JPH0241867A - 球研磨装置 - Google Patents
球研磨装置Info
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- JPH0241867A JPH0241867A JP63186713A JP18671388A JPH0241867A JP H0241867 A JPH0241867 A JP H0241867A JP 63186713 A JP63186713 A JP 63186713A JP 18671388 A JP18671388 A JP 18671388A JP H0241867 A JPH0241867 A JP H0241867A
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Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、高い研磨効率および精度で球を研磨する球研
磨装置に関し、詳しくは、高価で取扱いにくい磁性流体
を用いなくとも、同様の高い研磨効率および真球度で研
磨でき、特にボールベアリング等に使用される球体の研
磨に適した、球研磨装置に関する。
磨装置に関し、詳しくは、高価で取扱いにくい磁性流体
を用いなくとも、同様の高い研磨効率および真球度で研
磨でき、特にボールベアリング等に使用される球体の研
磨に適した、球研磨装置に関する。
[従来の技術]
従来、ボールヘアリング等の球体、特にジェットエンジ
ンや真空装置の軸受に不可欠なセラミックス製ボールベ
アリング等のように高い精度が必要とされる球体を高い
研磨効率で研磨する球研磨装置としては、例えば第4図
に示すような、磁性流体を用いたものが知られている。
ンや真空装置の軸受に不可欠なセラミックス製ボールベ
アリング等のように高い精度が必要とされる球体を高い
研磨効率で研磨する球研磨装置としては、例えば第4図
に示すような、磁性流体を用いたものが知られている。
この球研磨装置は、同図に示すように、砥粒を含む磁性
流体18中において、被研磨球2をガイドリング5、浮
子19および駆動ラップ1間で保持しながら駆動ラップ
1を回転させることにより研磨するものである。そして
、研磨に際しては、浮子19がガイドリング5の下部に
設けた磁石20によって磁性流体18とともに浮揚力を
受ける。したがフて、駆動ラップ1の回転により浮子1
9上をいわば公転運動する被研磨球2は、浮子19によ
って、適正な加工圧力で駆動ラップ1下端の接触面10
に押し付けられる。また、浮子19も被研磨球2の転動
によフて回転する。
流体18中において、被研磨球2をガイドリング5、浮
子19および駆動ラップ1間で保持しながら駆動ラップ
1を回転させることにより研磨するものである。そして
、研磨に際しては、浮子19がガイドリング5の下部に
設けた磁石20によって磁性流体18とともに浮揚力を
受ける。したがフて、駆動ラップ1の回転により浮子1
9上をいわば公転運動する被研磨球2は、浮子19によ
って、適正な加工圧力で駆動ラップ1下端の接触面10
に押し付けられる。また、浮子19も被研磨球2の転動
によフて回転する。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、このような従来技術によれば、研磨効率
や研磨精度においては優れているものの、使用する磁性
流体が高価であるという欠点がある。また、磁性流体に
は、取り扱いにくいという側面もある。
や研磨精度においては優れているものの、使用する磁性
流体が高価であるという欠点がある。また、磁性流体に
は、取り扱いにくいという側面もある。
本発明の目的は、このような従来技術の問題点に鑑み、
磁性流体を用いずに上述のような高い精度および効率を
達成できる球研磨装置を提供することにある。
磁性流体を用いずに上述のような高い精度および効率を
達成できる球研磨装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
第1図は、本発明の球研磨装置の一例を示す断面図であ
る。
る。
上記目的を達成するため・本発明では、同図に示すよう
に、回転可能な駆動ラップ1と、被研磨球2に接してこ
れを駆動ラップ1に対して押し付ける加圧ラップ3と、
加圧ラップ3が被研磨球2を駆動ラップ1に対して押し
付けるように加圧ラップ3に力を加える加圧手段4と、
駆動ラップ1の回転によって転動する被研磨球2の運動
方向を円形に拘束するガイドリング5とを備え、被研磨
