JPH0240376A - アントシアニジン合成用中間体およびその製法 - Google Patents
アントシアニジン合成用中間体およびその製法Info
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- JPH0240376A JPH0240376A JP1154778A JP15477889A JPH0240376A JP H0240376 A JPH0240376 A JP H0240376A JP 1154778 A JP1154778 A JP 1154778A JP 15477889 A JP15477889 A JP 15477889A JP H0240376 A JPH0240376 A JP H0240376A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/58—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
- C07D311/60—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with aryl radicals attached in position 2
- C07D311/62—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with aryl radicals attached in position 2 with oxygen atoms directly attached in position 3, e.g. anthocyanidins
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/516—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of nitrogen-containing compounds to >C = O groups
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- C07C47/00—Compounds having —CHO groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はアントシアニジン合成の新規中間体およびその
製造法および上記中間体からのアントシアニジン製法に
関する。
製造法および上記中間体からのアントシアニジン製法に
関する。
アントシアニジンはアントシアニンとして知られている
グルコシド形態で自然界に広(分布しているポリフェノ
ールである。アントシアニンは花や果実の着色に非常に
関係をもつ物質である。
グルコシド形態で自然界に広(分布しているポリフェノ
ールである。アントシアニンは花や果実の着色に非常に
関係をもつ物質である。
本明細書で用いる17ントシアニジン”とは式:で示さ
れる置換2−7リ一ルベンゾビラン誘導体をいう。
れる置換2−7リ一ルベンゾビラン誘導体をいう。
上式中X−は陰イオンをあられし、°アリール”はアリ
ール基、特にl又は2以上のヒドロキシル基又は低級ア
ルコキシ基で置換されているフェニル基をあらわす。本
明細書で例えばアルキル又はアルコキシ基に用いる1低
級”とは炭素原子l乃至6をもつ基をあらわす。
ール基、特にl又は2以上のヒドロキシル基又は低級ア
ルコキシ基で置換されているフェニル基をあらわす。本
明細書で例えばアルキル又はアルコキシ基に用いる1低
級”とは炭素原子l乃至6をもつ基をあらわす。
最も普通のアントシアニジンは式:
(上式中a R1mR3−H,R,−mOH1立 R
1−R2−0E、R,−Hl c R,−R,−R,−mOH。
1−R2−0E、R,−Hl c R,−R,−R,−mOH。
d R,−OMa、 R,−OH,R,−H。
a RlmR,mOH,R,aOMg、/ Rx−
R55ay−1R1鍼OH。
R55ay−1R1鍼OH。
のいづれかであυX−は陰イオン、例えばC1−である
〕で示される。
〕で示される。
(従来の技術)
自然界に広(分布しているアントシアニジン(ベラルゴ
ニジン、Iijシアニジン、Ii;デルフイニジン、I
ρ;ペオニジン、履;ペテユニジンsPgpマルグイジ
ン、17)ハ2−アリールベンゾビラン核の2位置でベ
ンゼン環に結合した置換基をもち自然界で互いに異なっ
ている。アントシアニジンは皮膚傷、麻痺性傷および内
部外部潰瘍に著しい治癒能力があるので特に便利である
。これらは更に抗炎症性、血管保護性、低脂肪血症、低
コレステロール血症、低血糖症活性をもつ。多くのアン
