JPH023810B2 - - Google Patents

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JPH023810B2
JPH023810B2 JP60140102A JP14010285A JPH023810B2 JP H023810 B2 JPH023810 B2 JP H023810B2 JP 60140102 A JP60140102 A JP 60140102A JP 14010285 A JP14010285 A JP 14010285A JP H023810 B2 JPH023810 B2 JP H023810B2
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JP
Japan
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cement
latex
elastomer
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sulfonated
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JP60140102A
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JPS6116926A (ja
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Daburyuu Baaton Girubaato
Pii Oofuareru Chaaruzu
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ExxonMobil Technology and Engineering Co
Original Assignee
Exxon Research and Engineering Co
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Publication date
Application filed by Exxon Research and Engineering Co filed Critical Exxon Research and Engineering Co
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はスルホン化低不飽和エラストマーのラ
テツクスの製造方法に関する。特に、本発明は比
較的容易に乳化しうる生成物を与えるために、エ
ラストマーセメントスルホン化反応の不活性化又
は抑制を施す改良方法に関する。 ブチルゴム及びエチレン−プロピレン−ジエン
ターポリマーのスルホン化イオノマーについては
例えば1972年2月15日に特許されたカンター
(Canter)の米国特許第3642728号に記載されて
いる。 スルホン化ブチルゴムから製造したラテツクス
については1973年11月6日に特許されたハバード
(Hubbard)らによる米国特許第3770682号に開
示されており、この特許においては酸状のスルホ
ン化ブチルゴムを非イオン界面活性剤を用いて乳
化する。1975年10月14日に特許されたオーフアレ
ル(O′Farrell)による米国特許第3912683号は中
和したスルホン化ブチルゴムのアニオン界面活性
剤による乳化を取扱つている。1974年9月17日に
特許されたオーフアレルらによる米国特許第
3836511号はこれらエラストマーの硫酸アシルス
ルホン化を取扱つている。 スルホン化エラストマーのラテツクスを製造す
る前述の技術においては、相当な量のn−プロパ
ノールのようなアルコールがスルホン化反応を抑
制又は不活性化するのに必要である。この不活性
化段階は乳化性生成物を与えるために絶対必要で
あり、乳化性生成物は更に処理されて適当なラテ
ツクスとなる。使用されるかかるアルコールの量
はスルホン化エラストマーセメントの重量に対し
て20〜40重量%程度である。最初のラテツクスか
ら溶媒、アルコール及び過剰の水を除去して最終
的なラテツクスを形成した後、これらの量のアル
コールが存在する場合は溶媒、アルコール及び水