球2をラップ液6中で駆動ラップ1、加圧ラップ3およ
びガイドリング5により保持しつつ駆動ラップ1を回転
させることにより研磨するようにしている。
に、回転可能な駆動ラップ1と、被研磨球2に接してこ
れを駆動ラップ1に対して押し付ける加圧ラップ3と、
加圧ラップ3が被研磨球2を駆動ラップ1に対して押し
付けるように加圧ラップ3に力を加える加圧手段4と、
駆動ラップ1の回転によって転動する被研磨球2の運動
方向を円形に拘束するガイドリング5とを備え、被研磨
球2をラップ液6中で駆動ラップ1、加圧ラップ3およ
びガイドリング5により保持しつつ駆動ラップ1を回転
させることにより研磨するようにしている。
加圧手段4は緩衝部材7を備え、これを介して加圧ラッ
プ3に力を伝えるようにするのが好ましい。
プ3に力を伝えるようにするのが好ましい。
さらに、第2図および第3図は、加圧手段4の他の例を
示す断面図である。加圧手段4は第2図に示すように、
スラストベアリング8を備え、これを介して加圧ラップ
3に力を加えて加圧ラップ3が回転できるようにする場
合もある。また、第3図に示すように、加圧ラップ3を
回転させる加圧ラップ回転手段9を備え、これにより加
圧ラップ3を強制的に回転できるようにする場合もある
。
示す断面図である。加圧手段4は第2図に示すように、
スラストベアリング8を備え、これを介して加圧ラップ
3に力を加えて加圧ラップ3が回転できるようにする場
合もある。また、第3図に示すように、加圧ラップ3を
回転させる加圧ラップ回転手段9を備え、これにより加
圧ラップ3を強制的に回転できるようにする場合もある
。
第1図の駆動ラップ1は、垂直軸を中心として水平回転
が可能であり、下端部にテーパ状の接触面10を有する
。研磨に際しては、この接触面10において被研磨球2
に接触し、これを転動させる。また駆動ラップtは被研
磨球2の研磨によって摩耗するので、それに伴なって下
降できるように上下動も可能である。
が可能であり、下端部にテーパ状の接触面10を有する
。研磨に際しては、この接触面10において被研磨球2
に接触し、これを転動させる。また駆動ラップtは被研
磨球2の研磨によって摩耗するので、それに伴なって下
降できるように上下動も可能である。
接触面10は加圧ラップ3とガイドリング5の内壁面と
の間の円形軌道上に被研磨球2を保持し、安定かつスム
ーズに回転研磨するために重要な役割を果たしており、
球体の真球度の向上に寄与する。接触面10の鉛直方向
に対する傾斜角Eは20〜80度が好ましい。80度を
越えた場合は被研磨球2をガイドリング5の内壁面に押
し付ける力が弱くなり、また20度未満の場合は被研磨
球2に効果的に接触面10から加工圧がかからないため
、それぞれ被研磨球2の運動が不安定となり真球度が向
上しない。
の間の円形軌道上に被研磨球2を保持し、安定かつスム
ーズに回転研磨するために重要な役割を果たしており、
球体の真球度の向上に寄与する。接触面10の鉛直方向
に対する傾斜角Eは20〜80度が好ましい。80度を
越えた場合は被研磨球2をガイドリング5の内壁面に押
し付ける力が弱くなり、また20度未満の場合は被研磨
球2に効果的に接触面10から加工圧がかからないため
、それぞれ被研磨球2の運動が不安定となり真球度が向
上しない。
yiAfflIIIラップ1の材質としては、荒削りの
研磨の場合には特に制限されず、例えば5LJ3304
等のステンレス鋼、真鍮、アルミニウム等の金属が挙げ
られ、また仕上げの場合には鋳鉄、セラミックス、樹脂
等の脆性材料からなるものが好ましい。
研磨の場合には特に制限されず、例えば5LJ3304
等のステンレス鋼、真鍮、アルミニウム等の金属が挙げ
られ、また仕上げの場合には鋳鉄、セラミックス、樹脂
等の脆性材料からなるものが好ましい。
ガイドリング5の内壁面は、ガイドリングの振動を抑制
するためにゴムあるいは樹脂等でライニングされている
ことが好ましい。
するためにゴムあるいは樹脂等でライニングされている
ことが好ましい。
加圧ラップ3の材質としては、金属、プラスチック、セ
ラミックス、ゴム等の種々の材料を適宜選択して使用で
きる。
ラミックス、ゴム等の種々の材料を適宜選択して使用で
きる。
ラップ液6中には通常、砥粒が含有されるが、この砥粒
はとしては、例えばAIL20s(コランダム)、5i
C(炭化ケイ素:カーボランダム)、ダイヤモンド等の
公知の研摩用砥粒を適宜選択して使用することができる
。また、このような砥粒を、ラップ液6中に含有させる
代りに、駆動ラップ1下端の接触面1oに固定して用い
