JPH0237782A - 多層膜半導体光センサー - Google Patents
多層膜半導体光センサーInfo
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- JPH0237782A JPH0237782A JP63188703A JP18870388A JPH0237782A JP H0237782 A JPH0237782 A JP H0237782A JP 63188703 A JP63188703 A JP 63188703A JP 18870388 A JP18870388 A JP 18870388A JP H0237782 A JPH0237782 A JP H0237782A
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- semiconductor thin
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 20
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は多層膜半導体光センサーに関し、特に分光機能
を有する光センサーに関する。
を有する光センサーに関する。
従来、多層膜半導体光センサーは、1種類の光キャリア
の発生層と絶縁層から形成され、光キヤリア発生層中で
発生した光キャリアを光キヤリア発生層表面に形成した
金属または透明導電膜によって取り出す構造となってい
た。
の発生層と絶縁層から形成され、光キヤリア発生層中で
発生した光キャリアを光キヤリア発生層表面に形成した
金属または透明導電膜によって取り出す構造となってい
た。
上述した従来の多層膜半導体光センサーは、光キヤリア
発生層が1種類の半導体から形成されているため、光の
分光特性を知るためには、モノクロメータなどを併用す
る必要があり、装置が大がかりになり測定に時間がかか
るという欠点がある。
発生層が1種類の半導体から形成されているため、光の
分光特性を知るためには、モノクロメータなどを併用す
る必要があり、装置が大がかりになり測定に時間がかか
るという欠点がある。
本発明は上述の問題点を解決するためにモノクロメータ
を使用しなくても容易に入射光のスペクトルが得られる
多層膜半導体光センサーを得ることを目的としている。
を使用しなくても容易に入射光のスペクトルが得られる
多層膜半導体光センサーを得ることを目的としている。
本発明の多層膜半導体センサーは透明導電膜を介して積
層された、禁制帯幅の異なる半導体薄膜からなる光キヤ
リア発生層を多数有しており、各透明導電膜間に電圧を
印加して、半導体薄膜中に流れる電流を測定できる構造
となっている。
層された、禁制帯幅の異なる半導体薄膜からなる光キヤ
リア発生層を多数有しており、各透明導電膜間に電圧を
印加して、半導体薄膜中に流れる電流を測定できる構造
となっている。
〔実施例1〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の実施例1の縦断面図である。
石英基板A上に約200nmのインジウム・スズ酸化物
膜B、−B、と禁制帯幅1.5〜3.Oe V 。
膜B、−B、と禁制帯幅1.5〜3.Oe V 。
膜厚200nmの半導体薄膜01〜C8が交互に堆積さ
れている。半導体薄膜C,−C,は、アモルファス・シ
リコンカーバイドまたは、アモルファス・シリコン・ゲ
ルマニウム膜で膜の禁制帯幅がC1からC8で序々に小
さくなるように形成されている0石英基板A側から入射
された光は、CIからC8までの膜中でその膜の禁制帯
幅よりもエネルギーの大きい光のみ吸収され、それぞれ
の膜中で光キャリアを発生する。B+〜B9のうち、い
ずれかのBkとBk+1 (1≦に≦8)の間に一定の
電圧を印加するとCk中で発生した光キャリアの量に対
応した電流が流れる。従って、kを1から8まで変化さ
せることによって、入射した光のスペクトルに対応した
電流変化が検出される。
れている。半導体薄膜C,−C,は、アモルファス・シ
リコンカーバイドまたは、アモルファス・シリコン・ゲ
ルマニウム膜で膜の禁制帯幅がC1からC8で序々に小
さくなるように形成されている0石英基板A側から入射
された光は、CIからC8までの膜中でその膜の禁制帯
幅よりもエネルギーの大きい光のみ吸収され、それぞれ
の膜中で光キャリアを発生する。B+〜B9のうち、い
ずれかのBkとBk+1 (1≦に≦8)の間に一定の
電圧を印加するとCk中で発生した光キャリアの量に対
応した電流が流れる。従って、kを1から8まで変化さ
せることによって、入射した光のスペクトルに対応した
電流変化が検出される。
〔実施例2〕
第2図は本発明の実施例2の縦断面図で、半導体薄膜C
k(1≦に≦8)がP形の半導体薄膜DkとN形の半導
体膜Ekで構成された例である0wA厚200nmのイ
ンジウム・スズ酸化物Bk (1≦に≦8)と禁制帯幅
1.5〜3.Oe V、膜厚200nmのP形半導体薄
膜DkとN形半導体薄膜Ekが石英基板Aの上にBt
Ds EI B2B2 E2・・・B8Da E8 B
9の順に堆積されている。半導体薄膜DmおよびBkは
、アモルファス・シリコン・カーバイドまたは、アモル
ファス・シリコン・ゲルマニウム膜で膜の禁制帯幅がD
lからD8、ElからE8まで序々に小さくなっている
。またDmとEkの禁制帯幅は、常に等しく作られてい