を分離するために広汎な蒸留及び精製手順を必要
とする。ラテツクスの溶媒ストリツピング及び濃
縮中に除去されない程度に沸点の十分高い1−オ
クタノールのようなアルコールを使用する場合に
は、これらのアルコールは最終ラテツクスの成分
として残り、最終製品において過剰の凝固及び他
の不安定性の問題をひきおこす。 アルコール抑制剤の使用に関する他の欠点は、
セメント状態で存在する100部のスルホン化エラ
ストマーに対してかなり多大な量、たとえば10乃
至15部の乳化剤を使用する必要があるということ
である。アルコールがアニオン乳化剤の界面活性
剤の性質に逆効果を及ぼすことは公知である。 本発明において、スルホン化反応のアルコール
不活性化系の使用により生ずる多くの欠点を少な
くとも一つの反応性オキシラン官能基を含有する
有機エポキシドを用いることにより克服した。ス
ルホン化反応を不活性化又は抑制するために、化
学量論量のエポキシドを使用しうる。 本発明によれば、スルホン化ブチルゴム及びス
ルホン化EPDMエラストマーのようなスルホン
化低不飽和エラストラマーのラテツクスを製造す
る方法が提供される。該方法は (a) 揮発性炭化水素溶媒中にエラストマーのセメ
ントを供給し、 (b) 硫酸アシルスルホン化剤でエラストマーセメ
ントをスルホン化し、 (c) 少なくとも一つの反応性オキシラン基、すな
わち
【式】基を有する有機エポキシド を化学量論量用いて不活性化し、 (d) アニオン界面活性剤乳化剤を用いて生成物の
水性エマルジヨンを中和状態に形成し(前記生
成物は弱塩基を用いて乳化の前又は後で中和す
る)かつ (e) そのあと過剰の水と溶媒を除去することによ
り安定なラテツクスエマルジヨンを得る、 段階を含む。 更に本発明の具体例は、上述の方法により製造
した安定なラテツクスエマルジヨンにある。 本明細書中に使用される用語「ブチルゴム」は
約0.5乃至約15モル%の共役ジエン及び約85乃至
99.5%のイソオレフインを含むイソオレフインと
共役ジエンのコポリマーを意味する。ブチルゴム
の製造に使用されうるイソオレフインの例として
は、イソブチレン、2−メチル−1−プロペン、
3−メチル−1−ブテン、4−メチル−1−ペン
テン及びβ−ピネンがある。共役ジエンの例とし
てはイスプレン、ブタジエン、2,3−ジメチル
ブタジエン、クロロプレン、ピペリレン、2,5
−ジメチルヘキサ−2,4−ジエン、シクロペン
タジエン、シクロヘキサジエン及びメチルクロロ
ペンダジエンがある。ブチルゴムの製造について
は米国特許第2356128号及びアール・エム・トー
マス(R.M.Thomas)らによる1940年10月発行
の「インダストリアル・アンド・エンジニアリン
グ・ケミストリー(Industrial and Engineering
Chemistry)」の第32巻第1283頁の論文に記述さ
れている。 用語「EPDA」はASTM−D−1418−64に見
出されるような定義の意味で使用され、主鎖にエ
チレン及びプロピレンを、側鎖にジエンを含むタ
ーポリマーを意味する。これらのターポリマーを
製造する方法は米国特許第3280082号、英国特許
第1030989号及び仏国特許第1380600号に記載され
ている。好ましいポリマーは約45乃至約80重量%
のエチレン及び約2乃至約10重量%のジエンモノ
マーを含み、残りはプロピレンである。ジエンモ
ノマーは好ましくは非共役ジエンである。 ターポリマー(EPDM)に使用されうるこれ
ら非共役ジエンモノマーの例としてはヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボル
ネン、メチレンノルボルネン、プロピリデンノル
ボルネン、及びメチルテトラヒドロインデンがあ
る。代表的なEPDMはエチレン含量約56重量%
及び非共役ジエン含量約2.6重量%のモノマーブ
レンドから製造した、100℃(212〓)におけるム
ーニー粘度約90のポリマーである。 本明細書中に使用される用語「セメント」は適
当な揮発性有機溶媒を用いたブチルゴム又は
EPDMポリマーの粘稠な溶液を意味する。好ま
しい溶媒は芳香族炭化水素溶媒である。スルホン
化セメントは通常約3000乃至約10000cps
(12rpm;24℃)のブルツクフイールド粘度を有
する。このセメントのスルホン化前の粘度は好ま