てもよい。
はとしては、例えばAIL20s(コランダム)、5i
C(炭化ケイ素:カーボランダム)、ダイヤモンド等の
公知の研摩用砥粒を適宜選択して使用することができる
。また、このような砥粒を、ラップ液6中に含有させる
代りに、駆動ラップ1下端の接触面1oに固定して用い
てもよい。
ガイドリング5は、通常、0(オー)リング11を介し
て加圧ラップ3に取り付けられており、ガイドリンク5
と加圧ラップ3とによって砥粒を含んだラップ液6が貯
められる。研磨により砥粒が粉砕され研磨効率が低下し
た場合などに、ラップ液はガイドリング5に設けられた
排液口12等を介して排出され、交換される。
て加圧ラップ3に取り付けられており、ガイドリンク5
と加圧ラップ3とによって砥粒を含んだラップ液6が貯
められる。研磨により砥粒が粉砕され研磨効率が低下し
た場合などに、ラップ液はガイドリング5に設けられた
排液口12等を介して排出され、交換される。
また、上記0リングの代わりに磁性流体シールを用いる
こともできる。この場合は、例えば、加圧ラップ3の側
面に対向するガイドリング5の内壁に永久磁石や電磁石
等が設けられ、その形成される磁場により加圧ラップ3
とガイドリング5間に磁性流体シールが構成される。こ
の方法によれば、ガイドリング5の下端を加圧ラップ3
の上面レベルより上昇させることにより速やかにラップ
液6を排出し、交換することができる。!磁石を用いた
場合は、その電流を停止して磁性流体シールを解除する
ことにより、加圧ラップ3とガイドリング5間からラッ
プ液6を排出することもできる。なお、この磁性流体シ
ールは第4図に示すような、接触面10がほぼ加圧ラッ
プ上面に対向して水平に設けられているような球研磨装
置においても適用でき、この場合、例えば、外客器15
の内壁に磁石16が設けられ、これにより該内壁と加圧
ラップ3間にl111性流体シール17が構成され、外
客器15の昇降等を伴なって上記同様の機能に供される
。
こともできる。この場合は、例えば、加圧ラップ3の側
面に対向するガイドリング5の内壁に永久磁石や電磁石
等が設けられ、その形成される磁場により加圧ラップ3
とガイドリング5間に磁性流体シールが構成される。こ
の方法によれば、ガイドリング5の下端を加圧ラップ3
の上面レベルより上昇させることにより速やかにラップ
液6を排出し、交換することができる。!磁石を用いた
場合は、その電流を停止して磁性流体シールを解除する
ことにより、加圧ラップ3とガイドリング5間からラッ
プ液6を排出することもできる。なお、この磁性流体シ
ールは第4図に示すような、接触面10がほぼ加圧ラッ
プ上面に対向して水平に設けられているような球研磨装
置においても適用でき、この場合、例えば、外客器15
の内壁に磁石16が設けられ、これにより該内壁と加圧
ラップ3間にl111性流体シール17が構成され、外
客器15の昇降等を伴なって上記同様の機能に供される
。
加圧手段4としては、油、水、空気等の流体を圧力伝達
媒体としたシリンダピストン機構、水の浮力を応用した
もの、ばね等の弾性体を使用したもの、その他のデッド
ウェイト方式によるもの等が使用できる。特にエアシリ
ンダは緩衝手段としても作用するので好ましい。水の浮
力を応用したものとは、例えば、加圧ラップ3の下方に
上下方向の案内を介して浮子を連結し、これを水中に位
置させたものとして構成することができる。デッドウェ
イト方式によるものとは、駆動ラップ1に対し加圧ラッ
プ3を一定の荷重で押し付けるものであり、例えば、ロ
ーラーとローブを用いた機構や、てこの原理を応用して
重錘を作用させるような機構などが利用できる。
媒体としたシリンダピストン機構、水の浮力を応用した
もの、ばね等の弾性体を使用したもの、その他のデッド
ウェイト方式によるもの等が使用できる。特にエアシリ
ンダは緩衝手段としても作用するので好ましい。水の浮
力を応用したものとは、例えば、加圧ラップ3の下方に
上下方向の案内を介して浮子を連結し、これを水中に位
置させたものとして構成することができる。デッドウェ
イト方式によるものとは、駆動ラップ1に対し加圧ラッ
プ3を一定の荷重で押し付けるものであり、例えば、ロ
ーラーとローブを用いた機構や、てこの原理を応用して
重錘を作用させるような機構などが利用できる。
緩衝部材7としては、ゴム板等が使用できるが、被研磨
球2の凸部等による衝撃を吸収する際のレスポンスを高
めるため加圧ラップ3の直下に設けることが好ましい。
球2の凸部等による衝撃を吸収する際のレスポンスを高
