JPH0241629Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0241629Y2 JPH0241629Y2 JP1982062704U JP6270482U JPH0241629Y2 JP H0241629 Y2 JPH0241629 Y2 JP H0241629Y2 JP 1982062704 U JP1982062704 U JP 1982062704U JP 6270482 U JP6270482 U JP 6270482U JP H0241629 Y2 JPH0241629 Y2 JP H0241629Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flat plate
- mask body
- holding frame
- mask
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/14—Details
- G03B27/18—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
- G03B27/20—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、フイルムの露光装置に関する。
従来、フイルムの露光装置は感光剤を塗布また
は貼付した平板体（以下、単に感光平板体と記
す）を保持する枠体に対してマスクフイルムまた
はマスクガラス等のマスク体を保持した枠体を上
下動可能に構成し、感光平板体保持枠体に対して
マスク体保持枠体を上下動させて感光平板体上に
マスク体を重ね、感光平板体とマスク体との間を
密着させるために、感光平板体とマスク体との間
を真空に引いた上で露光していた。
は貼付した平板体（以下、単に感光平板体と記
す）を保持する枠体に対してマスクフイルムまた
はマスクガラス等のマスク体を保持した枠体を上
下動可能に構成し、感光平板体保持枠体に対して
マスク体保持枠体を上下動させて感光平板体上に
マスク体を重ね、感光平板体とマスク体との間を
密着させるために、感光平板体とマスク体との間
を真空に引いた上で露光していた。
しかし、感光平板体およびマスク体は、それぞ
れ枠体に保持され、両枠体が当接したとき、感光
平板体にマスクが当接するように構成されている
ため、感光平板体の厚さが均一の場合は、従来の
露光装置によつても不都合は生じない。
れ枠体に保持され、両枠体が当接したとき、感光
平板体にマスクが当接するように構成されている
ため、感光平板体の厚さが均一の場合は、従来の
露光装置によつても不都合は生じない。
しかし、感光平板体の厚さが必ずしも均一とは
限らず、たとえば感光平板体の断面形状が台形状
に一辺側において薄くなつているような場合にお
いては、従来の露光装置では、感光平板体保持枠
体とマスク体保持枠体とが当接した状態であつて
も、感光平板体表面全域にわたりマスク体面が当
接した状態にならず、感光平板体表面とマスク体
表面との間の一部分に空隙が存在することになる
欠点があつた。
限らず、たとえば感光平板体の断面形状が台形状
に一辺側において薄くなつているような場合にお
いては、従来の露光装置では、感光平板体保持枠
体とマスク体保持枠体とが当接した状態であつて
も、感光平板体表面全域にわたりマスク体面が当
接した状態にならず、感光平板体表面とマスク体
表面との間の一部分に空隙が存在することになる
欠点があつた。
本考案は、上記にかんがみなされたもので、簡
単な構成で上記した欠点を解消した露光装置を提
供することを目的とするものである。
単な構成で上記した欠点を解消した露光装置を提
供することを目的とするものである。
この目的は、本考案によれば、マスク体保持枠
体を、保持したマスク体の中心点を通り、マスク
体保持枠体表面にほぼ平行となつた直交した２つ
の軸心を回動軸心として回動自在に保持すること
により達成される。
体を、保持したマスク体の中心点を通り、マスク
体保持枠体表面にほぼ平行となつた直交した２つ
の軸心を回動軸心として回動自在に保持すること
により達成される。
以下、本考案を実施例により説明する。
第１図は本考案を実施例の斜視図である。
図において、１は露光装置匡体の側板であつ
て、側板１に平行にガイド支柱２および３が固着
してある。
て、側板１に平行にガイド支柱２および３が固着
してある。
ガイド支柱２，３には、このガイド支柱２，３
に直交して枠体保持具５が装着してあり、枠体保
持具５には感光剤を塗布または貼付した感光平板
体６が爪体７により位置決め保持される感光平板
体保持枠体４が定着してある。
に直交して枠体保持具５が装着してあり、枠体保
持具５には感光剤を塗布または貼付した感光平板
体６が爪体７により位置決め保持される感光平板
体保持枠体４が定着してある。
なお、枠体保持具５は感光平板体６に対向する
部分は中空に形成してあつて、下部に設けた露光
源からの光が感光平板体６に投射されるように構
成してある。
部分は中空に形成してあつて、下部に設けた露光