トシアニジンが低毒性を特徴とする様にこれらは長期治
療用に特に有用である。(GB−1589294、GE
−1595351;InvarniD1目a Baff
a SpA参照) アントシアニジyIB造の1方法は自然界にあるアント
シアニンの酸加水分解による。アントシアニンの酸加水
分解製造法の他に知られた製法には既に2−フェニルベ
ンゾビラン核をもつフラボンおよびカテコールの様な天
然物質からの準合成法又は完全合成法がある。この1の
完全合成法はF式IK示すとおりR,ロビンソンによっ
てなされたものである。(1962年才ツクスフオード
、パーガモン出版、フラボノイド化合物の化学;197
5年ロyトン、ナヤツプマン アンド ホール、 LB
、バーボン、T、J。
ニジン、Iijシアニジン、Ii;デルフイニジン、I
ρ;ペオニジン、履;ペテユニジンsPgpマルグイジ
ン、17)ハ2−アリールベンゾビラン核の2位置でベ
ンゼン環に結合した置換基をもち自然界で互いに異なっ
ている。アントシアニジンは皮膚傷、麻痺性傷および内
部外部潰瘍に著しい治癒能力があるので特に便利である
。これらは更に抗炎症性、血管保護性、低脂肪血症、低
コレステロール血症、低血糖症活性をもつ。多くのアン
トシアニジンが低毒性を特徴とする様にこれらは長期治
療用に特に有用である。(GB−1589294、GE
−1595351;InvarniD1目a Baff
a SpA参照) アントシアニジyIB造の1方法は自然界にあるアント
シアニンの酸加水分解による。アントシアニンの酸加水
分解製造法の他に知られた製法には既に2−フェニルベ
ンゾビラン核をもつフラボンおよびカテコールの様な天
然物質からの準合成法又は完全合成法がある。この1の
完全合成法はF式IK示すとおりR,ロビンソンによっ
てなされたものである。(1962年才ツクスフオード
、パーガモン出版、フラボノイド化合物の化学;197
5年ロyトン、ナヤツプマン アンド ホール、 LB
、バーボン、T、J。
マーブ’)s”マープリー、フラボノイド)この方法は
70ログルシノーA(!I)を70ログルシンアルデヒ
ド(四に転化しそれを選択的O−ベンゾイル化して2−
〇−ベンゾニートa′)とじ(IV’)を適当するアセ
トフェノン訪導体(V′)と縮合させて保護されたアン
トシアニジン(■′)をえてそれを塩基性加水分解しア
ントシアニジン例ばC1ay−1ル生成するのでめる。
70ログルシノーA(!I)を70ログルシンアルデヒ
ド(四に転化しそれを選択的O−ベンゾイル化して2−
〇−ベンゾニートa′)とじ(IV’)を適当するアセ
トフェノン訪導体(V′)と縮合させて保護されたアン
トシアニジン(■′)をえてそれを塩基性加水分解しア
ントシアニジン例ばC1ay−1ル生成するのでめる。
(i)
σ′〕
(V′)
アントシアニジン製造の上記方法の各には種々の欠点が
伴なう。工業的規模で行な5のはいづれも困難である。
伴なう。工業的規模で行な5のはいづれも困難である。
天然のフラボニックシントン(ayntko?S)から
の準合成法は収率像(また最終製品が不純である。また
出発物質(例えばアントシアニン、7ラボンおよびカテ
コール)も供給量が少ない。完全合成法も満足できない
。ロビンソンの合成法の収率は低((4−6チ)fたシ
アン化水素酸の様な危険な試薬を使用している。
の準合成法は収率像(また最終製品が不純である。また
出発物質(例えばアントシアニン、7ラボンおよびカテ
コール)も供給量が少ない。完全合成法も満足できない
。ロビンソンの合成法の収率は低((4−6チ)fたシ
アン化水素酸の様な危険な試薬を使用している。
特にロビンンンの70口グルシンアルデヒドロ合成法に
は欠点がある。3合成法が記載されている。第1方法は
酸触媒存在におけるフロログルシノール(n)と塩酸の
反応である。(D、ブラットらのJ、Ckam、Soc
、1132.1925)、第2方法は4塩化チタン存在
におけるフロログルシノールとジクロロメチルチオエー
テルの反応であり、(H,グロスらのBar 、97
* 2606−1964 ) ’!り第3方法はフロロ
グルシノールを塩化アルミニウムの存在においてアルキ
ルオルトフォーメイトと反応させるのである。(H。
は欠点がある。3合成法が記載されている。第1方法は
酸触媒存在におけるフロログルシノール(n)と塩酸の
反応である。(D、ブラットらのJ、Ckam、Soc
、1132.1925)、第2方法は4塩化チタン存在
におけるフロログルシノールとジクロロメチルチオエー
テルの反応であり、(H,グロスらのBar 、97
* 2606−1964 ) ’!り第3方法はフロロ