めるため加圧ラップ3の直下に設けることが好ましい。
スラストベアリング8としては、例えば、ボールベアリ
ング式のものが摩擦抵抗が少なくて好ましい。
ング式のものが摩擦抵抗が少なくて好ましい。
加圧ラップ回転手段9は、例えば第3図に示すように、
加圧ラップ3に回転駆動力を伝える駆動軸13、および
駆動軸13を回転させる不図示の駆動手段を備える。こ
の場合、加圧手段4の駆動部分としては、例えば、同図
に示すように、2または3木のエアシリンダ14を使用
することができる。
加圧ラップ3に回転駆動力を伝える駆動軸13、および
駆動軸13を回転させる不図示の駆動手段を備える。こ
の場合、加圧手段4の駆動部分としては、例えば、同図
に示すように、2または3木のエアシリンダ14を使用
することができる。
[作用]
このような本発明の球研磨装置では、ラップ液6中で加
圧手段4によって加圧ラップ3を上昇ざせ、被研磨球2
を加圧ラップ3の上面、駆動ラップ1下端部の接触面1
0およびガイドリング5の内壁面で保持する。そして、
IfJ、動ラップ1を駆動させ、水平方向に回転させる
ことによって、被研磨球2にその回転運動が伝達される
。これにより、被研磨球2はラップ液6中で円軌道上を
転動する。このようにして被研磨球2とラップ液6との
間に相対運動が生じることによって、被研磨球2が保持
されている面、特に駆動ラップ1下端部のテーパ状の接
触面10において研磨が効率良く行なわれる。
圧手段4によって加圧ラップ3を上昇ざせ、被研磨球2
を加圧ラップ3の上面、駆動ラップ1下端部の接触面1
0およびガイドリング5の内壁面で保持する。そして、
IfJ、動ラップ1を駆動させ、水平方向に回転させる
ことによって、被研磨球2にその回転運動が伝達される
。これにより、被研磨球2はラップ液6中で円軌道上を
転動する。このようにして被研磨球2とラップ液6との
間に相対運動が生じることによって、被研磨球2が保持
されている面、特に駆動ラップ1下端部のテーパ状の接
触面10において研磨が効率良く行なわれる。
この研磨に際しては、特に被研磨球2が研磨初期の粗形
球体である場合には、その凸部への応力集中が著しく、
衝悠による激しい表面の破壊等が生じがちであるが、こ
のような衝撃は特に緩1對部材7によって効果的に吸収
される。したがって、加圧手段4による加圧圧力や駆動
ラップ1の回転数を下げる必要がなく、結果的に高い効
率で研磨が行なわれる。
球体である場合には、その凸部への応力集中が著しく、
衝悠による激しい表面の破壊等が生じがちであるが、こ
のような衝撃は特に緩1對部材7によって効果的に吸収
される。したがって、加圧手段4による加圧圧力や駆動
ラップ1の回転数を下げる必要がなく、結果的に高い効
率で研磨が行なわれる。
また、スラストベアリング8を備える場合は、運動する
被研磨球2から受ける摩擦力によって、加圧ラップ3が
回転し、これにより研磨精度の向上が図られる。−加圧
ラップ駆動手段9を備える場合も、同様の効果をもって
精度よく研磨が行なわれる。
被研磨球2から受ける摩擦力によって、加圧ラップ3が
回転し、これにより研磨精度の向上が図られる。−加圧
ラップ駆動手段9を備える場合も、同様の効果をもって
精度よく研磨が行なわれる。
[実施例コ
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1
第1図に示す断面形状を有する研磨装置を用いて試験を
行なった。駆動ラップはステンレス鋼(SUS304)
製で直径30mm、高さ30 mm。
行なった。駆動ラップはステンレス鋼(SUS304)
製で直径30mm、高さ30 mm。
ラップ角度(#斜角度)Eは45°である。ガイドリン
グの内径は37mmであり、ガイドリング内壁の被研磨
球体と接触する部分にはウレタンゴムの内張りを設けで
ある。研磨砥粒としてはGC#400を用いている。ま
た、加圧ラップは上面がアクリル製で直径35mmであ
り、緩衝部材を設けないかわりに加圧手段としては緩衝
作用もあるエアシリンダを用いて、加圧荷重は500g
となるように調整しである。
グの内径は37mmであり、ガイドリング内壁の被研磨
球体と接触する部分にはウレタンゴムの内張りを設けで
ある。研磨砥粒としてはGC#400を用いている。ま
た、加圧ラップは上面がアクリル製で直径35mmであ
り、緩衝部材を設けないかわりに加圧手段としては緩衝
作用もあるエアシリンダを用いて、加圧荷重は500g
となるように調整しである。
この装置を用いて、直径7.7 mm、真球度20μm
の窒化ケイ素(S 13NJ )素球11個を、駆動ラ
