JPH0240311Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は電子顕微鏡等の高真空装置における電
子ビーム通路を真空的に遮断するための弁装置に
関する。

［従来技術］ 従来から透過型電子顕微鏡等においては、部分
的に真空を破壊する目的、例えばフイラメントの
交換のの目的で、電子銃部分のみを他から分離し
て真空を破れるように適所に真空遮断弁を設置し
ている。その遮断弁装置としては、電子線の光軸
に直角な方向より弁体を移動させ、弁体を弁座に
押圧する機構を設けたり、光軸に対し傾斜した弁
座に光軸から直角な方向から弁体を押圧し、その
傾斜による押圧力により、弁体のシール材を弁座
に密着させるような構造のものが多い。

［考案が解決しようとする問題点］ 慨して従来の遮断弁装置の構造は、弁座に対し
弁体が摺動する構成であるので、弁開閉時に弁座
や弁体あるいは押圧機構等の摺動部が削れて、そ
の金属粉が電子ビーム経路に落下する。このよう
な金属粉が、例えば電子レンズの磁極片に付着す
ると、レンズ中の磁束の分布に大きな影響を与
え、非点収差等の問題を発生する。又、前記金属
粉が蛍光板上に落下すると、その上に投影される
電子顕微鏡像の観察に支障を来たすことになる。
更に又、従来の遮断弁のシール材は電子ビーム通
路に露出しているので、電子ビームが周辺の部材
に衝突した際に発生するＸ線の照射を受け、劣化
が著しいという欠点もある。

そこで本考案の目的は、上記従来の欠点に鑑
み、摺動による削り粉の発生もなく、又シール材
のＸ線照射による劣化もない新規な遮断弁装置を
提案するものである。

［問題を解決するための手段］ 本考案は連通口を介して連絡した２つの真空室
と、前記連通口の軸心に対し傾斜して設けられた
弁座と、この弁座の面に対し直角な方向に移動
し、その端面にシール材を有する弁体と、この弁
体を前記弁座に押圧する弁閉の状態及び弁座から
一定の距離隔てた位置に置く弁開の状態とを作る
移動機構と、前記弁体の移動経路中に回動可能に
支持され、弁開の状態で弁体のシール材を覆うよ
うに配置され且つＸ線遮蔽効果の大きい材料で形
成された遮蔽体と、この遮蔽体を開くために前記
弁体に取付けられた突起状部材とからなり、弁体
の開状態では遮蔽体により前記弁体のシール材が
覆われてＸ線等の照射から防御される構造の真空
装置における遮断弁装置に特徴がある。

［実施例］ 第１図及び第２図は本考案の一実施例を示す断
面図で、第１図は遮断弁開の状態、第２図は閉の
状態を示す。図中、１及び２は透過型電子顕微鏡
の鏡筒等の真空室で連通口３を介して連絡してい
る。連通口３の下面にはその軸心Ｚに対して任意
角度で傾斜した弁座４が形成してあり、鏡面仕上
されている。５は真空室２に傾斜して連絡した弁
室であり、この中に弁体６が配置されている。こ
の弁体の端面には真空シール部材７が取付けてあ
り、このシール材が前記弁座４に密着して真空を
シールする構造にしてある。８は弁体駆動用のシ
ヤフトで前記弁座の面に対して直角な方向に延び
ており、その一端は弁体の背面に固定され、他端
は弁室５を貫通してシリンダ９内に露出してい
る。このシリンダ内のシヤフト端部にはピストン
１０が固定されており、該ピストンの移動により
シヤフト９を介して前記弁体６が移動するように
なしてある。シリンダ９の両端にはパイプ１１
ａ，１１ｂに連なる圧縮ガスの導入・排出孔１２
ａ，１２ｂが穿つてあり、これらを通して圧縮ガ
スが導入・排出される。前記弁室５のシリンダ９
に近接する位置と弁体６との間にはベローズ１３
が取付けられ、シリンダ部から真空室への空気の
流入を防止しながら弁体の移動を許容している。
前記弁体にはベアリング１４ａ，１４ｂが取付け
てあり、弁室５の内側に回動可能に支持された遮
蔽体１６の開閉用突起部材として機能する。該遮
蔽体はＸ線吸収効率の良い重金属で形成されてお
り、軸受部１７においてコイルバネ等により常に
閉の状態（第１図の状態）になるように取付けら
れ、該軸受部と反対の側は弁体６に固定した支え
１８により支持され、遮蔽体が弁体６の端面に当
接しないようにしてある。