源からの光が感光平板体６に投射されるように構
成してある。
一方、ガイド支柱２および３には、上下動可能
に腕８および９を有する支持体１０が装着してあ
る。
に腕８および９を有する支持体１０が装着してあ
る。
１１は支持枠体であつて、この支持枠体１１
は、腕８および９間に、第１の回動軸心上に位置
する枢軸１２により回動自在に枢着されている。
は、腕８および９間に、第１の回動軸心上に位置
する枢軸１２により回動自在に枢着されている。
１３は上部マスク体保持枠体であつて、この上
部マスク体保持枠体１３は支持枠体１１に、支持
枠体１１の回動軸である枢軸１２が位置する第１
の回動軸心と直交する第２の回動軸心上に位置す
る枢軸１４により回動自在に枢着されており、こ
の第１および第２の回転軸心は上部マスク体保持
枠体１３表面にほぼ平行となつている。
部マスク体保持枠体１３は支持枠体１１に、支持
枠体１１の回動軸である枢軸１２が位置する第１
の回動軸心と直交する第２の回動軸心上に位置す
る枢軸１４により回動自在に枢着されており、こ
の第１および第２の回転軸心は上部マスク体保持
枠体１３表面にほぼ平行となつている。
上部マスク体保持枠体１３の下面には、上部マ
スク体保持枠体１３表面にほぼ平行となつて直交
する第１と第２の２つの回転軸心の交点にほぼ中
心が位置するように上部マスク体１７が装着して
ある。
スク体保持枠体１３表面にほぼ平行となつて直交
する第１と第２の２つの回転軸心の交点にほぼ中
心が位置するように上部マスク体１７が装着して
ある。
また１８は、上部マスク体保持枠体１３を貫通
して設けた真空用配管である。
して設けた真空用配管である。
また１８は、上部マスク体保持枠体１３を貫通
して設けた真空用配管である。
して設けた真空用配管である。
また、一方、枠体保持具５には回動自在にくの
字状のレバー１５が枢着してあり、レバー１５の
折曲部と支持体１０とはリンク１６により連結し
てあつて、レバー１５の反時計方向への回動によ
りリンク１６を介して支持体１０はガイド支柱
２，３により案内されて、下方向に移動するよう
に構成してある。
字状のレバー１５が枢着してあり、レバー１５の
折曲部と支持体１０とはリンク１６により連結し
てあつて、レバー１５の反時計方向への回動によ
りリンク１６を介して支持体１０はガイド支柱
２，３により案内されて、下方向に移動するよう
に構成してある。
なお、１９および２０は感光平板体６の下側に
設けた下部マスク体の位置を上部マスク体に対し
て移動調整するためのノブであるが、本考案には
直接関係がないため、その詳細な説明は省略す
る。
設けた下部マスク体の位置を上部マスク体に対し
て移動調整するためのノブであるが、本考案には
直接関係がないため、その詳細な説明は省略す
る。
以上の如く構成した本考案の一実施例におい
て、レバー１５を押下げると、レバー１５は反時
計方向に回動し、レバー１５の回動により支持体
１０はリンク１６によりガイド支柱２，３に案内
されて下降し、上部マスク体保持枠体１３は下降
して、感光平板体保持枠体４と上部マスク体保持
枠体１３とは接近し、ついには感光平板体６と上
部マスク体１７とは当接した状態となる。
て、レバー１５を押下げると、レバー１５は反時
計方向に回動し、レバー１５の回動により支持体
１０はリンク１６によりガイド支柱２，３に案内
されて下降し、上部マスク体保持枠体１３は下降
して、感光平板体保持枠体４と上部マスク体保持
枠体１３とは接近し、ついには感光平板体６と上
部マスク体１７とは当接した状態となる。
この状態において、いま仮に、感光平板体６の
断面形状が一辺側において薄く形成されている場
合においても、上部マスク体保持枠体１３は枢軸
１２，１４を軸として支持枠体に対して回動し、
第２図に示す如く、感光平板体６の表面全域にわ
たつて上部マスク体１７が当接した状態となる。
断面形状が一辺側において薄く形成されている場
合においても、上部マスク体保持枠体１３は枢軸
１２，１４を軸として支持枠体に対して回動し、
第２図に示す如く、感光平板体６の表面全域にわ
たつて上部マスク体１７が当接した状態となる。
この状態において、従来の場合と同様に、真空
用配管１８を介して感光平板体６と上部マスク体
１７の周辺を真空に引くことによつて、感光平板
体６と上部マスク体１７とは密着した状態とな
る。
用配管１８を介して感光平板体６と上部マスク体
１７の周辺を真空に引くことによつて、感光平板
体６と上部マスク体１７とは密着した状態とな
る。
従つて従来の露光装置において、感光平板体の
厚さが均一でなく、感光平板体６の断面形状が一
辺において薄くなつているような場合に発生した
感光平板体６と上部マスク体１７との間の間隙は
無くなる。
厚さが均一でなく、感光平板体６の断面形状が一
辺において薄くなつているような場合に発生した
感光平板体６と上部マスク体１７との間の間隙は
無くなる。
以上の説明から明らかな如く、本考案によれ
ば、マスク体保持体をマスク体のほぼ中心を通り
マスク体保持枠体表面にほぼ平行となつた直交し
た２つの軸心を回動軸心として回動自在に設ける
ことにより、感光平板体の厚さに傾きがあつても