ップを9000 r、p、m、で40分回転させて研磨
した。
の窒化ケイ素(S 13NJ )素球11個を、駆動ラ
ップを9000 r、p、m、で40分回転させて研磨
した。
この結果得られた球の真球度は2.0μmであり、研磨
率は2.5μm/minであった。
率は2.5μm/minであった。
去」C1且
さらにスラストボールヘアリングを設けて加圧ラップが
回転できるようにした以外は実施例1と同様の装置およ
び条件で同様の被研磨球の研磨を行なった。
回転できるようにした以外は実施例1と同様の装置およ
び条件で同様の被研磨球の研磨を行なった。
この結果真球度1.5μmの球が得られ、研磨率は 2
.2μm / mi口であった。
.2μm / mi口であった。
比較例1
加圧ラップおよび加圧手段ならびにラップ液として第4
図に示すような平板状の浮子、磁石および磁性流体(W
−40)を用いた以外は、実施例1と同様の装置および
条件で同様の被研磨球の研磨を行なった。
図に示すような平板状の浮子、磁石および磁性流体(W
−40)を用いた以外は、実施例1と同様の装置および
条件で同様の被研磨球の研磨を行なった。
この結果、得られた球の真球度は17μmであり、研磨
率は1.9μm/minであった。
率は1.9μm/minであった。
以上のように実施例1および2の結果は、比較例1の結
果とほぼ同等の結果を示しており、エアシリンダおよび
Ni街材の使用が磁性流体を用いた場合と同等の真球度
および研磨効率を得るのに有効であることがわかる。そ
して特に、スラストベアリングの使用は真球度の高上に
寄与していることがわかる。
果とほぼ同等の結果を示しており、エアシリンダおよび
Ni街材の使用が磁性流体を用いた場合と同等の真球度
および研磨効率を得るのに有効であることがわかる。そ
して特に、スラストベアリングの使用は真球度の高上に
寄与していることがわかる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、緩衝部材やエアシ
リンダさらにはスラストベアリングを用いることにより
研磨効率および真球度を向上させることができる。した
がって、磁性流体を用いないエアシリンダ等の加圧手段
によっても高価で取扱いが不便な磁性流体を用いた場合
と同等の研磨効率および真球度を達成できる。
リンダさらにはスラストベアリングを用いることにより
研磨効率および真球度を向上させることができる。した
がって、磁性流体を用いないエアシリンダ等の加圧手段
によっても高価で取扱いが不便な磁性流体を用いた場合
と同等の研磨効率および真球度を達成できる。
第1図は、本発明の一実施例に係る球研磨装置の断面図
、 第2図および第3図は、第1図の装置の加圧手段の他の
例を示す断面図、 第4図は、tn性流体シールを適用した球研磨装置を例
示する断面図、そして 第5図は、従来例に係る球研磨装置の断面図である。 1 : 2 : 3 : 4 : 5 ; 6 ; 7 : 8 : 駆動ラップ、 被研磨球、 加圧ラップ、 加圧手段、 ガイドリング、 砥粒を含んだラップ液、 緩衝材、 スラストベアリング、 加圧ラップ回転手段、 :接触面、 :シール材、 :排ン夜口、 :駆動軸。 第 第 図
、 第2図および第3図は、第1図の装置の加圧手段の他の
例を示す断面図、 第4図は、tn性流体シールを適用した球研磨装置を例
示する断面図、そして 第5図は、従来例に係る球研磨装置の断面図である。 1 : 2 : 3 : 4 : 5 ; 6 ; 7 : 8 : 駆動ラップ、 被研磨球、 加圧ラップ、 加圧手段、 ガイドリング、 砥粒を含んだラップ液、 緩衝材、 スラストベアリング、 加圧ラップ回転手段、 :接触面、 :シール材、 :排ン夜口、 :駆動軸。 第 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、回転可能な駆動ラップと、被研磨球に接してこれを
該駆動ラップに対して押し付ける加圧ラップと、該加圧
ラップが被研磨球を該駆動ラップに対して押し付けるよ
うに該加圧ラップに力を加える加圧手段と、該駆動ラッ
プの回転によって転動する被研磨球の運動方向を円形に
拘束するガイドリングとを備え、被研磨球を、ラップ液
中で該駆動ラップ、加圧ラップおよびガイドリング間に
保持しつつ該駆動ラップを回転することにより研磨する
ことを特徴とする球研磨装置。 2、回転可能な駆動ラップと、被研磨球に接してこれを
該駆動ラップに対して押し付ける加圧ラップと、該加圧
ラップが被研磨球を該駆動ラップに対して押し付けるよ