しくは3000乃至6000cps、たとえば4000cpsであ
る。 ブチルゴム又はEPDMを適当な脂肪族又は芳
香族炭化水素又は塩化炭化水素溶媒に溶解するこ
とによりまずセメントを製造する。溶媒の例とし
てはヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ジク
ロロエタン、メチレンクロライド、四塩化炭素、
トルエン、ベンゼン、キシレン等がある。トルエ
ンが特に適する。一般的に言えば、溶媒はその沸
点が約125℃以下、好ましくは水の沸点以下で、
最終的にラテツクスを製造するときに溶媒ストリ
ツピングを容易にするように水の沸点以下の沸点
を有する共沸混合物を形成しうるものである。ブ
チルゴム又はEPDMポリマー溶液の初期濃度は
一般に約5乃至50重量%、好ましくは約7乃至18
重量%である。 本発明の実施においては、セメント溶液のスル
ホン化は硫酸アシルスルホン化剤を用いて行う。
適するスルホン化剤には硫酸アセチル、硫酸プロ
ピオニル、硫酸ブチリルが含まれるが、硫酸アセ
チルを用いるのが特に好ましい。本発明に従つて
使用する硫酸アシルスルホン化剤は一塩基酸無水
物と硫酸との反応又は一塩基有機酸とSO3との反
応により製造する。不飽和エラストマーのスルホ
ン化は一般的にオフアレルらによる米国特許第
3836511号に記載されている。 硫酸アシルは溶媒中で製造しうるが、好ましく
は濃硫酸を対応する酸無水物に添加することによ
り、水を加えないで、すなわち溶媒なしで製造す
る。硫酸アシルは約−100℃乃至+50℃、更に好
ましくは−40乃至+30℃、たとえば約20℃で生成
しうる。好ましくは硫酸アシルは使用直前に調製
する。現場製造が適当である。たとえば酸無水物
をポリマー溶液に添加し、その後硫酸を添加する
ことにより製造する。硫酸アシルを使用に先立ち
溶媒中で調製する場合には、その溶媒濃度は約
0.5乃至25重量%、更に好ましくは1乃至20重量
%、最も好ましくは10乃至20%、たとえば18重量
%である。 ブチルゴム又はEPDMセメントのスルホン化
はいかなる温度でも実施しうる。たとえば−100
℃乃至100℃で実施しうる。圧力は臨界条件では
なく、いかなる程度にも調製しうる。たとえばス
ルホン化は約0.5気圧の低圧から10気圧以上の高
圧まで実施しうる。経済的見地から最も適する条
件は15℃乃至40℃の温度とはぼ大気圧の圧力であ
る。スルホン化時間はポリマーが望ましいスルホ
ン化度にスルホン化されるように選択した特定の
条件に伴い変化する。一般的に、スルホン化反応
は反応物が互いに接触した後数秒乃至数時間に完
了する。ほぼ室温と大気圧の下でのスルホン化の
場合、接触時間は約5秒乃至約25〜30分である。 本発明のポリマーのスルホン化の程度は約0.08
モル%乃至約15モル%である。好ましくはスルホ
ン化度は約0.08乃至約10モル%、更に好ましくは
約0.1乃至約8モル%、最も好ましくは約0.2乃至
約8モル%である。 スルホン化反応を実施した後、スルホン化セメ
ントを少くとも一つの反応性オキシラン基を含む
有機エポキシドを用いて不活性化又は抑制する。
有機エポキシド化合物は−SO3H基と反応しうる
ようなオキシラン基を少なくとも一つ含んでいれ
ば一般に本発明を実施する場合に適する。適する
エポキシドには脂肪族、脂環式及び芳香族エポキ
シドが含まれる。これらのエポキシドはエステル
基、不飽和結合又は塩素のような他の官能性置換
基及び抑制過程に逆効果を及ぼさないような同様
な置換基も含みうる。一般的に言えば、適するエ
ポキシドは約2乃至20の炭素原子を有する。本発
明の実施において特に有用なものは2乃至8個の
炭素原子を有するエポキシドであつて、たとえば
エチレンオキシド、プロピレンオキシド、1,2
−エポキシブタン等がある。他の適するエポキシ
ドの例としては3,4−エポキシ−1−ブテン、
1,2,3,4−ジエポキシブタン、1,2−エ
ポキシシクロヘキサン、1,2−エポキシシクロ
ペンタン、1,2−エポキシ−2−メチルプロパ
ン、1−クロロ−2,6−エポキシプロパン、エ
チル2,3−エポキシブチレート、1−アリロキ
シ−2,3−エポキシプロパン、2,3−エポキ
シプロピルメタクリレート、1,2−エポキシエ
チルベンゼン(スチレンオキシド)、α−メチル