このような構成において、第１図の状態は弁が
開き、真空室１と２が連通した状態で、ここで、
パイプ１１ａ、導入口１２ａを介して圧縮ガスを
シリンダ９の右端部に導入すると、ピストン１０
が図中斜め上に移動し、それに連結したシヤフト
８を介して弁体６が移動する。この移動に伴い、
ベアリング１４ａが先ず遮蔽体１６に当接し、コ
イルバネに抗して該遮蔽体を押し開く。更にピス
トンの移動が進むとベアリング１４ｂが遮蔽体に
当るようになり、該遮蔽体は完全に開放の状態に
なり、そして遂には弁体６の端面が弁座４に到達
する。この状態を第２図に示してあり、弁体６の
シール材７が弁座に強く押圧され連通口３は真空
的に遮断される。次に、この状態から弁を開く場
合には、前とは逆にシリンダ９の左端部にパイプ
１１ｂ、導入口１２ｂを介して圧縮ガスを導入す
ると前記ピストン１０は図中右斜め下に移動し、
弁体６が弁座から離れて同方向に移動する。移動
が進みベアリング１４ａ，１４ｂ共に遮蔽体１６
から離れると、該遮蔽体はコイルバネの力により
復元し、第１図の状態になつてシール部材７をカ
バーする。

尚、上記において、弁体６の移動機構は図示の
ものに限定されるものではなく、例えばモータと
歯車を使用するような機械的なもの等、任意な機
構が使用できる。

［効果］ 以上説明したように、本考案では弁座を軸心Ｚ
に対し一定角度傾斜して設け、且つ弁体をこの弁
座に体し、直角な方向に移動させるようにし、更
に弁体の移動に関連して弁体のシール材を保護す
る遮蔽体を開閉するようにしてあるので、弁の開
閉時に弁体及び弁座部に摺動する部分がなく、従
つて削り粉など発生しないので、従来のようにレ
ンズの性能に悪影響を与えたり、蛍光板上に落下
した削り粉による像観察の悪影響等は全くなくな
る。更に、弁が開の状態ではシール材は常にＸ線
吸収効率の高い遮蔽体により保護されているの
で、Ｘ線照射によるシール材の劣化は防止され
る。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本考案の一実施例を示す断
面図である。 １，２……真空室、３……連通口、４……弁
座、５……弁室、６……弁体、７……真空シール
材、８……シヤフト、９……シリンダ、１０……
ピストン、１１ａ，１１ｂ……パイプ、１２ａ，
１２ｂ……圧縮ガス導入排出孔、１３……ベロー
ズ、１４ａ，１４ｂ……ベアリング、１６……遮
蔽体、１７……軸受部、１８……支え。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 連通口を介して連絡した２つの真空室と、前記
   連通口の軸心に対し傾斜して設けられた弁座と、
   この弁座の面に対し直角な方向に移動し、その端
   面にシール材を有する弁体と、この弁体を前記弁
   座に押圧する弁閉の状態及び弁座から一定の距離
   隔てた位置に置く弁開の状態とを作る移動機構
   と、前記弁体の移動経路中に回動可能に支持さ
   れ、弁開の状態で弁体のシール材を覆うように配
   置され且つＸ線遮蔽効果の大きい材料で形成され
   た遮蔽体と、この遮蔽体を開くために前記弁体に
   取付けられた突起状部材とからなり、弁体の開状
   態では遮蔽体により前記弁体のシール材が覆われ
   てＸ線等の照射から防御される構造の真空装置に
   おける遮蔽弁装置。