グルシノールを塩化アルミニウムの存在においてアルキ
ルオルトフォーメイトと反応させるのである。(H。
グoスらのBar、96,308.1963)。これら
の方法はいづれもわんと5であり、フロログルシンアル
デヒドの量も品位も不十分で特に低収率である。したが
って高収率高純度のフロログルシンアルデヒドの改良製
法が必要とされている。
の方法はいづれもわんと5であり、フロログルシンアル
デヒドの量も品位も不十分で特に低収率である。したが
って高収率高純度のフロログルシンアルデヒドの改良製
法が必要とされている。
ロビンソンの方法の70ログルシンアルデヒ)”(I[
Dを7 セトフエノン誘導体(V′)と縮合させるとき
重合生成物を生じるので、上記([[Dをそのままアン
トシアニジン核の製造に利用できな〜・のである。これ
を避けるためロビンンンは選択的ベンゾイル化によりフ
ロログルシンアルデヒド(IfDからえられる2−0−
ベンゾエート(IT’)(7?、ロビンソンらのLCh
a憧、Soa、2672.1931)使用を提案してい
る。しかしロビンソン提案の方法は収率35%に過ぎず
、フロログルシノールデヒ)’ 2 r 4− シー
0− ヘンゾx−)、および2,4.6−)リーO−ベ
ンゾエートが不純物としてできる。
Dを7 セトフエノン誘導体(V′)と縮合させるとき
重合生成物を生じるので、上記([[Dをそのままアン
トシアニジン核の製造に利用できな〜・のである。これ
を避けるためロビンンンは選択的ベンゾイル化によりフ
ロログルシンアルデヒド(IfDからえられる2−0−
ベンゾエート(IT’)(7?、ロビンソンらのLCh
a憧、Soa、2672.1931)使用を提案してい
る。しかしロビンソン提案の方法は収率35%に過ぎず
、フロログルシノールデヒ)’ 2 r 4− シー
0− ヘンゾx−)、および2,4.6−)リーO−ベ
ンゾエートが不純物としてできる。
あとの合成法が通常の精製法では最終アントシアニジン
から除去できない副成物生成を避けるため不純物を含ま
ぬ中間体使用を必要とするので、不純物は問題である。
から除去できない副成物生成を避けるため不純物を含ま
ぬ中間体使用を必要とするので、不純物は問題である。
故に比較的純粋な適当中間体をつ(る方法が更に必要で
ある。
ある。
(発明の開示)
本発明は上記の諸問題を解決するアントシアニジン合成
用中間体の新規製造法、この合成に用いる新規中間体お
よび中間体として2,4−ジー保護されたフロログルシ
ンアルデヒド使用を含む新規アントシアニジン製造法を
提供する。
用中間体の新規製造法、この合成に用いる新規中間体お
よび中間体として2,4−ジー保護されたフロログルシ
ンアルデヒド使用を含む新規アントシアニジン製造法を
提供する。
本発明の1態様によればアントシアニジン(又は3.5
および7の位置にあるヒドロキシル基の少(もlが保護
されている禄なアントシアニジン誘導体)の製法が提供
される。その方法は式: (上式中py IとPglは各々0−保護基をあらゎす
)をもつフロログルシンアルデヒドの2,4−ジー0−
保護された誘導体を式V: CHρp yl (上式中Af−は所望により置換されたアリールをあら
れしまたPgsはO−保護基をあらわす)をもつ化合物
と反応さ七て式: (上式中pgr、pgt、pyjおよびAr は前に
定義したとおシとする)をもつ化合物を生成しまた任意
に基opgIとopgxの1又は2を任意に遊離ヒドロ
キシル基に変えることよジ成る。
および7の位置にあるヒドロキシル基の少(もlが保護
されている禄なアントシアニジン誘導体)の製法が提供
される。その方法は式: (上式中py IとPglは各々0−保護基をあらゎす
)をもつフロログルシンアルデヒドの2,4−ジー0−
保護された誘導体を式V: CHρp yl (上式中Af−は所望により置換されたアリールをあら
れしまたPgsはO−保護基をあらわす)をもつ化合物
と反応さ七て式: (上式中pgr、pgt、pyjおよびAr は前に
定義したとおシとする)をもつ化合物を生成しまた任意
に基opgIとopgxの1又は2を任意に遊離ヒドロ
キシル基に変えることよジ成る。
式■をもつ化合物は新規でありまた本発明の1態様を成
す。
す。
上記方法において基opgx、OPlおよびopgsは
エステル化される又は容易に除去できるエーテル化され
るヒドロキシル基である。故K例えばP、1、Pg2お
よび2g3は各々アシル基、特にカルボン酸アシル基で
あってもよい。py Z1Pg!およびPgsの各々は
炭素原子1乃至12をもちまた式:RCO(但しRは炭
素原子1乃至11をもつ置換又は非置換されたアルキル
、アリール、アルカリール、アラルキル又はシクロアル