る0石英基板A側から入射された光は、DlからD8、
ElからE8の半導体薄膜中で吸収され光キャリアを発
生する。このときDkとEkの界面の空乏層で発生した
キャリアによって、B+−とBSl+1の電極間に光キ
ャリアの量に対応した電圧が生じる。従って、kを1か
ら8まで変化させることによって、入射した光のスペク
トルに対応した電圧変化が検出される。
k(1≦に≦8)がP形の半導体薄膜DkとN形の半導
体膜Ekで構成された例である0wA厚200nmのイ
ンジウム・スズ酸化物Bk (1≦に≦8)と禁制帯幅
1.5〜3.Oe V、膜厚200nmのP形半導体薄
膜DkとN形半導体薄膜Ekが石英基板Aの上にBt
Ds EI B2B2 E2・・・B8Da E8 B
9の順に堆積されている。半導体薄膜DmおよびBkは
、アモルファス・シリコン・カーバイドまたは、アモル
ファス・シリコン・ゲルマニウム膜で膜の禁制帯幅がD
lからD8、ElからE8まで序々に小さくなっている
。またDmとEkの禁制帯幅は、常に等しく作られてい
る0石英基板A側から入射された光は、DlからD8、
ElからE8の半導体薄膜中で吸収され光キャリアを発
生する。このときDkとEkの界面の空乏層で発生した
キャリアによって、B+−とBSl+1の電極間に光キ
ャリアの量に対応した電圧が生じる。従って、kを1か
ら8まで変化させることによって、入射した光のスペク
トルに対応した電圧変化が検出される。
以上説明したように本発明は、多層の半導体薄膜を透明
導電膜を介して積層し、それぞれの電極間に流れる電流
を検出することによって、光センサー単独で容易に入射
された光のスペクトルを得ることができる。
導電膜を介して積層し、それぞれの電極間に流れる電流
を検出することによって、光センサー単独で容易に入射
された光のスペクトルを得ることができる。
第1図は本発明の実施例1の多層膜半導体光センサーの
縦断面図である。第2図は本発明の実施例2の多層膜半
導体光センサーの縦断面図である。 A・・・石英基板、B1〜Bfl+□・・・インジウム
・スズ酸化物膜、C1〜Cn・・・半導体薄膜、D1〜
D0・・・P形半導体薄膜、El−Efl・・・N形半
導体A眉英墓悴 シ〜Bq 二’f −、:;“”7 へ 、K 人’
H’?e’l71HCt〜Cδ ↑)1本41葵 り(因
縦断面図である。第2図は本発明の実施例2の多層膜半
導体光センサーの縦断面図である。 A・・・石英基板、B1〜Bfl+□・・・インジウム
・スズ酸化物膜、C1〜Cn・・・半導体薄膜、D1〜
D0・・・P形半導体薄膜、El−Efl・・・N形半
導体A眉英墓悴 シ〜Bq 二’f −、:;“”7 へ 、K 人’
H’?e’l71HCt〜Cδ ↑)1本41葵 り(因
Claims (2)
- (1)半導体薄膜と透明電極とを交互に複数積層した積
層構造を有し、かつ前記各半導体薄膜の禁制帯幅が互い
に異っていることを特徴とする多層膜半導体光センサー
。 - (2)請求項1記載の多層膜半導体光センサーにおいて
、半導体薄膜にPN接合が形成されるいることを特徴と
する多層膜半導体光センサー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63188703A JPH0237782A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 多層膜半導体光センサー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63188703A JPH0237782A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 多層膜半導体光センサー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0237782A true JPH0237782A (ja) | 1990-02-07 |
Family
ID=16228334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63188703A Pending JPH0237782A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 多層膜半導体光センサー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0237782A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5348440A (en) * | 1991-05-01 | 1994-09-20 | Focke & Co. (Gmbh & Co.) | Apparatus for loading cartons onto pallets |
-
1988
- 1988-07-27 JP JP63188703A patent/JPH0237782A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5348440A (en) * | 1991-05-01 | 1994-09-20 | Focke & Co. (Gmbh & Co.) | Apparatus for loading cartons onto pallets |
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