JPH0242069A - ベンズアミド類 - Google Patents
ベンズアミド類Info
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- JPH0242069A JPH0242069A JP12824289A JP12824289A JPH0242069A JP H0242069 A JPH0242069 A JP H0242069A JP 12824289 A JP12824289 A JP 12824289A JP 12824289 A JP12824289 A JP 12824289A JP H0242069 A JPH0242069 A JP H0242069A
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、lI′I化管a能冗進作用を有する新規で作
用なベンズアミド額に関する。 従来の技術 特開昭53−90274号明細吉には、ある杜のN−[
(411’(lアルキル−2(又は3)−モルホリニル
)メチル]−置換ペンズアミド誘導体がレセルピン拮抗
作用、 tA痛作用等を存し、例えば抗うつ剤、鎮痒剤
等としてa用である、と開示されている。 一方、4−7ミ/−5−り0O−N−EC2−ジエチル
アミ/)エチル]−2−メトキシベンズアミド[一般名
メトクロプラミド;例えばMercklnde++、
第10版、 0019 (1983)参照]が1960
年代の半ばに制吐剤あるいは消化管機能亢進剤として開
発されて以来、種々の置換ベンズアミド誘導体が合成さ
れ、その薬理学的性質が研究されてきた。 本発明の目的 本発明者らは、優れた消化管機能亢進作用を有する置換
べ/ズアミド誘導体を見いだすべく研究を続けてきたが
、アミド部分の窒素原子とモルホリン部分の2位の炭素
原子がアルキレフ基を介して結合する置換ベンズアミド
誘導体がその要外を膚たずことを見いだし、更に研究を
続けた結果、本発明を完成した。 発明の構成及び効果 本発明によれば、−形成(I) (以下余白) [式中、Rは低級アルコキシカルボニル基、シクロアル
牛ル基、置換基を有する低級アルキル基(該置換基はジ
低級アルキルアミノ基、シクロアルキル基、シクロアル
ケニル基、フリル基。 ヂエニノシ基又はベンズイソオ手すゾリル甚である)、
低級アルケニル基、低級アルキニル基。 (Vは低級アルキレフ基を意味する)で示される基又は
−T−(W) p−Re (Re、 T 、 W及びp
は後記定義の通りである)で示される基を意味し、lセ
1は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基。 低級アルコキシ基、酸素原子で中断された低級アルコキ
シ基、置換基を何する低級アルコキシ基(該置換基はカ
ルボキシル基、アミノ基又はフタルイミド基である)、
低級アルキルチオ基。 は低級アルキル基を意味し、Raは低級アルキル基、シ
クロアルキル基、フェニル(低級)アルキル基を意味す
る)で示される基又はアシルアミノ基を意味し、 R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は
ニトロ基を意味するか、 あるいはR+とR2が一緒になってウレイレ7基を形成
してもよ転 R3は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、ア
ミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基、低級アルカ/イルアミノ基又はニトロ基を意味し、 R4は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、ニ
トロ基、アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低線アル
カノイルアミノ基、スルファモイル基又はジ低級アルキ
ルスルファモイル基を意味するか、 あるいはR3とR4が一緒になって−NH−N=N−で
示される基を形成してもよ(、 Re ハ水素i;i 子、ハロゲン原子又は低級アルコ
キシ基を意味するか、 あるいはR+、 Rz、 Rs、 Ra及びR6のう
ち隣接するいずれか2個が一緒になって低級アルキレン
ジオキシ基を形成してもよく、 Raはフェニル基、置換フェニル基(置換基はハロゲン
R3子、低級アルキル基、低級アルコキシ双、カルボキ
シル基及びアミノ基からij!ばれる1〜3個の原子又
は基である)又はジフェニルメチル基を意味し、 Xは低級アルキレン基を意味し、 Tは単結合又は低級アルキレン基を意味し、Wは酸素原
子又はイミノ基を意味し、 pはO又は1を意味する。 但し、(i) R11R1,R3,R4及びR8のうち
少な(とも2個は水素原子以外の葬子又は基を意味し、
(HATが単結合のとき、pはOを意味し、(iii)
R+がヒドロキシ基又は低級アルコキシ基であり、R
ilがアミノ基、ジ低級アルキルアミノ法又は低級アル
カノイルアミノ基であり、R4がハロゲン原子であり、
R2及びR6が水素原子のとき、Rは−T’ −(W’