キル基をあらわす)をもつ。別にPgl、Pgtおよび
2g3はオルガノスルホニル基、例えば弐R−50,−
(但しRは上に定義したとおりとする)をもつ基でもよ
い。この様な基の例はトシル基(p−トルエンスルホニ
ル)である。エーテル化ヒドロキシ基の例はベンジルオ
キシ基がある。
エステル化される又は容易に除去できるエーテル化され
るヒドロキシル基である。故K例えばP、1、Pg2お
よび2g3は各々アシル基、特にカルボン酸アシル基で
あってもよい。py Z1Pg!およびPgsの各々は
炭素原子1乃至12をもちまた式:RCO(但しRは炭
素原子1乃至11をもつ置換又は非置換されたアルキル
、アリール、アルカリール、アラルキル又はシクロアル
キル基をあらわす)をもつ。別にPgl、Pgtおよび
2g3はオルガノスルホニル基、例えば弐R−50,−
(但しRは上に定義したとおりとする)をもつ基でもよ
い。この様な基の例はトシル基(p−トルエンスルホニ
ル)である。エーテル化ヒドロキシ基の例はベンジルオ
キシ基がある。
上記のとおp本発明の方法の重要な特徴は中間体として
の2,4−ジー保護されたフロログルシンアルデヒド使
用である。この中間体製造法は本発明の別態様を成す。
の2,4−ジー保護されたフロログルシンアルデヒド使
用である。この中間体製造法は本発明の別態様を成す。
故に本発明は更に式:
(但しP、1とPg2は上に定義したとおりとする)を
もつ70ログルシンアルデヒドの2,4−ジー0−保護
された訪導体製造法をも提供するものである。その方法
は式:0−保護基をあらわす)をもつフロログルシンア
ルデヒドの2.4.6−)リー□−保護された誘導体を
生成する様フロログルシンアルデヒドを保護基導入でき
る試薬と反応させた後選択的に6位置の保護基py4を
除去して望む式■化合物を製造するのである。
もつ70ログルシンアルデヒドの2,4−ジー0−保護
された訪導体製造法をも提供するものである。その方法
は式:0−保護基をあらわす)をもつフロログルシンア
ルデヒドの2.4.6−)リー□−保護された誘導体を
生成する様フロログルシンアルデヒドを保護基導入でき
る試薬と反応させた後選択的に6位置の保護基py4を
除去して望む式■化合物を製造するのである。
上の方法の保護基PfI%pg″、Pgsおよび2g4
は式Vおよび■との関係で上記の好ましい値をもつとよ
い。
は式Vおよび■との関係で上記の好ましい値をもつとよ
い。
この方法の式■をもつ中間体製造用試薬はカルボン酸又
はそのエステル生成用誘導体、例えば塩化ベンゾイルが
好ましい。
はそのエステル生成用誘導体、例えば塩化ベンゾイルが
好ましい。
6位置の保護基は適当条件、例えば水とトリエチルアミ
ンの様な弱塩基存在で式■をもつ中間体の選択加水分解
によシ除去され■となる。
ンの様な弱塩基存在で式■をもつ中間体の選択加水分解
によシ除去され■となる。
更に本発明は式X:
(但しPfflとPgzは上に定義したとおりとしかっ
2g4は(Arkは土に定義したとおりとする)をもつ
ホルムアミド(上式中&lはハロゲン原子をあられしか
つ各Arkは低級アルキル基をあらわす)をもつ化合物
の加水分解より成る式: と反応させて製造するとよい。
2g4は(Arkは土に定義したとおりとする)をもつ
ホルムアミド(上式中&lはハロゲン原子をあられしか
つ各Arkは低級アルキル基をあらわす)をもつ化合物
の加水分解より成る式: と反応させて製造するとよい。
実施例として本発明の方法は次の工程式であられされる
。
。
をもつフロログルシンアルデヒド製造法を提供する。
この方法のHa lは塩素が好ましくまたAlkはメチ
ルが好ましい。式Xをもつ化合物はオキシハロゲン化り
ん存在のモトてフロログルシノール(I[Jを式:好ま
しい保護基と試薬がこの工程式に示されている。しかし
上記のとおり別の保護基と試薬が使用できることは認め
られるであろう。
ルが好ましい。式Xをもつ化合物はオキシハロゲン化り
ん存在のモトてフロログルシノール(I[Jを式:好ま
しい保護基と試薬がこの工程式に示されている。しかし
上記のとおり別の保護基と試薬が使用できることは認め
られるであろう。
上の工程式において発明者らは中間体Uが非プロトン性
溶媒中のジメチルホルムアミドとオキシ塩化りんの処理
で容易にホルミル化できることを知った。生成付加物を
濾過捕集し水中加熱加水分解し冷却後70ログルシンア
ルデヒドmは高収率高純度で晶出する。
溶媒中のジメチルホルムアミドとオキシ塩化りんの処理
で容易にホルミル化できることを知った。生成付加物を
濾過捕集し水中加熱加水分解し冷却後70ログルシンア
ルデヒドmは高収率高純度で晶出する。
更に従来知られた同様の方法に使用するモノベンゾエー