スチレンオキシド、及びオキシランを含む同様な
化合物がある。 エポキシドは、プロピレンオキシドとトルエン
の混合物(プロピレンオキシド濃度は約20乃至30
重量%)のような、セメントのエラストマーの製
造に使用したものと同一の溶媒を用いた混合物の
形で適当に添加しうる。本発明の実施において
は、エポキシドは少なくとも不活性化する化学量
論量を用いる。すなわち、使用するスルホン化剤
のモル数に対して存在する反応性オキシラン基の
モル数が等モルの塩基である。一般的に言えば、
オキシラン基のモル数に基づくエポキシドのスル
ホン化剤に対するモル比は約1:1乃至10:1で
ある。かくして、スルホン化反応を不活性化する
ためには相対的に少量のエポキシドが必要とされ
る。 本方法の次の段階では、スルホン化し、不活性
化した低不飽和エラストマーを中和された形で水
中で乳化する。中和段階はエマルジヨン製造の前
又は後である。一般に、生成物を最初に乳化し、
そのあと中和するのが好ましい。 中和剤としては、有機アミン又は水酸化アンモ
ニウムのような弱塩基を使用する。エチルアミ
ン、プロピルアミン、ブチルアミン、フエニルア
ミン等のような低級アルキル第一アミン及び芳香
族第一アミンが特に有用である。第二アミン及び
第三アミンを含む他の置換有機アミンも有用であ
る。中和剤の例としてはジエチルアミン、トリエ
チルアミン及びヒドロキシル基、クロロ基、カル
ボニル基、エーテル基、チオエーテル基、ニトロ
ソ基等のような置換基を有するものがある。ここ
で使用する用語「弱塩基」はpKbが3.0より大き
い水酸化アンモニウム及び有機アミンに適用す
る。 次いでラテツクスから流延されたフイルムのイ
オン結合を増加させるため、最終的なラテツクス
を強塩基で処理する。用語「強塩基」はpKb値が
3.0より小さい金属化合物及び有機アミンに対し
て使用する。例えばナトリウム、カリウム、バリ
ウム及びカルシウムの水酸化物、アルコキシド、
カルボネート又はテトラオルガノアンモニウムヒ
ドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド又はトリメチルベンジルアンモニウムヒドロ
キシドのようなアミン化合物である。 ラテツクスエマルジヨンは中和された形又は中
和されていない形の不活性化セメントと適量の界
面活性剤又は乳化剤を含む水とをほぼ同量混合す
ることにより製造する。本発明の利点は乳化剤が
非常に少量で水中油滴形の安定なエマルジヨンを
製造するのに効果的であることである。これまで
アルコールで抑制したスルホン化エラストマーセ
メントからラテツクスエマルジヨンを製造するに
は必要とされる乳化剤の量はスルホン化セメント
溶液中に存在するエラストマー100部に対して10
乃至15部程度であつた。本発明においては、セメ
ント溶液の状態で存在するエラストマー100部に
対してアニオン界面活性剤を約3乃至6部使用す
ることにより効果的なエマルジヨン及び分散が得
られる。 本発明のエマルジヨン組成物の製造にはアニオ
ン乳化剤を使用する。硫酸化エトキシアルカノー
ル及びアルキルフエノールのナトリウム塩、カリ
ウム塩及びアンモニウム塩が特に好ましい。たと
えばC8乃至C20のアルカノール及びアルキルフエ
ノールで、アルキル部分は8乃至12の炭素原子を
有し、アルカノール及びアルキルフエノールは約
1乃至10モルのエチレンオキシドを含む。本発明
の実施においては、4モルのエチレンオキシドを
含むノニルフエノールから誘導された硫酸ナトリ
ウム、カリウム又はアンモニウムが特に有用であ
る。C8乃至C18のアルキル硫酸ナトリウム及びカ
リウム、アルキルグリセリルエーテルスルホン酸
ナトリウム、スルホン化脂肪族エステル塩のよう
な他のアニオン界面活性剤及び可溶化基が−
SO4H又は−SO3Hである同様なアニオン界面活
性剤もあまり好ましくはないが使用しうる。他の
使用しうるアニオン界面活性剤は約8乃至24の炭
素原子を含む脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩
又はアンモニウム塩であり、約10乃至20の炭素原
子を含むものが好ましい。脂肪酸はココナツ油脂
肪酸、大豆油脂肪酸、タル油脂肪酸、ロジン酸及
び水素化ロジン酸のように天然資源から得ること
もできるし、またたとえば石油留分の酸化により
