JPH023781B2 - - Google Patents
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- JPH023781B2 JPH023781B2 JP56029136A JP2913681A JPH023781B2 JP H023781 B2 JPH023781 B2 JP H023781B2 JP 56029136 A JP56029136 A JP 56029136A JP 2913681 A JP2913681 A JP 2913681A JP H023781 B2 JPH023781 B2 JP H023781B2
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
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Description
この発明は新規な４−置換−２−オキソアゼチ
ジン化合物およびその塩に関する。さらに詳細に
は、チエナマイシン基本骨格を有する抗性物質の
有用な製造中間体である新規な４−置換−２−オ
キソアゼチジン化合物およびその塩に関する。 すなわち、この発明の目的の１つは、多くの病
原性微生物に対して強い抗菌活性を有するチエナ
マイシン基本骨格を有する抗性物質の有用な製造
中間体である、新規な４−置換−２−オキソアゼ
チジン化合物およびその塩を提供することにあ
る。 この発明の他の目的は４−置換−２−オキソア
ゼチジン化合物またはその塩の製造法を提供する
ことにある。 目的化合物である４−置換−２−オキソアゼチ
ジン化合物は、下記一般式（）で表わされる。 〔式中、R1はハロゲン、イソシアノ基または
保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、R2
は水素、カルボキシ（低級）アルキル基または保
護されたカルボキシ（低級）アルキル基、R3は
カルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそ
れぞれ意味する〕 後に述べる方法Ａ〜Ｈの目的化合物ならびに出
発化合物において、それらの分子中の不斉炭素原
子および二重結合に由来する光学異性体および／
あるいは幾何異性体のような、一以上の立体異性
体対が存在することがあり、これらの異性体もこ
の発明の範囲に含まれるものである。 目的化合物（）の適当な塩は通常の塩基性塩
または酸性塩であり、たとえばアルカリ金属塩
（たとえばナトリウム塩、カリウム塩など）、アル
カリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩、マグネ
シウム塩など）のような金属塩およびアンモニウ
ム塩などのような無機塩基性塩、たとえば有機ア
ミン塩（たとえばトリメチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、N.N−ジベンジルエチレン
ジアミン塩、Ｎ−メチルグルコサミン塩、ジエタ
ノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、トリ
ス（ヒドロキシメチルアミノ）メタン塩など）、
有機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加
塩（たとえば酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石
酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、トルエンスルホン酸塩など）などのような有
機塩基性塩、無機酸付加塩（たとえば塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩など）、塩基性アミ
ノ酸塩または酸性アミノ酸塩（たとえばアルギニ
ン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩など）
などが含まれる。 この発明によつて、目的化合物（）およびそ
の塩は以下の反応式で示される方法で製造され
る。 (A) 方法Ａ： (B) 方法Ｂ： (C) 方法Ｃ： (D) 方法Ｄ： (E) 方法Ｅ： (F) 方法Ｆ： (G) 方法Ｇ： (H) 方法Ｈ： 〔上記式中、R2およびR3はそれぞれ前と同じ
意味であり、R1 aは水素、ハロゲン、アミノ基、
保護されたアミノ基、イソシアノ基または保護さ
れたヒドロキシ（低級）アルキル基、R1 bは保護
されたアミノ基、R1 cおよびRaはそれぞれハロゲ
ン、R1 dは保護されたヒドロキシ（低級）アルキ
ル基、R5はアリール、低級アルキル基または低
級アルコキシ基、Rbはカルボキシ基または保護
されたカルボキシ基、Rcは低級アルキル基、Ｚ
は式−Si（R4）3または−Sn（R4）3（式中、R4は低級
アルキル、アリール、低級アルコキシまたはハロ
ゲンを意味する）をそれぞれ意味する〕 方法Ａの出発化合物（）および（）には新
規化合物もいくつかあり、これらはたとえば既知
化合物から以下の反応式による方法または公知の
方法によつて製造することができる。 (A) 製造法Ａ： (B) 製造法Ｂ： (C) 製造法Ｃ： (D) 製造法Ｄ： (E) 製造法Ｅ： 〔上記式中、R1 a、R1 d、R3、RaおよびＺは前と
同じ意味であり、R1 eはヒドロキシ（低級）アル
キル基、R2 aはカルボキシ（低級）アルキル基、
R2 bは保護されたカルボキシ（低級）アルキル基、
Rdは低級アルキル基をそれぞれ意味する〕 この明細書の上記記載ならびに以下の記載中、
その範囲に含まれる種々な定義の適切な具体例を
以下に詳述する。 この明細書中、とくに指示がなければ、“低級”
という語は炭素原子数１〜６の基を意味し、“高
級”という語は炭素原子数７〜20の基を意味す
る。 適当な“ハロゲン”としては、塩素、臭素およ
びよう素が挙げられる。 “保護されたアミノ基”の好ましい例として
は、セフアロスポリン化合物およびペニシリン化
合物の７位または６位のアミノ基の保護基として
通常使用される適当な保護基で保護されたアミノ
基が含まれ、このような基としてはアシルアミ
ノ、モノーまたはジーまたはトリフエニル（低
級）アルキルアミノ〔たとえばベンジルアミノ、
ベンズヒドリルアミノ、トリメチルアミノなど〕、
式
ジン化合物およびその塩に関する。さらに詳細に
は、チエナマイシン基本骨格を有する抗性物質の
有用な製造中間体である新規な４−置換−２−オ
キソアゼチジン化合物およびその塩に関する。 すなわち、この発明の目的の１つは、多くの病
原性微生物に対して強い抗菌活性を有するチエナ
マイシン基本骨格を有する抗性物質の有用な製造
中間体である、新規な４−置換−２−オキソアゼ
チジン化合物およびその塩を提供することにあ
る。 この発明の他の目的は４−置換−２−オキソア
ゼチジン化合物またはその塩の製造法を提供する
ことにある。 目的化合物である４−置換−２−オキソアゼチ
ジン化合物は、下記一般式（）で表わされる。 〔式中、R1はハロゲン、イソシアノ基または
保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、R2
は水素、カルボキシ（低級）アルキル基または保
護されたカルボキシ（低級）アルキル基、R3は
カルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそ
れぞれ意味する〕 後に述べる方法Ａ〜Ｈの目的化合物ならびに出
発化合物において、それらの分子中の不斉炭素原
子および二重結合に由来する光学異性体および／
あるいは幾何異性体のような、一以上の立体異性
体対が存在することがあり、これらの異性体もこ
の発明の範囲に含まれるものである。 目的化合物（）の適当な塩は通常の塩基性塩
または酸性塩であり、たとえばアルカリ金属塩
（たとえばナトリウム塩、カリウム塩など）、アル
カリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩、マグネ
シウム塩など）のような金属塩およびアンモニウ
ム塩などのような無機塩基性塩、たとえば有機ア
ミン塩（たとえばトリメチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、N.N−ジベンジルエチレン
ジアミン塩、Ｎ−メチルグルコサミン塩、ジエタ
ノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、トリ
ス（ヒドロキシメチルアミノ）メタン塩など）、
有機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加
塩（たとえば酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石
酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、トルエンスルホン酸塩など）などのような有
機塩基性塩、無機酸付加塩（たとえば塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩など）、塩基性アミ
ノ酸塩または酸性アミノ酸塩（たとえばアルギニ
ン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩など）
などが含まれる。 この発明によつて、目的化合物（）およびそ
の塩は以下の反応式で示される方法で製造され
る。 (A) 方法Ａ： (B) 方法Ｂ： (C) 方法Ｃ： (D) 方法Ｄ： (E) 方法Ｅ： (F) 方法Ｆ： (G) 方法Ｇ： (H) 方法Ｈ： 〔上記式中、R2およびR3はそれぞれ前と同じ
意味であり、R1 aは水素、ハロゲン、アミノ基、
保護されたアミノ基、イソシアノ基または保護さ
れたヒドロキシ（低級）アルキル基、R1 bは保護
されたアミノ基、R1 cおよびRaはそれぞれハロゲ
ン、R1 dは保護されたヒドロキシ（低級）アルキ
ル基、R5はアリール、低級アルキル基または低
級アルコキシ基、Rbはカルボキシ基または保護
されたカルボキシ基、Rcは低級アルキル基、Ｚ
は式−Si（R4）3または−Sn（R4）3（式中、R4は低級
アルキル、アリール、低級アルコキシまたはハロ
ゲンを意味する）をそれぞれ意味する〕 方法Ａの出発化合物（）および（）には新
規化合物もいくつかあり、これらはたとえば既知
化合物から以下の反応式による方法または公知の
方法によつて製造することができる。 (A) 製造法Ａ： (B) 製造法Ｂ： (C) 製造法Ｃ： (D) 製造法Ｄ： (E) 製造法Ｅ： 〔上記式中、R1 a、R1 d、R3、RaおよびＺは前と
同じ意味であり、R1 eはヒドロキシ（低級）アル
キル基、R2 aはカルボキシ（低級）アルキル基、
R2 bは保護されたカルボキシ（低級）アルキル基、
Rdは低級アルキル基をそれぞれ意味する〕 この明細書の上記記載ならびに以下の記載中、
その範囲に含まれる種々な定義の適切な具体例を
以下に詳述する。 この明細書中、とくに指示がなければ、“低級”
という語は炭素原子数１〜６の基を意味し、“高
級”という語は炭素原子数７〜20の基を意味す
る。 適当な“ハロゲン”としては、塩素、臭素およ
びよう素が挙げられる。 “保護されたアミノ基”の好ましい例として
は、セフアロスポリン化合物およびペニシリン化
合物の７位または６位のアミノ基の保護基として
通常使用される適当な保護基で保護されたアミノ
基が含まれ、このような基としてはアシルアミ
ノ、モノーまたはジーまたはトリフエニル（低
級）アルキルアミノ〔たとえばベンジルアミノ、
ベンズヒドリルアミノ、トリメチルアミノなど〕、
式
【式】で示される基などが挙げら
れる。
“アシルアミノ”中の適当な“アシル部分”と
しては、脂肪族アシル基ならびに芳香族環を含む
アシル基（以下芳香族アシルと呼ぶ）または複素
環を含むアシル基（以下複素環アシルと呼ぶ）が
含まれる。 アシル基の適当な例としては次のとおりであ
る。 脂肪族アシルとしては、低級または高級アルカ
ノイル（たとえばホルミル、アセチル、サクシニ
ル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、ステアロイル
など）、低級または高級アルケノイル（たとえば
アクリロイル、マレオイルなど）、低級または高
級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ｔ−ペンチルオキシカルボニル、ヘプチ
ルオキシカルボニルなど）、低級または高級アル
カンスルホニル（たとえばメタンスルホニル、エ
タンスルホニルなど）などが挙げられ、芳香族ア
シルとしては、アロイル（たとえばベンゾイル、
トルオイル、ナフトイル、フタロイルなど）、フ
エニル（低級）アルカノイルのようなアル（低
級）アルカノイル（たとえばフエニルアセチル、
フエニルプロピオニルなど）、アリールオキシカ
ルボニル（たとえばフエノキシカルボニル、ナフ
チルオキシカルボニルなど）、フエノキシ（低級）
アルカノイルのようなアリールオキシ（低級）ア
ルカノイル（たとえばフエノキシアセチル、フエ
ノキシプロピオニルなど）、アリールグリオキシ
ロイル（たとえばフエニルグリオキシロイル、ナ
フチルグリオキシロイルなど）、アレーンスルホ
ニル（たとえばベンゼンスルホニル、ｐ−トルエ
ンスルホニルなど）などが挙げられ、また複素環
アシルとして、複素環カルボニル（たとえばテノ
イル、フロイル、ニコチノイルなど）、複素環
（低級）アルカノイル、（たとえばチエニルアセチ
ル、チアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチル
など）、複素環グリオキシロイル（たとえばチア
ゾリルグリオキシロイル、チエニルグリオキシロ
イルなど）などが挙げられるが、前記のような
“複素環カルボニル”、“複素環（低級）アルカノ
イル”および“複素環グリオキシロイル”中の適
当な複素環部分は、さらに詳しくは、酸素原子、
硫黄原子、窒素原子などのような複素原子を少な
くとも１つ含む飽和または不飽和の複素単環基ま
たは複素多環基を意味する。また特に好ましい複
素環基としては、窒素原子１〜４を含む３〜８員
環〔さらに好ましくは５または６員環〕の不飽和
複素単環基、たとえばピロリル、ピロリニル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、ピリジンとそのＮ−オ
キサイド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ピ
ラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（たとえ
だ4H−１，２，４−トリアゾリル、1H−１，
２，３−トリアゾリル、2H−１，２，３−トリ
アゾリルなど）、テトラゾリル（たとえば1H−テ
トラゾリル、2H−テトラゾリルなど）など、窒
素原子１〜４を含む３〜８員環（さらに好ましく
は５または６員環）の飽和複素単環基、たとえば
ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、
ピペラジニルなど、窒素原子１〜４を含む不飽和
縮合複素環基、たとえばインドリル、イソインド
リル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キ
ノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾト
リアゾリルなど、酸素原子１〜２および窒素原子
１〜３を含む３〜８員環（さらに好ましくは５ま
たは６員環）の不飽和複素単環基、たとえばオキ
サゾリル、イソキサゾリル、オキサジアゾリル
（たとえば１，２，４−オキサジアゾリル、１，
３，４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサ
ジアゾリルなど）など、酸素原子１〜２および窒
素原子１〜３を含む３〜８員環（さらに好ましく
は５または６員環）の飽和複素単環基、たとえば
モルホリニル、シドノニルなど、酸素原子１〜２
および窒素原子１〜３を含む不飽和縮合複素環
基、たとえばベンズオキサゾリル、ベンズオキサ
ジアゾリルなど、硫黄原子１〜２および窒素原子
１〜３を含む３〜８員環（さらに好ましくは５ま
たは６員環）の不飽和複素単環基、たとえばチア
ゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル（たと
えば１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−
チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、
１，２，５−チアジアゾリルなど）、ジヒドロチ
アジニルなど、硫黄原子１〜２および窒素原子１
〜３を含む３〜８員環（さらに好ましくは５また
は６員環）の飽和複素単環基、たとえばチアゾリ
ジニルなど、硫黄原子１〜２を含む３〜８員環
（さらに好ましくは５または６員環）の不飽和複
素単環基、たとえばチエニル、ジヒドロジチイニ
ルなど、硫黄原子１〜２および窒素原子１〜３を
含む不飽和縮合複素環基、たとえばベンゾチアゾ
リル、ベンゾチアジアゾリルなど、酸素原子１原
子を含む３〜８員環（さらに好ましくは５または
６員環）の不飽和複素単環基、たとえばフリルな
ど、酸素原子１および硫黄原子１〜２を含む３〜
８員環（さらに好ましくは５または６員環）の不
飽和複素単環基、たとえばジヒドロオキサチイニ
ルなど、硫黄原子１〜２を含む不飽和縮合複素環
基、たとえばベンゾチエニル、ベンゾジチイニル
など、酸素原子１および硫黄原子１〜２を含む不
飽和縮合複素環基、たとえばベンゾキサチイニル
などが挙げられる。 上記のように定義されたアシル部分は、１〜10
の、同じまたは異なる、適当な置換基、たとえば
低級アルキル（たとえばメチル、エチルなど）、
低級アルコキシ（たとえばメトキシ、エトキシ、
プロポキシなど）、低級アルキルチオ（たとえば
メチルチオ、エチルチオなど）、低級アルキルア
ミノ（たとえばメチルアミノなど）、シクロ（低
級）アルキル（たとえばシクロペンチル、シクロ
ヘキシルなど）、シクロ（低級）アルケニル（た
とえばシクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル
など）、ヒドロキシ、ハロゲン（たとえばクロロ、
ブロモなど）、アミノ、前に述べたような保護さ
れたアミノ、シアノ、ニトロ、カルボキシ、後に
述べるような保護されたカルボキシ、スルホ、ス
ルフアモイル、イミノ、アミノ（低級）アルキル
（たとえばアミノメチル、アミノエチルなど）で
置換されていてもよい。 上記のように定義された“アシルアミノ”の好
ましい具体例として、フタルイミドのようなアロ
イルアミノが挙げられる。 保護されたヒドロキシ（低級）アルキルの適当
な例としては、通常の保護されたヒドロキシ基に
よつて置換された低級アルキルを意味し、アシル
部分が上記定義と同じであり、低級アルキル部分
がメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネオ
ペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシルなどであるア
シルオキシ（低級）アルキルが挙げられ、このよ
うに定義された“保護されたヒドロキシ（低級）
アルキル”の好ましい具体例としては、置換され
たあるいは置換されないアリール（低級）アルコ
キシカルボニルオキシ（低級）アルキル、たとえ
ばニトロによつて置換されていてもよい、モノー
またはジーまたはトリフエニル（低級）アルコキ
シカルボニルオキシ（低級）アルキル（たとえば
ベンジルオキシカルボニルオキシメチル、ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルオキシメチル、１−ま
たは２−ベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル、１−または２−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルオキシエチル、ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシメチル、１−または２−ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル、１−
または２−または３−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシプロピルなど）が挙げられる。 “ヒドロキシ（低級）アルキル”の適当な例と
しては、１−ヒドロキシメチル、１−または２−
ヒドロキシエチル、１−または２−または３−ヒ
ドロキシプロピルなどが挙げられる。 “保護されたカルボキシ基”の適当な例として
は、セフアロスポリン化合物またはペニシリン化
合物の４位または３位におけるカルボキシ基保護
基として通常使用される適当な保護基で置換され
たカルボキシ基、たとえばエステル化されたカル
ボキシ基が挙げられ、そのエステル部分の適当な
例としては、たとえば低級アルキルエステル（た
とえばメチルエステル、エチルエステル、プロピ
ルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、ｔ−ペンチルエステル、
ヘキシルエステルなど）、低級シクロアルキル
（低級）アルキルエステル（たとえば１−シクロ
プロピルエチルエステルなど）、低級アルケニル
エステル（たとえばビニルエステル、アリルエス
テルなど）、低級アルキニルエステル（たとえば
エチニルエステル、プロピニルエステルなど）、
低級アルコキシアルキルエステル（たとえばメト
キシメチルエステル、エトキシメチルエステル、
イソプロポキシメチルエステル、１−メトキシエ
チルエステル、１−エトキシエチルエステルな
ど）、低級アルキルチオアルキルエステル（たと
えばメチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプ
ロピルチオメチチルエステルなど）、モノーまた
はジーまたはトリハロ（低級）アルキルエステル
（たとえば２−ヨードエチルエステル、２，２，
２−トリクロロエチルエステルなど）、低級アル
カノイルオキシ（低級）アルキルエステル（たと
えばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメ
チルエステル、２−アセトキシエチルエステル、
２−プロピオニルオキシエチルエステルなど）、
低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエステ
ル（たとえばメシルメチルエステル、２−メシル
エチルエステルなど）、アル（低級）アルキルエ
ステル、たとえば、一以上の適当な置換基、たと
えばニトロ、ヒドロキシ、低級アルコキシなどで
置換されていてもよいフエニル（低級）アルキル
エステル〔たとえばベンジルエステル、４−メト
キシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエス
テル、フエネチルエステル、トルチルエステル、
ジフエニルメチルエステル、ビス（メトキシフエ
ニル）メチルエステル、３，４−ジメトキシベン
ジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ
−ブチルベンジルエステルなど〕、ハロゲン、低
級アルコキシなどによつて置換されていてもよい
置換されたまたは置換されないフエニルエステル
のような適当な置換基一以上によつて置換されて
いてもよいアリールエステル（たとえばフエニル
エステル、トリルエステル、ｔ−ブチルフエニル
エステル、キシリルエステル、メシチルエステ
ル、クメニルエステル、４−クロロフエニルエス
テル、４−メトキシフエニルエステルなど）、ト
リ（低級）アルキルシリルエステル（たとえばト
リメチルシリルエステルなど）、低級アルキルチ
オエステル（たとえばメチルチオエステル、エチ
ルチオエステルなど）などが挙げられ、“エステ
ル化されたカルボキシ基”の好ましい例として
は、低級アルコキシカルボニル（たとえばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
ｔ−ペンチルオキシカルボニルなど）およびニト
ロによつて置換されていてもよいモノーまたはジ
ーまたはトリフエニル（低級）アルコキシカルボ
ニル（たとえばベンジルオキシカルボニル、ベン
ズヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカ
ルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル
など）が挙げられる。 “カルボキシ（低級）アルキル”としては、た
とえばカルボキシメチル、１−または２−カルボ
キシエチル、１−または２−カルボキシプロピル
などが挙げられ、“保護されたカルボキシ（低級）
アルキル”としては、たとえば低級アルコキシカ
ルボニル（低級）アルキル（たとえばメトキシカ
ルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プ
ロポキシカルボニルメチル、１−または２−メト
キシカルボニルエチル、１−または２−エトキシ
カルボニルエチルなど）およびニトロで置換され
ていてもよいモノーまたはジーまたはトリフエニ
ル（低級）アルコキシカルボニル（低級）アルキ
ル（たとえばベンジルオキシカルボニルメチル、
ベンジルオキシカルボニルエチル、ベンジルオキ
シカルボニルプロピル、ベンズヒドリルオキシカ
ルボニルメチル、トリチルオキシカルボニルメチ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルメチ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルエチ
ル、ｐ，p′−ジニトロベンズヒドリルオキシカル
ボニルプロピルなど）が挙げられる。 適当な“低級アルキル”の適当な例としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネオペ
ンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシルなどが挙げら
れ、C1〜C3アルキルがとくに好ましい。 “低級アルコキシ”の適当な例としてはメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、ヘキシルオキシなどが挙げられ、C1〜
C3アルコキシがとくに好ましい。 “アリール”の適当な例としてはフエニル、ト
リル、キシリル、メシチル、クメニル、ナフチル
などが挙げられる。 化合物（）′、（−２）、（）、（−１）〜
（−３）、（−４）および（−３）の適当な
塩は、化合物（）について例示したものと同じ
である。 化合物（−１）、（−３）〜（−10）、（
−4a）、（−４）、（−５）、（）、（−１）
、
（−１）〜（−３）、（−１）、（−３）〜
（−６）、（）、（−１）〜（−３）、（−
５）〜（−７）、（−２）、（−１）および
（−２）の適当な塩は、化合物（）について
例示した塩基性塩類と同じものである。 化合物（−１）、（−２）、（−１）および
（）のホルミル基における適当なアセタールと
しては、ジ（低級）アルコキシメチルのようなジ
（低級）アルキルアセタール（たとえばジメトキ
シメチル、ジエトキシメチル、ジプロポキシメチ
ルなど）などが挙げられる。 化合物（−１）のホルミル基における適当な
ヘミーアセタールとしては、１−ヒドロキシ−１
−（低級）アルコキシメチルのような低級アルキ
ルヘミサアセタール（たとえば１−ヒドロキシ−
１−メトキシメチル、１−ヒドロキシ−１−エト
キシメチル、１−ヒドロキシ−１−プロポキシメ
チルなど）などが挙げられる。 この発明の目的化合物の製造法を以下に詳しく
説明する。 方法Ａ：（）→（）′ 目的化合物（）′は、化合物（）と化合物
（）を反応させることによつて製造することが
できる。 この反応は、好ましくは銀化合物（たとえばふ
つ化ほう素酸銀、過塩素酸銀など）ルイス酸（た
とえば四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化水銀、三ふ
つ化ほう素エーテラートなど）などのような脱ハ
ロゲン化剤の存在下に行なわれる。 さらにこの反応は通常、反応に悪影響を及ぼさ
ない慣用の溶媒、たとえばクロロホルム、ジクロ
ロメタン、テトラヒドロフラン、ベンゼンなど、
またはそれらの混合物中で行なわれる。 反応温度はとくに限定されず、反応は好ましく
は冷却下ないし加温下で行なわれる。 この反応は立体特異的に進行し、目的化合物
（）′の３位と４位との立体配置は常にトランス
型を構成する。従つてたとえば天然のチエナマイ
シンと同じ立体配置を有する化合物（）′は、
出発化合物（）を選択することによつて製造す
ることができる。 方法Ｂ−１：（−１）→（−２） 方法Ｅ−４：（−３）→（−４） 方法Ｆ−４：（−２）→（−３） 目的化合物（−２）、（−４）および（−
３）は、それぞれ対応する化合物（−１）、（
−３）および（−２）からR1 b中のアミノ保護
基を除去することによつて製造することができ
る。 この除去反応に適用される適当な方法は、加水
分解、還元、加水分解を伴なうイミノハロゲン化
とイミノエーテル化とを組合わせた方法などであ
る。 上記方法に使用される適当な試薬を以下に例示
する。 (i) たとえばアシドリシス、アルコーリシス、ア
ミノリシス、ヒドラジン分解などを含めた加溶
媒分解を意味する加水分解の場合 加水分解は好ましくは酸または塩基の存在下に
行なわれる。 適当な酸としては、無機酸（たとえば塩酸、臭
化水素酸、硫酸など）、有機酸（たとえばぎ酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフ
アースルホン酸など）、酸性イオン交換樹脂など
が挙げられる。 適当な塩基としては、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属の水酸化物、炭酸塩または炭酸水素
塩（たとえば水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、水酸化カリシウム、水酸化
マグネシウムなど）、水酸化アンモニウムなどの
ような無機塩基、上記金属のアルコキサイドまた
はフエノキサイド（たたとえばナトリウムエトキ
サイド、ナトリウムメトキサイド、リチウムフエ
ノキサイドなど）のような有機塩基、モノアルキ
ルアミン、ジアルキルアミンまたはトリアルキル
アミンのようなアミン（たとえばメチルアミン、
エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルア
ミン、ブチルアミン、N.N−ジメチル−１，３
−プロパンジアミン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミンなど）、非置換アリールアミン、モノ
置換アリールアミンまたはジ置換アリールアミン
（たとえばアニリン、Ｎ−メチルアニリン、N.N
−ジメチルアニリンなど）または複素環塩基（た
とえばピロリジン、モルホリン、Ｎ−メチルモル
ホリン、Ｎ−メチルピペリジン、N.N−ジメチ
ルピペラジン、ピリジンなど）、ヒドラジン類
（たとえばヒドラジン、メチルヒドラジン、エチ
ルヒドラジンなど）、塩基性イオン交換樹脂など
が挙げられる。 加水分解は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒中、たとえば水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、テトラヒドロフラン、N.N
−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、ジクロロ
メタン、クロロホルムなど、またはこれらの混合
物中で行なわれる。 この加水分解の反応温度はとくに限定されず、
反応は好ましくは冷却下ないし加温下で行なわれ
る。 (ii) 還元の場合 還元は化学的還元または接触還元等による慣用
の方法で行なわれる。 還元反応に使用される適当な還元剤は、金属
（たとえば錫、亜鉛、鉄など）または金属化合物
（たとえば塩化クロム、酢酸クロムなど）と有機
酸または無機酸（たとえばぎ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、塩酸、臭化水素酸など）との組合わせであ
る。 還元は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒中、たとえば低級アルカノール（たとえばメ
タノール、エタノール、プロパノールなど）、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラ
ン、N.N−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、
トルエンなど、またはこれらの混合物中で行なわ
れる。さらに、還元反応に使用される前述の酸が
液体である場合には、これらを溶媒として使用す
ることもできる。 この還元の反応温度はとくに限定されず、反応
は好ましくは冷却下ないし加温下で行なわれる。 (iii) 組合わせ法の場合 この方法において、R1 bの保護されたアミノ基
が有機カルボキサミドである場合、アルボキサミ
ド結合は好ましくは次のように加水分解を改良し
た方法で分解される。すなわち、化合物（−
１）、（−３）および（−２）をイミノハロゲ
ン化反応（第１段階）およびイミノエーテル化反
応（第２段階）に付し、次いで加水分解する。 この方法の第一段階および第二段階は、好まし
くは無水溶媒中で行なわれる。第一段階における
適当な溶媒としては、非プロトン溶媒たとえばジ
クロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げ
られ、第二段階には通常上記第一段階と同じ溶媒
が使用される。これらの二つの段階と最終段階
（すなわち加水分解）は好ましくは１−バツチシ
ステムで行なわれる。 イミノハロゲン化剤の適当な例としては、燐化
合物（たとえば三塩化燐、五塩化燐、三臭化燐、
五臭化燐、オキシ塩化燐など）、チオニルクロリ
ド、ホスゲンなどのようなハロゲン化剤が含まれ
る。 イミノエーテル化剤の適当な例としては、アル
カノールのようなアルコール（たとえばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノールなど）またはアルコキシを有する
上記のアルカノール（たとえば２−メトキシエタ
ノール、２−エトキシエタノールなど）およびア
ルカリ金属、アルカリ土類金属のような金属のア
ルコキサイド（たとえばナトリウムメトキサイ
ド、カリウムエトキサイド、マグネシウムエトキ
サイド、リチウムメトキサイドなど）などが挙げ
られる。 このようにして得られる反応生成物は、必要で
あれば、常法により加水分解する。 加水分解は好ましくは常温または冷却下に行な
われ、反応混合物を単に水、または水を含むかも
しくは水を混合したアルコール（たとえばメタノ
ール、エタノールなど）のような親水性溶媒中に
注ぐだけで進行するが、必要な場合には、上記加
水分解で例示した酸または塩基を添加してもよ
い。 この除去の方法は除去すべきアミノ保護基の種
類に従つて選択される。 さらに、R1 bの保護されたアミノ基がフタルイ
ミドのような基である場合、反応は化合物（−
１）（−３）および（−２）を金属硫化物
（たとえば硫化ナトリウム）と反応させ、次いで
縮合剤（たとえばN.N−ジシクロヘキシルカル
ボジイミド、クロルぎ酸エチル−トリエチルアミ
ン、無水トリフルオロ酢酸など）と反応させ、続
いてヒドラジン類と反応させることによつて行な
うこともできる。 この除去反応は弾常、前述した反応に悪影響を
及ぼさない慣用の溶媒中、冷却下ないし加温下で
行なわれる。 この反応において、出発化合物（−１）、（
−３）および（−２）は、これらの１位で保護
された形で使用することもでき、このような保護
された形の化合物としては、たとえば出発化合物
をトリ（低級）アルキルシラン（たとえばｔ−ブ
チル−ジメチルクロロシランなど）などのような
シリル化合物と反応させることによつて生成した
シリル誘導体が挙げられる。 方法Ｂ−２：（−２）→（−３） 目的化合物（−３）は、化合物（−２）を
ジアゾ化剤およびハロゲン化剤と反応させること
によつて製造することができる。 この反応で使用されるジアゾ化剤としては、ア
ミノ化合物をジアゾ化合物に導くために使用され
る通常のジアゾ化剤が挙げられ、具体的にはたと
えばアルカリ金属亜硝酸塩（たとえば亜硝酸ナト
リウムなど）、亜硝酸アルキル（たとえば亜硝酸
ペンチル、亜硝酸イソペンチルなど）、塩化ニト
ロシル、四酸化二窒素などが挙げられる。 この反応で使用されるハロゲン化剤としてはジ
アゾ化合物をハロゲン化物に変えるために使用さ