トの代りに2.4−ジベンゾエート■′をアセトフェノ
ン誘導体V′との反応に使用して極めて便利であるとわ
かっている。故に上の工程図に示すとおシ5,7−ジペ
ンシイルアントシアニジンIK’ (新規化合物)がえ
られ、これからアルカリ性加水分解とつづ(酸性化によ
ってアントシアニジンが容易に高収率でえることができ
る。
トの代りに2.4−ジベンゾエート■′をアセトフェノ
ン誘導体V′との反応に使用して極めて便利であるとわ
かっている。故に上の工程図に示すとおシ5,7−ジペ
ンシイルアントシアニジンIK’ (新規化合物)がえ
られ、これからアルカリ性加水分解とつづ(酸性化によ
ってアントシアニジンが容易に高収率でえることができ
る。
発明者らはジベンゾエート■′はモノ−、ジーおよびト
リベンゾエート混合物がえられるので70口グルシンア
ルデヒド口の直接ベンゾイル化によっては満足な収率で
製造できないことを知った。しかし本発明は■を塩化ベ
ンゾイルと例えばアセトン溶液中第3有機塩基存在にお
いてバーベンゾイル化した後例えば水性トリエチルアミ
ン中0−30℃で■′を選択加水分解するジベンゾエー
ト■′の効果的合成法を提供する。この新方法によれば
■の■′への転化は実際に定量的にできる。
リベンゾエート混合物がえられるので70口グルシンア
ルデヒド口の直接ベンゾイル化によっては満足な収率で
製造できないことを知った。しかし本発明は■を塩化ベ
ンゾイルと例えばアセトン溶液中第3有機塩基存在にお
いてバーベンゾイル化した後例えば水性トリエチルアミ
ン中0−30℃で■′を選択加水分解するジベンゾエー
ト■′の効果的合成法を提供する。この新方法によれば
■の■′への転化は実際に定量的にできる。
したがって本発明の上記実施例はフロログルシノー/L
u1l)からの70口グルシンアルデヒド口の新製遺失
およびフロログルシンアルデヒド(In)から徹底的ベ
ンゾイル化によって見られる対応するトリー〇−ベンゾ
エート(Vl’ )からの70ログルシンアルデヒド2
、4−シー0−ペンツエート(■′)の新規製法を特
徴とし℃いる。
u1l)からの70口グルシンアルデヒド口の新製遺失
およびフロログルシンアルデヒド(In)から徹底的ベ
ンゾイル化によって見られる対応するトリー〇−ベンゾ
エート(Vl’ )からの70ログルシンアルデヒド2
、4−シー0−ペンツエート(■′)の新規製法を特
徴とし℃いる。
更に2−アリールベンゾピラン環合成に中間体■′使用
およびアントシアニジン■製造に新ジベンゾニート■′
使用の便利さは大きな利益である。
およびアントシアニジン■製造に新ジベンゾニート■′
使用の便利さは大きな利益である。
新規方法は容易に工業的規模に拡大できまた高毒性試薬
を使用しない。また全収率の明らかな改良およびアント
シアニジンの高純度製造可能性も大きな利点である。
を使用しない。また全収率の明らかな改良およびアント
シアニジンの高純度製造可能性も大きな利点である。
本発明の方法を下記実施例によって例証する。
酢酸エテル331中に無水フロログルシノー/1−(1
[)11.2に9c8B、9モル〕とN、N−ジメチル
ホルムアミド7.51(7匈、 96.4モル〕の溶液
にオキシ塩化りん9j(1,47/c9.96.4モル
)を加えた。生じた固体沈澱を濾過し残渣を熱水にとか
した。室温に冷却後結晶を濾過し■11.4/G9(収
率83チ)をえた。融点185−186℃、1% 2923s (CM、OH)におけるE 126
5.1(1m IRバンド(Qr)、3300.1635および160
0cm−’、m/g154においてM+ アセトン451中にフロログルシンアルデヒドIN:)
4.7に9(30,5r−ル)と塩化ベンゾイル10.
61 CI 2.8IC9,91,5モル)の溶液を撹
拌しながらトリエチルアミン12.51(9,12IC
1j、91.5モル)を加えた。沈澱を遠心分離除去し
有機相を濃縮した。脱イオン水で稀釈して本質的定量的
収量の■’14.2に9をえた。融点111−112℃
。
[)11.2に9c8B、9モル〕とN、N−ジメチル
ホルムアミド7.51(7匈、 96.4モル〕の溶液
にオキシ塩化りん9j(1,47/c9.96.4モル
)を加えた。生じた固体沈澱を濾過し残渣を熱水にとか
した。室温に冷却後結晶を濾過し■11.4/G9(収
率83チ)をえた。融点185−186℃、1% 2923s (CM、OH)におけるE 126
5.1(1m IRバンド(Qr)、3300.1635および160
0cm−’、m/g154においてM+ アセトン451中にフロログルシンアルデヒドIN:)
4.7に9(30,5r−ル)と塩化ベンゾイル10.