うに該加圧ラップに力を加える加圧手段と、該駆動ラッ
プの回転によつて転動する被研磨球の運動方向を円形に
拘束するガイドリングとを備え、被研磨球を、ラップ液
中で該駆動ラップ、加圧ラップおよびガイドリング間に
保持しつつ該駆動ラップを回転することにより研磨する
球研磨装置において、該加圧手段は、緩衝部材を備え、
これを介して該加圧ラップに力を加えることを特徴とす
る球研磨装置。 3、回転可能な駆動ラップと、被研磨球に接してこれを
該駆動ラップに対して押し付ける加圧ラップと、該加圧
ラップが被研磨球を該駆動ラップに対して押し付けるよ
うに該加圧ラップに力を加える加圧手段と、該駆動ラッ
プの回転によって転動する被研磨球の運動方向を円形に
拘束するガイドリングとを備え、被研磨球を、ラップ液
中で該駆動ラップ、加圧ラップおよびガイドリング間に
保持しつつ該駆動ラップを回転することにより研磨する
球研磨装置において、該加圧手段は、スラストベアリン
グを備え、これを介して該加圧ラップに力を加えること
を特徴とする球研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63186713A JPH0241867A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 球研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63186713A JPH0241867A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 球研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0241867A true JPH0241867A (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=16193337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63186713A Pending JPH0241867A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 球研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0241867A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5070028A (en) * | 1990-06-07 | 1991-12-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for manufacturing bipolar transistors having extremely reduced base-collection capacitance |
| JP2009072871A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Nsk Ltd | 球体表面性状矯正装置 |
| JP2022125652A (ja) * | 2021-02-17 | 2022-08-29 | アルプスアルパイン株式会社 | 円柱状ワーク外形修正装置 |
-
1988
- 1988-07-28 JP JP63186713A patent/JPH0241867A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5070028A (en) * | 1990-06-07 | 1991-12-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for manufacturing bipolar transistors having extremely reduced base-collection capacitance |
| JP2009072871A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Nsk Ltd | 球体表面性状矯正装置 |
| JP2022125652A (ja) * | 2021-02-17 | 2022-08-29 | アルプスアルパイン株式会社 | 円柱状ワーク外形修正装置 |
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