れる通常のハロゲン化剤が挙げられ、具体的には
たとえばハロゲン化水素（たとえば酸化水素、臭
化水素など）、有機アミンのハロゲン化水素塩た
とえばトリアルキルアミンハロゲン化水素塩（た
とえばトリエチルアミン塩酸塩、トリエチルアミ
ン臭化水素酸塩など）などが挙げられる。 この反応において、有機アミンのハロゲン化水
素塩をハロゲン化剤として使用する場合、反応は
好ましくは方法Ｂ−１で述べた酸の存在下で行な
われる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、ぎ酸、酢酸、テトラヒド
ロフラン、クロロホルム、ジクロロメタン、ベン
ゼンなど、またはこれらの混合物中で行なわれ
る。 反応温度はとくに限定されず、反応は好ましく
は冷却下から加温下で行なわれる。 方法Ｂ−３：（−３）→（−４） 目的化合物（−４）は化合物（−３）の
R1 cにおけるハロゲンを除去することによつて製
造される。 この反応は還元などのような通常の方法によつ
て行なわれる。 還元方法および還元条件（たとえば反応温度、
溶媒など）は、方法Ｂ−１の化合物（−１）の
R1 bにおけるアミノ保護基の除去反応で説明した
方法、条件と実質的に同じであり、従つてその説
明に準じて行なうことができ、さらにトリアルキ
ルスタナン〔たとえばトリ−（ｎ−ブチル）スタ
ナンなど〕、トリアリールスタナン（たとえばト
リフエニルスタナンなど）を還元剤として用いて
もよい。 方法Ｂ−４：（−２）→（−５） 方法Ｅ−５：（−４）→（−５） 目的化合物（−５）および（−５）は、対
応する化合物（−２）および（−４）をそれ
ぞれホルミル化することによつて製造することが
できる。 この反応に用いられるホルミル化剤としては、
ぎ酸またはその塩またはぎ酸混合酸無水物（たと
えば無水ぎ酸、ぎ酸酢酸無水物など）、ホルミル
イミダゾールなどのようなぎ酸の反応性誘導体が
挙げられる。 この反応でホルミル化剤として遊離ぎ酸を用い
る場合、反応は、たとえばカルボジイミド化合物
〔たとえばN.N′−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、Ｎ−シクロヘキシル−N′−モルホリノエチ
ルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−N′−
（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジ
イミド、Ｎ，N′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，
N′−ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチ
ル−N′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボ
ジイミドなど〕、ケテンイミン化合物〔たとえば
N.N′−カルボニルビス（２−メチルイミダゾー
ル）、ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシ
ルイミン、ジフエニルケテン−Ｎ−シクロヘキシ
ルイミンなど〕、オレフイン系エーテル化合物ま
たはアセチレン系化合物（たとえばエトキシアセ
チレン、β−クロロビニルエチルエーテル）、Ｎ
−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体のスルホ
ン酸エステル〔たとえば１−（４−クロロベンゼ
ンスルホニルオキシ）−６−クロロ−1H−ベンゾ
トリアゾールなど〕、亜燐酸トリアルキルまたは
トリフエニルホスフインと、四塩化炭素、ジサル
フアイドまたはジアザカルボキシレートの組合わ
せ、燐化合物（たとえばポリ燐酸エチル、ポリ燐
酸イソプロピル、塩化ホスホリル、三塩化燐な
ど）、塩化チオニル、塩化オキサリル、Ｎ−エチ
ルベンズイソキサゾリウム塩、Ｎ−エチル−５−
フエニルイソキサゾリウム−３−スルホネート、
ジメチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、
Ｎ−メチルホルムアミドなどのようなアミド化合
物との反応によつて生成する試薬（いわゆるビル
スマイヤー試薬）などのような縮合剤の存在下に
行なうことが望ましい。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえばジクロロメタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ぎ酸、酢酸など、またはそれらの混
合物中で行なわれる。 反応温度は限定されないが、反応は好ましくは
冷却下ないし加温下で行なわれる。 方法Ｂ−５：（−５）→（−６） 方法Ｅ−６：（−５）→（−６） 目的化合物（−６）および（−６）は対応
する化合物（−５）および（−５）をそれぞ
れ脱水することによつて製造される。 この反応に使用される脱水剤としては、たとえ
ば燐ハロゲン化物（たとえば三塩化燐、三臭化
燐、オキシ塩化燐、五塩化燐など）、トリフエニ
ルホスフインジブロマイド、五酸化燐、ホスゲ
ン、塩化チオニル、クロルぎ酸トリクロルメチ
ル、イソシアヌール酸クロリド、スルホン酸ハラ
イド（たとえばベゼンスルホン酸クロリド、トル
エンスルホン酸クロリドなど）などのような常法
の脱水剤が挙げられる。 この反応は方法Ｂ−１の説明で述べたような塩
基の存在下に行なうことが望ましい。 さらに、この反応は通常、反応に悪影響を及ぼ
さない慣用の溶媒、たとえばジクロロメタン、ク
ロロホルム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、などの中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、反応は通常冷
却下ないし室温で行なわれる。 方法Ｂ−６：（−６）→（−４） 方法Ｅ−７：（−６）→（−７） 目的化合物（−４）および（−７）は、対
応する化合物（−６）および（−６）からそ
れぞれイソシアノ基を除去することによつて製造
される。 この除去反応は還元剤の存在下に行なうことが
でき、その適当な例としては方法Ｂ−３で例示し
たトリアルキルスタナンおよびトリアリールスタ
ナンが好ましい。 方法Ｃ−１：（−4a）→（−１） 方法Ｄ−４：（−３）→（−４） 方法Ｆ−３：（−２）→（−２） 目的化合物（−１）、（−４）および（−
２）は、対応する化合物（−4a）、（−３）
および（−２）をそれぞれ酸化することによつ
て製造することができる。 この反応に使用される酸化剤としてはアリル基
をアセチル基に変換できる試剤、例えばパラジウ
ム化合物（たとえば塩化パラジウム、四塩化パラ
ジウム酸ナトリウムなど）の存在下、場合によつ
てはハロゲン化第二銅（たとえば塩化第二銅な
ど）またはハロゲン化第一銅（たとえば塩化第一
銅など）などの共存下における酸素、過酸化水
素、低級アルキルヒドロパーオキシド（たとえば
ｔ−ブチルヒドロパ−オキシドなど）が挙げられ
る。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、N.N−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、酢酸な
ど、またはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度はとくに限定されないが、好ましくは
冷却下ないし加温下で行なわれる。 この反応においては、出発化合物（−4a）
および（−２）は、その一位が保護された形で
使用することができるが、このような保護された
形としては、たとえば出発化合物とトリ（低級）
アルキルハロシラン（たとえばｔ−ブチルジメチ
ルクロロシランなど）などのようなシリル化合物
との反応によつて生成したシリル誘導体が挙げら
れる。 方法Ｃ−２：（−１）→（−２） 方法Ｄ−１：（−4a）→（−１） 方法Ｅ−１：（−７）→（−１） 方法Ｇ−１：（−９）→（−１） 目的化合物（−２）（−１）、（−１）お
よび（−１）は対応する化合物（−１）、（１
−4a）、（−７）および（−９）をそれぞれ
オゾンと反応させ、次いで、生成したオゾナイド
を必要であれば常法により分解することによつて
製造される。 出発化合物とオゾンとの反応によつて生成した
オゾナイドは、通常還元または加熱によつて分解
される。 還元方法は方法Ｂ−１で説明した方法と実質的
に同じ方法であり、従つて反応条件（たとえば溶
媒、反応温度など）はその説明をそのまま援用で
き、さらに好ましい還元剤としては亜燐酸トリア
ルキル（たとえば亜燐酸トリメチルなど）、トリ
フエニルホスフイン、ジメチルサルフアイド、亜
硫酸水素ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、ヨー化
ナトリウム、塩化第一錫などが挙げられる。 この反応で低級アルカノールを溶媒として用い
る場合、目的化合物（−１）および（−１）
のアセタール体またはヘミアセタール体がそれぞ
れ得られるが、この場合もこの反応の範囲内に含
まれる。 さらに、化合物（−4a）を出発化合物とし
て使用し、且つ分解反応を加熱下で行なう場合に
は、下記の式で示される化合物が得られることも
ある。 反応が加熱下に行なわれる場合、化合物（XI−
１）もオゾナイドから得られ、この化合物は方法
Ｄ−２の加水分解法ならびに製造法Ｅで説明した
ような常法によるアルキル保護基の導入によつ
て、化合物（XI−２）に変換することができる。 （式中、Reは前に例示したような保護された
カルボキシを意味する） 方法Ｃ−３：（−２）→（−３） 方法Ｄ−５：（−２）→（−５） 方法Ｄ−６：（−１）→（−６） 目的化合物（−３）、（−５）および（−
６）は対応する化合物（−２）（−２）およ
び（−１）をそれぞれ還元することによつて製
造される。 この反応で使用される還元剤としては、方法Ｂ
−１で例示したようなオキソ基をヒドロキシ基に
還元しうる還元剤ならびに水素化ほう素アルカリ
金属（たとえば水素化ほう素ナトリウム、水素化
シアノほう素ナトリウムなど）、アミン（たとえ
ばｔ−ブチルアミン、N.N−ジメチルアニリン、
ルチジン、モルホリン、トリエチルアミンなど）
とボランとの錯塩、エーテル（たとえばテトラヒ
ドロフランなど）とボランとの錯塩、ジボラン、
アルミニウムアマルガムなどが挙げられる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、ジクロロメタン、メタノ
ール、エタノール、酢酸エチルなど、またはこれ
らの混合物中で行なわれる。反応温度は特に限定
されないが、通常冷却下ないし加温下で行なわれ
る。 方法Ｄ−２：（−１）→（−２） 方法Ｅ−２：（−１）→（−２） 方法Ｇ−２：（−１）→（−２） 目的化合物（−２）、（−２）および（−
２）は対応する化合物（−１）、（−１）およ
び（−１）をそれぞれ加水分解することによつ
て製造される。 この反応は方法Ｂ−１で説明した加水分解法と
実質的に同じ方法で行なうことができ、従つて反
応条件（たとえば溶媒、反応温度など）もその説
明を援用できる。 この反応は好ましくはたとえばメタノリシスの
ようなアルコリシスによつて行なわれる。 この反応で目的化合物（−２）がアセタール
として得られる場合、常法、たとえば方法Ｂ−１
に例示したような酸でアセタールを処理すること
によつて、ホルミル基を有する化合物（−２）
に変換することができる。 方法Ｄ−３：（−２）→（−３） 方法Ｆ−２：（−１）→（−２） 目的化合物（−３）および（−２）は、対
応する化合物（−２）および（−１）を化合
物（）と反応させることによつて製造すること
ができる。 この反応において、化合物（）の反応性均等
物も試剤として使用することができ、そのような
反応性均等物としては、式（R5O）2POCH2Rb（式
中、R5およびRbは前と同じ意味）で示される。 この反応を上記のような反応性均等物で行なう
場合、方法Ｂ−１で例示したような塩基の存在下
に反応を行なうことが望ましい。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえばクロロメタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなど、またはこれらの混合物中で行な
われる。 反応温度はとくに限定されないが、反応は好ま
しくは、冷却下ないし加熱下で行なわれる。 この反応において、出発化合物（−２）およ
び（−１）は、その一位が保護された形で使用
することができ、そのような保護された形として
は、たとえば出発化合物をトリ（低級）アルキル
ハロシラン（たとえばｔ−ブチルジメチルクロロ
シランなど）などのようなシリル化合物と反応さ
せることによつて生成するシリル誘導体が挙げら
れる。 方法Ｆ−１：（−８）→（−１） 方法Ｈ：（−10）→（） 目的化合物（−１）および（）は対応する
化合物（−８）および（−10）をオゾンと反
応させ、必要であれば生成したオゾナイドを常法
により分解し、次いで生成した化合物を常法によ
り加水分解することによつて製造することができ
る。 この反応は方法Ｃ−２およびＤ−２と実質的に
同じ方法で行なうことができ、従つて反応条件
（たとえば溶媒、反応温度など）はそれらの説明
を援用できる。 この反応で目的化合物（−１）がアセタール
の形で得られる場合、常法により、たとえば方法
Ｂ−１に例示したような酸でアセタールを処理す
ることによつてホルミル基を有する化合物（−
１）に変換することができる。 方法Ｅ−３：（−２）→（−３） 目的化合物（−３）は化合物（−２）をカ
ルボニル基保護基の導入反応に付すことによつて
製造できる。 この反応で使用される試薬としては、オルトぎ
酸トリ（低級）アルキル（たとえばオルトぎ酸ト
リメチルなど）、O.O−ジ（低級）アルキルケト
ン（たとえばＯ，Ｏ−ジメチルアセトンなど）、
低級アルカノール（たとえばメタノールなど）な
どが挙げられる。 この反応は、好ましくは方法Ｂ−１の加水分解
に例示されたような酸の存在下に行なわれる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえばジクロロメタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなど、またはこれらの混合物中で行な
われる。 反応温度は特に限定されないが、反応は好まし
くは冷却下ないし加熱下で行なわれる。 方法Ｅ−８：（−７）→（−４） 目的化合物（−４）は化合物（−７）から
保護されたカルボニル基におけるカルボニル保護
基を除去することによつて製造される。 この反応は、方法Ｂ−１の加水分解で例示され
たような酸の存在下に行なうことができる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、ジメチルホルムアミドな
ど、またはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、反応は好まし
くは冷却下から加温下で行なわれる。 出発化合物（）および（）に関する製造法
Ａ〜Ｅについて以下に詳述する。 製造法Ａ：（−１）→（−２） 化合物（−２）は化合物（−１）をハロゲ
ン化することによつて製造できる。 この反応で使用されるハロゲン化剤としては、
チオ基をハロゲンに変換するために使用されうる
通常のハロゲン化剤、たとえばハロゲン（たとえ
ば塩素、臭素など）、スルフリルハライド（たと
えばスルフリルクロリドなど）、Ｎ−ハロスクシ
ンイミド（たとえばＮ−クロロスクシンイミド、
Ｎ−プロモスクシンイミドなど）などが挙げられ
る。 反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒、たとえばクロロホルム、ジクロロメタン、
エチレンクロリド、四塩化炭素など、またはこれ
らの混合物中で行なわれる。反応温度は特に限定
されないが、反応は好ましくは冷却下ないし室温
で行なわれる。 製造法Ｂ：（−３）→（−２） 目的化合物（−２）は化合物（−３）をハ
ロゲン化することによつて製造できる。 この反応は製造法Ａと実質的に同じであり、従
つてハロゲン化剤、反応条件（たとえば反応温
度、溶媒など）は製造法Ａのものを援用できる。 製造法Ｃ：（−４）→（−５） 目的化合物（−５）は、化合物（−４）を
ヒドロキシ保護基の導入反応に付すことによつて
製造される。 この反応に使用されるヒドロキシ保護基の導入
剤としては有機カルボン酸、炭酸およびスルホン
酸またはそれらの反応性誘導体が挙げられる。 上記酸の好ましい反応性誘導体としては、たと
えば酸ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活
性エステルなどが挙げられ、とくに好ましくは、
酸塩化物および酸臭化物；置換された燐酸（たと
えばジアルキル燐酸、フエニル燐酸、ジフエニル
燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸など）、
ジアルキル亜燐酸、スルホン酸、チオ硫酸、硫
酸、炭酸アルキル（たとえば炭酸メチル、炭酸エ
チル、炭酸プロピルなど）、脂肪族カルボン酸
（たとえばピバル酸、ペンタノン酸、イソペンタ
ン酸、２−エチル酪酸、トリフルオロ酢酸など）、
芳香族カルボン酸（たとえば安息香酸など）のよ
うな酸との混合物；対称性酸無水物；イミダゾー
ル、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾールまたはテトラゾールのようなア
ミノ管能基を含む複素環化合物との活性アミド；
活性エステル〔たとえばｐ−ニトロフエニルエス
テル、２，４−ジニトロフエニルエステル、トリ
クロロフエニルエステル、ペンタクロロフエニル
エステル、メシルフエニルエステル、フエニルア
ゾフエニルエステル、フエニルチオエステル、ｐ
−ニトロフエニルチオエステル、ｐ−クレジルチ
オエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピ
リジルエステル、ピペリジニルエステル、８−キ
ノリルチオエステル、またはＮ−ヒドロキシ化合
物たとえばN.N−ジメチルヒドロキシアミン、
１−ヒドロキシ−２−（1H）ピリドン、Ｎ−ヒド
ロキシサクシン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１
−ヒドロキシ−６−クロロベンゾトリアゾールな
どとのエステル〕などであつてもよい。 好ましい反応性誘導体は実際に使用される化合
物（−４）の種類によつて、上記中から任意に
選択することができる。 この導入反応は好ましくは有機塩基または無機
塩基、たとえばアルカリ金属（たとえばリチウ
ム、ナトリウム、カリウムなど）、アルカリ土類
金属（たとえばカルシウム、マグネシウムなど）、
アルカリ金属水素化物（たとえば水素化ナトリウ
ムなど）、アルカリ土類金属水素化物（たとえば
水素化カルシウムなど）、アルキルリチウム（た
とえばブチルリチウムなど）、アルカリ金属水酸
化物（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ金属炭
酸水素塩（たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムなど）、アルカリ金属アルコキサイド
（たとえばナトリウムメトキサイド、ナトリウム
エトキサイド、カリウムｔ−ブトキサイドなど）、
トリアルキルアミン（たとえばトリエチルアミン
など）、ピリジン化合物（たとえばピリジン、ル
チジン、ジメチルアミノピリジン、ピコリンな
ど）、Ｎ−アルキルモルホリン（たとえばＮ−メ
チルモルホリンなど）、キノリンなどの存在下に
行なわれる。 反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒、たとえば水、アセトン、ジオキサン、アセ
トニトリル、クロロホルム、ベンゼン、ジクロロ
メタン、エチレンクロリド、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミドなど、ま
たはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は限定されないが、反応は通常冷却下
ないし室温で行なわれる。 この反応で、アゾジカルボン酸ジエチルの存在
下、カルボン酸またはその反応性誘導体をヒドロ
キシ保護基導入剤として使用する場合、保護され
るヒドロキシ基が置換する炭素における立体配置
が他の立体配置に変わることがよくあるが、この
ような場合もまた本発明の範囲内に含まれる。 製造法Ｄ：（−５）→（−４） 目的化合物（−４）は化合物（−５）から
ヒドロキシ保護基を除去することによつて製造で
きる。 この除去反応は方法Ｂ−１で例示した加水分解
によつて行なうことができ、従つて反応除件（た
とえば反応温度、溶媒など）は方法Ｂ−１の説明
を援用できる。 製造法Ｅ：（−１）→（−２） 目的化合物（−２）は、化合物（−１）に
カルボキシ保護基を導入することによつて製造で
きる。 この反応に使用されるカルボキシ保護基の導入
剤としては、前に例示したようなカルボキシ基を
エステル化された基に変換しうる慣用のエステル
化剤、たとえばアルコールまたはそのハロゲン化
物（たとえば塩化物、臭化物、ヨー化物）、スル
ホネート、サルフエート、ジアゾ化合物などの反
応性誘導体が挙げられる。 この反応は通常、製造法Ｃで述べた塩基の存在
下、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たと
えばN.N−ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフランまたはそれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は限定されないが、反応は冷却下ない
し室温で行なわれる。 方法Ａ〜Ｈおよび製造法Ａ〜Ｅの反応中または
反応の後処理中において、一方の光学異性体が他
の光学異性体に変化することがあるが、このよう
な場合もこの発明の範囲内に含まれる。 目的化合物がたとえばR3に遊離カルボキシ基
および／あるいはたとえばR1 aに遊離アミノ基を
有する場合、目的化合物は常法によりその塩に変
換することができる。 この発明の目的化合物およびその塩（）は新
規であり、様々の病原性微生物に対して高い抗菌
性を示すチエナマイシンの基本骨格を有する抗生
物質、特に光学活性骨格を有する抗生物質の製造
中間体として有用である。 たとえば方法Ｂ〜Ｅ、ＧおよびＦの目的化合物
（−４）、（−３）（−４）、（−６）、（
−
２）および（）は、次の文献に示される方法に
よつて、チエナマイシンの基本骨格を有する抗生
物質に変換させることができる。 尾上等 テトラヘドロンレターズ40号第3867頁
（1979年）、 エー・ジエー・キルビー等、ドイツ公開特許
2811 514、 大木等 特開昭55−73656 デイー・ビー・ジヨンストン等 ジヤーナル・
オブ・ジ、アメリカンケミカルソサイテイー、第
100巻、第313頁（1978年） エル・デイー・カマ等、ジヤーナル・オブ・
ジ・アメリカンケミカルソサイテイー、第102巻、
第6161頁（1980年） エル・デイー・カマ等、ジヤーナル・オブ・
ジ・アメリカンケミカルソサイテイー、第100巻、
第8006頁（1978年） 次にこの発明の化合物（）の原料化合物の製
法を製造例により具体的に説明する。 製造例 １ ２−〔（3R，4R）−４−メチルチオ−３−フタ
ルイミド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−
３−メチル−２−ブテン酸ベンジル（2.25ｇ）の
ジクロロメタン（12ml）溶液を−78℃に冷却し、
塩素（390mg）を溶解した四塩化炭素（3.4ml）を
加えた。同温度で30分間撹拌後、混合物を０℃ま
で加温し、溶媒を留去して、油状物（2.52ｇ）を
得た。この油状物（2.10ｇ）をシリカゲル（20
ｇ）クロマトグラフイーに対し、酢酸エチル10％
を含むジクロロメタンで溶出して、油状の２−
〔（3R，4S）−４−クロロ−Ｓ−フタルイミド−２
−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−
２−ブテン酸ベンジル（1.80ｇ）を得た。 IR（CH2Cl2）：1790，1780（シヨルダー），1725
cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.07（ｓ，3H），2.30（ｓ，
3H），5.27（ｓ，2H），5.50（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H），
6.17（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H） 製造例 ２ （6S）−６−フタルイミドペニシラン酸ベンジ
ル（610mg）のジクロロメタン（５ml）溶液を−
25℃に冷却し、塩素（465mg）を溶解した四塩化
炭素（３ml）を加えた。同温度で45分間撹拌し、
混合物を０℃まで加温し、濃縮した。濃縮物を冷
希炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、酢酸エチル
で抽出した。抽出物を塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
て得られた油状物（700mg）をシリカゲル（10ｇ）
クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル10％を含
むジクロロメタンで溶出して、油状の２−〔（3S，
4R）−４−クロロ−３−フタルイミド−２−オキ
ソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブ
テン酸ベンジル（433mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1790，1780（シヨルダー），1725
cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.07（ｓ，3H），（ｓ，3H），
5.27（ｓ，2H），5.50（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H），6.17
（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H） 製造例 ３ （6S）−６−フタルイミドペニシラン酸メチル
（9.01ｇ）のジクロロメタン（50ml）溶液を−30
℃に冷却し、塩素（5.33ｇ）を溶解した四塩化炭
素（30ml）を加えた。混合物を撹拌しながら40分
間かけて温度を−10℃まで上昇した。溶媒を留去
し、残留物を酢酸エチル（100ml）に溶かし、希
炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄した。硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得られた
油状物をシリカゲル（100ｇ）クロマトグラフイ
ーに付し、酢酸エチル10％を含むジクロロメタン
で溶出して、２−〔（3S，4R）−４−クロロ−３−
フタルイミド−２−オキソアゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（6.55ｇ）
を結晶性固形物として得た。融点122−125℃ IR（CH2Cl2）：1785，1675，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.13（ｓ，3H），2.37（ｓ，
3H），3.90（ｓ，3H），5.62（ｄ，Ｊ＝15Hz，1H），
6.27（ｄ，Ｊ＝15Hz，1H） 製造例 ４ ２−〔（3S，4R）−３−｛（1S）−１−ヒドロキシ
エチル｝−４−メチルチオ−２−オキソアゼチジ
ン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチ
ル（376mg）と４−ジメチルアミノピリジン（336
mg）をジクロロメタン（３ml）に溶解し、窒素雰
囲気中−30℃でクロルぎ酸ｐ−ノトロベンジル
（358mg）を加えた。０℃で１時間撹拌後、混合物
を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水、希炭酸水素
ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で順次
洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除
いて得られた油状物（635mg）をシリカゲル（25
ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸メチル10％
〜25％を含むヘキサンで溶出して、油状の３−メ
チル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ−３−
｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−２−ブテン酸メチル（566mg）を得
た。 IR（CH2Cl2）：1760，1725，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.50（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.01（ｓ，3H），2.12（ｓ，3H），2.22（ｓ，3H），
3.43（dd，Ｊ＝５，３Hz，1H），3.73（ｓ，3H），
4.94（ｄ，Ｊ＝３Hz，1H），5.2（ｍ，1H），5.25
（ｓ，2H），7.52（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H），8.17（ｄ，
Ｊ＝９Hz，2H） 製造例 ５ ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−ヒドロキ
シエチル｝−４−メチルチオ−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メ
チル（1.84ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン
（1.23ｇ）の混合物（１：３）をジクロロメタン
（20ml）に溶解し、０℃でクロルぎ酸ｐ−ニトロ
ベンジル（1.60ｇ）のジクロロメタン（３ml）溶
液を加えた。０℃で1.5時間撹拌後、混合物を酢
酸エチル（150ml）で希釈し、希塩酸、水、希炭
酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液
で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
除いて得られた油状物（3.1ｇ）をシリカゲル
（90ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル
10％〜25％を含むヘキサンで溶出して、油状の３
−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ−３
−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
カルボニルオキシ）メチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル混合物
（１：３）（2.90ｇ）を得た。 IR（CH2Cl2）：1755，1725，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.51（ｄ，Ｊ＝７Hz，1H），
2.01（ｓ，3H），２，12（ｓ，3H），2.23（ｓ，
3H），3.29（dd，Ｊ＝７，３Hz，１／3H），3.43
（dd，Ｊ＝５，３Hz，２／3H），3.73（ｓ，3H），
4.95（ｄ，Ｊ＝３Hz，２／3H），5.02（ｄ，Ｊ＝３
Hz，１／3H），5.2（ｍ，1H），5.25（ｓ，2H），
7.50（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H），8.16（ｄ，Ｊ＝９Hz，
2H） 製造例 ６ ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−ヒドロキ
シエチル｝−４−メチルチオ−２−オキソ−アゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
メチル（５：１混合物）（755mg）と４−ジメチル
アミノピリジン（440mg）をジクロロメタン（６
ml）に溶解し、０℃で３分間かけてクロルぎ酸ｐ
−ニトロベンジル（660mg）のジクロロメタン
（４ml）溶液を滴下した。1.5時間後、溶液を濃縮
し、酢酸エチル（40ml）に転溶し、希塩酸、水、
塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、油状物
を得た。これを酢酸エチル２％〜10％を含むジク
ロロメタンを用いたシリカゲル（50ｇ）クロマト
グラフイーに付して、３−メチル−２〔（3S，4R）
−４−メチルチオ−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−２−ブテン
酸メチル（974mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1760，1720，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.50（ｄ，Ｊ＝７Hz，1H），
2.01（ｓ，3H），2.12（ｓ，3H），2.24（ｓ，3H），
3.30（dd，Ｊ＝2.5，７Hz，1H），3.85（ｓ，3H），
5.05（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，1H），5.23（五重線、Ｊ＝７
Hz，1H），5.25（ｓ，2H），7.50（ｄ，Ｊ＝９Hz，
2H），8.19（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H） 上記化合物の（1S）異性体（165mg）もまた得
られた。 製造例 ７ ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）メチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル｝−２−ブテン酸メチル（530mg）
のジクロロメタン（６ml）溶液に、−78℃で塩素
（106mg）を溶解した四塩化炭素（0.9ml）を加え
た。溶液を30分間かけて０℃に加温し、再び−78
℃に冷却した。さらに塩素（59mg）を溶解した四
塩化炭素（0.5ml）を加えた。溶液を30分間かけ
て10℃まで加温し、溶媒を減圧留去した。残留物
をシリカゲル（18ｇ）クロマトグラフイーに付
し、酢酸エチル10％〜33％を含むヘキサンで溶出
して、〔（3S，4R）−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル（トランス異性
体）（215mg）と〔（3S，4S）−４−クロロ−３−
｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソ−アゼチジン
−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（シス異性体）（210mg）を得た。 トランス異性体 IR（CH2Cl2）：1780，1750，1725，1525，1350
cm-1 NMR（CACl3）δ：1.53（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.03（ｓ，3H），2.30（ｓ，3H），3.7（ｍ，1H），
3.74（ｓ，3H），5.2（ｍ，1H），5.28（ｓ，2H），
5.81（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H），7.54（ｄ，Ｊ＝10Hz，
2H），8.20（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） シス異性体： IR（CH2Cl2）：1780，1750，1725，1525，1350
cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.55（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.07（ｓ，3H），2.30（ｓ，3H），3.62（ｔ，Ｊ＝4.5
Hz，1H），3.76（ｓ，3H），5.3（ｍ，3H），5.95
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，1H），7.48（ｄ，Ｊ＝10Hz，