61 CI 2.8IC9,91,5モル)の溶液を撹
拌しながらトリエチルアミン12.51(9,12IC
1j、91.5モル)を加えた。沈澱を遠心分離除去し
有機相を濃縮した。脱イオン水で稀釈して本質的定量的
収量の■’14.2に9をえた。融点111−112℃
。
1チ
235 ntn (CH30K)においてE 97
0、s/gcIrL 466においてM+ えた固体をアセトン85ノにとかし水1.6ノとトリエ
チルアミン1.xlを加えた。室温で1夜放置後反応混
合物を濃縮し種型炭酸ナトリウム水溶液に注入した。生
じた沈澱■’10.5Q(収率95チ)を濾過捕集した
。融点122−123℃。268nm(ジオキサン)に
おい℃E1′sC711 526、気/g362においてM+ アセトン45!中にm 4.7権(30,5モル〕を含
む溶液を実施例2記載の方法によシトリエテルアミン1
2.5l(9,12に9.91.5モル)存在のもとて
塩化ベンゾイル10.61 (12,8に9.91.5
モル)と混合した。生じた固体を戸別しアセトン溶液に
トリエチルアミン1.11と水1.61を加え稀釈し1
夜おいた後濃縮し種型炭酸ナトリウム水溶液中に注入し
た。沈澱を濾過して固体■’10.5に9(収率95%
)をえた。実施例2に記載したと同じ融点および吸光係
数をもっていた。
0、s/gcIrL 466においてM+ えた固体をアセトン85ノにとかし水1.6ノとトリエ
チルアミン1.xlを加えた。室温で1夜放置後反応混
合物を濃縮し種型炭酸ナトリウム水溶液に注入した。生
じた沈澱■’10.5Q(収率95チ)を濾過捕集した
。融点122−123℃。268nm(ジオキサン)に
おい℃E1′sC711 526、気/g362においてM+ アセトン45!中にm 4.7権(30,5モル〕を含
む溶液を実施例2記載の方法によシトリエテルアミン1
2.5l(9,12に9.91.5モル)存在のもとて
塩化ベンゾイル10.61 (12,8に9.91.5
モル)と混合した。生じた固体を戸別しアセトン溶液に
トリエチルアミン1.11と水1.61を加え稀釈し1
夜おいた後濃縮し種型炭酸ナトリウム水溶液中に注入し
た。沈澱を濾過して固体■’10.5に9(収率95%
)をえた。実施例2に記載したと同じ融点および吸光係
数をもっていた。
の合成
4:1 酢酸エテル−エタノール混合物41中に70ロ
グルシンアルデヒ)’2 、4−ジーO−ベンゾエート
(■)500PC1,38モル)とオメガ−アセトキシ
−4−アセトキシアセトフェノン(V(り 362P(
1,53モル)を含む懸濁液を撹拌しながら塩化水素ガ
ス400J’を加え1夜室温に放置した。生じた固体を
濾過捕集して塩化ベラルゴニジン5,7−ジーO−ベン
ゾx、 ) (■c) 580 F(1,13モル、
収率81%)をえた。これを水酸化す)IJクム130
Fを含む50%水−メタノール溶液4ノに加え更に25
チ塩酸4ノを加えた。生じた固体な濾過し3:1メタノ
ール−濃塩酸混合液から晶出させ℃塩化ベラルゴニジン
l水化物285PC収率78%)をえた。融点302℃
(分解)、525外愼(MeOH) においてE1%
cIIL 1131、HPLC試験99.2%。
グルシンアルデヒ)’2 、4−ジーO−ベンゾエート
(■)500PC1,38モル)とオメガ−アセトキシ
−4−アセトキシアセトフェノン(V(り 362P(
1,53モル)を含む懸濁液を撹拌しながら塩化水素ガ
ス400J’を加え1夜室温に放置した。生じた固体を
濾過捕集して塩化ベラルゴニジン5,7−ジーO−ベン
ゾx、 ) (■c) 580 F(1,13モル、
収率81%)をえた。これを水酸化す)IJクム130
Fを含む50%水−メタノール溶液4ノに加え更に25
チ塩酸4ノを加えた。生じた固体な濾過し3:1メタノ
ール−濃塩酸混合液から晶出させ℃塩化ベラルゴニジン
l水化物285PC収率78%)をえた。融点302℃
(分解)、525外愼(MeOH) においてE1%
cIIL 1131、HPLC試験99.2%。
実 施 例 5□ 塩化シアニジンC1b、X−Cl
)の合1220、HPLC試験 98.9チ。
)の合1220、HPLC試験 98.9チ。
成
4:1 酢酸エチル−エタノール混合液lsl中に70
ログルシンアルデヒド2,4−ジーQ−ペンツエート(
至)1.5昂(4,14モル)とオメガ−アセトキシ−
3,4−ジアセトキシアセトフェノン1.35Jcl?
(4,59−v=ル)ノgffi液を撹拌しながら塩化
水素ガス1.5に9を加え室温において1夜放置した。
ログルシンアルデヒド2,4−ジーQ−ペンツエート(
至)1.5昂(4,14モル)とオメガ−アセトキシ−
3,4−ジアセトキシアセトフェノン1.35Jcl?