感光平板体とマスク体とを全面にわたつて当接さ
せることができる。
ば、マスク体保持体をマスク体のほぼ中心を通り
マスク体保持枠体表面にほぼ平行となつた直交し
た２つの軸心を回動軸心として回動自在に設ける
ことにより、感光平板体の厚さに傾きがあつても
感光平板体とマスク体とを全面にわたつて当接さ
せることができる。
第１図は、本考案の一実施例の作用の説明に供
する斜視図である。第２図は、本考案の一実施例
の作用の説明に供する一部断面図である。 符号の説明、４…感光平板体保持枠体、６…感
光平板体、８，９…腕、１０…支持体、１１…支
持枠体、１３…上部マスク体保持枠体、１７…上
部マスク体。
する斜視図である。第２図は、本考案の一実施例
の作用の説明に供する一部断面図である。 符号の説明、４…感光平板体保持枠体、６…感
光平板体、８，９…腕、１０…支持体、１１…支
持枠体、１３…上部マスク体保持枠体、１７…上
部マスク体。
Claims (1)
- マスクフイルム、マスクガラス等のマスク体が
当接した状態で前記マスク体を介して感光剤を塗
布もしくは貼付した平板体に露光する露光装置に
おいて、前記平板体を表面に保持する平板体保持
枠体側へ移動可能に設けた支持体に、前記平板体
保持枠体に保持された平板体に対向する面に前記
マスク体を保持するマスク体保持枠体を、前記マ
スク体のほぼ中心点を通り、前記マスク体保持枠
体表面にほぼ平行となつた直交する二つの軸心を
回動軸心として回動自在に設けた露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982062704U JPS58166647U (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 露光装置 |
| US06/489,315 US4525060A (en) | 1982-04-28 | 1983-04-28 | Exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982062704U JPS58166647U (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58166647U JPS58166647U (ja) | 1983-11-07 |
| JPH0241629Y2 true JPH0241629Y2 (ja) | 1990-11-06 |
Family
ID=13207961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982062704U Granted JPS58166647U (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4525060A (ja) |
| JP (1) | JPS58166647U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2337129A (en) * | 1998-01-29 | 1999-11-10 | Steven Coe | Method and apparatus for producing graphic art |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4515521Y1 (ja) * | 1966-08-05 | 1970-06-29 | ||
| GB2063524B (en) * | 1978-10-20 | 1982-12-22 | Hitachi Ltd | Method of positioning a wafer in a projection aligner |
| JPS5729047A (en) * | 1980-07-29 | 1982-02-16 | Oodoko Seisakusho:Kk | Device for operating photosensitive plate holder of photocomposer |
| US4431304A (en) * | 1981-11-25 | 1984-02-14 | Mayer Herbert E | Apparatus for the projection copying of mask patterns on a workpiece |
-
1982
- 1982-04-28 JP JP1982062704U patent/JPS58166647U/ja active Granted
-
1983
- 1983-04-28 US US06/489,315 patent/US4525060A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4525060A (en) | 1985-06-25 |
| JPS58166647U (ja) | 1983-11-07 |
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