2H），8.17（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） 製造例 ８ ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（１：３
混合物）（1.30ｇ）のジクロロメタン（13ml）溶
液に、−78℃で塩素（211mg）を溶解した四塩化炭
素（2.2ml）を加えた。溶液を45分間かけて０℃
まで加温し、濃縮した。残留物を酢酸エチル（30
ml）に溶かし、冷炭酸水素ナトリウム水溶液
（2.5ｇ）、水、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して油状
物（1.30ｇ）を得た。この油状物をシリカゲル
（40ｇ）クロマトグラフイーに対し、酢酸エチル
10％〜30％を含むヘキサンで溶出して、２−
〔（3S）−４−クロロ−３−｛１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−ブテ
ン酸メチル〔（1S，4R）異性体，（1R，4R）異性
体および（1R，4S）異性体混合物（５：６：
４）〕（550mg）を最初に得た。 酢酸エチル30％を含むヘキサンでさらに溶出
し、溶媒を留去して、結晶性固形物（407mg）を
得た。ジクロロメチル−ジエチルエーテル混液か
ら結晶化して２−〔（3S，4S）−４−クロロ−３−
〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（270mg）を得た。融点154−157℃ IR（ヌジヨール）：1770，1745，1715cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.55（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.07（ｓ，3H），2.29（ｓ，3H），3.65（ｔ，Ｊ＝4.5
Hz，1H），3.74（ｓ，3H），5.3（ｍ，3H），5.96
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，1H），7.50（ｄ，Ｊ＝10Hz，
2H），8.18（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H）；質量分析：
ｍ／e442，440（M+） 製造例 ９ ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソ−アゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（１：
３混合物）（527mg）のジクロロメタン（5.5ml）
溶液に−78℃で、塩素（91mg）を溶解した四塩化
炭素（1.62ml）を加えた。溶液を１時間かけて０
℃まで加温し、溶媒を留去した。副産物として生
じたイオウを除くため、残留物を四塩化炭素（５
ml）に溶かし、熔媒を減圧留去した。この操作を
もう一度くり返し、残留物を吸取つて、製造例８
に記載の塩化物異性体混合物（588mg）を得た。 NMR（CDCl3）δ：1.5（ｍ，3H），2.02（ｓ，〜
1.5H），2.07（ｓ，〜1.5H），2.29（ｓ，3H），3.7
（ｍ，4H），5.3（ｍ，3H），5.81（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，
〜0.25H），5.86（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，〜0.15H），5.97
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，〜0.6H），7.5（ｍ，2H），8.21
（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） 残留物（536mg）をジエチルエーテルから結晶
化して、粗製の結晶（190mg）を得た。ジクロロ
メタンとジエチルエーテルの混合溶媒から再結晶
して、２−〔（3S，4S）−４−クロロ−３−｛（1S）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（170mg）
を得た。母液を合わせ、シリカゲル（９ｇ）クロ
マトグラフイーに付し、酢酸エチル10％〜30％を
含むヘキサンで溶出して、油状の２−〔（3S）−４
−クロロ−３−｛１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メ
チル〔（1S，4R）異性体、（1R，4R）異性体およ
び（1R，4S）異性体の混合物（５：３：２）〕
（231mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1775，1745，1725cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.52（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.03（ｓ，3H），2.30（ｓ，3H），3.6−3.8（ｍ，
4H），5.26（ｍ，1H），5.27（ｓ，2H），5.81（ｄ，
Ｊ＝1.5Hz，0.5H），5.86（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，0.3H），
5.98（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，0.2H），7.5（ｄ一対，Ｊ＝10
Hz，2H），8.22（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） 酢酸エチル30％を含むヘキサンでさらに溶出し
て、２−〔3S，4S）−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル（43mg）を回収し
た。 製造例 10 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−〔（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（481mg）
のジクロロメタン（５ml）溶液に−78℃で、塩素
（83ml）を溶解した四塩化炭素（0.65ml）を加え
た。溶液を45分間かけて０℃まで加温し、溶媒を
減圧留去した。残留物をシリカゲル（12ｇ）クロ
マトグラフイーに付し、酢酸エチル10％〜33％を
含むヘキサンで溶出して、２−〔（3S）−４−クロ
ロ−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
メチル〔（4R）異性体と（4S）異性体の混合物
（55：45）〕（394mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1775，1745，1725，1525，1350
cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.49（ｄ，Ｊ＝７Hz，
1.65H），1.58（ｄ，Ｊ＝７Hz，1.35H），2.01（ｓ，
3H），2.29（ｓ，3H），3.65（ｍ，1H），3.73（ｓ，
1.65H），3.75（ｓ，1.35H），5.20（ｍ，1H），5.24
（ｓ，2H），5.84（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，0.55H），5.96
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，0.45H），7.49（ｄ，Ｊ＝９Hz，
2H），8.18（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H） 製造例 11 トリフエニルホスフイン（1.647ｇ）、ぎ酸
（0.20ml）および２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−
１−ヒドロキシエチル｝−４−メチルチオ−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸メチル（１：３混合物）（1.145ｇ）を
テトラヒドロフラン（14ml）に溶解し、この溶液
に窒素雰囲気中０℃でアゾジカルボン酸ジエチル
（0.83ml）を滴下した。溶液を同温度で15分間放
置したのち、室温まで加温し、２時間撹拌した。
反応液を０℃まで冷却し、さらにぎ酸（24μl）と
アゾジカルボン酸ジエチル（0.10ml）を加えた。
室温で１時間撹拌後、溶液を濃縮し、酢酸エチル
（60ml）に転溶し、冷希炭酸水素ナトリウム水溶
液、水、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、
ベンゼン（20ml）にさらに処理すると結晶が析出
した。結晶を集め、ベンゼンで洗浄した。液と
洗液を合わせ、溶媒を留去し、シリカゲル（60
ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル10％
〜30％を含むヘキサンで溶出して、２−〔（3S，
4R）−３−｛（1RS）−１−ホルミルオキシエチル｝
−４−メチルチオ−２−オキソアゼチジン−１−
イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（５：
１混合物）（889mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1758，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.48（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.04（ｓ，3H），2.15（ｓ，3H），2.27（ｓ，3H），
3.31（dd，Ｊ＝2.5，７Hz，1H），3.81（ｓ，3H），
4.97（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，１／6H），5.04（ｄ，Ｊ＝2.5
Hz，５／6H），5.46（五重線、Ｊ＝７Hz，1H），
8.12（ｓ，1H） 製造例 12 ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−ホルミル
オキシエチル｝−４−メチルチオ−２−オキソア
ゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン
酸メチル（５：１混合物）（880mg）のメタノール
（20ml）溶液に、０℃でナトリウムメトキシドの
4.9Mメタノール溶液（0.60ml）を加えた。30分
後、酢酸（0.20ml）を加え、混合物から溶媒を留
去した。残留物を酢酸エチル（30ml）に転溶し、
希炭素水素ナトリウム水溶液で洗浄した。硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を除いて得られた油状
物をシリカゲル（2.5ｇ）クロマトグラフイーに
付し、アセトン５％〜20％を含むジクロロメタン
で溶出して、２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１
−ヒドロキシエチル｝−４−メチルチオ−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（５：１混合物）（742mg）を得
た。 IR（CH2Cl2）：3560，1750，1715cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.34（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.01（ｓ，3H），2.14（ｓ，3H），2.23（ｓ，3H），
2.93（ブロード ｄ，Ｊ＝６Hz，1H），3.16（dd，
Ｊ＝2.5，７Hz，1H），3.77（ｓ，3H），4.22（五重
線、Ｊ＝７Hz，1H），4.92（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，１／
6H），5.06（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，５／6H） 製造例 13 ３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸
（2.73ｇ）とトリエチルアミン（2.09ml）のジメ
チルホルムアミド（15ml）溶液に０℃で臭化ｐ−
ニトロベンジル（3.24ｇ）を加えた。同温度で４
時間撹拌後、反応液を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルと酢酸メチルの混液（１：１，150ml）
で抽出した。抽出物を水、希炭素水素ナトリウム
水溶液、水、塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し
た。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除いて得
られた油状物（3.90ｇ）をシリカゲル（100ｇ）
クロマトグラフイーに付し、ヘキサン20％〜50％
を含むジクロロメタンで、次いでジクロロメタン
で溶出して、油状物（3.50ｇ）を得た。油状物を
蒸留して、３−（トリメチルシリルメチル）−３−
ブテン酸ｐ−ニトロベンジル（3.25ｇ）を得た。
沸点160℃（0.05mmHg） IR（フイルム）：1735，1630，1605，1520，
1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：〜0.00（ｓ，9H），1.62（ｓ，
2H），3.06（ｓ，2H），4.76（ブロード ｓ，2H），
5.22（ｓ，2H），7.50（ｄ，Ｊ＝9.5Hz），8.22（ｄ，
Ｊ＝9.5Hz） 製造例 14 ３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸
（36.5ｇ）のジエチルエーテル（200ml）溶液に10
〜15℃でジアゾメタンのジエチルエーテル溶液
（約0.6M溶液，400ml）を加えた。過剰のジアゾ
メタンを酢酸を加えて分解した。得られた溶液を
減圧下で200mlに濃縮し、濃縮物を炭酸水素ナト
リウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し
た。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して
得られた黄色の油状物を減圧蒸留して、無色油状
の３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸
メチル（34.74ｇ）を得た。沸点74−75℃（10mm
Ｈｇ） IR（フイルム）：1735，1635cm-1 NMR（CCl4）δ：0.00（ｓ，9H），1.56（ｓ，
2H），2.84（ｓ，2H），3.57（ｓ，3H），4.60（ｄ，
Ｊ＝1.5Hz，1H），4.65（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H） 製造例 15 ２−〔（3R，4S）−４−クロロ−３−フタルイミ
ド−２−オキソ−アゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸ベンジル（860mg）とアリ
ルトリメチルシラン（0.48ml）のジクロロメタン
（６ml）混液を−78℃に冷却し、次いでふつ化ほ
う素酸銀（490mg）を加えた。温度を徐々に室温
にもどしながらこの混合物を３時間撹拌した。反
応液を酢酸エチルで希釈し、けいそう土を用いて
濾過した。濾液を水、希炭酸水素ナトリウム水溶
液、塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去して油状物
（841mg）を得た。これをシリカゲル（25ｇ）を用
いたクロマトグラフイーに付し、酢酸エチル10％
を含むジクロロメタンで溶出し、油状の２−
〔（3S，4S）−４−アリル−３−フタルイミド−２
−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−
２−ブテン酸ベンジル（445mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1760，1720，1385cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.10（ｓ，3H），2.25（ｓ，
3H），2.43（ｍ，2H），4.38（ddd，Ｊ＝３，6.5Hz，
1H），4.8−5.3（ｍ，2H），5.08（ｄ，Ｊ＝３Hz，
1H），5.33（ｓ，2H），5.56（ｍ，1H） 製造例 16 ２−〔（3S，4R）−４−クロロ−３−フタルイミ
ド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メ
チル−２−ブテン酸メチル（3.55ｇ）とアリルト
リメチルシラン（2.26ml）のジクロロメタン（25
ml）混液を−78℃に冷却し、次いでふつ化ほう素
酸銀（2.29ｇ）を加えた。温度を徐々に０℃に上
昇させながら混合物を２時間撹拌後、更に3.5時
間撹拌した。反応液に飽和塩化ナトリウム水溶液
（10ml）を加え、次いで飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液を加えて水層をPH７に調整した。０℃で20
分間撹拌後、析出物をけいそう土を用いて濾去
し、濾液を有機層と水層に分けた。有機層を塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去して油状物（4.0ｇ）を得た。
これをシリカゲル（50ｇ）クロマトグラフイーに
付し、ベンゼン−アセトン混液（10：１）で溶出
して油状の２−〔（3R，4R）−４−アリル−３−
フタルイミド−２−オキソアゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（2.74ｇ）
を得た。 IR（CH2Cl2）：1770（シヨルダー），1760，1720
cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.11（ｓ，3H），2.26（ｓ，
3H），2.4−2.6（ｍ，2H），4.40（ｍ，1H），5.0−
5.3（ｍ，3H），5.70（ｍ，1H） 製造例 17 ２−〔（3S，4S）−４−アリル−３−フタルイミ
ド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メ
チル−２−ブテン酸ベンジル（340mg）をジクロ
ロメタン（５ml）−メタノール（2.5ml）混液に溶
解し、これにＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパ
ンジアミン（0.21ml）を加え、混合物を室温で25
時間撹拌した。溶媒を留去したのち、残留物を酢
酸エチルに溶かし、水洗した。硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去して得られた油状物をシリ
カゲル（３ｇ）クロマトグラフイーに付し、ジク
ロロメタン−アセトン混合溶媒（６：１）で溶出
し、油状の２−〔（4S）−４−アリル−３−アミノ
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチ
ル−２−ブテン酸ベンジル（155mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1750，1710cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.66（ブロードｓ，2H），
1.94（ｓ，3H），2.22（ｓ，3H），2.34（ｍ，2H），
3.5−3.8（ｍ，2H），4.9−5.3（ｍ，4H），5.62（ｍ，
1H） 製造例 18 ２−〔（3R，4R）−４−アリル−３−フタルイ
ミド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸メチル（2.64ｇ）をジクロ
ロメタン（20ml）−メタノール（10ml）混液に溶
解し、これにＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパ
ンジアミン（1.98ml）を加え、混合物を冷蔵庫に
３日間、室温で24時間放置した。反応液から溶媒
を留去し、残留物を酢酸エチル（50ml）に溶か
し、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去して油状物を得た。これをシリカゲルクロマ
トグラフイーに付し、ジクロロメタン−アセトン
混合溶媒（６〜５：１）で溶出して２−〔（4R）−
３−アミノ−４−アリル−２−オキソアゼチジン
−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（873mg）を油状物として得た。 IR（CH2Cl2）：1755，1720cm-1 製造例 19 ２−〔（3R，4R）−４−アリル−３−フタルイ
ミド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸メチル（6.78ｇ）をジクロ
ロメタン（46mg）−メタノール（23mg）混液に溶
解し、これに０℃でＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−
プロパンジアミン（6.25ml）を加え、混合物を室
温で５日間放置した。反応液から溶媒を留去し、
残留物をシリカゲルクロマトグラフイーに付し、
ジクロロメタン−酢酸エチル混合溶媒（10：１〜
５）で溶出して２−〔（3R，4R）−３−アミノ−
４−アリル−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸メチル（3.70ｇ）を
油状物として得た。 IR〈CH2Cl2〉：1755，1720cm-1 NMR〈CD3COCD3〉δ：1.92〈3H，ｓ〉，11.5
〈3H，ｓ〉，2.45〈ブロードｔ，2H，Ｊ＝6.5Hz〉，
3.73〈3H，ｓ〉，4.13〈ｄ，ｔ，1H，Ｊ＝6.5Hz，
2.5Hz〉，4.58〈1H，ｄ，Ｊ＝2.5Hz〉，4.9−5.2
〈2H，ｍ〉，5.5−6.0〈1H，ｍ〉． 製造例 20 ２−〔（3R，4R）−３−アミノ−４−アリル−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−２−ブテン酸メチル（500mg）のジクロロメタ
ン（５ml）溶液に、０℃で酢酸・ぎ酸の混合無水
物（0.34ml）を加えた。同温度で１時間撹拌した
のち、混合物を酢酸エチル（35ml）で希釈し、希
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。水層を塩
化ナトリウムで飽和し、ジクロロメタンで抽出し
た。抽出物を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去した。残留物をシリカゲル（2.5ｇ）クロマト
グラフイーに付し、アセトン10〜30％を含むジク
ロロメタンで溶出して２−〔（3R，4R）−３−ホ
ルムアミド−４−アリル−２−オキソアゼチジン
−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（485mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：3400，1760，1720〈シヨルダー〉、
1695cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.97〈ｓ，3H〉，2.21〈ｓ，
3H〉，2.47〈ｔ，Ｊ＝７Hz，2H〉，3.76〈ｓ，3H〉，
3.95〈dt，Ｊ＝3.7Hz，1H〉，4.77〈dd，Ｊ＝3.7Hz，
1H〉，4.9−5.3〈ｍ，2H〉，5.5−6.0〈ｍ，1H〉，
7.15〈ブロード，Ｊ＝７Hz，1H〉，8.19〈ｓ，1H〉 質量分析：ｍ／e266〈M+〉 次に、この発明を実施例により説明する。 実施例 １ （上記式中、記号“PNB”はＰ−ニトロベン
ジル基を表わし、以下についても同様である。） ２−〔〈3S，4S〉−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル〈222mg）と３−
（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸メチル
（190mg）のジクロロメタン〈1.7ml〉溶液に窒素
雰囲気中−72℃でふつ化ほう素酸銀（146mg）を
加えた。混合物を撹拌しながら１時間かけて徐々
に０℃まで加温し、同温度で30分間撹拌した。混
合物を酢酸エチル（５ml）で希釈した。飽和塩化
ナトリウム水溶液（３ml）を加え、次いで混合物
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。得
られた混合物をけいそう土を用いて濾過し、固形
物を酢酸エチルで洗浄した。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
（８ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル
５％〜10％を含むジクロロメタンで溶出して油状
物（220mg）を得た。さらに酢酸エチル10％〜40
％を含むヘキサンを用いたシリカゲル（15ｇ）カ
ラムクロマトグラフイーによつて精製して、２−
〔（3S，4R）−４−｛２−（メトキシカルボニルメチ
ル）アリル｝−３−｛（1S）−１−（Ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（190mg）を得た。 IR〈CH2Cl2）：1750，1720〈シヨルダー〉、1525，
1350cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.50〈3H，Ｊ＝6.5Hz，ｄ〉，
1.96〈3H，ｓ〉，2.20〈3H，ｓ〉，2.3−2.7〈2H，
ｍ〉，3.04〈2H，ｓ〉，3.18〈1H，dd，Ｊ＝2.5，4.5
Hz〉，3.68〈3H，ｓ〉，3.74〈3H，ｓ〉，4.08〈1H，
ddd，Ｊ＝2.5，６，８Hz〉4.96〈2H，ｓ〉，５，
14〈1H，dd，Ｊ＝4.5，6.5Hz〉，5.25〈2H，ｓ〉，
7.54〈2H，ｄ，Ｊ＝10Hz〉，8.18〈2H，ｄ，Ｊ＝10
Hz〉 実施例 ２ ２−〔〈3S，4R〉−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
−メチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−
３−メチル−２−ブテン酸メチルの（1S，3S）−
トランス異性体、（1R，3S）−トランス異性体お
よび（1R，3S）−シス異性体の混合物（５：３：
２）（191mg）と３−（トリメチルシリルメチル）−
３−ブテン酸メチル（162mg）とのジクロロメタ
ン（1.5ml）溶液に、窒素雰囲気中−78℃でふつ
化ほう素酸銀（127mg）を加えた。混合物を撹拌
しながら１時間かけて徐々に０℃まで加温し、同
温度で1.5時間撹拌した。飽和塩化ナトリウム水
溶液（２ml）と酢酸エチル（５ml）を加え、混合
物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。
酢酸エチル（15ml）でさらに希釈後、混合物をけ
いそう土を用いて濾過した。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
（８ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセトン１
％〜５％を含むジクロロメタンで溶出して油状物
（141mg）を得た。さらに酢酸エチル10％〜30％を
含むヘキサンを用いたシリカゲル（８ｇ）カラム
クロマトグラフイーによつて精製し、２−〔（3S，
4R）−４−｛２−（メトキシカルボニルメチル）ア
リル｝−３−｛（1RS）−１−（Ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソ
アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテ
ン酸メチルの混合物（１：１）（131mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1720〈シヨルダー〉、1525，
1350cm-1 NMR〈アセトンd6〉δ：1.42〈1.5H，ｄ，Ｊ＝
７Hz〉，1.46〈1.5H，ｄ，Ｊ＝７Hz〉，1.94〈3H，
ｓ〉，2.14〈3H，ｓ〉，2.4−2.6〈2H，ｍ〉，3.07
〈2H，ｓ〉，3.14〈0.5H，dd，Ｊ＝３，７Hz〉，
3.24〈0.5H，dd，Ｊ＝３，５Hz〉，3.62〈3H，ｓ〉，
3.72〈3H，ｓ〉，4.14〈1H，ｍ；2.5ppm照射時ｔ，
Ｊ＝２Hz〉，4.9−5.1〈2H，ｍ〉，5.0−5.3〈1H，
ｍ〉，5.33〈2H，ｓ〉，7.69〈3H，ブロード，Ｊ＝
９Hz〉，8.24〈2H，ｄ，Ｊ＝９Hz〉 実施例 ３ 実施例２と同様にして、２−〔（3S，4R）−４−
クロロ−３−｛（1S）−１−（Ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソ
アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテ
ン酸メチルの（1S，3S）−トランス異性体、（1R，
3S）−トランス異性体および（1R，3S）−シス異
性体の混合物（５：６：４）（270mg）から２−
〔（3S，4R）−４−｛２−（メトキシカルボニルメチ
ル）アリル｝−３−｛（1RS）−１−（Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸メチルの混合物（２：１）（193mg）を
得た。 NMR〈アセトン−d6〉：1.43〈2H，ｄ，Ｊ＝6.5
Hz〉，1.47〈1H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz〉，1.95〈3H，ｓ〉，
2.15〈3H，ｓ〉，2.4−2.6〈2H，ｍ〉，3.08〈2H，
ｓ〉，3.17（２／3H，dd，Ｊ＝３，７Hz〉，3.26
〈１／3H，dd，Ｊ＝３，５Hz〉，3.63〈3H，ｓ〉，
3.73〈3H，ｓ〉，4.15〈1H，ｍ；2.5ppm照射時ｔ，
Ｊ＝２Hz〉，4.9−5.1〈2H，ｍ〉，5.13〈〜２／3H，
quintet，Ｊ＝７Hz〉，〜5.1〈〜１／3H，ｍ〉，
5.34〈2H，ｓ〉，7.67〈2H，ブロード，ｄ，Ｊ＝９
Hz〉，8.24〈2H，ｄ，Ｊ＝９Hz〉 実施例 ４ ２−〔〈3S，4R〉−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
メチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル〈180mg〉とアリ
ルトリメチルシラン（0.12ml）のジクロロメタン
（２ml）溶液に、窒素雰囲気中−78℃でふつ化ほ
う素酸銀（240mg）を加えた。混合物を撹拌しな
がら45分間かけて０℃まで加温し、同温度で１時
間撹拌した。混合物を酢酸エチル（10ml）で希釈
し、次いで飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。
混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和
し、さらに酢酸エチル（20ml）で希釈後、セルロ
ース粉末を用いて濾過した。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄、硫酸マグネシウムで
乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
（11ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル
３％〜30％を含むジクロロメタンで溶出して３−
メチル−２−〔（3S，4R）−３−｛（1S）−１−（Ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル｝−２−オキソ−４−アリルアゼチジン−１−
イル〕−２−ブテン酸メチル（47mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1725，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.49〈3H，ｄ，Ｊ＝７Hz〉，
1.95〈3H，ｓ〉，2.19〈3H，ｓ〉，2.1−2.6〈2H，
ｍ〉，3.17〈1H，dd，Ｊ＝2.5，５Hz〉，3.73〈3H，
ｓ〉，3.90〈1H，dd，Ｊ＝2.5，６，８Hz〉，4.9−
5.3〈3H，ｍ〉，5.24〈2H，ｓ〉，5.5−5.9〈1H，
ｍ〉，7.51〈2H，ｄ，Ｊ＝９Hz〉，8.18〈2H，ｄ，
Ｊ＝９Hz〉 実施例 ５ ２−〔（4S）−４−アリル−３−アミノ−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸ベンジル（175mg）のジクロロメタン
（６ml）溶液を０℃に冷却し、臭化水素酸トリメ
チルアミン（404mg）、亜硝酸イソペンチル
（90μl）およびＰ−トルエンスルホン酸水和物
（190mg）を加えた。同温度で30分間撹拌したの
ち、反応混合物を酢酸エチル（30ml）で希釈し、
次いで希炭酸水素ナトリウム、水、塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒で留去して２−〔（4S）−４−アリル−
３−ブロモ−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸ベンジルを油状物と
して得た。 この油状物をジクロロメタン（２ml）に溶か
し、15℃に冷却した後この溶液に酢酸（0.2ml）
と亜鉛末（300mg）を加えた。混合物を同温度で
30分間撹拌し、反応混合物を酢酸エチル（30ml）
で希釈後、けいそう土を用いて濾過した。濾液を
希炭酸水素ナトリウム水溶液、水、塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去すると油状物が得られた。得られ
た油状物をプレパラテイブ薄層クロマトグラフイ
ー（展開溶媒：酢酸エチル10％を含むジクロロメ
タン）で精製し、油状の２−〔（4S）−４−アリル
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチ
ル−２−ブテン酸ベンジル（40mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1750，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.94〈ｓ，3H〉，1.18〈ｓ，
3H〉，2.30〈ｍ，2H〉，2.77〈ABXパターンのAB
部分，JAB＝15Hz，JAX＝５Hz，JBX＝２Hz，2H〉，
3.90〈ｍ，1H〉，4.92〈ｍ，1H〉，5.04〈ｍ，1H〉，
5.16〈ABq，Ｊ＝12Hz〉，5.56〈ｍ，1H〉 実施例 ６ ジクロロメタン（30ml）に２−〔（4R）−３−ア
ミノ−４−アリル−２−オキソアゼチジン−１−
イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（815
mg）、臭化水素酸トリエチルアミン（2.50ｇ）お
よびＰ−トルエンスルホン酸水和物（1.17ｇ）を
加え０℃に冷却し、次いで亜硝酸イソペンチル
（0.54ml）を加えた。同温度で20分間撹拌したの
ち、混合物を濃縮し、残留物を酢酸エチル（50
ml）に溶解した。溶液を10％亜硫酸水素ナトリウ
ム、水、塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると２−
〔（4R）−３−ブロモ−４−アリル−２−オキソア
ゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン
酸メチル〈840mg〉の油状粗製物を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1770，1725cm-1 実施例 ７ ２−〔（3R，4R）−３−アミノ−４−アリル−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−２−ブテン酸メチル（1.0ｇ）のジクロロメタ