(4,59−v=ル)ノgffi液を撹拌しながら塩化
水素ガス1.5に9を加え室温において1夜放置した。
分離した固体、塩化シアニジ15,7−ジーO−ベンゾ
エート([6) 1.75に9(3,29モル、収率7
9%)を濾過捕集し重炭酸ナトリウム500yを含む5
0%水−メタノール溶液151中に加えた後25%HC
IL5!lと混合した。生じた沈澱を濾過し3:1 メ
タノール−濃塩酸混合液から晶出させて塩化シアニジン
1水化物1.02に9 (2,93モル、収″489チ
〕をえた。融点300℃(分解)、5403s(Ha
OH) においてEx%1c!IL
エート([6) 1.75に9(3,29モル、収率7
9%)を濾過捕集し重炭酸ナトリウム500yを含む5
0%水−メタノール溶液151中に加えた後25%HC
IL5!lと混合した。生じた沈澱を濾過し3:1 メ
タノール−濃塩酸混合液から晶出させて塩化シアニジン
1水化物1.02に9 (2,93モル、収″489チ
〕をえた。融点300℃(分解)、5403s(Ha
OH) においてEx%1c!IL
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式VII: ▲数式、化学式、表等があります▼VII (上式中Pg^1とPg^2は各々O−保護基をあらわ
す)で示されるフロログルシンアルデヒドの2,4−ジ
−O−保護された誘導体を式V: ▲数式、化学式、表等があります▼V (上式のArは所望により置換されたアリール基をあら
わしかつPg^3はO−保護基をあらわす)で示される
化合物と反応させて式IX: ▲数式、化学式、表等があります▼IX (上式中Pg^1とPg^2およびArは上に定義した
とおりとする)で示される化合物を生成しかつ所望によ
りOPg^1およびOPg^2の1又は2を遊離ヒドロ
キシル基に転化することを特徴とするアントシアニジン
(又は3、5および7の位置にあるヒドロキシル基の少
なくとも1が保護されているアントシアニジン誘導体)
の製法。 2、各OPg^1、OPg^2およびOPg^3基がエ
ステル化されるヒドロキシル基又は容易に除去されるエ
ーテル化されるヒドロキシル基である請求項1に記載の
方法。 3、Pg^1、Pg^2およびPg^3の各々が炭素原
子1乃至12をもつアシル基又はオルガノスルホニル基
である請求項2に記載の方法。 4、アシル基とオルガノスルホニル基が式:RCO−を
もつカルボン酸アシル基および式:RSO_2−(上2
式のRは炭素原子1乃至11をもつ置換又は非置換され
たアルキル、アリール、アルカリール、アラルキル又は
シクロアルキル基をあらわす)をもつオルガノスルホニ
ル基からえらばれたものである請求項3に記載の方法。 5、Rがフェニルをあらわす請求項4に記載の方法。 6、Arが式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR_1、R_2およびR_3は各無関係に水素、
ヒドロキシルおよびメトキシ基からえらばれる)で示さ
れる請求項1から5までのいづれかに記載の方法。 7、R_1、R_2およびR_3が次の意味:¥a¥:
R_1=R_3−H、R_2=OH、¥b¥:R_1=
R_2=OH、R_3=H、¥c¥:R_1=R_2=
R_3−OH、 ¥d¥:R_1=OM_6、R_2=OH、R_3=H
、¥e¥:R_1=R_2=OH、R_3=OM_6、
¥f¥:R_1=R_3=OM_6、R_2=OH、の
いずれか1をもつ請求項6に記載の方法。 8、フロログルシンアルデヒドを保護基導入可能な試薬
と反応させて式VIII: ▲数式、化学式、表等があります▼VIII (上式中Pg^1とPg^2は請求項1に定義したとお
りとしかつPg^4はO−保護基をあらわす)をもつフ
ロログルシンアルデヒドの2,4,6−トリ−O−保護
された誘導体を生成しかつ選択的に6位置にある保護基
Pg^4を除去することより成る式VII: ▲数式、化学式、表等があります▼VII (但しPg^1とPg^2は上に定義したとおりとする
)で示されるフロログルシンアルデヒドの2,4−ジ−
O−保護された誘導体の製法。 9、保護基Pg^1、Pg^2およびPg^4が保護基
Pg^1、Pg^2およびPg^3について請求項2か
ら5までのいづれかに定義した意味をもつ請求項8に記
載の方法。 10、上記試薬がカルボン酸又はそのエステル生成性誘
導体である請求項8又は9に記載の方法。 11、上記試薬が塩化ベンゾイルである請求項10に記
載の方法。 12、式VIIIをもつ化合物を加水分解させることにより
6位置の保護基Pg^4を選択的に除去する請求項8か
ら11までのいづれかに記載の方法。 13、加水分解が水と弱塩基の存在において行なわれる
請求項12に記載の方法。 14、弱塩基がトリエチルアミンである請求項13に記
載の方法。 15、加水分解が0゜乃至30℃の温度で行なわれる請
求項8から14までのいづれかに記載の方法。 16、式X: ▲数式、化学式、表等があります▼X (上式中Halはハロゲン原子をあらわしかつ各Alk
は低級アルキル基をあらわす)で示される化合物を加水
分解することを特徴とする式III: ▲数式、化学式、表等があります▼III で示されるフロログルシンアルデヒドの製法。 17、Halが塩素である請求項16に記載の方法。 18、各Alkがメチルである請求項16又は17に記
載の方法。 19、式Xをもつ化合物が水中加熱により加水分解され
る請求項16から18までのいづれかに記載の方法。 20、式Xをもつ化合物がフロログルシノールとホルム
アミド ▲数式、化学式、表等があります▼XII (但しAlkは請求項16に定義したとおりとする)お
よびオキシハロゲン化りんを反応させて製造される請求
項16から19までのいづれかに記載の方法。 21、ホルムアミドがジメチルホルムアミドである請求
項20に記載の方法。 22、オキシハロゲン化りんがオキシ塩化りんである請
求項20又は21に記載の方法。 23、フロログルシノールとホルムアルデヒドおよびオ
キシハロゲン化りんとの反応を非プロトン性溶媒中で行
なわせる請求項20から22までのいづれかに記載の方
法。 24、非プロトン性溶媒が酢酸エチルである請求項23