合成することもできる。かかる脂肪酸カルボキシ
レート塩の例としてはステアリン酸ナトリウム、
オレイン酸ナトリウム、パルミチン酸ナトリウ
ム、リシノール酸カリウム等がある。 成分を手動撹拌のような簡単な撹拌により混合
してラテツクスエマルジヨンを製造したあと、ホ
モジナイザーなどで更に十分撹拌して粒度を下
げ、更に十分に粒子を分散させる。次いで原料の
エマルジヨンから真空下で過剰の水と芳香族溶媒
を除去して、固体を約20乃至70重量%、好ましく
は40乃至65%、たとえば60%含む(残りは実質的
に水である)最終ラテツクスを得る。 本発明に従い製造した最終ラテツクスはすぐれ
た引張特性を有することを特徴とする。これは不
織布の結合剤、紙塗被作業における接着剤、及び
高不飽和ゴム部分のオーバーデイツプ
(overdips)として有用である。 本発明を以下の例により更に説明する。 例 1 無水酢酸を氷浴中で冷やしながら、37.7mlの無
水酢酸に11.0mlの硫酸を滴下することにより硫酸
アセチルを調製した。混合物を1時間撹拌した。 16重量%の溶液を調製するようにエクソンブチ
ル(EXXON BUTYL)268をトルエン中に溶解
させることによりブチルゴムセメントを調製し
た。エクソンブチル268はイソブチレン(98.5モ
ル%)及びイソプレン(1.5モル%)のコポリマ
ーであり、粘度平均分子量450000、ムーニー粘度
(127℃(260〓)におけるML1+3)55である。
このセメント625g(ブチルゴム100gを含む)に先
に調製した硫酸アセチル6.47mlを添加した。混合
物を1時間撹拌し、次いで10gのトルエンと混合
した2.5gのプロピレンオキシドを添加した。セメ
ントの試料をとり出し、試料をエチルアミンで中
和してアセトンで沈殿させた。試料を真空オーブ
ン中50℃で一昼夜乾燥したのち分析し、0.64重量
%の硫黄を含むことが判つた。 スルホン化抑制セメント300gを、4モルのエ
チレンオキシドを付加したノニルフエノールから
誘導された硫酸ナトリウムで、「アリパルコ−
433」(Alipal Co−433)(29.7重量%活性の界面
活性剤)として市販されているもの10gを含む水
300gに添加した。混合物を均質化し、5gの水酸
化アンモニウムで中和し、回転エバポレーターを
使用して真空下で過剰の水とトルエンを除去して
55重量%の固体を有するラテツクスを製造した。 生成物の安定性を評価するために、40%固体に
おけるこのラテツクスの試料を82℃(180〓)に
加熱しながら19000rpmの速度で30分間ハミルト
ン−ビーチ(Hamilton−Beach)ミキサー中で
剪断した。凝塊は24重量%に達した。 上述のように調製した最終ラテツクスの試料を
水酸化ナトリウムでPH9.5に調節した。ラテツク
スからフイルムを流延し、室温で一昼夜乾燥し
た。更にオーブン中77℃(170〓)で4時間乾燥
し、次いで一昼夜50℃で真空乾燥した。フイルム
は以下の引張特性を有した。 100%伸び率における強さ 6Kg/cm2(85psi) 500%伸び率における強さ 14Kg/cm2(200psi) 引張強さ 190Kg/cm2(2700psi) 破断点の伸び率 1040% 例 2 この例はラテツクス形成に及ぼす種々の程度の
プロピレンオキシドの抑制の効果を示す。 プロピレンオキシドの量を変化させて一連の実
験を行つた。各実験においては100gの、ブチル
ゴムを含むセメントを例1に記載した手順及び物
質を用い6.5ml(24ミリモル)の硫酸アセチルで
スルホン化した。スルホン化セメントを第1表に
示すような種々の量のプロピレンオキシドで抑制
した。各抑制セメント(300g)を例1に記載し
た「アリパルコ−433」10gを含む水300gの溶液
に添加した。
【表】 例 3 この例は比較的少量の乳化剤を使用することを
示す。例1の抑制されたスルホン化セメント
300gを蒸留水300gに「アリパルコ−433」4部
(29.7%活性な物質6.7g)を溶かした溶液に添加
することによりラテツクスを調製した。これはセ
メント溶液で存在するエラストマー100部に対し
て乳化剤は4部である。水中油滴形エマルジヨン
を容易に形成した。このエマルジヨンをエフエン
バツクホモ−ミキサー(Effenback Homo−
Mixer)中で転向装置板をあげて40ボルトで3