ン（10ml）溶液を−65℃に冷却し、これに亜硝酸
イソペンチル（1.01ml）および塩化水素〈524mg〉
のジエチルエーテル（８ml）溶液を加えた。混合
物を45分間かけて０℃まで加温し、同温度で1.5
時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル（40ml）
と希炭酸水素ナトリウム水溶液の混液にあけた。
有機層を分離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する
と油状物が得られた。油状物をシリカゲル（15
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ジクロロメタン
とアセトンの混合溶媒（100：２〜100：５）で溶
出して、油状の２−〔（4R）−４−アリル−３−ク
ロロ−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸メチル（658mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1775，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.00〈3H，ｓ〉，2.24〈3H，
ｓ〉，2.2−2.7〈2H，ｍ〉，3.78〈S1対，3H〉，4.0−
4.5〈2H，ｍ〉，4.9−5.3〈2H，ｍ〉，5.5−5.9〈1H，
ｍ〉． 実施例 ８ ２，６−ルチジン（3.82ml）とオキシ塩化燐
（1.37ml）を０℃で２−〔（3R，4R）−３−ホルム
アミド−２−オキソ−４−アリルアゼチジン−１
−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（970
mg）のジクロロメタン（10ml）溶液に加え、混合
物を同温度で３時間撹拌した。次いで、反応混合
物を酢酸エチル（100ml）−塩化ナトリウム水溶液
（50ml）混液にあけた。有機層を塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧蒸留に付した。油状残留物をシリカゲル（15
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ヘキサン−酢酸
エチル混合溶媒（10：１〜３：１）で溶出して２
−〔（3R，4R）−３−イソシアノ−２−オキソ−
アリルアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸メチル（766mg）を油状物として得た。 IR〈CH2Cl2〉：2145，1775，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.96〈ｓ，3H〉，2.24〈ｓ，
3H〉，2.3−2.6〈ｍ，2H〉，3.80〈ｓ，3H〉，4.20
〈dt，1H，Ｊ＝2.5，6.5Hz〉，4.98〈ｄ，1H，Ｊ＝
2.5Hz〉，5.0−5.3〈ｍ，2H〉，5.5−6.0〈ｍ，1H〉 質量分析：ｍ／c248（M+） 実施例 ９ ２−〔（3S，4S）−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル〈200mg〉と３−
（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸ｐ−ニ
トロベンジル（320mg）のジクロロメタン（1.7
ml）溶液に、−78℃でふつ化ほう素酸銀（133mg）
を一度に加えた。混合物を撹拌しながら45分間か
けて除々に０℃まで加温し、同温度で40分間撹拌
した。混合物を酢酸エチル（５ml）で希釈した。
飽和塩化ナトリウム水溶液（２ml）を加え、混合
物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でPH７に調整
した。酢酸エチル（15ml）でさらに希釈後、混合
物をけいそう土を用いて濾過した。有機層を分離
し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去して得られた油状物
をシリカゲル（８ｇ）クロマトグラフイーに付
し、アセトン１％〜５％を含むジクロロメタンで
溶出して油状物（215mg）を得た。酢酸エチル10
％〜40％を含むヘキサンを用いたシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーでさらに精製して、３−メ
チル−２−〔（3S，4R）−４｛２−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルメチル）アリル｝−３−
〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−２−ブテン酸メチル（200mg）を得
た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1725〈シヨルダー〉、1605，
1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.50〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，1H〉，
1.94〈ｓ，3H〉，2.20〈ｓ，3H〉，2.48〈ABX型の
AB部分、８本、Ｊ＝６，８，14Hz，2H〉，3.15
〈Ｓ，2H〉，3.19〈dd，Ｊ＝2.5，５Hz，1H〉，3.75
〈3H，ｓ〉，4.12〈ddd，Ｊ＝2.5，６，８Hz，1H〉，
5.02〈ｓ，2H〉，5.20〈ｍ，1H〉，5.23〈ｓ，2H〉，
5.28〈ｓ，2H〉7.52〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，7.56
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.23〈ｄ，Ｊ＝９Hz，4H〉 実施例 10 ２−〔（3S，4RS）−４−クロロ−３−｛（1R）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキ
シ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸メチル（392mg）と
３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸ｐ
−ニトロベンジル（562mg）の混合物（55：45）
をジクロロメタン（3.5ml）に溶かし、窒素雰囲
気中−78℃でふつ化ほう素酸銀（260mg）を一度
加えた。混合物を撹拌しながら45分間かけて徐々
に０℃まで加温し、同温度で１時間撹拌した。混
合物を酢酸エチル（10ml）で希釈した。飽和塩化
ナトリウム水溶液（３ml）を加え、混合物を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液でPH７に中和した。得
られた混合物をけいそう土を用いて濾過した。酢
酸エチル（20ml）でさらに希釈したのち、有機層
を分離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得られ
た油状物をシリカゲル（15ｇ）クロマトグラフイ
ーに付し、アセトン１％〜５％を含むジクロロメ
タンで溶出して、油状物（326mg）を得た。酢酸
エチル10％〜40％を含むヘキサンを用いたシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーでさらに精製し
て、３−メチル−２−〔（2S，4R）−４−｛２−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）アリ
ル｝−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（289
mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1720〈シヨルダー〉、1525，
1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
1.95〈ｓ，3H〉，2.19〈ｓ，3H〉，2.50〈ｍ，2H〉，
3.06〈dd，Ｊ＝2.5，７Hz，1H〉，3.13〈ｓ，2H〉，
3.74〈ｓ，3H〉，4.10〈ddd，Ｊ＝2.5，６，7.5Hz，
1H〉，5.01〈ｓ，2H〉，5.17〈五重線、Ｊ＝７Hz，
1H〉，5.20〈ｓ，2H〉，5.25〈ｓ，2H〉，7.48〈ｄ，
Ｊ＝９Hz，2H〉，7.52〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.18
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，4H〉 〔α〕22 D：−5.65゜〈ｃ＝0.513，CHCl3〉． 次に、この発明の目的化合物（）から、チエ
ナマイシン基本骨格を有する抗生物質およびその
合成中間体の製造法を下記参考例により具体的に
説明する。 参考例 １ ２−〔（4R）−３−ブロモ−４−アリル−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（840mg）をジクロロメタン（６
mgに）溶解し、５℃に冷却した。この溶液に酢酸
（0.5ml）と亜鉛末（0.60ｇ）を加え、混合物を室
温に加温した。30分間撹拌後、反応混合物を酢酸
エチル（６ml）で希釈し、けいそう土を用いて濾
過した。濾液を酢酸エチル（50ml）でさらに希釈
し、水、希炭酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナト
リウム水溶液で順次洗浄した。硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去して油状物を得た。油状物
をシリカゲル（20ｇ）をクロマトグラフイーに付
し、ベンゼン−アセトン混合溶媒（５：１）で溶
出する２−〔（4R）−４−アリル−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
メチル（174mg）が油状物として得られた。 IR（CH2Cl2）：1745，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.96〈3H，ｓ〉，2.18〈3H，
ｓ〉，2.2−2.5〈2H，ｍ〉，2.88〈ABA型のAB部
分、JAB＝16Hz，JAX＝2.5Hz，JBX＝５Hz，2H〉，
2.75〈3H，ｓ〉，3.96〈1H，ｍ〉，5.00〈1H，ｍ〉，
5.14〈1H，ｍ〉，5.72〈1H，ｍ〉 参考例 ２ ２−〔（4R）−４−アリル−３−クロロ−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（600mg）、トリブチルスタナン
（0.97ml）および２，2′−アゾビス−（２−メチル
プロピオニトリル）（40mg）のベンゼン（６ml）
溶液を1.5時間還流した。反応混合物を酢酸エチ
ル（30ml）と希炭酸水素ナトリウム水溶液の混液
にあけた。有機層を分離し、塩化ナトリウム水溶
液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去した。油状残留物をシリカゲル（10
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ヘキサン−酢酸
エチル混合溶媒（10：１〜10：３）で溶出して２
−〔（4R）−４−アリル−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（452mg）を油状物として得た。 IR（CH2Cl2）：1750，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.97〈3H，ｓ〉，2.20〈3H，
ｓ〉，2.3−2.5〈2H，ｍ〉，2.63〈dd，1H，Ｊ＝３
Hz，16Hz〉，3.11〈dd，1H，Ｊ＝５Hz，16Hz〉，
3.77〈3H，ｓ〉，3.7−4.2〈1H，ｍ〉，4.8−5.3〈2H，
ｍ〉，5.4−6.1〈1H，ｍ〉 参考例 ３ ２−〔（4R）−４−アリル−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（100mg）、塩化パラジウム（16mg）および塩化第
一銅（44mg）の混合物をジメチルホルムアミド
（１ml）と水（0.12ml）の混液に加え、酸素雰囲
気中で3.5時間撹拌した。反応液を酢酸エチル
（20ml）で希釈し、濾過した。濾液を水および塩
化ナトリウム水溶液で洗浄した。水層を合わせ、
酢酸エチル（10ml×２）で抽出し、抽出物を塩化
ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を合わせ、
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
した。油状残留物をシリカゲル（１ｇ）クロマト
グラフイーに付し、ジクロロメタン−アセトン混
合溶媒（100：２〜100：５）で溶出すると２−
〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−オキソ
アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテ
ン酸メチル（89mg）が油状物として得られた。 IR〈CH2Cl2〉：1745，1710cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.92〈3H，ｓ〉，2.13〈3H，
ｓ〉，2.18〈3H，ｓ〉，2.4−3.4〈4H，ｍ〉，3.76
〈3H，ｓ〉，4.2−4.5〈1H，ｍ〉 参考例 ４ ２−〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−プテン酸メチル（580mg）の酢酸エチル（10ml）
溶液中に、反応液が青色を呈するまで−65℃でオ
ゾンを吹込んだ。次いで反応液中に、同温度で15
分間窒素を吹込んだ。反応混合物を酢酸エチル
（30ml）で希釈し、溶液を炭酸水素ナトリウム
（1.26ｇ）を含む塩化ナトリウム水溶液で処理し
た。分離した水層を酢酸エチル（20ml）で抽出し
た。有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を留去して〔（4R）−４−（２−
オキソプロピル）−２−オキソアゼチジン−１−
イル〕グリオキシル酸メチルを得た。この生成物
をジクロロメタン（５ml）で希釈し、０℃に冷却
し、次いで亜鉛末（1.06ｇ）と酢酸（0.5ml）を
加えた。室温で２時間撹拌したのち、亜鉛末
（580mg）と酢酸（0.25ml）を加え、混合物を室温
で２時間撹拌した。混合物を濾過し、濾液を減圧
蒸留に付した。残留物をジクロロメタンで希釈
し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、水層を酢酸
エチルで二回抽出した。有機層を合わせ、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去すると
２−ヒドロキシ−２−〔（4R）−４−（２−オキソ
プロピル）−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
酢酸メチル（300mg）が油状物として得られた。 IR〈CH2Cl2〉：1760，1710cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：2.19〈3H，ｓ〉，2.2−3.4
〈4H，ｍ〉，3.80〈３／4H，ｓ〉，3.88〈９／4H，
ｓ〉，4.0−4.4〈1H，ｍ〉。 参考列 ５ ２−ヒドロキシ−２−〔（4R）−４−（２−オキ
ソプロピル）−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
酢酸メチル（268mg）のテトラヒドロフラン（５
ml）溶液を−40℃で冷却し、２，６−ルチジン
（0.287ml）と塩化チオニル（0.18ml）を加えた。
混合物を１時間かけて０℃まで加温しながら撹拌
した。混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮すると２
−クロロ−２〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕酢酸メチル
が得られた。この生成物をベンゼンで希釈し、再
び減圧濃縮した。残留物をテトラヒドロフラン
（５ml）で希釈し、０℃で２，６−ルチジン
（0.287ml）とトリフエニルホスフイン（650mg）
を加えた。混合物を室温で15時間撹拌し、濾過し
た。濾液を減圧濃縮し、残留物をシリカゲル（10
ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル−ア
セトン混合溶媒（10：１〜10：５）で溶出して２
−〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−オキ
ソアゼチジン−１−イル〕−２−（トリフエニルホ
スホラニリデン）酢酸メチル（350mg）を油状物
とした得た。 IR（CH2Cl2）：1735，1705cm-1 参考例 ６ ２−〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−２−（トリフエニ
ルホスホラニリデン）酢酸メチル（100mg）のト
ルエン（３ml）溶液を110℃で２時間撹拌した。
混合物を減圧濃縮し、残留物をシリカゲル（３
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ベンゼン−アセ
トン混合溶媒（10：１）で溶出して（5R）−３−
メチル−７−オキソ−アザビシクロー〔３，２，
０〕−２−ヘプテン−２−カルボン酸メチル（17
mg）を得た。 IR〈CHCl3〉：1770，1720cm-1 NMR〈ベンゼンd6）δ：1.7−2.0〈2H，ｍ〉，
1.85〈3H，ｓ〉，2.12〈dd，1H，Ｊ＝３Hz，15Hz〉，
2.66〈dd，1H，Ｊ＝７Hz，15Hz〉，3.1−3.5〈1H，
ｍ〉，3.48〈3H，ｓ〉 参考例 ７ ２，2′−アゾビス（２−メチルプロピオニトリ
ル）（98mg）とトリブチルスタナン（0.95ml）を
２−〔（3R，4R）−３−イソシアノ−２−オキソ
−４−アリルアゼチジン−１−イル〕−３−メチ
ル−２−ブテン酸メチル（740mg）のベンゼン
（15ml）溶液に加え、混合物を20分間還流した。
反応混合物をシリカゲル（15ｇ）クロマトグラフ
イーに付し、ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒
（５：１〜３：１）で溶出して、２−〔（4R）−２
−オキソ−４−アリルアゼチジン−１−イル〕−
３−メチル−２−ブテン酸メチル（660mg）を得
た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1720cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.97〈ｓ，3H〉，2.20〈ｓ，
3H〉，2.3−2.5〈ｍ，2H〉，2.63〈dd，1H，Ｊ＝
３，16Hz〉，3.11〈dd，1H，Ｊ＝５，16Hz〉，3.77
〈ｓ，3H〉，3.7−4.2〈ｍ，1H〉，4.8−5.3〈ｍ，
2H〉，5.4−6.1〈ｍ，1H〉 参考例 ８ ３−メチル−２−〔（4R）−２−オキソ−４−ア
リルアゼチジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチ
ル（330mg）の酢酸エチル（20ml）溶液中に、−78
℃で青色が現われるまでオゾンを吹込んだ。過剰
のオゾンを窒素気流で除去した後、混液を亜硫酸
水素酸ナトリウム（1.6ｇ）と亜硫酸ナトリウム
（0.4ｇ）を含む希塩化ナトリウム水溶液に注加し
た。混合物を振とうし、有機層を分離した。水層
をジクロロメタンで三回抽出した。抽出物を合わ
せ、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する
と〔（4R）−２−オキソ−４−（１，２，４−トリ
オキソラン−３−イル−メチル）アゼチジン−１
−イル〕グリオキシル酸メチル（354mg）が油状
物として得られた。 IR〈CH2Cl2〉：1810，1755，1705cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.9−2.3〈ｍ，1H〉，2.70
〈ddd，Ｊ＝４，８，16Hz，1H〉，3.06〈ddd，Ｊ＝
2.5，４，18Hz，1H〉，3.42〈dd，Ｊ＝６，18Hz，
1H〉，3.96〈ｓ，3H〉，4.2−4.6〈ｍ，1H〉，5.15
〈〜ｔ，Ｊ＝２Hz，2H〉，5.44〈ｍ，1H〉 参考例 ９ 〔（4R）−２−オキソ−４−（１，２，４−トリ
オキソラン−３−イルメチル）アゼチジン−１−
イル〕グルオキシル酸メチル（96mg）とジメチル
サルフアイド（0.5ml）をメタノールとジクロロ
メタンの１：１混液（８ml）に溶解し、室温で21
時間撹拌し、次いで50℃で８時間加熱した。溶媒
を除き、黄色残留物をシリカゲル（1.5ｇ）クロ
マトグラフイーに付し、メタノール３％〜５％を
含むジクロロメタンで溶出して（4R）−４−（２
−オキソエチル）−２−オキソアゼチジン（20mg）
を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3400，1760，1720cm-1 参考例 10 〔（4R）−２−オキソ−４−（１，２，４−トリ
オキソラン−３−イルメチル）アゼチジン−１−
イル〕グリオキシル酸メチル（60mg）のメタノー
ル（５ml）溶液を65〜70℃で２時間加熱した。黄
色の溶液を０℃に冷却し、ジアゾメタン（過剰
量）のジエチルエーテル溶液で処理した。溶媒を
除き、残留物をシリカゲル（1.5ｇ）クロマトグ
ラフイーに付し、アセトン20％を含むジクロロメ
タンで溶出して２−〔（2R）−４−オキソアゼチジ
ン−２−イル〕酢酸メチル（６mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3390，1760，1730cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：2.5−2.8〈ｍ，3H〉，3.16
〈ddd，Ｊ＝2.5，６，16Hz，1H〉，3.74〈ｓ，3H〉，
3.8−4.1〈ｍ，1H〉，6.3〈ｍ，1H〉 その後の画分から（4R）−４−（２−オキソエ
チル）−２−オキソアゼチジン（５mg）を得た。 参考例 11 （4R）−４−（２−オキソエチル）−２−オキソ
アゼチジン（20mg）とトリフエニルホスホラニリ
デン酢酸ベンジル（80mg）をジクロロメタン（３
ml）に加え、80分間加熱還流した。溶媒を除き、
残留物をシリカゲル（２mg）クロマトグラフイー
に付し、メタノール３％を含むジクロロメタンで
溶出して油状物（30mg）を得た。シリカゲル・プ
レート（展開溶媒：メタノール４％を含むジクロ
ロメタン）２枚を用いたクロマトグラフイーで処
理した４−〔（2R）−４−オキソアゼチジン−２−
イル〕−２−ブテン酸ベンジル（16mg）を粗製物
として得た。 IR〈CH2Cl2〉：1765，1720cm-1 参考例 12 ４−〔（2RS）−４−オキソアゼチジン−２−イ
ル〕−２−ブテン酸ベンジル（167mg）、ｔ−ブチ
ルヒドロパーオキサイド（0.3ml）およびテトラ
クロロパラジウム酸ナトリウム（80mg）を67％酢
酸水溶液（2.7ml）に加え、50℃で8.5時間加熱し
た。0.5mlのｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと
40mgのテトラクロロパラジウム酸ナトリウムをさ
らに加えた。反応液を室温で３日間撹拌し、50℃
で14時間加熱した。減圧下で溶媒を留去し、残留
物を酢酸エチル（20ml）に転溶し、希塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去して油状物（200mg）を得た。こ
れをシリカゲル・プレート（展開溶媒：アセトン
20％を含むジクロロメタン）を用いたクロマトグ
ラフイーで処理し３−オキソ−４−〔（2RS）−４
−オキソアゼチジン−２−イル〕ブタン酸ベンジ
ル（66mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3400，1760，1715cm-1 参考例 13 ２−〔（4R）−４−アリル−２−オキソアゼチジ
ン−１−イル〕−３−メチル−ブテン酸メチル
（85mg）の酢酸エチル（７ml）溶液を−78℃に冷
却し、青色が現われるまでオゾンを吸込んだ。同
温度で10分間撹拌後、反応液を窒素ガス置換し
た。この溶液に水素化ほう素ナトリウム（60mg）
を加え、混合物を−78℃で30分間撹拌した。次い
で酢酸（0.12ml）を加え、混合物の温度を２時間
かけて徐々に０℃に上昇させながら撹拌した。反
応液を酢酸エチル（10ml）で希釈し、水、希炭酸
水素ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で
順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去して得られた油状物（20mg）をシリカゲル
（１ｇ）クロマトグラフイーに付し、ジクロロメ
タン−メタノール（10：１）で溶出して２−ヒド
ロキシ−２−〔（4R）−４−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２−オキソアゼチジン−１−イル〕酢酸メ
チル（12mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：3500，1765，1745（シヨルダー）
cm-1 参考例 14 ２−〔（3S，4R）−４−〔２−（メトキシカルボニ
ルメチル）アリル〕−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−２−ブテン酸メチル（190mg）の酢酸エチル
（14ml）溶液中に、青色が現われるまで−78℃で
オゾン気流を吹込んだ。−78℃で２分間撹拌後、
過剰のオゾンを窒素気流で除去した。溶液を酢酸
エチルで希釈し、冷亜硫酸水素ナトリウム水溶液
（1.0ｇ）、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除いて油状物
（182mg）を得た。残留物をジクロロメタン（2.5
ml）に溶かし、０℃に冷却した。この溶液にメタ
ノール（7.5ml）とジメチルサルフアイド（0.7
ml）を加え、得られた溶液を０℃で25時間撹拌し
た。次いで混合物を50℃で22時間加熱し、室温で
４日間放置した。溶媒を除き、残留物をシリカゲ
ル（６ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセトン
５％〜20％を含むジクロロメタンで溶出して、４
−〔（2R，3S）−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−オ
キソアゼチジン−２−イル〕−３−オキソブタン
酸メチル（122mg）を得た。 NMR〈CDCl3〉δ：1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
2.90−3.05〈ｍ，2H〉，3.10〈dd，Ｊ＝2.2，4.5Hz，
1H〉，3.48〈ｓ，2H〉，3.73〈ｓ，3H〉，3.8〈ｍ，
1H〉，5.13〈dq，Ｊ＝4.5，6.5Hz，1H〉，5.24〈ｓ，
2H〉，6.51〈ブロードｓ，1H〉，7.53〈ｄ，Ｊ＝９
Hz，2H〉and8.18〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉 参考例 15 参考例14と同様にして、２−〔（3S，4R）−４−
｛２−（メトキシカルボニルメチル）アリル｝−３
−〔（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブタン酸メチル
（90mg）から４−〔（2R，3S）−３−｛（1RS）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−４−オキソアゼチジン−２−イル〕−３
−オキソブタン酸メチル（61mg）が得られた。 IR〈CH2Cl2〉：3380，1765，1745，1715，1520，
1350cm-1 NMR〈アセトン−d6〉δ：1.42〈ｄ，Ｊ＝6.5
Hz，2H〉，1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，1H〉，3.0−3.2
〈ｍ，3H〉，3.59〈ｓ，2H〉，3.69〈ｓ，3H〉，3.80
〈dt，Ｊ＝2.5，７Hz，１／3H〉，3.95〈ddd，Ｊ＝
2.5，６，８Hz，２／3H〉，5.10〈五重線、Ｊ＝6.5
Hz，２／3H〉，5.15〈ｍ，１／3H，hidden〉，7.15
ブロードｓ，１／3H〉，7.23〈ブロードｓ，２／
3H〉，7.66〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉 参考例 16 ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−
２−オキソ−４−アリル−アゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（62mg）
の酢酸エチル（５ml）溶液を−70℃に冷却し、青
色が現われるまでオゾンを吹込んだ。同温度で15
分間撹拌し、反応液を窒素ガス置換し、酢酸エチ
ルと亜硫酸水素ナトリウム・亜硫酸ナトリウム水
溶液（４：１）の混液にあけた。有機層を分離
し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、油状の
〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−４−
（１，２，４−トリオキソラン−３−イルメチル）
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕グルオキシ
ル酸メチル（56mg）を得た。この油状物をメタノ
ール（４ml）・ジクロロメタン（２ml）混液に溶
かし、ジメチルサルフアイド（0.5ml）を０℃で
加えた。混合物を同温度で２時間、室温で一夜撹
拌した。50℃でさらに３時間撹拌後、溶媒を留去
した。残留物を再びメタノール（14ml）に溶か
し、これにジメチルサルフアイド（0.5ml）を加
えた。混合物を室温で一夜撹拌し、次いで溶媒を
留去した。残留物をプレパラテイブ薄層クロマト
グラフイー（シリカゲル）に付し、ベンゼン−ア
セトン（１：１）で展開して、（3S，4R）−３−
〔（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−４−（２−オキソエチル）
−２−オキソアゼチジン〔IR〈CH2Cl2〉：3375，
1770，1750，1720cm-1〕とそのジメチルアセター
ルの混合物（５mg）を得た。 ジメチルアセタール化合物の物理定数： IR〈CH2Cl2〉：1760，1750cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.45〈ｄ，3H，6.5Hz〉，
1.94〈dd，2H，Ｊ＝６，5.5Hz〉，3.0−3.2〈ｍ，
1H〉，3.32〈ｓ，3H〉，3.5−3.8〈ｍ，1H〉，4.41
〈ｔ，1H，Ｊ＝5.5Hz〉，4.9−5.3〈ｍ，1H〉，5.24
〈ｓ，2H〉，6.12〈ブロードｓ，1H〉，7.84〈A2B2，
4H，Ｊ＝９Hz〉 参考例 17 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソ−４−アリルアゼチジン−
１−イル〕−２−ブテン酸メチル（135mg）の酢酸
エチル（10ml）溶液を−70℃に冷却し、青色が現
われるまでオゾンを吹込んだ。同温度で15分間撹
拌後、混合物を窒素ガス置換し、酢酸エチルと亜
硫酸水素ナトリウム・亜硫酸ナトリウム水溶液
（３：１）の混液にあけた。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去して〔（3S，4R）−３−
｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソ−４−（１，
２，４−トリオキソラン−３−イルメチル）〕グ
リオキシル酸メチルを得た。生成物をメタノール
（４ml）に溶かしジメチルサルフアイド（１ml）
を０℃で加えた。混合物を同温度で２時間、室温
で２時間撹拌した。ジメチルサルフアイドをさら
に0.5ml加え、混合物を50℃で６時間撹拌した。
室温で一夜放置し、溶媒を除き、残留物をベンゼ
ンに溶かした。溶液から溶媒を除き、残留物をシ
リカゲル（３ｇ）クロマトグラフイーに付し、ヘ
キサン−酢酸エチル（４：１〜１：２）で溶出し
て、（3S，4R）−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
（２−オキソエチル）−２−オキソアゼチジン（15
mg）〔IR〈CH2Cl2〉：3375，1770，1750，1720cm
-1〕とそのジメチルアセタール（37mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1760，1750cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.45〈ｄ，3H，Ｊ＝6.5Hz〉，
1.94〈dd，2H，Ｊ＝６，5.5Hz〉，3.10〈dd，1H，
Ｊ＝５，2.5Hz〉，3.32〈ｓ，3H〉，3.62〈dt，1H，
Ｊ＝2.5，６Hz〉，4.41〈ｔ，1H，Ｊ＝5.5Hz〉，4.9
−5.3〈ｍ，1H〉，5.24〈ｓ，2H〉，6.28〈ブロード
ｓ，1H〉，7.84〈A2B2，4H，Ｊ＝９Hz〉〕 参考例 18 （3S，4R）−４−（２，２−ジメトキシエチル）
−３−〔（1RS）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル〕−２−オキソアゼチ
ジン（12mg）を80％酢酸水溶液（１ml）に加え、
50℃で４時間撹拌した。−20℃で一夜放置し、混
合物から溶媒を除き、残留物を酢酸エチルに溶か
した。溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を留去して、（3S，4R）−３−〔（1RS）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル〕−２−オキソ−４−（２−オキソエ
チル）〕アゼチジン（８mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3420，1770，1750，1720cm-1 参考例 19 参考例18と同様にして（3S，4R）−３−〔（1S）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル〕−４−（２，２−ジメトキシエチ
ル）−２−オキソアゼチジンから（3S，4R）−３
〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−２−オキソ−４−（２−オ
キソエチル）アゼチジンを得た。 IR〈CH2Cl2〉：3375，1770，1750，1720cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.48〈ｄ，3H，Ｊ＝７Hz〉，
2.92〈ｄ，2H，Ｊ＝６Hz〉，3.12〈dd，1H，Ｊ＝
５，2.5Hz〉，3.86（dt，1H，Ｊ＝2.5，６Hz〉，5.0
−5.3〈ｍ，1H〉，5.25〈ｓ，2H〉，6.48〈ｓ，1H〉，
7.84〈A2B2，4H，Ｊ＝９Hz〉，9.74〈ｓ，1H〉 参考例 20 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−｛２−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）アリ
ル｝−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（187
mg）の酢酸エチル（８ml）溶液中に、青色が現わ
れるまで−78℃でオゾンを吹込んだ。３分後、過
剰のオゾンを窒素気流で除去した。溶液を酢酸エ
チル（20ml）で希釈し、冷亜硫酸水素ナトリウム
