秒かかつていた
ものが約30秒で約70mg／個から１〜２mg／個の残
留油分になる。さらに、100μ程の微細な空隙に
ある油でも、80℃の洗浄溶剤液が浸透し、空隙内
で高温洗浄溶剤液が蒸発し、この洗浄溶剤蒸気の
動きにより洗浄溶剤液が複雑に挙動し微細空隙内
の油等も洗浄する。なお、被洗浄物の汚染程度に
よつては圧力、温度とも下げても良い洗浄品質が
得られる。ただし、大気圧沸点以上にする必要が
ある。
溶剤液噴射によつて洗浄された被洗浄物は、治
具付チエンコンベア１９に伴つて、第２冷却蛇管
２４の内方を通過して乾燥され、搬送開口部２１
ａまで運ばれる。
具付チエンコンベア１９に伴つて、第２冷却蛇管
２４の内方を通過して乾燥され、搬送開口部２１
ａまで運ばれる。
ノズル１３より噴射されて液化した洗浄溶剤は
溶剤タンク１０内に流れ込み、蒸気のままの洗浄
溶剤は第１、第２冷却蛇管１７，２４によつて冷
却液化され、溶剤タンク１０あるいは清浄溶剤タ
ンク１０ａ内に流入する。そして、溶剤タンク１
０内に流入する汚れた洗浄溶剤は蒸留器９に送ら
れ、蒸留器９によつて蒸留された後、清浄溶剤タ
ンク１０ａ内に送られる。この様な洗浄溶剤の流
れが繰り返される。
溶剤タンク１０内に流れ込み、蒸気のままの洗浄
溶剤は第１、第２冷却蛇管１７，２４によつて冷
却液化され、溶剤タンク１０あるいは清浄溶剤タ
ンク１０ａ内に流入する。そして、溶剤タンク１
０内に流入する汚れた洗浄溶剤は蒸留器９に送ら
れ、蒸留器９によつて蒸留された後、清浄溶剤タ
ンク１０ａ内に送られる。この様な洗浄溶剤の流
れが繰り返される。
本実施例の様な洗浄装置を用いれば、ノズル１
３より溶剤を噴射する空間が内枠２２によつてス
プレーブース１４として区画されているため、噴
射溶剤が洗浄装置８外に飛散することはほとんど
ない。従つて作業環境を良好に保ちつづけること
ができる。
３より溶剤を噴射する空間が内枠２２によつてス
プレーブース１４として区画されているため、噴
射溶剤が洗浄装置８外に飛散することはほとんど
ない。従つて作業環境を良好に保ちつづけること
ができる。
尚、上記実施例では洗浄溶剤としてフロン溶剤
を用いたが、トリクレン、トリクロールエタン等
の洗浄溶剤でも同様の効果を得ることができる。
を用いたが、トリクレン、トリクロールエタン等
の洗浄溶剤でも同様の効果を得ることができる。
さらに、熱交換器１２を用いて洗浄溶剤を温水
で間接加熱したが、電気ヒータで直接加熱しても
よい。
で間接加熱したが、電気ヒータで直接加熱しても
よい。
さらに、上記実施例では一槽式の設備で説明し
たが、多槽式の溶剤洗浄装置の一工程である一槽
内に、この機構を導入すればさらに良好な洗浄品
質が得られることはもちろんである。
たが、多槽式の溶剤洗浄装置の一工程である一槽
内に、この機構を導入すればさらに良好な洗浄品
質が得られることはもちろんである。
また、ノズル１３として直進性のあるものを利
用したが、被洗浄の大きさ等によりＶ型、フルコ
ーン型等のノズルを用いても良い。
用したが、被洗浄の大きさ等によりＶ型、フルコ
ーン型等のノズルを用いても良い。
以上説明した様に、本発明の洗浄方法を用いれ
ば従来より極めて短時間に高洗浄品質の洗浄を行
うことができる。また、本発明の洗浄装置を用い
れば本発明の洗浄方法を容易に達成することがで
きる。
ば従来より極めて短時間に高洗浄品質の洗浄を行
うことができる。また、本発明の洗浄装置を用い
れば本発明の洗浄方法を容易に達成することがで
きる。
第１図は従来の洗浄装置を示す断面図、第２図
は本発明の実施例を示す断面図、第３図はフロン
溶剤の圧力と沸点との関係を示す図である。 １１……スプレーポンプ（圧縮手段）、１２…
…熱交換器（加熱手段）、１３……ノズル（噴射
手段）。
は本発明の実施例を示す断面図、第３図はフロン
溶剤の圧力と沸点との関係を示す図である。 １１……スプレーポンプ（圧縮手段）、１２…
…熱交換器（加熱手段）、１３……ノズル（噴射
手段）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 洗浄溶剤液を圧縮する圧縮工程と、前記圧縮
工程により圧縮された洗浄溶剤液を大気圧沸点以
上に加熱する加熱工程と、前記圧縮工程及び加熱
工程で圧縮加熱された洗浄溶剤液を大気圧におい
て被洗浄物に噴射して洗浄する工程とを有する洗
浄方法。 ２ 洗浄溶剤液を保有する洗浄槽と、洗浄溶剤液
を圧縮する圧縮手段と、洗浄溶剤液を大気圧沸点
以上に加熱する加熱手段と、前記圧縮手段及び加
熱手段によつて圧縮加熱された洗浄溶剤液を大気
圧において被洗浄物に噴射する噴射手段とを備え
る洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12076083A JPS6012187A (ja) | 1983-07-02 | 1983-07-02 | 洗浄方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12076083A JPS6012187A (ja) | 1983-07-02 | 1983-07-02 | 洗浄方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6012187A JPS6012187A (ja) | 1985-01-22 |
| JPH0237232B2 true JPH0237232B2 (ja) | 1990-08-23 |
Family
ID=14794311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12076083A Granted JPS6012187A (ja) | 1983-07-02 | 1983-07-02 | 洗浄方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6012187A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744167B2 (ja) * | 1990-03-14 | 1995-05-15 | 株式会社ダン・クリーン・プロダクト | スプレー洗浄装置 |
| JP2596483B2 (ja) * | 1991-08-23 | 1997-04-02 | 坂東機工株式会社 | ガラス板の加工機械 |
| US5807166A (en) * | 1994-07-21 | 1998-09-15 | Bando Kiko Co., Ltd. | Glass-plate working machine |
| JP5423555B2 (ja) * | 2010-04-16 | 2014-02-19 | 株式会社デンソー | 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置 |
| US9406501B2 (en) * | 2012-05-31 | 2016-08-02 | Semes Co., Ltd. | Apparatus and method for cleaning substrate |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5218594U (ja) * | 1975-07-28 | 1977-02-09 | ||
| SE413477B (sv) * | 1978-09-06 | 1980-06-02 | Ekstrom & Co H A B | Expanderbar dorn for anvendning vid uppbyggnad av ror |
| JPS5826616Y2 (ja) * | 1981-07-07 | 1983-06-08 | 千年 内田 | ２個の小物用収納袋にも転用できる着脱自在の防寒用襟及保温器用入部を兼備せる掛蒲団カバ− |
-
1983
- 1983-07-02 JP JP12076083A patent/JPS6012187A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6012187A (ja) | 1985-01-22 |
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