JPH0237782A - 多層膜半導体光センサー - Google Patents

多層膜半導体光センサー

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Publication number
JPH0237782A
JPH0237782A JP63188703A JP18870388A JPH0237782A JP H0237782 A JPH0237782 A JP H0237782A JP 63188703 A JP63188703 A JP 63188703A JP 18870388 A JP18870388 A JP 18870388A JP H0237782 A JPH0237782 A JP H0237782A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
films
semiconductor thin
forbidden band
incident beam
spectrum
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Pending
Application number
JP63188703A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Noda
研二 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH0237782A publication Critical patent/JPH0237782A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は多層膜半導体光センサーに関し、特に分光機能
を有する光センサーに関する。
〔従来の技術〕
従来、多層膜半導体光センサーは、1種類の光キャリア
の発生層と絶縁層から形成され、光キヤリア発生層中で
発生した光キャリアを光キヤリア発生層表面に形成した
金属または透明導電膜によって取り出す構造となってい
た。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の多層膜半導体光センサーは、光キヤリア
発生層が1種類の半導体から形成されているため、光の
分光特性を知るためには、モノクロメータなどを併用す
る必要があり、装置が大がかりになり測定に時間がかか
るという欠点がある。
本発明は上述の問題点を解決するためにモノクロメータ
を使用しなくても容易に入射光のスペクトルが得られる
多層膜半導体光センサーを得ることを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の多層膜半導体センサーは透明導電膜を介して積
層された、禁制帯幅の異なる半導体薄膜からなる光キヤ
リア発生層を多数有しており、各透明導電膜間に電圧を
印加して、半導体薄膜中に流れる電流を測定できる構造
となっている。
〔実施例1〕 次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の実施例1の縦断面図である。
石英基板A上に約200nmのインジウム・スズ酸化物
膜B、−B、と禁制帯幅1.5〜3.Oe V 。
膜厚200nmの半導体薄膜01〜C8が交互に堆積さ
れている。半導体薄膜C,−C,は、アモルファス・シ
リコンカーバイドまたは、アモルファス・シリコン・ゲ
ルマニウム膜で膜の禁制帯幅がC1からC8で序々に小
さくなるように形成されている0石英基板A側から入射
された光は、CIからC8までの膜中でその膜の禁制帯
幅よりもエネルギーの大きい光のみ吸収され、それぞれ
の膜中で光キャリアを発生する。B+〜B9のうち、い
ずれかのBkとBk+1 (1≦に≦8)の間に一定の
電圧を印加するとCk中で発生した光キャリアの量に対
応した電流が流れる。従って、kを1から8まで変化さ
せることによって、入射した光のスペクトルに対応した
電流変化が検出される。
〔実施例2〕 第2図は本発明の実施例2の縦断面図で、半導体薄膜C
k(1≦に≦8)がP形の半導体薄膜DkとN形の半導
体膜Ekで構成された例である0wA厚200nmのイ
ンジウム・スズ酸化物Bk (1≦に≦8)と禁制帯幅
1.5〜3.Oe V、膜厚200nmのP形半導体薄
膜DkとN形半導体薄膜Ekが石英基板Aの上にBt 
Ds EI B2B2 E2・・・B8Da E8 B
9の順に堆積されている。半導体薄膜DmおよびBkは
、アモルファス・シリコン・カーバイドまたは、アモル
ファス・シリコン・ゲルマニウム膜で膜の禁制帯幅がD
lからD8、ElからE8まで序々に小さくなっている
。またDmとEkの禁制帯幅は、常に等しく作られてい
る0石英基板A側から入射された光は、DlからD8、
ElからE8の半導体薄膜中で吸収され光キャリアを発
生する。このときDkとEkの界面の空乏層で発生した
キャリアによって、B+−とBSl+1の電極間に光キ
ャリアの量に対応した電圧が生じる。従って、kを1か
ら8まで変化させることによって、入射した光のスペク
トルに対応した電圧変化が検出される。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、多層の半導体薄膜を透明
導電膜を介して積層し、それぞれの電極間に流れる電流
を検出することによって、光センサー単独で容易に入射
された光のスペクトルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1の多層膜半導体光センサーの
縦断面図である。第2図は本発明の実施例2の多層膜半
導体光センサーの縦断面図である。 A・・・石英基板、B1〜Bfl+□・・・インジウム
・スズ酸化物膜、C1〜Cn・・・半導体薄膜、D1〜
D0・・・P形半導体薄膜、El−Efl・・・N形半
導体A眉英墓悴 シ〜Bq 二’f −、:;“”7 へ  、K 人’
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Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体薄膜と透明電極とを交互に複数積層した積
    層構造を有し、かつ前記各半導体薄膜の禁制帯幅が互い
    に異っていることを特徴とする多層膜半導体光センサー
  2. (2)請求項1記載の多層膜半導体光センサーにおいて
    、半導体薄膜にPN接合が形成されるいることを特徴と
    する多層膜半導体光センサー。
JP63188703A 1988-07-27 1988-07-27 多層膜半導体光センサー Pending JPH0237782A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5348440A (en) * 1991-05-01 1994-09-20 Focke & Co. (Gmbh & Co.) Apparatus for loading cartons onto pallets

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5348440A (en) * 1991-05-01 1994-09-20 Focke & Co. (Gmbh & Co.) Apparatus for loading cartons onto pallets

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