水溶液（１ｇ）、希塩化ナトリウム水溶液、飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、非晶質
固形物（191mg）を得た。この残留物をジメチル
サルフアイド（0.7ml）を含むジクロロメタン
（2.5ml）に溶かし、０℃まで冷却した。溶液を０
℃で７時間、室温で40.5時間撹拌した。得られた
溶液を50℃で34.5時間加熱し、室温で２日間放置
した。混合物から溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲル（５ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセト
ン５％〜10％を含むジクロロメタンで抽出して、
４−〔（2R，3S）−３−｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−４−
オキソアゼチジン−２−イル〕−３−オキソ−ブ
タン酸ｐ−ニトロベンジル（124mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3390，1765，1745，1715，1605，
1605，1525，1345cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
3.00〈ｍ，2H〉，3.10〈dd，Ｊ＝2.5，５Hz，1H〉，
3.60〈ｓ，3H〉，3.85〈ｍ，1H〉，5.16〈ｍ，1H；
1.46ppm照射時ｄ，Ｊ＝５Hz〉，5.27〈ｓ，4H〉，
6.47〈brs，1H〉，7.51〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，7.53
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.18〈ｄ，Ｊ＝９Hz，4H〉 〔α〕22 D：＋28.13゜〈ｃ＝0.736，CHCl3〉 参考例 21 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−｛２−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）アリ
ル｝−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（233
mg）の酢酸エチル（10ml）溶液中に、青色が現わ
れるまで−78℃でオゾン気流を吹込んだ。３分
後、過剰のオゾンを窒素気流で除去した。溶液を
酢酸エチル（20ml）で希釈し、冷亜硫酸水素ナト
リウム水溶液（1.2ｇ）と塩化ナトリウム水溶液
で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムを乾燥
し、溶媒を留去して、非晶質固形物（240mg）を
得た。この残留物をジメチルサルフアイド（0.9
ml）を含むジクロロメタン（３ml）に溶かし、０
℃まで冷却した。メタノール（９ml）を加え、溶
液を０℃で５時間、窒素雰囲気中室温で９時間撹
拌した。次いで混合物を55℃で31時間加熱した。
得られた溶液から溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲル（６ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセト
ン５％〜15％を含むジクロロメタンで溶出し、４
−〔（2R，3S）−３−｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−４−オ
キソアゼチジン−２−イル〕−３−オキソ−ブタ
ン酸ｐ−ニトロベンジル（145mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3370，1760，1745，1710，1605，
1520，1350cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.42〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
2.8−3.1〈ｍ，3H〉，3.60〈ｓ，2H〉，3.94〈ddd，Ｊ
＝2.5，５，８Hz，1H〉，5.11〈五重線、Ｊ＝７Hz，
1H〉，5.26〈ｓ，4H〉，6.52〈brs，1H〉，7.50〈ｄ，
Ｊ＝９Hz，2H〉，7.52〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.17
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉 〔α〕22 D：＋21.83゜〈ｃ＝0.907，CHCl3〉
しては、脂肪族アシル基ならびに芳香族環を含む
アシル基（以下芳香族アシルと呼ぶ）または複素
環を含むアシル基（以下複素環アシルと呼ぶ）が
含まれる。 アシル基の適当な例としては次のとおりであ
る。 脂肪族アシルとしては、低級または高級アルカ
ノイル（たとえばホルミル、アセチル、サクシニ
ル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、ステアロイル
など）、低級または高級アルケノイル（たとえば
アクリロイル、マレオイルなど）、低級または高
級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ｔ−ペンチルオキシカルボニル、ヘプチ
ルオキシカルボニルなど）、低級または高級アル
カンスルホニル（たとえばメタンスルホニル、エ
タンスルホニルなど）などが挙げられ、芳香族ア
シルとしては、アロイル（たとえばベンゾイル、
トルオイル、ナフトイル、フタロイルなど）、フ
エニル（低級）アルカノイルのようなアル（低
級）アルカノイル（たとえばフエニルアセチル、
フエニルプロピオニルなど）、アリールオキシカ
ルボニル（たとえばフエノキシカルボニル、ナフ
チルオキシカルボニルなど）、フエノキシ（低級）
アルカノイルのようなアリールオキシ（低級）ア
ルカノイル（たとえばフエノキシアセチル、フエ
ノキシプロピオニルなど）、アリールグリオキシ
ロイル（たとえばフエニルグリオキシロイル、ナ
フチルグリオキシロイルなど）、アレーンスルホ
ニル（たとえばベンゼンスルホニル、ｐ−トルエ
ンスルホニルなど）などが挙げられ、また複素環
アシルとして、複素環カルボニル（たとえばテノ
イル、フロイル、ニコチノイルなど）、複素環
（低級）アルカノイル、（たとえばチエニルアセチ
ル、チアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチル
など）、複素環グリオキシロイル（たとえばチア
ゾリルグリオキシロイル、チエニルグリオキシロ
イルなど）などが挙げられるが、前記のような
“複素環カルボニル”、“複素環（低級）アルカノ
イル”および“複素環グリオキシロイル”中の適
当な複素環部分は、さらに詳しくは、酸素原子、
硫黄原子、窒素原子などのような複素原子を少な
くとも１つ含む飽和または不飽和の複素単環基ま
たは複素多環基を意味する。また特に好ましい複
素環基としては、窒素原子１〜４を含む３〜８員
環〔さらに好ましくは５または６員環〕の不飽和
複素単環基、たとえばピロリル、ピロリニル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、ピリジンとそのＮ−オ
キサイド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ピ
ラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（たとえ
だ4H−１，２，４−トリアゾリル、1H−１，
２，３−トリアゾリル、2H−１，２，３−トリ
アゾリルなど）、テトラゾリル（たとえば1H−テ
トラゾリル、2H−テトラゾリルなど）など、窒
素原子１〜４を含む３〜８員環（さらに好ましく
は５または６員環）の飽和複素単環基、たとえば
ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、
ピペラジニルなど、窒素原子１〜４を含む不飽和
縮合複素環基、たとえばインドリル、イソインド
リル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キ
ノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾト
リアゾリルなど、酸素原子１〜２および窒素原子
１〜３を含む３〜８員環（さらに好ましくは５ま
たは６員環）の不飽和複素単環基、たとえばオキ
サゾリル、イソキサゾリル、オキサジアゾリル
（たとえば１，２，４−オキサジアゾリル、１，
３，４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサ
ジアゾリルなど）など、酸素原子１〜２および窒
素原子１〜３を含む３〜８員環（さらに好ましく
は５または６員環）の飽和複素単環基、たとえば
モルホリニル、シドノニルなど、酸素原子１〜２
および窒素原子１〜３を含む不飽和縮合複素環
基、たとえばベンズオキサゾリル、ベンズオキサ
ジアゾリルなど、硫黄原子１〜２および窒素原子
１〜３を含む３〜８員環（さらに好ましくは５ま
たは６員環）の不飽和複素単環基、たとえばチア
ゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル（たと
えば１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−
チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、
１，２，５−チアジアゾリルなど）、ジヒドロチ
アジニルなど、硫黄原子１〜２および窒素原子１
〜３を含む３〜８員環（さらに好ましくは５また
は６員環）の飽和複素単環基、たとえばチアゾリ
ジニルなど、硫黄原子１〜２を含む３〜８員環
（さらに好ましくは５または６員環）の不飽和複
素単環基、たとえばチエニル、ジヒドロジチイニ
ルなど、硫黄原子１〜２および窒素原子１〜３を
含む不飽和縮合複素環基、たとえばベンゾチアゾ
リル、ベンゾチアジアゾリルなど、酸素原子１原
子を含む３〜８員環（さらに好ましくは５または
６員環）の不飽和複素単環基、たとえばフリルな
ど、酸素原子１および硫黄原子１〜２を含む３〜
８員環（さらに好ましくは５または６員環）の不
飽和複素単環基、たとえばジヒドロオキサチイニ
ルなど、硫黄原子１〜２を含む不飽和縮合複素環
基、たとえばベンゾチエニル、ベンゾジチイニル
など、酸素原子１および硫黄原子１〜２を含む不
飽和縮合複素環基、たとえばベンゾキサチイニル
などが挙げられる。 上記のように定義されたアシル部分は、１〜10
の、同じまたは異なる、適当な置換基、たとえば
低級アルキル（たとえばメチル、エチルなど）、
低級アルコキシ（たとえばメトキシ、エトキシ、
プロポキシなど）、低級アルキルチオ（たとえば
メチルチオ、エチルチオなど）、低級アルキルア
ミノ（たとえばメチルアミノなど）、シクロ（低
級）アルキル（たとえばシクロペンチル、シクロ
ヘキシルなど）、シクロ（低級）アルケニル（た
とえばシクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル
など）、ヒドロキシ、ハロゲン（たとえばクロロ、
ブロモなど）、アミノ、前に述べたような保護さ
れたアミノ、シアノ、ニトロ、カルボキシ、後に
述べるような保護されたカルボキシ、スルホ、ス
ルフアモイル、イミノ、アミノ（低級）アルキル
（たとえばアミノメチル、アミノエチルなど）で
置換されていてもよい。 上記のように定義された“アシルアミノ”の好
ましい具体例として、フタルイミドのようなアロ
イルアミノが挙げられる。 保護されたヒドロキシ（低級）アルキルの適当
な例としては、通常の保護されたヒドロキシ基に
よつて置換された低級アルキルを意味し、アシル
部分が上記定義と同じであり、低級アルキル部分
がメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネオ
ペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシルなどであるア
シルオキシ（低級）アルキルが挙げられ、このよ
うに定義された“保護されたヒドロキシ（低級）
アルキル”の好ましい具体例としては、置換され
たあるいは置換されないアリール（低級）アルコ
キシカルボニルオキシ（低級）アルキル、たとえ
ばニトロによつて置換されていてもよい、モノー
またはジーまたはトリフエニル（低級）アルコキ
シカルボニルオキシ（低級）アルキル（たとえば
ベンジルオキシカルボニルオキシメチル、ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルオキシメチル、１−ま
たは２−ベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル、１−または２−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルオキシエチル、ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシメチル、１−または２−ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル、１−
または２−または３−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシプロピルなど）が挙げられる。 “ヒドロキシ（低級）アルキル”の適当な例と
しては、１−ヒドロキシメチル、１−または２−
ヒドロキシエチル、１−または２−または３−ヒ
ドロキシプロピルなどが挙げられる。 “保護されたカルボキシ基”の適当な例として
は、セフアロスポリン化合物またはペニシリン化
合物の４位または３位におけるカルボキシ基保護
基として通常使用される適当な保護基で置換され
たカルボキシ基、たとえばエステル化されたカル
ボキシ基が挙げられ、そのエステル部分の適当な
例としては、たとえば低級アルキルエステル（た
とえばメチルエステル、エチルエステル、プロピ
ルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、ｔ−ペンチルエステル、
ヘキシルエステルなど）、低級シクロアルキル
（低級）アルキルエステル（たとえば１−シクロ
プロピルエチルエステルなど）、低級アルケニル
エステル（たとえばビニルエステル、アリルエス
テルなど）、低級アルキニルエステル（たとえば
エチニルエステル、プロピニルエステルなど）、
低級アルコキシアルキルエステル（たとえばメト
キシメチルエステル、エトキシメチルエステル、
イソプロポキシメチルエステル、１−メトキシエ
チルエステル、１−エトキシエチルエステルな
ど）、低級アルキルチオアルキルエステル（たと
えばメチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプ
ロピルチオメチチルエステルなど）、モノーまた
はジーまたはトリハロ（低級）アルキルエステル
（たとえば２−ヨードエチルエステル、２，２，
２−トリクロロエチルエステルなど）、低級アル
カノイルオキシ（低級）アルキルエステル（たと
えばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメ
チルエステル、２−アセトキシエチルエステル、
２−プロピオニルオキシエチルエステルなど）、
低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエステ
ル（たとえばメシルメチルエステル、２−メシル
エチルエステルなど）、アル（低級）アルキルエ
ステル、たとえば、一以上の適当な置換基、たと
えばニトロ、ヒドロキシ、低級アルコキシなどで
置換されていてもよいフエニル（低級）アルキル
エステル〔たとえばベンジルエステル、４−メト
キシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエス
テル、フエネチルエステル、トルチルエステル、
ジフエニルメチルエステル、ビス（メトキシフエ
ニル）メチルエステル、３，４−ジメトキシベン
ジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ
−ブチルベンジルエステルなど〕、ハロゲン、低
級アルコキシなどによつて置換されていてもよい
置換されたまたは置換されないフエニルエステル
のような適当な置換基一以上によつて置換されて
いてもよいアリールエステル（たとえばフエニル
エステル、トリルエステル、ｔ−ブチルフエニル
エステル、キシリルエステル、メシチルエステ
ル、クメニルエステル、４−クロロフエニルエス
テル、４−メトキシフエニルエステルなど）、ト
リ（低級）アルキルシリルエステル（たとえばト
リメチルシリルエステルなど）、低級アルキルチ
オエステル（たとえばメチルチオエステル、エチ
ルチオエステルなど）などが挙げられ、“エステ
ル化されたカルボキシ基”の好ましい例として
は、低級アルコキシカルボニル（たとえばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
ｔ−ペンチルオキシカルボニルなど）およびニト
ロによつて置換されていてもよいモノーまたはジ
ーまたはトリフエニル（低級）アルコキシカルボ
ニル（たとえばベンジルオキシカルボニル、ベン
ズヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカ
ルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル
など）が挙げられる。 “カルボキシ（低級）アルキル”としては、た
とえばカルボキシメチル、１−または２−カルボ
キシエチル、１−または２−カルボキシプロピル
などが挙げられ、“保護されたカルボキシ（低級）
アルキル”としては、たとえば低級アルコキシカ
ルボニル（低級）アルキル（たとえばメトキシカ
ルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プ
ロポキシカルボニルメチル、１−または２−メト
キシカルボニルエチル、１−または２−エトキシ
カルボニルエチルなど）およびニトロで置換され
ていてもよいモノーまたはジーまたはトリフエニ
ル（低級）アルコキシカルボニル（低級）アルキ
ル（たとえばベンジルオキシカルボニルメチル、
ベンジルオキシカルボニルエチル、ベンジルオキ
シカルボニルプロピル、ベンズヒドリルオキシカ
ルボニルメチル、トリチルオキシカルボニルメチ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルメチ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルエチ
ル、ｐ，p′−ジニトロベンズヒドリルオキシカル
ボニルプロピルなど）が挙げられる。 適当な“低級アルキル”の適当な例としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネオペ
ンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシルなどが挙げら
れ、C1〜C3アルキルがとくに好ましい。 “低級アルコキシ”の適当な例としてはメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、ヘキシルオキシなどが挙げられ、C1〜
C3アルコキシがとくに好ましい。 “アリール”の適当な例としてはフエニル、ト
リル、キシリル、メシチル、クメニル、ナフチル
などが挙げられる。 化合物（）′、（−２）、（）、（−１）〜
（−３）、（−４）および（−３）の適当な
塩は、化合物（）について例示したものと同じ
である。 化合物（−１）、（−３）〜（−10）、（
−4a）、（−４）、（−５）、（）、（−１）
、
（−１）〜（−３）、（−１）、（−３）〜
（−６）、（）、（−１）〜（−３）、（−
５）〜（−７）、（−２）、（−１）および
（−２）の適当な塩は、化合物（）について
例示した塩基性塩類と同じものである。 化合物（−１）、（−２）、（−１）および
（）のホルミル基における適当なアセタールと
しては、ジ（低級）アルコキシメチルのようなジ
（低級）アルキルアセタール（たとえばジメトキ
シメチル、ジエトキシメチル、ジプロポキシメチ
ルなど）などが挙げられる。 化合物（−１）のホルミル基における適当な
ヘミーアセタールとしては、１−ヒドロキシ−１
−（低級）アルコキシメチルのような低級アルキ
ルヘミサアセタール（たとえば１−ヒドロキシ−
１−メトキシメチル、１−ヒドロキシ−１−エト
キシメチル、１−ヒドロキシ−１−プロポキシメ
チルなど）などが挙げられる。 この発明の目的化合物の製造法を以下に詳しく
説明する。 方法Ａ：（）→（）′ 目的化合物（）′は、化合物（）と化合物
（）を反応させることによつて製造することが
できる。 この反応は、好ましくは銀化合物（たとえばふ
つ化ほう素酸銀、過塩素酸銀など）ルイス酸（た
とえば四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化水銀、三ふ
つ化ほう素エーテラートなど）などのような脱ハ
ロゲン化剤の存在下に行なわれる。 さらにこの反応は通常、反応に悪影響を及ぼさ
ない慣用の溶媒、たとえばクロロホルム、ジクロ
ロメタン、テトラヒドロフラン、ベンゼンなど、
またはそれらの混合物中で行なわれる。 反応温度はとくに限定されず、反応は好ましく
は冷却下ないし加温下で行なわれる。 この反応は立体特異的に進行し、目的化合物
（）′の３位と４位との立体配置は常にトランス
型を構成する。従つてたとえば天然のチエナマイ
シンと同じ立体配置を有する化合物（）′は、
出発化合物（）を選択することによつて製造す
ることができる。 方法Ｂ−１：（−１）→（−２） 方法Ｅ−４：（−３）→（−４） 方法Ｆ−４：（−２）→（−３） 目的化合物（−２）、（−４）および（−
３）は、それぞれ対応する化合物（−１）、（
−３）および（−２）からR1 b中のアミノ保護
基を除去することによつて製造することができ
る。 この除去反応に適用される適当な方法は、加水
分解、還元、加水分解を伴なうイミノハロゲン化
とイミノエーテル化とを組合わせた方法などであ
る。 上記方法に使用される適当な試薬を以下に例示
する。 (i) たとえばアシドリシス、アルコーリシス、ア
ミノリシス、ヒドラジン分解などを含めた加溶
媒分解を意味する加水分解の場合 加水分解は好ましくは酸または塩基の存在下に
行なわれる。 適当な酸としては、無機酸（たとえば塩酸、臭
化水素酸、硫酸など）、有機酸（たとえばぎ酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフ
アースルホン酸など）、酸性イオン交換樹脂など
が挙げられる。 適当な塩基としては、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属の水酸化物、炭酸塩または炭酸水素
塩（たとえば水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、水酸化カリシウム、水酸化
マグネシウムなど）、水酸化アンモニウムなどの
ような無機塩基、上記金属のアルコキサイドまた
はフエノキサイド（たたとえばナトリウムエトキ
サイド、ナトリウムメトキサイド、リチウムフエ
ノキサイドなど）のような有機塩基、モノアルキ
ルアミン、ジアルキルアミンまたはトリアルキル
アミンのようなアミン（たとえばメチルアミン、
エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルア
ミン、ブチルアミン、N.N−ジメチル−１，３
−プロパンジアミン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミンなど）、非置換アリールアミン、モノ
置換アリールアミンまたはジ置換アリールアミン
（たとえばアニリン、Ｎ−メチルアニリン、N.N
−ジメチルアニリンなど）または複素環塩基（た
とえばピロリジン、モルホリン、Ｎ−メチルモル
ホリン、Ｎ−メチルピペリジン、N.N−ジメチ
ルピペラジン、ピリジンなど）、ヒドラジン類
（たとえばヒドラジン、メチルヒドラジン、エチ
ルヒドラジンなど）、塩基性イオン交換樹脂など
が挙げられる。 加水分解は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒中、たとえば水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、テトラヒドロフラン、N.N
−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、ジクロロ
メタン、クロロホルムなど、またはこれらの混合
物中で行なわれる。 この加水分解の反応温度はとくに限定されず、
反応は好ましくは冷却下ないし加温下で行なわれ
る。 (ii) 還元の場合 還元は化学的還元または接触還元等による慣用
の方法で行なわれる。 還元反応に使用される適当な還元剤は、金属
（たとえば錫、亜鉛、鉄など）または金属化合物
（たとえば塩化クロム、酢酸クロムなど）と有機
酸または無機酸（たとえばぎ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、塩酸、臭化水素酸など）との組合わせであ
る。 還元は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒中、たとえば低級アルカノール（たとえばメ
タノール、エタノール、プロパノールなど）、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラ
ン、N.N−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、
トルエンなど、またはこれらの混合物中で行なわ
れる。さらに、還元反応に使用される前述の酸が
液体である場合には、これらを溶媒として使用す
ることもできる。 この還元の反応温度はとくに限定されず、反応
は好ましくは冷却下ないし加温下で行なわれる。 (iii) 組合わせ法の場合 この方法において、R1 bの保護されたアミノ基
が有機カルボキサミドである場合、アルボキサミ
ド結合は好ましくは次のように加水分解を改良し
た方法で分解される。すなわち、化合物（−
１）、（−３）および（−２）をイミノハロゲ
ン化反応（第１段階）およびイミノエーテル化反
応（第２段階）に付し、次いで加水分解する。 この方法の第一段階および第二段階は、好まし
くは無水溶媒中で行なわれる。第一段階における
適当な溶媒としては、非プロトン溶媒たとえばジ
クロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げ
られ、第二段階には通常上記第一段階と同じ溶媒
が使用される。これらの二つの段階と最終段階
（すなわち加水分解）は好ましくは１−バツチシ
ステムで行なわれる。 イミノハロゲン化剤の適当な例としては、燐化
合物（たとえば三塩化燐、五塩化燐、三臭化燐、
五臭化燐、オキシ塩化燐など）、チオニルクロリ
ド、ホスゲンなどのようなハロゲン化剤が含まれ
る。 イミノエーテル化剤の適当な例としては、アル
カノールのようなアルコール（たとえばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノールなど）またはアルコキシを有する
上記のアルカノール（たとえば２−メトキシエタ
ノール、２−エトキシエタノールなど）およびア
ルカリ金属、アルカリ土類金属のような金属のア
ルコキサイド（たとえばナトリウムメトキサイ
ド、カリウムエトキサイド、マグネシウムエトキ
サイド、リチウムメトキサイドなど）などが挙げ
られる。 このようにして得られる反応生成物は、必要で
あれば、常法により加水分解する。 加水分解は好ましくは常温または冷却下に行な
われ、反応混合物を単に水、または水を含むかも
しくは水を混合したアルコール（たとえばメタノ
ール、エタノールなど）のような親水性溶媒中に
注ぐだけで進行するが、必要な場合には、上記加
水分解で例示した酸または塩基を添加してもよ
い。 この除去の方法は除去すべきアミノ保護基の種
類に従つて選択される。 さらに、R1 bの保護されたアミノ基がフタルイ
ミドのような基である場合、反応は化合物（−
１）（−３）および（−２）を金属硫化物
（たとえば硫化ナトリウム）と反応させ、次いで
縮合剤（たとえばN.N−ジシクロヘキシルカル
ボジイミド、クロルぎ酸エチル−トリエチルアミ
ン、無水トリフルオロ酢酸など）と反応させ、続
いてヒドラジン類と反応させることによつて行な
うこともできる。 この除去反応は弾常、前述した反応に悪影響を
及ぼさない慣用の溶媒中、冷却下ないし加温下で
行なわれる。 この反応において、出発化合物（−１）、（
−３）および（−２）は、これらの１位で保護
された形で使用することもでき、このような保護
された形の化合物としては、たとえば出発化合物
をトリ（低級）アルキルシラン（たとえばｔ−ブ
チル−ジメチルクロロシランなど）などのような
シリル化合物と反応させることによつて生成した
シリル誘導体が挙げられる。 方法Ｂ−２：（−２）→（−３） 目的化合物（−３）は、化合物（−２）を
ジアゾ化剤およびハロゲン化剤と反応させること
によつて製造することができる。 この反応で使用されるジアゾ化剤としては、ア
ミノ化合物をジアゾ化合物に導くために使用され
る通常のジアゾ化剤が挙げられ、具体的にはたと
えばアルカリ金属亜硝酸塩（たとえば亜硝酸ナト
リウムなど）、亜硝酸アルキル（たとえば亜硝酸
ペンチル、亜硝酸イソペンチルなど）、塩化ニト
ロシル、四酸化二窒素などが挙げられる。 この反応で使用されるハロゲン化剤としてはジ
アゾ化合物をハロゲン化物に変えるために使用さ
れる通常のハロゲン化剤が挙げられ、具体的には
たとえばハロゲン化水素（たとえば酸化水素、臭
化水素など）、有機アミンのハロゲン化水素塩た
とえばトリアルキルアミンハロゲン化水素塩（た
とえばトリエチルアミン塩酸塩、トリエチルアミ
ン臭化水素酸塩など）などが挙げられる。 この反応において、有機アミンのハロゲン化水
素塩をハロゲン化剤として使用する場合、反応は
好ましくは方法Ｂ−１で述べた酸の存在下で行な
われる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、ぎ酸、酢酸、テトラヒド
ロフラン、クロロホルム、ジクロロメタン、ベン
ゼンなど、またはこれらの混合物中で行なわれ
る。 反応温度はとくに限定されず、反応は好ましく
は冷却下から加温下で行なわれる。 方法Ｂ−３：（−３）→（−４） 目的化合物（−４）は化合物（−３）の
R1 cにおけるハロゲンを除去することによつて製
造される。 この反応は還元などのような通常の方法によつ
て行なわれる。 還元方法および還元条件（たとえば反応温度、
溶媒など）は、方法Ｂ−１の化合物（−１）の
R1 bにおけるアミノ保護基の除去反応で説明した
方法、条件と実質的に同じであり、従つてその説
明に準じて行なうことができ、さらにトリアルキ
ルスタナン〔たとえばトリ−（ｎ−ブチル）スタ
ナンなど〕、トリアリールスタナン（たとえばト
リフエニルスタナンなど）を還元剤として用いて
もよい。 方法Ｂ−４：（−２）→（−５） 方法Ｅ−５：（−４）→（−５） 目的化合物（−５）および（−５）は、対
応する化合物（−２）および（−４）をそれ
ぞれホルミル化することによつて製造することが
できる。 この反応に用いられるホルミル化剤としては、
ぎ酸またはその塩またはぎ酸混合酸無水物（たと
えば無水ぎ酸、ぎ酸酢酸無水物など）、ホルミル
イミダゾールなどのようなぎ酸の反応性誘導体が
挙げられる。 この反応でホルミル化剤として遊離ぎ酸を用い
る場合、反応は、たとえばカルボジイミド化合物
〔たとえばN.N′−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、Ｎ−シクロヘキシル−N′−モルホリノエチ
ルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−N′−
（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジ
イミド、Ｎ，N′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，
N′−ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチ
ル−N′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボ
ジイミドなど〕、ケテンイミン化合物〔たとえば
N.N′−カルボニルビス（２−メチルイミダゾー
ル）、ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシ
ルイミン、ジフエニルケテン−Ｎ−シクロヘキシ
ルイミンなど〕、オレフイン系エーテル化合物ま
たはアセチレン系化合物（たとえばエトキシアセ
チレン、β−クロロビニルエチルエーテル）、Ｎ
−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体のスルホ
ン酸エステル〔たとえば１−（４−クロロベンゼ
ンスルホニルオキシ）−６−クロロ−1H−ベンゾ
トリアゾールなど〕、亜燐酸トリアルキルまたは
トリフエニルホスフインと、四塩化炭素、ジサル
フアイドまたはジアザカルボキシレートの組合わ
せ、燐化合物（たとえばポリ燐酸エチル、ポリ燐
酸イソプロピル、塩化ホスホリル、三塩化燐な
ど）、塩化チオニル、塩化オキサリル、Ｎ−エチ
ルベンズイソキサゾリウム塩、Ｎ−エチル−５−
フエニルイソキサゾリウム−３−スルホネート、
ジメチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、
Ｎ−メチルホルムアミドなどのようなアミド化合
物との反応によつて生成する試薬（いわゆるビル
スマイヤー試薬）などのような縮合剤の存在下に
行なうことが望ましい。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえばジクロロメタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ぎ酸、酢酸など、またはそれらの混
合物中で行なわれる。 反応温度は限定されないが、反応は好ましくは
冷却下ないし加温下で行なわれる。 方法Ｂ−５：（−５）→（−６） 方法Ｅ−６：（−５）→（−６） 目的化合物（−６）および（−６）は対応
する化合物（−５）および（−５）をそれぞ
れ脱水することによつて製造される。 この反応に使用される脱水剤としては、たとえ
ば燐ハロゲン化物（たとえば三塩化燐、三臭化
燐、オキシ塩化燐、五塩化燐など）、トリフエニ
ルホスフインジブロマイド、五酸化燐、ホスゲ
ン、塩化チオニル、クロルぎ酸トリクロルメチ
ル、イソシアヌール酸クロリド、スルホン酸ハラ
イド（たとえばベゼンスルホン酸クロリド、トル
エンスルホン酸クロリドなど）などのような常法
の脱水剤が挙げられる。 この反応は方法Ｂ−１の説明で述べたような塩
基の存在下に行なうことが望ましい。 さらに、この反応は通常、反応に悪影響を及ぼ
さない慣用の溶媒、たとえばジクロロメタン、ク
ロロホルム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、などの中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、反応は通常冷
却下ないし室温で行なわれる。 方法Ｂ−６：（−６）→（−４） 方法Ｅ−７：（−６）→（−７） 目的化合物（−４）および（−７）は、対
応する化合物（−６）および（−６）からそ
れぞれイソシアノ基を除去することによつて製造
される。 この除去反応は還元剤の存在下に行なうことが
でき、その適当な例としては方法Ｂ−３で例示し
たトリアルキルスタナンおよびトリアリールスタ
ナンが好ましい。 方法Ｃ−１：（−4a）→（−１） 方法Ｄ−４：（−３）→（−４） 方法Ｆ−３：（−２）→（−２） 目的化合物（−１）、（−４）および（−
２）は、対応する化合物（−4a）、（−３）
および（−２）をそれぞれ酸化することによつ
て製造することができる。 この反応に使用される酸化剤としてはアリル基
をアセチル基に変換できる試剤、例えばパラジウ
ム化合物（たとえば塩化パラジウム、四塩化パラ
ジウム酸ナトリウムなど）の存在下、場合によつ
てはハロゲン化第二銅（たとえば塩化第二銅な
ど）またはハロゲン化第一銅（たとえば塩化第一
銅など）などの共存下における酸素、過酸化水
素、低級アルキルヒドロパーオキシド（たとえば
ｔ−ブチルヒドロパ−オキシドなど）が挙げられ