分、転向装置板をあげて110ボルトで3分、そし
て転向装置板をとじて110ボルトで5分で容易に
均質化した。 例 4 無水酢酸を氷浴中で冷やしながら11.0mlの硫酸
を37.7mlの無水酢酸に滴下することにより硫酸ア
セチルを調製した。混合物を1時間撹拌した。 エチレン含量51重量%、エチリデンノルボルネ
ン含量9重量%で、ムーニー粘度がトルエン中
127℃(260〓)で50のEPDMを溶解することに
よりEPDMエラストマーセメントを調製した。
EPDMエラストマー濃度は10重量%であつた。
このセメント1000g(エラストマー100g)に4.7ml
の硫酸アセチルを添加した。セメントはただちに
暗褐色にかわり、1時間撹拌した。10mlのトルエ
ン中に2.5gのプロピレンオキシドを溶かしたもの
で抑制した。セメントは約5分以内にもとの琥珀
色にかわつた。更に1時間半撹拌した。 スルホン化し抑制したセメント(500g)を蒸
留水500gと「アリパルコ−433」(27.4%活性)
10.9gとの混合物に注いだ。これは溶液状態で存
在するエラストマー100部に対する乳化剤が6部
であることに相当する。水中油滴形エマルジヨン
を容易に形成した。このエマルジヨンをエフエン
バツクホモ−ミキサーを用い転向装置をあげて40
ボルトで5分、転向装置板をあげて110ボルトで
5分、及び転向装置板を下げて110ボルトで5分
で均質化した。水酸化ナトリウム(水10ml中に
5g)を添加した。得られたラテツクスは平均粒
度1μであつた。ラテツクスは高温ですぐれた機
械的安定性を有し、82℃(180〓)に加熱してハ
ミルトン−ビーチミキサー中19000回/分の速度
で30分剪断したあと0.36%の凝塊しか有しなかつ
た。 回転エバポレーターを用いてエマルジヨンから
トルエンと過剰の水を真空除去して36.6%の固体
を有するラテツクスを得た。このラテツクスはす
ぐれた機械的安定性を有し、ハミルトン−ビーチ
ミキサー中19000rpmの速度で30分室温で撹拌し
たとき0.3%しか凝塊を与えなかつた。最終ラテ
ツクスからフイルムを流延した。乾燥後フイルム
は以下の引張特性を有した。 100%伸び率における強さ 8Kg/cm2(115psi) 500%伸び率における強さ 12Kg/cm2(170psi) 引張強さ 54Kg/cm2(775psi) 破断点における伸び率 700% 例 5 この例はエチレンオキシドの使用を示す。無水
酢酸を氷浴中で冷却しながら11.0mlの硫酸を37.7
mlの無水酢酸に滴下することにより硫酸アセチル
を調製した。混合物を1時間撹拌した。 エクソンブチル268をトルエン中に溶解するこ
とによりブチルゴムセメントを調製した。ブチル
ゴムは16重量%であつた。このセメント625g(ゴ
ム100g)に上述のように調製した硫酸アセチル
6.5gを添加した。この混合物を1時間半撹拌し
た。スルホン化反応を抑制するためにエチレンオ
キシド(3ml、2.6g)を添加した。試料を取り出
しエチルアミンで中和した。ゴムをアセトンで沈
殿させ、真空オーブン中で乾燥し、硫黄を分析し
た。その結果は硫黄は0.7重量%であつた。 エチレンオキシドで抑制したセメント(600g)
を「アリパルコ−433」(27.4%活性)21.9g含む
蒸留水600gと混合した。これは溶液状態で存在
するエラストマー100部に対する乳化剤は6部で
あることに相当する。このエマルジヨンをエフエ
ンバツクホモ−ミキサーを用い転向装置をあげて
40ボルトで3分、転向装置をあげて110ボルトで
3分及び転向装置をさげて110ボルトで5分均質
化した。エマルジヨンに水酸化アンモニウム(28
重量%の物質10g)を添加した。回転エバポレー
ターを用いトルエン及び過剰の水を除去し、52.7
重量%の固体を有するラテツクスを得た。ラテツ
クスの平均粒度は<1ミクロンであつた。ラテツ
クスはハミルトン−ビーチミキサーで19000rpm
の速度で30分間剪断したとき0.0002%しか凝塊を
有しなかつた。 比較例 これはラテツクスを調製する原料である低不飽
和エラストマーのスルホン化の抑制剤として高級
アルコールが不適当であることを示す比較例であ
る。 無水酢酸を氷浴中で冷却しながら11.0mlの硫酸
を37.7mlの無水酢酸に滴下することにより硫酸ア