に記載の方法。 25、式IX: ▲数式、化学式、表等があります▼IX (上式中Pg^1とPg^2はO−保護基をあらわしか
つArは任意に置換されたアリール基をあらわす)で示
されることを特徴とする化合物。 26、Arが式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR_1、R_2およびR_3は各無関係に水素、
ヒドロキシルおよびメトキシル基をあらわす)で示され
る基である請求項25に記載の化合物。 27、Pg^1とPg^2が請求項2から5までのいづ
れかに定義したとおりのものである請求項25又は26
に記載の化合物。 28、式VII: ▲数式、化学式、表等があります▼VII (但しPg^1とPg^2は各々O−保護基をあらわす
)で示されることを特徴とする実質的に純粋な化合物。 29、Pg^1とPg^2が請求項2から5までのいづ
れかに定義したとおりのものである請求項28に記載の
化合物。 30、式VII: ▲数式、化学式、表等があります▼VII (但しPg^1とPg^2は請求項1から5までのいづ
れかに定義したとおりとする)で示される2,4−ジ−
O−保護されたフロログルシンアルデヒドのアントシア
ニジン合成用中間体としての使用法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8814603.0 | 1988-06-20 | ||
| GB888814603A GB8814603D0 (en) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | Intermediates for synthesis of anthocyanidines & processes for their production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0240376A true JPH0240376A (ja) | 1990-02-09 |
Family
ID=10638995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1154778A Pending JPH0240376A (ja) | 1988-06-20 | 1989-06-19 | アントシアニジン合成用中間体およびその製法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0348121B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0240376A (ja) |
| AT (1) | ATE87917T1 (ja) |
| DE (1) | DE68905869T2 (ja) |
| ES (1) | ES2053992T3 (ja) |
| GB (1) | GB8814603D0 (ja) |
| PT (1) | PT90920B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5239937A (en) * | 1992-05-14 | 1993-08-31 | Kumao Nino | Attachment for sewing machines |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1595351A (en) * | 1978-03-01 | 1981-08-12 | Inverni Della Beffa Spa | Pharmaceutical compositions containing flavylium compounds |
-
1988
- 1988-06-20 GB GB888814603A patent/GB8814603D0/en active Pending
-
1989
- 1989-06-19 AT AT89306163T patent/ATE87917T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-06-19 ES ES89306163T patent/ES2053992T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-19 JP JP1154778A patent/JPH0240376A/ja active Pending
- 1989-06-19 EP EP89306163A patent/EP0348121B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-19 DE DE8989306163T patent/DE68905869T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-20 PT PT90920A patent/PT90920B/pt not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5239937A (en) * | 1992-05-14 | 1993-08-31 | Kumao Nino | Attachment for sewing machines |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE87917T1 (de) | 1993-04-15 |
| PT90920B (pt) | 1994-11-30 |
| ES2053992T3 (es) | 1994-08-01 |
| PT90920A (pt) | 1989-12-29 |
| DE68905869D1 (de) | 1993-05-13 |
| EP0348121A1 (en) | 1989-12-27 |
| EP0348121B1 (en) | 1993-04-07 |
| DE68905869T2 (de) | 1993-07-15 |
| GB8814603D0 (en) | 1988-07-27 |
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