る。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、N.N−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、酢酸な
ど、またはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度はとくに限定されないが、好ましくは
冷却下ないし加温下で行なわれる。 この反応においては、出発化合物（−4a）
および（−２）は、その一位が保護された形で
使用することができるが、このような保護された
形としては、たとえば出発化合物とトリ（低級）
アルキルハロシラン（たとえばｔ−ブチルジメチ
ルクロロシランなど）などのようなシリル化合物
との反応によつて生成したシリル誘導体が挙げら
れる。 方法Ｃ−２：（−１）→（−２） 方法Ｄ−１：（−4a）→（−１） 方法Ｅ−１：（−７）→（−１） 方法Ｇ−１：（−９）→（−１） 目的化合物（−２）（−１）、（−１）お
よび（−１）は対応する化合物（−１）、（１
−4a）、（−７）および（−９）をそれぞれ
オゾンと反応させ、次いで、生成したオゾナイド
を必要であれば常法により分解することによつて
製造される。 出発化合物とオゾンとの反応によつて生成した
オゾナイドは、通常還元または加熱によつて分解
される。 還元方法は方法Ｂ−１で説明した方法と実質的
に同じ方法であり、従つて反応条件（たとえば溶
媒、反応温度など）はその説明をそのまま援用で
き、さらに好ましい還元剤としては亜燐酸トリア
ルキル（たとえば亜燐酸トリメチルなど）、トリ
フエニルホスフイン、ジメチルサルフアイド、亜
硫酸水素ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、ヨー化
ナトリウム、塩化第一錫などが挙げられる。 この反応で低級アルカノールを溶媒として用い
る場合、目的化合物（−１）および（−１）
のアセタール体またはヘミアセタール体がそれぞ
れ得られるが、この場合もこの反応の範囲内に含
まれる。 さらに、化合物（−4a）を出発化合物とし
て使用し、且つ分解反応を加熱下で行なう場合に
は、下記の式で示される化合物が得られることも
ある。 反応が加熱下に行なわれる場合、化合物（XI−
１）もオゾナイドから得られ、この化合物は方法
Ｄ−２の加水分解法ならびに製造法Ｅで説明した
ような常法によるアルキル保護基の導入によつ
て、化合物（XI−２）に変換することができる。 （式中、Reは前に例示したような保護された
カルボキシを意味する） 方法Ｃ−３：（−２）→（−３） 方法Ｄ−５：（−２）→（−５） 方法Ｄ−６：（−１）→（−６） 目的化合物（−３）、（−５）および（−
６）は対応する化合物（−２）（−２）およ
び（−１）をそれぞれ還元することによつて製
造される。 この反応で使用される還元剤としては、方法Ｂ
−１で例示したようなオキソ基をヒドロキシ基に
還元しうる還元剤ならびに水素化ほう素アルカリ
金属（たとえば水素化ほう素ナトリウム、水素化
シアノほう素ナトリウムなど）、アミン（たとえ
ばｔ−ブチルアミン、N.N−ジメチルアニリン、
ルチジン、モルホリン、トリエチルアミンなど）
とボランとの錯塩、エーテル（たとえばテトラヒ
ドロフランなど）とボランとの錯塩、ジボラン、
アルミニウムアマルガムなどが挙げられる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、ジクロロメタン、メタノ
ール、エタノール、酢酸エチルなど、またはこれ
らの混合物中で行なわれる。反応温度は特に限定
されないが、通常冷却下ないし加温下で行なわれ
る。 方法Ｄ−２：（−１）→（−２） 方法Ｅ−２：（−１）→（−２） 方法Ｇ−２：（−１）→（−２） 目的化合物（−２）、（−２）および（−
２）は対応する化合物（−１）、（−１）およ
び（−１）をそれぞれ加水分解することによつ
て製造される。 この反応は方法Ｂ−１で説明した加水分解法と
実質的に同じ方法で行なうことができ、従つて反
応条件（たとえば溶媒、反応温度など）もその説
明を援用できる。 この反応は好ましくはたとえばメタノリシスの
ようなアルコリシスによつて行なわれる。 この反応で目的化合物（−２）がアセタール
として得られる場合、常法、たとえば方法Ｂ−１
に例示したような酸でアセタールを処理すること
によつて、ホルミル基を有する化合物（−２）
に変換することができる。 方法Ｄ−３：（−２）→（−３） 方法Ｆ−２：（−１）→（−２） 目的化合物（−３）および（−２）は、対
応する化合物（−２）および（−１）を化合
物（）と反応させることによつて製造すること
ができる。 この反応において、化合物（）の反応性均等
物も試剤として使用することができ、そのような
反応性均等物としては、式（R5O）2POCH2Rb（式
中、R5およびRbは前と同じ意味）で示される。 この反応を上記のような反応性均等物で行なう
場合、方法Ｂ−１で例示したような塩基の存在下
に反応を行なうことが望ましい。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえばクロロメタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなど、またはこれらの混合物中で行な
われる。 反応温度はとくに限定されないが、反応は好ま
しくは、冷却下ないし加熱下で行なわれる。 この反応において、出発化合物（−２）およ
び（−１）は、その一位が保護された形で使用
することができ、そのような保護された形として
は、たとえば出発化合物をトリ（低級）アルキル
ハロシラン（たとえばｔ−ブチルジメチルクロロ
シランなど）などのようなシリル化合物と反応さ
せることによつて生成するシリル誘導体が挙げら
れる。 方法Ｆ−１：（−８）→（−１） 方法Ｈ：（−10）→（） 目的化合物（−１）および（）は対応する
化合物（−８）および（−10）をオゾンと反
応させ、必要であれば生成したオゾナイドを常法
により分解し、次いで生成した化合物を常法によ
り加水分解することによつて製造することができ
る。 この反応は方法Ｃ−２およびＤ−２と実質的に
同じ方法で行なうことができ、従つて反応条件
（たとえば溶媒、反応温度など）はそれらの説明
を援用できる。 この反応で目的化合物（−１）がアセタール
の形で得られる場合、常法により、たとえば方法
Ｂ−１に例示したような酸でアセタールを処理す
ることによつてホルミル基を有する化合物（−
１）に変換することができる。 方法Ｅ−３：（−２）→（−３） 目的化合物（−３）は化合物（−２）をカ
ルボニル基保護基の導入反応に付すことによつて
製造できる。 この反応で使用される試薬としては、オルトぎ
酸トリ（低級）アルキル（たとえばオルトぎ酸ト
リメチルなど）、O.O−ジ（低級）アルキルケト
ン（たとえばＯ，Ｏ−ジメチルアセトンなど）、
低級アルカノール（たとえばメタノールなど）な
どが挙げられる。 この反応は、好ましくは方法Ｂ−１の加水分解
に例示されたような酸の存在下に行なわれる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえばジクロロメタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなど、またはこれらの混合物中で行な
われる。 反応温度は特に限定されないが、反応は好まし
くは冷却下ないし加熱下で行なわれる。 方法Ｅ−８：（−７）→（−４） 目的化合物（−４）は化合物（−７）から
保護されたカルボニル基におけるカルボニル保護
基を除去することによつて製造される。 この反応は、方法Ｂ−１の加水分解で例示され
たような酸の存在下に行なうことができる。 この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、たとえば水、ジメチルホルムアミドな
ど、またはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、反応は好まし
くは冷却下から加温下で行なわれる。 出発化合物（）および（）に関する製造法
Ａ〜Ｅについて以下に詳述する。 製造法Ａ：（−１）→（−２） 化合物（−２）は化合物（−１）をハロゲ
ン化することによつて製造できる。 この反応で使用されるハロゲン化剤としては、
チオ基をハロゲンに変換するために使用されうる
通常のハロゲン化剤、たとえばハロゲン（たとえ
ば塩素、臭素など）、スルフリルハライド（たと
えばスルフリルクロリドなど）、Ｎ−ハロスクシ
ンイミド（たとえばＮ−クロロスクシンイミド、
Ｎ−プロモスクシンイミドなど）などが挙げられ
る。 反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒、たとえばクロロホルム、ジクロロメタン、
エチレンクロリド、四塩化炭素など、またはこれ
らの混合物中で行なわれる。反応温度は特に限定
されないが、反応は好ましくは冷却下ないし室温
で行なわれる。 製造法Ｂ：（−３）→（−２） 目的化合物（−２）は化合物（−３）をハ
ロゲン化することによつて製造できる。 この反応は製造法Ａと実質的に同じであり、従
つてハロゲン化剤、反応条件（たとえば反応温
度、溶媒など）は製造法Ａのものを援用できる。 製造法Ｃ：（−４）→（−５） 目的化合物（−５）は、化合物（−４）を
ヒドロキシ保護基の導入反応に付すことによつて
製造される。 この反応に使用されるヒドロキシ保護基の導入
剤としては有機カルボン酸、炭酸およびスルホン
酸またはそれらの反応性誘導体が挙げられる。 上記酸の好ましい反応性誘導体としては、たと
えば酸ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活
性エステルなどが挙げられ、とくに好ましくは、
酸塩化物および酸臭化物；置換された燐酸（たと
えばジアルキル燐酸、フエニル燐酸、ジフエニル
燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸など）、
ジアルキル亜燐酸、スルホン酸、チオ硫酸、硫
酸、炭酸アルキル（たとえば炭酸メチル、炭酸エ
チル、炭酸プロピルなど）、脂肪族カルボン酸
（たとえばピバル酸、ペンタノン酸、イソペンタ
ン酸、２−エチル酪酸、トリフルオロ酢酸など）、
芳香族カルボン酸（たとえば安息香酸など）のよ
うな酸との混合物；対称性酸無水物；イミダゾー
ル、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾールまたはテトラゾールのようなア
ミノ管能基を含む複素環化合物との活性アミド；
活性エステル〔たとえばｐ−ニトロフエニルエス
テル、２，４−ジニトロフエニルエステル、トリ
クロロフエニルエステル、ペンタクロロフエニル
エステル、メシルフエニルエステル、フエニルア
ゾフエニルエステル、フエニルチオエステル、ｐ
−ニトロフエニルチオエステル、ｐ−クレジルチ
オエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピ
リジルエステル、ピペリジニルエステル、８−キ
ノリルチオエステル、またはＮ−ヒドロキシ化合
物たとえばN.N−ジメチルヒドロキシアミン、
１−ヒドロキシ−２−（1H）ピリドン、Ｎ−ヒド
ロキシサクシン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１
−ヒドロキシ−６−クロロベンゾトリアゾールな
どとのエステル〕などであつてもよい。 好ましい反応性誘導体は実際に使用される化合
物（−４）の種類によつて、上記中から任意に
選択することができる。 この導入反応は好ましくは有機塩基または無機
塩基、たとえばアルカリ金属（たとえばリチウ
ム、ナトリウム、カリウムなど）、アルカリ土類
金属（たとえばカルシウム、マグネシウムなど）、
アルカリ金属水素化物（たとえば水素化ナトリウ
ムなど）、アルカリ土類金属水素化物（たとえば
水素化カルシウムなど）、アルキルリチウム（た
とえばブチルリチウムなど）、アルカリ金属水酸
化物（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ金属炭
酸水素塩（たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムなど）、アルカリ金属アルコキサイド
（たとえばナトリウムメトキサイド、ナトリウム
エトキサイド、カリウムｔ−ブトキサイドなど）、
トリアルキルアミン（たとえばトリエチルアミン
など）、ピリジン化合物（たとえばピリジン、ル
チジン、ジメチルアミノピリジン、ピコリンな
ど）、Ｎ−アルキルモルホリン（たとえばＮ−メ
チルモルホリンなど）、キノリンなどの存在下に
行なわれる。 反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒、たとえば水、アセトン、ジオキサン、アセ
トニトリル、クロロホルム、ベンゼン、ジクロロ
メタン、エチレンクロリド、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミドなど、ま
たはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は限定されないが、反応は通常冷却下
ないし室温で行なわれる。 この反応で、アゾジカルボン酸ジエチルの存在
下、カルボン酸またはその反応性誘導体をヒドロ
キシ保護基導入剤として使用する場合、保護され
るヒドロキシ基が置換する炭素における立体配置
が他の立体配置に変わることがよくあるが、この
ような場合もまた本発明の範囲内に含まれる。 製造法Ｄ：（−５）→（−４） 目的化合物（−４）は化合物（−５）から
ヒドロキシ保護基を除去することによつて製造で
きる。 この除去反応は方法Ｂ−１で例示した加水分解
によつて行なうことができ、従つて反応除件（た
とえば反応温度、溶媒など）は方法Ｂ−１の説明
を援用できる。 製造法Ｅ：（−１）→（−２） 目的化合物（−２）は、化合物（−１）に
カルボキシ保護基を導入することによつて製造で
きる。 この反応に使用されるカルボキシ保護基の導入
剤としては、前に例示したようなカルボキシ基を
エステル化された基に変換しうる慣用のエステル
化剤、たとえばアルコールまたはそのハロゲン化
物（たとえば塩化物、臭化物、ヨー化物）、スル
ホネート、サルフエート、ジアゾ化合物などの反
応性誘導体が挙げられる。 この反応は通常、製造法Ｃで述べた塩基の存在
下、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たと
えばN.N−ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフランまたはそれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は限定されないが、反応は冷却下ない
し室温で行なわれる。 方法Ａ〜Ｈおよび製造法Ａ〜Ｅの反応中または
反応の後処理中において、一方の光学異性体が他
の光学異性体に変化することがあるが、このよう
な場合もこの発明の範囲内に含まれる。 目的化合物がたとえばR3に遊離カルボキシ基
および／あるいはたとえばR1 aに遊離アミノ基を
有する場合、目的化合物は常法によりその塩に変
換することができる。 この発明の目的化合物およびその塩（）は新
規であり、様々の病原性微生物に対して高い抗菌
性を示すチエナマイシンの基本骨格を有する抗生
物質、特に光学活性骨格を有する抗生物質の製造
中間体として有用である。 たとえば方法Ｂ〜Ｅ、ＧおよびＦの目的化合物
（−４）、（−３）（−４）、（−６）、（
−
２）および（）は、次の文献に示される方法に
よつて、チエナマイシンの基本骨格を有する抗生
物質に変換させることができる。 尾上等 テトラヘドロンレターズ40号第3867頁
（1979年）、 エー・ジエー・キルビー等、ドイツ公開特許
2811 514、 大木等 特開昭55−73656 デイー・ビー・ジヨンストン等 ジヤーナル・
オブ・ジ、アメリカンケミカルソサイテイー、第
100巻、第313頁（1978年） エル・デイー・カマ等、ジヤーナル・オブ・
ジ・アメリカンケミカルソサイテイー、第102巻、
第6161頁（1980年） エル・デイー・カマ等、ジヤーナル・オブ・
ジ・アメリカンケミカルソサイテイー、第100巻、
第8006頁（1978年） 次にこの発明の化合物（）の原料化合物の製
法を製造例により具体的に説明する。 製造例 １ ２−〔（3R，4R）−４−メチルチオ−３−フタ
ルイミド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−
３−メチル−２−ブテン酸ベンジル（2.25ｇ）の
ジクロロメタン（12ml）溶液を−78℃に冷却し、
塩素（390mg）を溶解した四塩化炭素（3.4ml）を
加えた。同温度で30分間撹拌後、混合物を０℃ま
で加温し、溶媒を留去して、油状物（2.52ｇ）を
得た。この油状物（2.10ｇ）をシリカゲル（20
ｇ）クロマトグラフイーに対し、酢酸エチル10％
を含むジクロロメタンで溶出して、油状の２−
〔（3R，4S）−４−クロロ−Ｓ−フタルイミド−２
−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−
２−ブテン酸ベンジル（1.80ｇ）を得た。 IR（CH2Cl2）：1790，1780（シヨルダー），1725
cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.07（ｓ，3H），2.30（ｓ，
3H），5.27（ｓ，2H），5.50（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H），
6.17（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H） 製造例 ２ （6S）−６−フタルイミドペニシラン酸ベンジ
ル（610mg）のジクロロメタン（５ml）溶液を−
25℃に冷却し、塩素（465mg）を溶解した四塩化
炭素（３ml）を加えた。同温度で45分間撹拌し、
混合物を０℃まで加温し、濃縮した。濃縮物を冷
希炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、酢酸エチル
で抽出した。抽出物を塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
て得られた油状物（700mg）をシリカゲル（10ｇ）
クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル10％を含
むジクロロメタンで溶出して、油状の２−〔（3S，
4R）−４−クロロ−３−フタルイミド−２−オキ
ソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブ
テン酸ベンジル（433mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1790，1780（シヨルダー），1725
cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.07（ｓ，3H），（ｓ，3H），
5.27（ｓ，2H），5.50（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H），6.17
（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H） 製造例 ３ （6S）−６−フタルイミドペニシラン酸メチル
（9.01ｇ）のジクロロメタン（50ml）溶液を−30
℃に冷却し、塩素（5.33ｇ）を溶解した四塩化炭
素（30ml）を加えた。混合物を撹拌しながら40分
間かけて温度を−10℃まで上昇した。溶媒を留去
し、残留物を酢酸エチル（100ml）に溶かし、希
炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄した。硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得られた
油状物をシリカゲル（100ｇ）クロマトグラフイ
ーに付し、酢酸エチル10％を含むジクロロメタン
で溶出して、２−〔（3S，4R）−４−クロロ−３−
フタルイミド−２−オキソアゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（6.55ｇ）
を結晶性固形物として得た。融点122−125℃ IR（CH2Cl2）：1785，1675，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.13（ｓ，3H），2.37（ｓ，
3H），3.90（ｓ，3H），5.62（ｄ，Ｊ＝15Hz，1H），
6.27（ｄ，Ｊ＝15Hz，1H） 製造例 ４ ２−〔（3S，4R）−３−｛（1S）−１−ヒドロキシ
エチル｝−４−メチルチオ−２−オキソアゼチジ
ン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチ
ル（376mg）と４−ジメチルアミノピリジン（336
mg）をジクロロメタン（３ml）に溶解し、窒素雰
囲気中−30℃でクロルぎ酸ｐ−ノトロベンジル
（358mg）を加えた。０℃で１時間撹拌後、混合物
を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水、希炭酸水素
ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で順次
洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除
いて得られた油状物（635mg）をシリカゲル（25
ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸メチル10％
〜25％を含むヘキサンで溶出して、油状の３−メ
チル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ−３−
｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−２−ブテン酸メチル（566mg）を得
た。 IR（CH2Cl2）：1760，1725，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.50（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.01（ｓ，3H），2.12（ｓ，3H），2.22（ｓ，3H），
3.43（dd，Ｊ＝５，３Hz，1H），3.73（ｓ，3H），
4.94（ｄ，Ｊ＝３Hz，1H），5.2（ｍ，1H），5.25
（ｓ，2H），7.52（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H），8.17（ｄ，
Ｊ＝９Hz，2H） 製造例 ５ ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−ヒドロキ
シエチル｝−４−メチルチオ−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メ
チル（1.84ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン
（1.23ｇ）の混合物（１：３）をジクロロメタン
（20ml）に溶解し、０℃でクロルぎ酸ｐ−ニトロ
ベンジル（1.60ｇ）のジクロロメタン（３ml）溶
液を加えた。０℃で1.5時間撹拌後、混合物を酢
酸エチル（150ml）で希釈し、希塩酸、水、希炭
酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液
で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
除いて得られた油状物（3.1ｇ）をシリカゲル
（90ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル
10％〜25％を含むヘキサンで溶出して、油状の３
−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ−３
−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
カルボニルオキシ）メチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル混合物
（１：３）（2.90ｇ）を得た。 IR（CH2Cl2）：1755，1725，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.51（ｄ，Ｊ＝７Hz，1H），
2.01（ｓ，3H），２，12（ｓ，3H），2.23（ｓ，
3H），3.29（dd，Ｊ＝７，３Hz，１／3H），3.43
（dd，Ｊ＝５，３Hz，２／3H），3.73（ｓ，3H），
4.95（ｄ，Ｊ＝３Hz，２／3H），5.02（ｄ，Ｊ＝３
Hz，１／3H），5.2（ｍ，1H），5.25（ｓ，2H），
7.50（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H），8.16（ｄ，Ｊ＝９Hz，
2H） 製造例 ６ ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−ヒドロキ
シエチル｝−４−メチルチオ−２−オキソ−アゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
メチル（５：１混合物）（755mg）と４−ジメチル
アミノピリジン（440mg）をジクロロメタン（６
ml）に溶解し、０℃で３分間かけてクロルぎ酸ｐ
−ニトロベンジル（660mg）のジクロロメタン
（４ml）溶液を滴下した。1.5時間後、溶液を濃縮
し、酢酸エチル（40ml）に転溶し、希塩酸、水、
塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、油状物
を得た。これを酢酸エチル２％〜10％を含むジク
ロロメタンを用いたシリカゲル（50ｇ）クロマト
グラフイーに付して、３−メチル−２〔（3S，4R）
−４−メチルチオ−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−２−ブテン
酸メチル（974mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1760，1720，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.50（ｄ，Ｊ＝７Hz，1H），
2.01（ｓ，3H），2.12（ｓ，3H），2.24（ｓ，3H），
3.30（dd，Ｊ＝2.5，７Hz，1H），3.85（ｓ，3H），
5.05（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，1H），5.23（五重線、Ｊ＝７
Hz，1H），5.25（ｓ，2H），7.50（ｄ，Ｊ＝９Hz，
2H），8.19（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H） 上記化合物の（1S）異性体（165mg）もまた得
られた。 製造例 ７ ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）メチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル｝−２−ブテン酸メチル（530mg）
のジクロロメタン（６ml）溶液に、−78℃で塩素
（106mg）を溶解した四塩化炭素（0.9ml）を加え
た。溶液を30分間かけて０℃に加温し、再び−78
℃に冷却した。さらに塩素（59mg）を溶解した四
塩化炭素（0.5ml）を加えた。溶液を30分間かけ
て10℃まで加温し、溶媒を減圧留去した。残留物
をシリカゲル（18ｇ）クロマトグラフイーに付
し、酢酸エチル10％〜33％を含むヘキサンで溶出
して、〔（3S，4R）−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル（トランス異性
体）（215mg）と〔（3S，4S）−４−クロロ−３−
｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソ−アゼチジン
−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（シス異性体）（210mg）を得た。 トランス異性体 IR（CH2Cl2）：1780，1750，1725，1525，1350
cm-1 NMR（CACl3）δ：1.53（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.03（ｓ，3H），2.30（ｓ，3H），3.7（ｍ，1H），
3.74（ｓ，3H），5.2（ｍ，1H），5.28（ｓ，2H），
5.81（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H），7.54（ｄ，Ｊ＝10Hz，
2H），8.20（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） シス異性体： IR（CH2Cl2）：1780，1750，1725，1525，1350
cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.55（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.07（ｓ，3H），2.30（ｓ，3H），3.62（ｔ，Ｊ＝4.5
Hz，1H），3.76（ｓ，3H），5.3（ｍ，3H），5.95
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，1H），7.48（ｄ，Ｊ＝10Hz，
2H），8.17（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） 製造例 ８ ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（１：３
混合物）（1.30ｇ）のジクロロメタン（13ml）溶
液に、−78℃で塩素（211mg）を溶解した四塩化炭
素（2.2ml）を加えた。溶液を45分間かけて０℃
まで加温し、濃縮した。残留物を酢酸エチル（30
ml）に溶かし、冷炭酸水素ナトリウム水溶液
（2.5ｇ）、水、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して油状
物（1.30ｇ）を得た。この油状物をシリカゲル
（40ｇ）クロマトグラフイーに対し、酢酸エチル
10％〜30％を含むヘキサンで溶出して、２−
〔（3S）−４−クロロ−３−｛１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−ブテ
ン酸メチル〔（1S，4R）異性体，（1R，4R）異性
体および（1R，4S）異性体混合物（５：６：
４）〕（550mg）を最初に得た。 酢酸エチル30％を含むヘキサンでさらに溶出
し、溶媒を留去して、結晶性固形物（407mg）を
得た。ジクロロメチル−ジエチルエーテル混液か
ら結晶化して２−〔（3S，4S）−４−クロロ−３−
〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（270mg）を得た。融点154−157℃ IR（ヌジヨール）：1770，1745，1715cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.55（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.07（ｓ，3H），2.29（ｓ，3H），3.65（ｔ，Ｊ＝4.5
Hz，1H），3.74（ｓ，3H），5.3（ｍ，3H），5.96
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，1H），7.50（ｄ，Ｊ＝10Hz，
2H），8.18（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H）；質量分析：
ｍ／e442，440（M+） 製造例 ９ ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソ−アゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（１：
３混合物）（527mg）のジクロロメタン（5.5ml）
溶液に−78℃で、塩素（91mg）を溶解した四塩化
炭素（1.62ml）を加えた。溶液を１時間かけて０
℃まで加温し、溶媒を留去した。副産物として生
じたイオウを除くため、残留物を四塩化炭素（５
ml）に溶かし、熔媒を減圧留去した。この操作を
もう一度くり返し、残留物を吸取つて、製造例８
に記載の塩化物異性体混合物（588mg）を得た。 NMR（CDCl3）δ：1.5（ｍ，3H），2.02（ｓ，〜
1.5H），2.07（ｓ，〜1.5H），2.29（ｓ，3H），3.7
（ｍ，4H），5.3（ｍ，3H），5.81（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，
〜0.25H），5.86（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，〜0.15H），5.97
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，〜0.6H），7.5（ｍ，2H），8.21
（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） 残留物（536mg）をジエチルエーテルから結晶
化して、粗製の結晶（190mg）を得た。ジクロロ
メタンとジエチルエーテルの混合溶媒から再結晶
して、２−〔（3S，4S）−４−クロロ−３−｛（1S）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（170mg）
を得た。母液を合わせ、シリカゲル（９ｇ）クロ
マトグラフイーに付し、酢酸エチル10％〜30％を
含むヘキサンで溶出して、油状の２−〔（3S）−４
−クロロ−３−｛１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メ
チル〔（1S，4R）異性体、（1R，4R）異性体およ
び（1R，4S）異性体の混合物（５：３：２）〕
（231mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1775，1745，1725cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.52（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.03（ｓ，3H），2.30（ｓ，3H），3.6−3.8（ｍ，
4H），5.26（ｍ，1H），5.27（ｓ，2H），5.81（ｄ，
Ｊ＝1.5Hz，0.5H），5.86（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，0.3H），
5.98（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，0.2H），7.5（ｄ一対，Ｊ＝10
Hz，2H），8.22（ｄ，Ｊ＝10Hz，2H） 酢酸エチル30％を含むヘキサンでさらに溶出し
て、２−〔3S，4S）−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル（43mg）を回収し
た。 製造例 10 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−メチルチオ
−３−〔（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチ
ジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（481mg）
のジクロロメタン（５ml）溶液に−78℃で、塩素
（83ml）を溶解した四塩化炭素（0.65ml）を加え
た。溶液を45分間かけて０℃まで加温し、溶媒を
減圧留去した。残留物をシリカゲル（12ｇ）クロ
マトグラフイーに付し、酢酸エチル10％〜33％を
含むヘキサンで溶出して、２−〔（3S）−４−クロ
ロ−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
メチル〔（4R）異性体と（4S）異性体の混合物