セチルを調製した。混合物を1時間撹拌した。 エクソンブチル268をトルエン中に溶解するこ
とによりブチルゴムセメントを調製した。ブチル
ゴムは16重量%であつた。セメント313g(ゴム
50g)に上述のように調製した硫酸アセチル3.25g
を添加した。混合物を1時間半撹拌した。1−オ
クタノール(31g、沸点194℃)を添加し約1/2時
間撹拌した。 1−オクタノールで抑制したスルホン化セメン
ト(345g)を水345g、1−オクタノール31g及び
「アリパルコ−433」(27.4%活性)27.4gの混合物
にゆつくり添加した。この混合物は容易に原料エ
マルジヨンを形成した。エフエンバツクホモ−ミ
キサーで転向装置板を上げて40ボルトで3分、転
向装置板をあげて110ボルトで3分、転向装置板
をさげて110ボルトで3分均質化した。エマルジ
ヨンに水酸化アンモニウム(28%溶液5g)を添
加した。回転エバポレーターを用い、真空下スト
リツピングにより過剰のトルエンと水を除去し
た。エマルジヨンは約21%の固体で凝固した。
【特許請求の範囲】
1 水架橋性オレフイン重合体の層(A層)と、
この水架橋性オレフイン重合体以外の基材の層
(C層)と、これらAおよびC層の間に、溶剤も
しくは接着剤にシラノール縮合触媒を配合した接
着層(B層)とを積層してなる積層物を水分によ
り架橋させることを特徴とする水架橋オレフイン
重合体積層物の製造法。 2 積層物が、先ず水架橋性オレフイン重合体以
外の基材の層(前記C層)表面にシラノール縮合
触媒配合接着層(前記B層)を積層し、次いでこ
のB層表面に水架橋性オレフイン重合体の層(前
記A層)を積層して得られることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の方法。 3 積層物が、押出ラミネート法により得られる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1または2項
記載の方法。 4 積層物が、前記A、BおよびC層を共押出に
より同時に形成させて得られることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の方法。

Claims (1)

  1. 2 特許請求の範囲第1項に記載の方法におい
    て、前記エポキシドが2乃至8個の炭素原子を有
    する方法。 3 特許請求の範囲第2項に記載の方法におい
    て、前記エポキシドがプロピレンオキシド又はエ
    チレンオキシドである法。 4 特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれか
    一つの項に記載の方法において、反応性オキシラ
    ン基のモル数に基づくエポキシドのモル数のスル
    ホン化剤のモル数に対する比が1:1乃至10:1
    である方法。 5 特許請求の範囲第1項に記載の方法におい
    て、前記セメント中に存在するエラストマー100
    部当りアニオン界面活性剤を約3乃至6部使用す
    る方法。 6 特許請求の範囲第5項に記載の方法におい
    て、前記アニオン界面活性剤がエトキシノニルフ
    エノールから誘導された硫酸ナトリウム、カリウ
    ム又はアンモニウムである方法。 7 特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれか
    一つの項に記載の方法において、前記中和を前記
    乳化の後に施す方法。 8 特許請求の範囲第1項乃至第7項のいずれか
    一つの項に記載の方法において、前記弱塩基が水
    酸化アンモニウム、エチルアミン又はトリエチル
    アミンである方法。 9 特許請求の範囲第1項乃至第8項のいずれか
    一つの項に記載の方法において、前記エラストマ
    ーがブチルゴムである方法。 10 特許請求の範囲第1項乃至第8項のいずれ
    か一つの項に記載の方法において、前記エラスト
    マーがEPDMである方法。 11 特許請求の範囲第1項乃至第10項のいず
    れか一つの項に記載の方法において、前記スルホ
    ン化剤が硫酸アセチルである方法。
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