（55：45）〕（394mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1775，1745，1725，1525，1350
cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.49（ｄ，Ｊ＝７Hz，
1.65H），1.58（ｄ，Ｊ＝７Hz，1.35H），2.01（ｓ，
3H），2.29（ｓ，3H），3.65（ｍ，1H），3.73（ｓ，
1.65H），3.75（ｓ，1.35H），5.20（ｍ，1H），5.24
（ｓ，2H），5.84（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，0.55H），5.96
（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，0.45H），7.49（ｄ，Ｊ＝９Hz，
2H），8.18（ｄ，Ｊ＝９Hz，2H） 製造例 11 トリフエニルホスフイン（1.647ｇ）、ぎ酸
（0.20ml）および２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−
１−ヒドロキシエチル｝−４−メチルチオ−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸メチル（１：３混合物）（1.145ｇ）を
テトラヒドロフラン（14ml）に溶解し、この溶液
に窒素雰囲気中０℃でアゾジカルボン酸ジエチル
（0.83ml）を滴下した。溶液を同温度で15分間放
置したのち、室温まで加温し、２時間撹拌した。
反応液を０℃まで冷却し、さらにぎ酸（24μl）と
アゾジカルボン酸ジエチル（0.10ml）を加えた。
室温で１時間撹拌後、溶液を濃縮し、酢酸エチル
（60ml）に転溶し、冷希炭酸水素ナトリウム水溶
液、水、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、
ベンゼン（20ml）にさらに処理すると結晶が析出
した。結晶を集め、ベンゼンで洗浄した。液と
洗液を合わせ、溶媒を留去し、シリカゲル（60
ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル10％
〜30％を含むヘキサンで溶出して、２−〔（3S，
4R）−３−｛（1RS）−１−ホルミルオキシエチル｝
−４−メチルチオ−２−オキソアゼチジン−１−
イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（５：
１混合物）（889mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1758，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.48（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.04（ｓ，3H），2.15（ｓ，3H），2.27（ｓ，3H），
3.31（dd，Ｊ＝2.5，７Hz，1H），3.81（ｓ，3H），
4.97（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，１／6H），5.04（ｄ，Ｊ＝2.5
Hz，５／6H），5.46（五重線、Ｊ＝７Hz，1H），
8.12（ｓ，1H） 製造例 12 ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−ホルミル
オキシエチル｝−４−メチルチオ−２−オキソア
ゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン
酸メチル（５：１混合物）（880mg）のメタノール
（20ml）溶液に、０℃でナトリウムメトキシドの
4.9Mメタノール溶液（0.60ml）を加えた。30分
後、酢酸（0.20ml）を加え、混合物から溶媒を留
去した。残留物を酢酸エチル（30ml）に転溶し、
希炭素水素ナトリウム水溶液で洗浄した。硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を除いて得られた油状
物をシリカゲル（2.5ｇ）クロマトグラフイーに
付し、アセトン５％〜20％を含むジクロロメタン
で溶出して、２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１
−ヒドロキシエチル｝−４−メチルチオ−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（５：１混合物）（742mg）を得
た。 IR（CH2Cl2）：3560，1750，1715cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.34（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H），
2.01（ｓ，3H），2.14（ｓ，3H），2.23（ｓ，3H），
2.93（ブロード ｄ，Ｊ＝６Hz，1H），3.16（dd，
Ｊ＝2.5，７Hz，1H），3.77（ｓ，3H），4.22（五重
線、Ｊ＝７Hz，1H），4.92（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，１／
6H），5.06（ｄ，Ｊ＝2.5Hz，５／6H） 製造例 13 ３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸
（2.73ｇ）とトリエチルアミン（2.09ml）のジメ
チルホルムアミド（15ml）溶液に０℃で臭化ｐ−
ニトロベンジル（3.24ｇ）を加えた。同温度で４
時間撹拌後、反応液を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルと酢酸メチルの混液（１：１，150ml）
で抽出した。抽出物を水、希炭素水素ナトリウム
水溶液、水、塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し
た。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除いて得
られた油状物（3.90ｇ）をシリカゲル（100ｇ）
クロマトグラフイーに付し、ヘキサン20％〜50％
を含むジクロロメタンで、次いでジクロロメタン
で溶出して、油状物（3.50ｇ）を得た。油状物を
蒸留して、３−（トリメチルシリルメチル）−３−
ブテン酸ｐ−ニトロベンジル（3.25ｇ）を得た。
沸点160℃（0.05mmHg） IR（フイルム）：1735，1630，1605，1520，
1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：〜0.00（ｓ，9H），1.62（ｓ，
2H），3.06（ｓ，2H），4.76（ブロード ｓ，2H），
5.22（ｓ，2H），7.50（ｄ，Ｊ＝9.5Hz），8.22（ｄ，
Ｊ＝9.5Hz） 製造例 14 ３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸
（36.5ｇ）のジエチルエーテル（200ml）溶液に10
〜15℃でジアゾメタンのジエチルエーテル溶液
（約0.6M溶液，400ml）を加えた。過剰のジアゾ
メタンを酢酸を加えて分解した。得られた溶液を
減圧下で200mlに濃縮し、濃縮物を炭酸水素ナト
リウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し
た。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して
得られた黄色の油状物を減圧蒸留して、無色油状
の３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸
メチル（34.74ｇ）を得た。沸点74−75℃（10mm
Ｈｇ） IR（フイルム）：1735，1635cm-1 NMR（CCl4）δ：0.00（ｓ，9H），1.56（ｓ，
2H），2.84（ｓ，2H），3.57（ｓ，3H），4.60（ｄ，
Ｊ＝1.5Hz，1H），4.65（ｄ，Ｊ＝1.5Hz，1H） 製造例 15 ２−〔（3R，4S）−４−クロロ−３−フタルイミ
ド−２−オキソ−アゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸ベンジル（860mg）とアリ
ルトリメチルシラン（0.48ml）のジクロロメタン
（６ml）混液を−78℃に冷却し、次いでふつ化ほ
う素酸銀（490mg）を加えた。温度を徐々に室温
にもどしながらこの混合物を３時間撹拌した。反
応液を酢酸エチルで希釈し、けいそう土を用いて
濾過した。濾液を水、希炭酸水素ナトリウム水溶
液、塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去して油状物
（841mg）を得た。これをシリカゲル（25ｇ）を用
いたクロマトグラフイーに付し、酢酸エチル10％
を含むジクロロメタンで溶出し、油状の２−
〔（3S，4S）−４−アリル−３−フタルイミド−２
−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−
２−ブテン酸ベンジル（445mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1760，1720，1385cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.10（ｓ，3H），2.25（ｓ，
3H），2.43（ｍ，2H），4.38（ddd，Ｊ＝３，6.5Hz，
1H），4.8−5.3（ｍ，2H），5.08（ｄ，Ｊ＝３Hz，
1H），5.33（ｓ，2H），5.56（ｍ，1H） 製造例 16 ２−〔（3S，4R）−４−クロロ−３−フタルイミ
ド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メ
チル−２−ブテン酸メチル（3.55ｇ）とアリルト
リメチルシラン（2.26ml）のジクロロメタン（25
ml）混液を−78℃に冷却し、次いでふつ化ほう素
酸銀（2.29ｇ）を加えた。温度を徐々に０℃に上
昇させながら混合物を２時間撹拌後、更に3.5時
間撹拌した。反応液に飽和塩化ナトリウム水溶液
（10ml）を加え、次いで飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液を加えて水層をPH７に調整した。０℃で20
分間撹拌後、析出物をけいそう土を用いて濾去
し、濾液を有機層と水層に分けた。有機層を塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去して油状物（4.0ｇ）を得た。
これをシリカゲル（50ｇ）クロマトグラフイーに
付し、ベンゼン−アセトン混液（10：１）で溶出
して油状の２−〔（3R，4R）−４−アリル−３−
フタルイミド−２−オキソアゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（2.74ｇ）
を得た。 IR（CH2Cl2）：1770（シヨルダー），1760，1720
cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.11（ｓ，3H），2.26（ｓ，
3H），2.4−2.6（ｍ，2H），4.40（ｍ，1H），5.0−
5.3（ｍ，3H），5.70（ｍ，1H） 製造例 17 ２−〔（3S，4S）−４−アリル−３−フタルイミ
ド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メ
チル−２−ブテン酸ベンジル（340mg）をジクロ
ロメタン（５ml）−メタノール（2.5ml）混液に溶
解し、これにＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパ
ンジアミン（0.21ml）を加え、混合物を室温で25
時間撹拌した。溶媒を留去したのち、残留物を酢
酸エチルに溶かし、水洗した。硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去して得られた油状物をシリ
カゲル（３ｇ）クロマトグラフイーに付し、ジク
ロロメタン−アセトン混合溶媒（６：１）で溶出
し、油状の２−〔（4S）−４−アリル−３−アミノ
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチ
ル−２−ブテン酸ベンジル（155mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1750，1710cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.66（ブロードｓ，2H），
1.94（ｓ，3H），2.22（ｓ，3H），2.34（ｍ，2H），
3.5−3.8（ｍ，2H），4.9−5.3（ｍ，4H），5.62（ｍ，
1H） 製造例 18 ２−〔（3R，4R）−４−アリル−３−フタルイ
ミド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸メチル（2.64ｇ）をジクロ
ロメタン（20ml）−メタノール（10ml）混液に溶
解し、これにＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパ
ンジアミン（1.98ml）を加え、混合物を冷蔵庫に
３日間、室温で24時間放置した。反応液から溶媒
を留去し、残留物を酢酸エチル（50ml）に溶か
し、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去して油状物を得た。これをシリカゲルクロマ
トグラフイーに付し、ジクロロメタン−アセトン
混合溶媒（６〜５：１）で溶出して２−〔（4R）−
３−アミノ−４−アリル−２−オキソアゼチジン
−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（873mg）を油状物として得た。 IR（CH2Cl2）：1755，1720cm-1 製造例 19 ２−〔（3R，4R）−４−アリル−３−フタルイ
ミド−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸メチル（6.78ｇ）をジクロ
ロメタン（46mg）−メタノール（23mg）混液に溶
解し、これに０℃でＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−
プロパンジアミン（6.25ml）を加え、混合物を室
温で５日間放置した。反応液から溶媒を留去し、
残留物をシリカゲルクロマトグラフイーに付し、
ジクロロメタン−酢酸エチル混合溶媒（10：１〜
５）で溶出して２−〔（3R，4R）−３−アミノ−
４−アリル−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸メチル（3.70ｇ）を
油状物として得た。 IR〈CH2Cl2〉：1755，1720cm-1 NMR〈CD3COCD3〉δ：1.92〈3H，ｓ〉，11.5
〈3H，ｓ〉，2.45〈ブロードｔ，2H，Ｊ＝6.5Hz〉，
3.73〈3H，ｓ〉，4.13〈ｄ，ｔ，1H，Ｊ＝6.5Hz，
2.5Hz〉，4.58〈1H，ｄ，Ｊ＝2.5Hz〉，4.9−5.2
〈2H，ｍ〉，5.5−6.0〈1H，ｍ〉． 製造例 20 ２−〔（3R，4R）−３−アミノ−４−アリル−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−２−ブテン酸メチル（500mg）のジクロロメタ
ン（５ml）溶液に、０℃で酢酸・ぎ酸の混合無水
物（0.34ml）を加えた。同温度で１時間撹拌した
のち、混合物を酢酸エチル（35ml）で希釈し、希
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。水層を塩
化ナトリウムで飽和し、ジクロロメタンで抽出し
た。抽出物を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去した。残留物をシリカゲル（2.5ｇ）クロマト
グラフイーに付し、アセトン10〜30％を含むジク
ロロメタンで溶出して２−〔（3R，4R）−３−ホ
ルムアミド−４−アリル−２−オキソアゼチジン
−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（485mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：3400，1760，1720〈シヨルダー〉、
1695cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.97〈ｓ，3H〉，2.21〈ｓ，
3H〉，2.47〈ｔ，Ｊ＝７Hz，2H〉，3.76〈ｓ，3H〉，
3.95〈dt，Ｊ＝3.7Hz，1H〉，4.77〈dd，Ｊ＝3.7Hz，
1H〉，4.9−5.3〈ｍ，2H〉，5.5−6.0〈ｍ，1H〉，
7.15〈ブロード，Ｊ＝７Hz，1H〉，8.19〈ｓ，1H〉 質量分析：ｍ／e266〈M+〉 次に、この発明を実施例により説明する。 実施例 １ （上記式中、記号“PNB”はＰ−ニトロベン
ジル基を表わし、以下についても同様である。） ２−〔〈3S，4S〉−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル〈222mg）と３−
（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸メチル
（190mg）のジクロロメタン〈1.7ml〉溶液に窒素
雰囲気中−72℃でふつ化ほう素酸銀（146mg）を
加えた。混合物を撹拌しながら１時間かけて徐々
に０℃まで加温し、同温度で30分間撹拌した。混
合物を酢酸エチル（５ml）で希釈した。飽和塩化
ナトリウム水溶液（３ml）を加え、次いで混合物
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。得
られた混合物をけいそう土を用いて濾過し、固形
物を酢酸エチルで洗浄した。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
（８ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル
５％〜10％を含むジクロロメタンで溶出して油状
物（220mg）を得た。さらに酢酸エチル10％〜40
％を含むヘキサンを用いたシリカゲル（15ｇ）カ
ラムクロマトグラフイーによつて精製して、２−
〔（3S，4R）−４−｛２−（メトキシカルボニルメチ
ル）アリル｝−３−｛（1S）−１−（Ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（190mg）を得た。 IR〈CH2Cl2）：1750，1720〈シヨルダー〉、1525，
1350cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.50〈3H，Ｊ＝6.5Hz，ｄ〉，
1.96〈3H，ｓ〉，2.20〈3H，ｓ〉，2.3−2.7〈2H，
ｍ〉，3.04〈2H，ｓ〉，3.18〈1H，dd，Ｊ＝2.5，4.5
Hz〉，3.68〈3H，ｓ〉，3.74〈3H，ｓ〉，4.08〈1H，
ddd，Ｊ＝2.5，６，８Hz〉4.96〈2H，ｓ〉，５，
14〈1H，dd，Ｊ＝4.5，6.5Hz〉，5.25〈2H，ｓ〉，
7.54〈2H，ｄ，Ｊ＝10Hz〉，8.18〈2H，ｄ，Ｊ＝10
Hz〉 実施例 ２ ２−〔〈3S，4R〉−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
−メチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−
３−メチル−２−ブテン酸メチルの（1S，3S）−
トランス異性体、（1R，3S）−トランス異性体お
よび（1R，3S）−シス異性体の混合物（５：３：
２）（191mg）と３−（トリメチルシリルメチル）−
３−ブテン酸メチル（162mg）とのジクロロメタ
ン（1.5ml）溶液に、窒素雰囲気中−78℃でふつ
化ほう素酸銀（127mg）を加えた。混合物を撹拌
しながら１時間かけて徐々に０℃まで加温し、同
温度で1.5時間撹拌した。飽和塩化ナトリウム水
溶液（２ml）と酢酸エチル（５ml）を加え、混合
物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。
酢酸エチル（15ml）でさらに希釈後、混合物をけ
いそう土を用いて濾過した。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
（８ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセトン１
％〜５％を含むジクロロメタンで溶出して油状物
（141mg）を得た。さらに酢酸エチル10％〜30％を
含むヘキサンを用いたシリカゲル（８ｇ）カラム
クロマトグラフイーによつて精製し、２−〔（3S，
4R）−４−｛２−（メトキシカルボニルメチル）ア
リル｝−３−｛（1RS）−１−（Ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソ
アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテ
ン酸メチルの混合物（１：１）（131mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1720〈シヨルダー〉、1525，
1350cm-1 NMR〈アセトンd6〉δ：1.42〈1.5H，ｄ，Ｊ＝
７Hz〉，1.46〈1.5H，ｄ，Ｊ＝７Hz〉，1.94〈3H，
ｓ〉，2.14〈3H，ｓ〉，2.4−2.6〈2H，ｍ〉，3.07
〈2H，ｓ〉，3.14〈0.5H，dd，Ｊ＝３，７Hz〉，
3.24〈0.5H，dd，Ｊ＝３，５Hz〉，3.62〈3H，ｓ〉，
3.72〈3H，ｓ〉，4.14〈1H，ｍ；2.5ppm照射時ｔ，
Ｊ＝２Hz〉，4.9−5.1〈2H，ｍ〉，5.0−5.3〈1H，
ｍ〉，5.33〈2H，ｓ〉，7.69〈3H，ブロード，Ｊ＝
９Hz〉，8.24〈2H，ｄ，Ｊ＝９Hz〉 実施例 ３ 実施例２と同様にして、２−〔（3S，4R）−４−
クロロ−３−｛（1S）−１−（Ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソ
アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテ
ン酸メチルの（1S，3S）−トランス異性体、（1R，
3S）−トランス異性体および（1R，3S）−シス異
性体の混合物（５：６：４）（270mg）から２−
〔（3S，4R）−４−｛２−（メトキシカルボニルメチ
ル）アリル｝−３−｛（1RS）−１−（Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸メチルの混合物（２：１）（193mg）を
得た。 NMR〈アセトン−d6〉：1.43〈2H，ｄ，Ｊ＝6.5
Hz〉，1.47〈1H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz〉，1.95〈3H，ｓ〉，
2.15〈3H，ｓ〉，2.4−2.6〈2H，ｍ〉，3.08〈2H，
ｓ〉，3.17（２／3H，dd，Ｊ＝３，７Hz〉，3.26
〈１／3H，dd，Ｊ＝３，５Hz〉，3.63〈3H，ｓ〉，
3.73〈3H，ｓ〉，4.15〈1H，ｍ；2.5ppm照射時ｔ，
Ｊ＝２Hz〉，4.9−5.1〈2H，ｍ〉，5.13〈〜２／3H，
quintet，Ｊ＝７Hz〉，〜5.1〈〜１／3H，ｍ〉，
5.34〈2H，ｓ〉，7.67〈2H，ブロード，ｄ，Ｊ＝９
Hz〉，8.24〈2H，ｄ，Ｊ＝９Hz〉 実施例 ４ ２−〔〈3S，4R〉−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
メチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル〈180mg〉とアリ
ルトリメチルシラン（0.12ml）のジクロロメタン
（２ml）溶液に、窒素雰囲気中−78℃でふつ化ほ
う素酸銀（240mg）を加えた。混合物を撹拌しな
がら45分間かけて０℃まで加温し、同温度で１時
間撹拌した。混合物を酢酸エチル（10ml）で希釈
し、次いで飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。
混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和
し、さらに酢酸エチル（20ml）で希釈後、セルロ
ース粉末を用いて濾過した。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄、硫酸マグネシウムで
乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
（11ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル
３％〜30％を含むジクロロメタンで溶出して３−
メチル−２−〔（3S，4R）−３−｛（1S）−１−（Ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル｝−２−オキソ−４−アリルアゼチジン−１−
イル〕−２−ブテン酸メチル（47mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1725，1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.49〈3H，ｄ，Ｊ＝７Hz〉，
1.95〈3H，ｓ〉，2.19〈3H，ｓ〉，2.1−2.6〈2H，
ｍ〉，3.17〈1H，dd，Ｊ＝2.5，５Hz〉，3.73〈3H，
ｓ〉，3.90〈1H，dd，Ｊ＝2.5，６，８Hz〉，4.9−
5.3〈3H，ｍ〉，5.24〈2H，ｓ〉，5.5−5.9〈1H，
ｍ〉，7.51〈2H，ｄ，Ｊ＝９Hz〉，8.18〈2H，ｄ，
Ｊ＝９Hz〉 実施例 ５ ２−〔（4S）−４−アリル−３−アミノ−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸ベンジル（175mg）のジクロロメタン
（６ml）溶液を０℃に冷却し、臭化水素酸トリメ
チルアミン（404mg）、亜硝酸イソペンチル
（90μl）およびＰ−トルエンスルホン酸水和物
（190mg）を加えた。同温度で30分間撹拌したの
ち、反応混合物を酢酸エチル（30ml）で希釈し、
次いで希炭酸水素ナトリウム、水、塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒で留去して２−〔（4S）−４−アリル−
３−ブロモ−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸ベンジルを油状物と
して得た。 この油状物をジクロロメタン（２ml）に溶か
し、15℃に冷却した後この溶液に酢酸（0.2ml）
と亜鉛末（300mg）を加えた。混合物を同温度で
30分間撹拌し、反応混合物を酢酸エチル（30ml）
で希釈後、けいそう土を用いて濾過した。濾液を
希炭酸水素ナトリウム水溶液、水、塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去すると油状物が得られた。得られ
た油状物をプレパラテイブ薄層クロマトグラフイ
ー（展開溶媒：酢酸エチル10％を含むジクロロメ
タン）で精製し、油状の２−〔（4S）−４−アリル
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチ
ル−２−ブテン酸ベンジル（40mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：1750，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.94〈ｓ，3H〉，1.18〈ｓ，
3H〉，2.30〈ｍ，2H〉，2.77〈ABXパターンのAB
部分，JAB＝15Hz，JAX＝５Hz，JBX＝２Hz，2H〉，
3.90〈ｍ，1H〉，4.92〈ｍ，1H〉，5.04〈ｍ，1H〉，
5.16〈ABq，Ｊ＝12Hz〉，5.56〈ｍ，1H〉 実施例 ６ ジクロロメタン（30ml）に２−〔（4R）−３−ア
ミノ−４−アリル−２−オキソアゼチジン−１−
イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（815
mg）、臭化水素酸トリエチルアミン（2.50ｇ）お
よびＰ−トルエンスルホン酸水和物（1.17ｇ）を
加え０℃に冷却し、次いで亜硝酸イソペンチル
（0.54ml）を加えた。同温度で20分間撹拌したの
ち、混合物を濃縮し、残留物を酢酸エチル（50
ml）に溶解した。溶液を10％亜硫酸水素ナトリウ
ム、水、塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると２−
〔（4R）−３−ブロモ−４−アリル−２−オキソア
ゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン
酸メチル〈840mg〉の油状粗製物を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1770，1725cm-1 実施例 ７ ２−〔（3R，4R）−３−アミノ−４−アリル−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−２−ブテン酸メチル（1.0ｇ）のジクロロメタ
ン（10ml）溶液を−65℃に冷却し、これに亜硝酸
イソペンチル（1.01ml）および塩化水素〈524mg〉
のジエチルエーテル（８ml）溶液を加えた。混合
物を45分間かけて０℃まで加温し、同温度で1.5
時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル（40ml）
と希炭酸水素ナトリウム水溶液の混液にあけた。
有機層を分離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する
と油状物が得られた。油状物をシリカゲル（15
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ジクロロメタン
とアセトンの混合溶媒（100：２〜100：５）で溶
出して、油状の２−〔（4R）−４−アリル−３−ク
ロロ−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸メチル（658mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1775，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：2.00〈3H，ｓ〉，2.24〈3H，
ｓ〉，2.2−2.7〈2H，ｍ〉，3.78〈S1対，3H〉，4.0−
4.5〈2H，ｍ〉，4.9−5.3〈2H，ｍ〉，5.5−5.9〈1H，
ｍ〉． 実施例 ８ ２，６−ルチジン（3.82ml）とオキシ塩化燐
（1.37ml）を０℃で２−〔（3R，4R）−３−ホルム
アミド−２−オキソ−４−アリルアゼチジン−１
−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（970
mg）のジクロロメタン（10ml）溶液に加え、混合
物を同温度で３時間撹拌した。次いで、反応混合
物を酢酸エチル（100ml）−塩化ナトリウム水溶液
（50ml）混液にあけた。有機層を塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧蒸留に付した。油状残留物をシリカゲル（15
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ヘキサン−酢酸
エチル混合溶媒（10：１〜３：１）で溶出して２
−〔（3R，4R）−３−イソシアノ−２−オキソ−
アリルアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸メチル（766mg）を油状物として得た。 IR〈CH2Cl2〉：2145，1775，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.96〈ｓ，3H〉，2.24〈ｓ，
3H〉，2.3−2.6〈ｍ，2H〉，3.80〈ｓ，3H〉，4.20
〈dt，1H，Ｊ＝2.5，6.5Hz〉，4.98〈ｄ，1H，Ｊ＝
2.5Hz〉，5.0−5.3〈ｍ，2H〉，5.5−6.0〈ｍ，1H〉 質量分析：ｍ／c248（M+） 実施例 ９ ２−〔（3S，4S）−４−クロロ−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸メチル〈200mg〉と３−
（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸ｐ−ニ
トロベンジル（320mg）のジクロロメタン（1.7
ml）溶液に、−78℃でふつ化ほう素酸銀（133mg）
を一度に加えた。混合物を撹拌しながら45分間か
けて除々に０℃まで加温し、同温度で40分間撹拌
した。混合物を酢酸エチル（５ml）で希釈した。
飽和塩化ナトリウム水溶液（２ml）を加え、混合
物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でPH７に調整
した。酢酸エチル（15ml）でさらに希釈後、混合
物をけいそう土を用いて濾過した。有機層を分離
し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去して得られた油状物
をシリカゲル（８ｇ）クロマトグラフイーに付
し、アセトン１％〜５％を含むジクロロメタンで
溶出して油状物（215mg）を得た。酢酸エチル10
％〜40％を含むヘキサンを用いたシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーでさらに精製して、３−メ
チル−２−〔（3S，4R）−４｛２−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルメチル）アリル｝−３−
〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−２−ブテン酸メチル（200mg）を得
た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1725〈シヨルダー〉、1605，
1525，1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.50〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，1H〉，
1.94〈ｓ，3H〉，2.20〈ｓ，3H〉，2.48〈ABX型の
AB部分、８本、Ｊ＝６，８，14Hz，2H〉，3.15
〈Ｓ，2H〉，3.19〈dd，Ｊ＝2.5，５Hz，1H〉，3.75
〈3H，ｓ〉，4.12〈ddd，Ｊ＝2.5，６，８Hz，1H〉，
5.02〈ｓ，2H〉，5.20〈ｍ，1H〉，5.23〈ｓ，2H〉，
5.28〈ｓ，2H〉7.52〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，7.56
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.23〈ｄ，Ｊ＝９Hz，4H〉 実施例 10 ２−〔（3S，4RS）−４−クロロ−３−｛（1R）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキ
シ）エチル｝−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸メチル（392mg）と
３−（トリメチルシリルメチル）−３−ブテン酸ｐ
−ニトロベンジル（562mg）の混合物（55：45）
をジクロロメタン（3.5ml）に溶かし、窒素雰囲
気中−78℃でふつ化ほう素酸銀（260mg）を一度
加えた。混合物を撹拌しながら45分間かけて徐々
に０℃まで加温し、同温度で１時間撹拌した。混
合物を酢酸エチル（10ml）で希釈した。飽和塩化
ナトリウム水溶液（３ml）を加え、混合物を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液でPH７に中和した。得
られた混合物をけいそう土を用いて濾過した。酢
酸エチル（20ml）でさらに希釈したのち、有機層
を分離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得られ
た油状物をシリカゲル（15ｇ）クロマトグラフイ
ーに付し、アセトン１％〜５％を含むジクロロメ
タンで溶出して、油状物（326mg）を得た。酢酸
エチル10％〜40％を含むヘキサンを用いたシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーでさらに精製し
て、３−メチル−２−〔（2S，4R）−４−｛２−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）アリ
ル｝−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（289
mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1720〈シヨルダー〉、1525，
1350cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
1.95〈ｓ，3H〉，2.19〈ｓ，3H〉，2.50〈ｍ，2H〉，
3.06〈dd，Ｊ＝2.5，７Hz，1H〉，3.13〈ｓ，2H〉，
3.74〈ｓ，3H〉，4.10〈ddd，Ｊ＝2.5，６，7.5Hz，
1H〉，5.01〈ｓ，2H〉，5.17〈五重線、Ｊ＝７Hz，
1H〉，5.20〈ｓ，2H〉，5.25〈ｓ，2H〉，7.48〈ｄ，
Ｊ＝９Hz，2H〉，7.52〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.18
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，4H〉 〔α〕22 D：−5.65゜〈ｃ＝0.513，CHCl3〉． 次に、この発明の目的化合物（）から、チエ
ナマイシン基本骨格を有する抗生物質およびその
合成中間体の製造法を下記参考例により具体的に
説明する。 参考例 １ ２−〔（4R）−３−ブロモ−４−アリル−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（840mg）をジクロロメタン（６
mgに）溶解し、５℃に冷却した。この溶液に酢酸
（0.5ml）と亜鉛末（0.60ｇ）を加え、混合物を室
温に加温した。30分間撹拌後、反応混合物を酢酸
エチル（６ml）で希釈し、けいそう土を用いて濾
過した。濾液を酢酸エチル（50ml）でさらに希釈
し、水、希炭酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナト
リウム水溶液で順次洗浄した。硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去して油状物を得た。油状物
をシリカゲル（20ｇ）をクロマトグラフイーに付
し、ベンゼン−アセトン混合溶媒（５：１）で溶
出する２−〔（4R）−４−アリル−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
メチル（174mg）が油状物として得られた。 IR（CH2Cl2）：1745，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.96〈3H，ｓ〉，2.18〈3H，
ｓ〉，2.2−2.5〈2H，ｍ〉，2.88〈ABA型のAB部
分、JAB＝16Hz，JAX＝2.5Hz，JBX＝５Hz，2H〉，
2.75〈3H，ｓ〉，3.96〈1H，ｍ〉，5.00〈1H，ｍ〉，
5.14〈1H，ｍ〉，5.72〈1H，ｍ〉 参考例 ２ ２−〔（4R）−４−アリル−３−クロロ−２−オ
キソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−
ブテン酸メチル（600mg）、トリブチルスタナン
（0.97ml）および２，2′−アゾビス−（２−メチル
プロピオニトリル）（40mg）のベンゼン（６ml）
溶液を1.5時間還流した。反応混合物を酢酸エチ
ル（30ml）と希炭酸水素ナトリウム水溶液の混液
にあけた。有機層を分離し、塩化ナトリウム水溶
液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去した。油状残留物をシリカゲル（10
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ヘキサン−酢酸
エチル混合溶媒（10：１〜10：３）で溶出して２
−〔（4R）−４−アリル−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（452mg）を油状物として得た。 IR（CH2Cl2）：1750，1720cm-1 NMR（CDCl3）δ：1.97〈3H，ｓ〉，2.20〈3H，
ｓ〉，2.3−2.5〈2H，ｍ〉，2.63〈dd，1H，Ｊ＝３
Hz，16Hz〉，3.11〈dd，1H，Ｊ＝５Hz，16Hz〉，
3.77〈3H，ｓ〉，3.7−4.2〈1H，ｍ〉，4.8−5.3〈2H，
ｍ〉，5.4−6.1〈1H，ｍ〉 参考例 ３ ２−〔（4R）−４−アリル−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル
（100mg）、塩化パラジウム（16mg）および塩化第
一銅（44mg）の混合物をジメチルホルムアミド
（１ml）と水（0.12ml）の混液に加え、酸素雰囲
気中で3.5時間撹拌した。反応液を酢酸エチル
（20ml）で希釈し、濾過した。濾液を水および塩
化ナトリウム水溶液で洗浄した。水層を合わせ、
酢酸エチル（10ml×２）で抽出し、抽出物を塩化
ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を合わせ、
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
した。油状残留物をシリカゲル（１ｇ）クロマト
グラフイーに付し、ジクロロメタン−アセトン混
合溶媒（100：２〜100：５）で溶出すると２−
〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−オキソ
アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテ
ン酸メチル（89mg）が油状物として得られた。 IR〈CH2Cl2〉：1745，1710cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.92〈3H，ｓ〉，2.13〈3H，
ｓ〉，2.18〈3H，ｓ〉，2.4−3.4〈4H，ｍ〉，3.76
〈3H，ｓ〉，4.2−4.5〈1H，ｍ〉 参考例 ４ ２−〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−プテン酸メチル（580mg）の酢酸エチル（10ml）
溶液中に、反応液が青色を呈するまで−65℃でオ
ゾンを吹込んだ。次いで反応液中に、同温度で15
分間窒素を吹込んだ。反応混合物を酢酸エチル
（30ml）で希釈し、溶液を炭酸水素ナトリウム
（1.26ｇ）を含む塩化ナトリウム水溶液で処理し
た。分離した水層を酢酸エチル（20ml）で抽出し
た。有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を留去して〔（4R）−４−（２−
オキソプロピル）−２−オキソアゼチジン−１−
イル〕グリオキシル酸メチルを得た。この生成物
をジクロロメタン（５ml）で希釈し、０℃に冷却
し、次いで亜鉛末（1.06ｇ）と酢酸（0.5ml）を
加えた。室温で２時間撹拌したのち、亜鉛末
（580mg）と酢酸（0.25ml）を加え、混合物を室温
で２時間撹拌した。混合物を濾過し、濾液を減圧
蒸留に付した。残留物をジクロロメタンで希釈
し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、水層を酢酸
エチルで二回抽出した。有機層を合わせ、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去すると
２−ヒドロキシ−２−〔（4R）−４−（２−オキソ
プロピル）−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
酢酸メチル（300mg）が油状物として得られた。 IR〈CH2Cl2〉：1760，1710cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：2.19〈3H，ｓ〉，2.2−3.4
〈4H，ｍ〉，3.80〈３／4H，ｓ〉，3.88〈９／4H，
ｓ〉，4.0−4.4〈1H，ｍ〉。 参考列 ５ ２−ヒドロキシ−２−〔（4R）−４−（２−オキ
ソプロピル）−２−オキソアゼチジン−１−イル〕
酢酸メチル（268mg）のテトラヒドロフラン（５
ml）溶液を−40℃で冷却し、２，６−ルチジン
（0.287ml）と塩化チオニル（0.18ml）を加えた。
混合物を１時間かけて０℃まで加温しながら撹拌
した。混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮すると２
−クロロ−２〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕酢酸メチル
が得られた。この生成物をベンゼンで希釈し、再
び減圧濃縮した。残留物をテトラヒドロフラン
（５ml）で希釈し、０℃で２，６−ルチジン
（0.287ml）とトリフエニルホスフイン（650mg）
を加えた。混合物を室温で15時間撹拌し、濾過し
た。濾液を減圧濃縮し、残留物をシリカゲル（10
ｇ）クロマトグラフイーに付し、酢酸エチル−ア
セトン混合溶媒（10：１〜10：５）で溶出して２
−〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−オキ
ソアゼチジン−１−イル〕−２−（トリフエニルホ
スホラニリデン）酢酸メチル（350mg）を油状物
とした得た。 IR（CH2Cl2）：1735，1705cm-1 参考例 ６ ２−〔（4R）−４−（２−オキソプロピル）−２−
オキソアゼチジン−１−イル〕−２−（トリフエニ
ルホスホラニリデン）酢酸メチル（100mg）のト
ルエン（３ml）溶液を110℃で２時間撹拌した。
混合物を減圧濃縮し、残留物をシリカゲル（３
ｇ）クロマトグラフイーに付し、ベンゼン−アセ
トン混合溶媒（10：１）で溶出して（5R）−３−
メチル−７−オキソ−アザビシクロー〔３，２，
０〕−２−ヘプテン−２−カルボン酸メチル（17
mg）を得た。 IR〈CHCl3〉：1770，1720cm-1 NMR〈ベンゼンd6）δ：1.7−2.0〈2H，ｍ〉，
1.85〈3H，ｓ〉，2.12〈dd，1H，Ｊ＝３Hz，15Hz〉，
2.66〈dd，1H，Ｊ＝７Hz，15Hz〉，3.1−3.5〈1H，
ｍ〉，3.48〈3H，ｓ〉 参考例 ７ ２，2′−アゾビス（２−メチルプロピオニトリ
ル）（98mg）とトリブチルスタナン（0.95ml）を
２−〔（3R，4R）−３−イソシアノ−２−オキソ
−４−アリルアゼチジン−１−イル〕−３−メチ
ル−２−ブテン酸メチル（740mg）のベンゼン
（15ml）溶液に加え、混合物を20分間還流した。
反応混合物をシリカゲル（15ｇ）クロマトグラフ
イーに付し、ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒
（５：１〜３：１）で溶出して、２−〔（4R）−２
−オキソ−４−アリルアゼチジン−１−イル〕−
３−メチル−２−ブテン酸メチル（660mg）を得
た。 IR〈CH2Cl2〉：1750，1720cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.97〈ｓ，3H〉，2.20〈ｓ，
3H〉，2.3−2.5〈ｍ，2H〉，2.63〈dd，1H，Ｊ＝
３，16Hz〉，3.11〈dd，1H，Ｊ＝５，16Hz〉，3.77
〈ｓ，3H〉，3.7−4.2〈ｍ，1H〉，4.8−5.3〈ｍ，
2H〉，5.4−6.1〈ｍ，1H〉 参考例 ８ ３−メチル−２−〔（4R）−２−オキソ−４−ア
リルアゼチジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチ
ル（330mg）の酢酸エチル（20ml）溶液中に、−78
℃で青色が現われるまでオゾンを吹込んだ。過剰
のオゾンを窒素気流で除去した後、混液を亜硫酸
水素酸ナトリウム（1.6ｇ）と亜硫酸ナトリウム
（0.4ｇ）を含む希塩化ナトリウム水溶液に注加し
た。混合物を振とうし、有機層を分離した。水層
をジクロロメタンで三回抽出した。抽出物を合わ
せ、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する
と〔（4R）−２−オキソ−４−（１，２，４−トリ
オキソラン−３−イル−メチル）アゼチジン−１
−イル〕グリオキシル酸メチル（354mg）が油状
物として得られた。 IR〈CH2Cl2〉：1810，1755，1705cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.9−2.3〈ｍ，1H〉，2.70
〈ddd，Ｊ＝４，８，16Hz，1H〉，3.06〈ddd，Ｊ＝
2.5，４，18Hz，1H〉，3.42〈dd，Ｊ＝６，18Hz，
1H〉，3.96〈ｓ，3H〉，4.2−4.6〈ｍ，1H〉，5.15
〈〜ｔ，Ｊ＝２Hz，2H〉，5.44〈ｍ，1H〉 参考例 ９ 〔（4R）−２−オキソ−４−（１，２，４−トリ
オキソラン−３−イルメチル）アゼチジン−１−
イル〕グルオキシル酸メチル（96mg）とジメチル
サルフアイド（0.5ml）をメタノールとジクロロ
メタンの１：１混液（８ml）に溶解し、室温で21
時間撹拌し、次いで50℃で８時間加熱した。溶媒
を除き、黄色残留物をシリカゲル（1.5ｇ）クロ
マトグラフイーに付し、メタノール３％〜５％を
含むジクロロメタンで溶出して（4R）−４−（２
−オキソエチル）−２−オキソアゼチジン（20mg）
を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3400，1760，1720cm-1 参考例 10 〔（4R）−２−オキソ−４−（１，２，４−トリ
オキソラン−３−イルメチル）アゼチジン−１−
イル〕グリオキシル酸メチル（60mg）のメタノー
ル（５ml）溶液を65〜70℃で２時間加熱した。黄
色の溶液を０℃に冷却し、ジアゾメタン（過剰
量）のジエチルエーテル溶液で処理した。溶媒を
除き、残留物をシリカゲル（1.5ｇ）クロマトグ
ラフイーに付し、アセトン20％を含むジクロロメ
タンで溶出して２−〔（2R）−４−オキソアゼチジ
ン−２−イル〕酢酸メチル（６mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3390，1760，1730cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：2.5−2.8〈ｍ，3H〉，3.16
〈ddd，Ｊ＝2.5，６，16Hz，1H〉，3.74〈ｓ，3H〉，
3.8−4.1〈ｍ，1H〉，6.3〈ｍ，1H〉 その後の画分から（4R）−４−（２−オキソエ
チル）−２−オキソアゼチジン（５mg）を得た。 参考例 11 （4R）−４−（２−オキソエチル）−２−オキソ
アゼチジン（20mg）とトリフエニルホスホラニリ
デン酢酸ベンジル（80mg）をジクロロメタン（３
ml）に加え、80分間加熱還流した。溶媒を除き、
残留物をシリカゲル（２mg）クロマトグラフイー
に付し、メタノール３％を含むジクロロメタンで
溶出して油状物（30mg）を得た。シリカゲル・プ
レート（展開溶媒：メタノール４％を含むジクロ
ロメタン）２枚を用いたクロマトグラフイーで処
理した４−〔（2R）−４−オキソアゼチジン−２−
イル〕−２−ブテン酸ベンジル（16mg）を粗製物
として得た。 IR〈CH2Cl2〉：1765，1720cm-1 参考例 12 ４−〔（2RS）−４−オキソアゼチジン−２−イ
ル〕−２−ブテン酸ベンジル（167mg）、ｔ−ブチ
ルヒドロパーオキサイド（0.3ml）およびテトラ
クロロパラジウム酸ナトリウム（80mg）を67％酢
酸水溶液（2.7ml）に加え、50℃で8.5時間加熱し
た。0.5mlのｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと
40mgのテトラクロロパラジウム酸ナトリウムをさ
らに加えた。反応液を室温で３日間撹拌し、50℃
で14時間加熱した。減圧下で溶媒を留去し、残留
物を酢酸エチル（20ml）に転溶し、希塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去して油状物（200mg）を得た。こ
れをシリカゲル・プレート（展開溶媒：アセトン
20％を含むジクロロメタン）を用いたクロマトグ
ラフイーで処理し３−オキソ−４−〔（2RS）−４
−オキソアゼチジン−２−イル〕ブタン酸ベンジ
ル（66mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3400，1760，1715cm-1 参考例 13 ２−〔（4R）−４−アリル−２−オキソアゼチジ
ン−１−イル〕−３−メチル−ブテン酸メチル
（85mg）の酢酸エチル（７ml）溶液を−78℃に冷
却し、青色が現われるまでオゾンを吸込んだ。同
温度で10分間撹拌後、反応液を窒素ガス置換し
た。この溶液に水素化ほう素ナトリウム（60mg）
を加え、混合物を−78℃で30分間撹拌した。次い
で酢酸（0.12ml）を加え、混合物の温度を２時間
かけて徐々に０℃に上昇させながら撹拌した。反
応液を酢酸エチル（10ml）で希釈し、水、希炭酸
水素ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で
順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去して得られた油状物（20mg）をシリカゲル
（１ｇ）クロマトグラフイーに付し、ジクロロメ
タン−メタノール（10：１）で溶出して２−ヒド
ロキシ−２−〔（4R）−４−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２−オキソアゼチジン−１−イル〕酢酸メ
チル（12mg）を得た。 IR（CH2Cl2）：3500，1765，1745（シヨルダー）
cm-1 参考例 14 ２−〔（3S，4R）−４−〔２−（メトキシカルボニ
ルメチル）アリル〕−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−
２−オキソアゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−２−ブテン酸メチル（190mg）の酢酸エチル
（14ml）溶液中に、青色が現われるまで−78℃で
オゾン気流を吹込んだ。−78℃で２分間撹拌後、
過剰のオゾンを窒素気流で除去した。溶液を酢酸
エチルで希釈し、冷亜硫酸水素ナトリウム水溶液
（1.0ｇ）、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除いて油状物
（182mg）を得た。残留物をジクロロメタン（2.5
ml）に溶かし、０℃に冷却した。この溶液にメタ
ノール（7.5ml）とジメチルサルフアイド（0.7
ml）を加え、得られた溶液を０℃で25時間撹拌し
た。次いで混合物を50℃で22時間加熱し、室温で
４日間放置した。溶媒を除き、残留物をシリカゲ
ル（６ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセトン
５％〜20％を含むジクロロメタンで溶出して、４
−〔（2R，3S）−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−オ
キソアゼチジン−２−イル〕−３−オキソブタン
酸メチル（122mg）を得た。 NMR〈CDCl3〉δ：1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
2.90−3.05〈ｍ，2H〉，3.10〈dd，Ｊ＝2.2，4.5Hz，
1H〉，3.48〈ｓ，2H〉，3.73〈ｓ，3H〉，3.8〈ｍ，
1H〉，5.13〈dq，Ｊ＝4.5，6.5Hz，1H〉，5.24〈ｓ，
2H〉，6.51〈ブロードｓ，1H〉，7.53〈ｄ，Ｊ＝９
Hz，2H〉and8.18〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉 参考例 15 参考例14と同様にして、２−〔（3S，4R）−４−
｛２−（メトキシカルボニルメチル）アリル｝−３
−〔（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル−２−オキソアゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブタン酸メチル
（90mg）から４−〔（2R，3S）−３−｛（1RS）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−４−オキソアゼチジン−２−イル〕−３
−オキソブタン酸メチル（61mg）が得られた。 IR〈CH2Cl2〉：3380，1765，1745，1715，1520，
1350cm-1 NMR〈アセトン−d6〉δ：1.42〈ｄ，Ｊ＝6.5
Hz，2H〉，1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，1H〉，3.0−3.2
〈ｍ，3H〉，3.59〈ｓ，2H〉，3.69〈ｓ，3H〉，3.80
〈dt，Ｊ＝2.5，７Hz，１／3H〉，3.95〈ddd，Ｊ＝
2.5，６，８Hz，２／3H〉，5.10〈五重線、Ｊ＝6.5
Hz，２／3H〉，5.15〈ｍ，１／3H，hidden〉，7.15
ブロードｓ，１／3H〉，7.23〈ブロードｓ，２／
3H〉，7.66〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉 参考例 16 ２−〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−
２−オキソ−４−アリル−アゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸メチル（62mg）
の酢酸エチル（５ml）溶液を−70℃に冷却し、青
色が現われるまでオゾンを吹込んだ。同温度で15
分間撹拌し、反応液を窒素ガス置換し、酢酸エチ
ルと亜硫酸水素ナトリウム・亜硫酸ナトリウム水
溶液（４：１）の混液にあけた。有機層を分離
し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、油状の
〔（3S，4R）−３−｛（1RS）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−４−
（１，２，４−トリオキソラン−３−イルメチル）
−２−オキソアゼチジン−１−イル〕グルオキシ
ル酸メチル（56mg）を得た。この油状物をメタノ
ール（４ml）・ジクロロメタン（２ml）混液に溶
かし、ジメチルサルフアイド（0.5ml）を０℃で
加えた。混合物を同温度で２時間、室温で一夜撹
拌した。50℃でさらに３時間撹拌後、溶媒を留去
した。残留物を再びメタノール（14ml）に溶か
し、これにジメチルサルフアイド（0.5ml）を加
えた。混合物を室温で一夜撹拌し、次いで溶媒を
留去した。残留物をプレパラテイブ薄層クロマト
グラフイー（シリカゲル）に付し、ベンゼン−ア
セトン（１：１）で展開して、（3S，4R）−３−
〔（1RS）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−４−（２−オキソエチル）
−２−オキソアゼチジン〔IR〈CH2Cl2〉：3375，
1770，1750，1720cm-1〕とそのジメチルアセター
ルの混合物（５mg）を得た。 ジメチルアセタール化合物の物理定数： IR〈CH2Cl2〉：1760，1750cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.45〈ｄ，3H，6.5Hz〉，
1.94〈dd，2H，Ｊ＝６，5.5Hz〉，3.0−3.2〈ｍ，
1H〉，3.32〈ｓ，3H〉，3.5−3.8〈ｍ，1H〉，4.41
〈ｔ，1H，Ｊ＝5.5Hz〉，4.9−5.3〈ｍ，1H〉，5.24
〈ｓ，2H〉，6.12〈ブロードｓ，1H〉，7.84〈A2B2，
4H，Ｊ＝９Hz〉 参考例 17 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−３−｛（1S）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル｝−２−オキソ−４−アリルアゼチジン−
１−イル〕−２−ブテン酸メチル（135mg）の酢酸
エチル（10ml）溶液を−70℃に冷却し、青色が現
われるまでオゾンを吹込んだ。同温度で15分間撹
拌後、混合物を窒素ガス置換し、酢酸エチルと亜
硫酸水素ナトリウム・亜硫酸ナトリウム水溶液
（３：１）の混液にあけた。有機層を分離し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去して〔（3S，4R）−３−
｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル｝−２−オキソ−４−（１，
２，４−トリオキソラン−３−イルメチル）〕グ
リオキシル酸メチルを得た。生成物をメタノール
（４ml）に溶かしジメチルサルフアイド（１ml）
を０℃で加えた。混合物を同温度で２時間、室温
で２時間撹拌した。ジメチルサルフアイドをさら
に0.5ml加え、混合物を50℃で６時間撹拌した。
室温で一夜放置し、溶媒を除き、残留物をベンゼ
ンに溶かした。溶液から溶媒を除き、残留物をシ
リカゲル（３ｇ）クロマトグラフイーに付し、ヘ
キサン−酢酸エチル（４：１〜１：２）で溶出し
て、（3S，4R）−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
（２−オキソエチル）−２−オキソアゼチジン（15
mg）〔IR〈CH2Cl2〉：3375，1770，1750，1720cm
-1〕とそのジメチルアセタール（37mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：1760，1750cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.45〈ｄ，3H，Ｊ＝6.5Hz〉，
1.94〈dd，2H，Ｊ＝６，5.5Hz〉，3.10〈dd，1H，
Ｊ＝５，2.5Hz〉，3.32〈ｓ，3H〉，3.62〈dt，1H，
Ｊ＝2.5，６Hz〉，4.41〈ｔ，1H，Ｊ＝5.5Hz〉，4.9
−5.3〈ｍ，1H〉，5.24〈ｓ，2H〉，6.28〈ブロード
ｓ，1H〉，7.84〈A2B2，4H，Ｊ＝９Hz〉〕 参考例 18 （3S，4R）−４−（２，２−ジメトキシエチル）
−３−〔（1RS）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル〕−２−オキソアゼチ
ジン（12mg）を80％酢酸水溶液（１ml）に加え、
50℃で４時間撹拌した。−20℃で一夜放置し、混
合物から溶媒を除き、残留物を酢酸エチルに溶か
した。溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を留去して、（3S，4R）−３−〔（1RS）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル〕−２−オキソ−４−（２−オキソエ
チル）〕アゼチジン（８mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3420，1770，1750，1720cm-1 参考例 19 参考例18と同様にして（3S，4R）−３−〔（1S）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル〕−４−（２，２−ジメトキシエチ
ル）−２−オキソアゼチジンから（3S，4R）−３
〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−２−オキソ−４−（２−オ
キソエチル）アゼチジンを得た。 IR〈CH2Cl2〉：3375，1770，1750，1720cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.48〈ｄ，3H，Ｊ＝７Hz〉，
2.92〈ｄ，2H，Ｊ＝６Hz〉，3.12〈dd，1H，Ｊ＝
５，2.5Hz〉，3.86（dt，1H，Ｊ＝2.5，６Hz〉，5.0
−5.3〈ｍ，1H〉，5.25〈ｓ，2H〉，6.48〈ｓ，1H〉，
7.84〈A2B2，4H，Ｊ＝９Hz〉，9.74〈ｓ，1H〉 参考例 20 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−｛２−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）アリ
ル｝−３−〔（1S）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（187
mg）の酢酸エチル（８ml）溶液中に、青色が現わ
れるまで−78℃でオゾンを吹込んだ。３分後、過
剰のオゾンを窒素気流で除去した。溶液を酢酸エ
チル（20ml）で希釈し、冷亜硫酸水素ナトリウム
水溶液（１ｇ）、希塩化ナトリウム水溶液、飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、非晶質
固形物（191mg）を得た。この残留物をジメチル
サルフアイド（0.7ml）を含むジクロロメタン
（2.5ml）に溶かし、０℃まで冷却した。溶液を０
℃で７時間、室温で40.5時間撹拌した。得られた
溶液を50℃で34.5時間加熱し、室温で２日間放置
した。混合物から溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲル（５ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセト
ン５％〜10％を含むジクロロメタンで抽出して、
４−〔（2R，3S）−３−｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−４−
オキソアゼチジン−２−イル〕−３−オキソ−ブ
タン酸ｐ−ニトロベンジル（124mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3390，1765，1745，1715，1605，
1605，1525，1345cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.46〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
3.00〈ｍ，2H〉，3.10〈dd，Ｊ＝2.5，５Hz，1H〉，
3.60〈ｓ，3H〉，3.85〈ｍ，1H〉，5.16〈ｍ，1H；
1.46ppm照射時ｄ，Ｊ＝５Hz〉，5.27〈ｓ，4H〉，
6.47〈brs，1H〉，7.51〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，7.53
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.18〈ｄ，Ｊ＝９Hz，4H〉 〔α〕22 D：＋28.13゜〈ｃ＝0.736，CHCl3〉 参考例 21 ３−メチル−２−〔（3S，4R）−４−｛２−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）アリ
ル｝−３−｛（1R）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼ
チジン−１−イル〕−２−ブテン酸メチル（233
mg）の酢酸エチル（10ml）溶液中に、青色が現わ
れるまで−78℃でオゾン気流を吹込んだ。３分
後、過剰のオゾンを窒素気流で除去した。溶液を
酢酸エチル（20ml）で希釈し、冷亜硫酸水素ナト
リウム水溶液（1.2ｇ）と塩化ナトリウム水溶液
で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムを乾燥
し、溶媒を留去して、非晶質固形物（240mg）を
得た。この残留物をジメチルサルフアイド（0.9
ml）を含むジクロロメタン（３ml）に溶かし、０
℃まで冷却した。メタノール（９ml）を加え、溶
液を０℃で５時間、窒素雰囲気中室温で９時間撹
拌した。次いで混合物を55℃で31時間加熱した。
得られた溶液から溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲル（６ｇ）クロマトグラフイーに付し、アセト
ン５％〜15％を含むジクロロメタンで溶出し、４
−〔（2R，3S）−３−｛（1S）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル｝−４−オ
キソアゼチジン−２−イル〕−３−オキソ−ブタ
ン酸ｐ−ニトロベンジル（145mg）を得た。 IR〈CH2Cl2〉：3370，1760，1745，1710，1605，
1520，1350cm-1 NMR〈CDCl3〉δ：1.42〈ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H〉，
2.8−3.1〈ｍ，3H〉，3.60〈ｓ，2H〉，3.94〈ddd，Ｊ
＝2.5，５，８Hz，1H〉，5.11〈五重線、Ｊ＝７Hz，
1H〉，5.26〈ｓ，4H〉，6.52〈brs，1H〉，7.50〈ｄ，
Ｊ＝９Hz，2H〉，7.52〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉，8.17
〈ｄ，Ｊ＝９Hz，2H〉 〔α〕22 D：＋21.83゜〈ｃ＝0.907，CHCl3〉
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R1はハロゲン、イソシアノ基または
保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、R2
は水素、カルボキシ（低級）アルキル基、または
保護されたカルボキシ（低級）アルキル基、R3
はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
それぞれ意味する〕 で示される化合物またはその塩。 ２ R2が水素または保護されたカルボキシ（低
級）アルキル基である特許請求の範囲第１項記載
の化合物。 ３ R1がハロゲン、イソシアノ基またはニトロ
で置換されていてもよいモノーもしくはジーもし
くはトリフエニル（低級）アルコキシカルボニル
オキシ（低級）アルキル基、R2が水素、低級ア
ルコキシカルボニル（低級）アルキル基またはニ
トロで置換されていてもよいモノーもしくはジー
もしくはトリフエニル（低級）アルコキシカルボ
ニル（低級）アルキル基、R3がカルボキシ基、
低級アルコキシカルボニル基、またはニトロで置
換されていてもよいモノーもしくはジーもしくは
トリフエニル（低級）アルコキシカルボニル基で
ある特許請求の範囲第２項記載の化合物。 ４ 一般式 〔式中、Raはハロゲン、R1 aはハロゲン、イソ
シアノ基または保護されたヒドロキシ（低級）ア
ルキル基、R3はカルボキシ基または保護された
カルボキシ基をそれぞれ意味する〕 で示される化合物またはその塩を、一般式 〔式中、R2は水素、カルボキシ（低級）アル
キル基、または保護されたカルボキシ（低級）ア
ルキル基、Ｚは一般式−Si（R4）3または−Sn
（R4）3（式中、R4は低級アルキル、アリール、低
級アルコキシまたはハロゲンを意味する）をそれ
ぞれ意味する〕 で示される化合物またはその塩を反応させ、一般
式 〔式中、R1 a，R2およびR3はそれぞれ前と同じ
意味〕 で示される４−置換−２−オキソアゼチジン化合
物またはその塩を得ることを特徴とする４−置換
−２−オキソアゼチジン化合物またはその塩の製
造法。
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| GB8006842 | 1980-02-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH023781B2 true JPH023781B2 (ja) | 1990-01-24 |
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