) p−Re’ (Pは前掲に同じものを意味し、R
8′はフェニル基又はハロゲノフェニル基を意味し、T
′は低級アルキレフ基を意味し、W′は酸M原子を意味
する)で示される基以外の基を意味する。] で表される化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類が提供される。 式(1)で表される化合物の生理的に許容される酸付加
塩類とは、構造中に酸付加塩を形成しうる基を存する式
(I)の化合物の生理的に許容される酸付加塩を意味す
る。具体例としては塩酸塩。 臭化水′I7i酸塩、酸塩化ヨウ化水素酸塩塩、リン酸
塩等の無機酸塩、及びンユウ酸塩、マレイ/酸10フマ
ル酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩。 酒石酸塩、安息香酸塩、メタ/スルホ7M塩等の有機酸
塩が挙げられる。 式(I)の化合物は、少なくとも1個の不斉炭素原子を
イrするので、数種の立体異性体が存在しうる。これら
の立体異性体、それらの混合物及びラセミ体は本発明の
化合物に包含される。 本明細書における用語を以下に説明する。 「低級」とは、特にことわらない限り、1〜6個の炭素
原子を意味する。低級アルキル基、低級アルキル部分、
低級アルキレフ基又は低級アルキレン部分は、直鎖状で
も分枝鎖吠でもよい。「低級アルコキンカルボニル基J
の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プaボキシ力ルボニル等が挙げられる。「シク
ロアルキルIA Jとは、炭素原子数3〜6のものを意
味する。 「低級アルキル基」の具体例としては、メチル。 エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプヂル
、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。「置換基を有す
る低級アルキル基」とは、任意の位置に前掲の置換基の
1個をイrするものを意味する。 「ジ低級アルキルアミノ基」の具体例としては、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、メヂルエチルアミノ、メチ
ルプロピルアミノ等が挙げられる。 「シクロアルケニル基」とは、二重結合を1個有する、
炭素原子数5〜6のものを意味する。[低級アルケニル
基」とは、1−2位間以外の位置に二重結合を1個「す
る、炭素原子数3〜6のものを意味し、例えばアリル、
2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、3−もしく
は4−ペンテニル、2−.3−.4−もしくは6−ヘキ
セニル等が挙げられる。「低級アルキニル基」とは、1
−2位間以外の位置に三重結合を1個有する、炭素原子
数3〜6のものを意味し、例えば2−プロピニル、3−
ブチニル、5−へキシニル等が挙げられる。「フェニル
(低級)アルケニル基jの具体例としてはシンナミル等
が挙げられる。「ハロゲノ原子」とは、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素を意味する。「低級アルコキシ基」の具体
例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプ
ロポキシ、ブトキン、インブトキシ等が挙げられる。「
酸素原子で中断された低級アルコキシ基」とは、低級ア
ルキル部分の任意の位置が1〜2個の酸素原子で中断さ
れている低級アルコキシ基を意味し、例えば2−メトキ
シエトキシ、(2−メトキシエトキシ)メトキシ、2.
2−ジメトキシエトキシ等が挙げられる。「置換基をイ
rする低級アルコキシ基」とは、任意の位置に前掲の置
換基を存するものを意味するが、置換基が7ミノ基であ
るとき、これらの71Vは1位以外の炭素原子に結合し
ている。 具体例としては、カルボキシメトキシ、3−アミツブ1
ボtン、3−フタルイミドプロポキシ等が挙げられる。 「低級アルキルチオ基」の具体例としては、メチルチオ
、エヂルチオ、プロピルチオ。 イソプロピルチオ、ブヂルヂオ、インプヂルチオ等が挙
げられる。「アシル基」とは、フェニル置換不飽和術I
l/I族カルボン酸残基又はハロゲン原子。 低級アル午ル基、低級アルコキシ基もしくはニドロバで
置換されていてもよい安息香酸残基を章味シ、例エハン
ンナモイル、ベンゾイル、クロロベンゾイル、メチルベ
ンゾイル、メトキシベンゾイルル、ニトロベンゾイル等
が挙げられる。「低級アルキルアミノ′II5」の具体
例としては、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ等が挙げられる。「低級アルカノイル基」の具体例
としては、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブ
チリル等が挙げられる。「ジ低級アルキルスルフイル基
」の具体例として3才、ジメチルスルファモイル 「低級アルキレン基」の具体例1としてt!、メチレン
、エチレン、メチルメチレン、ト1Jメチレン。 プロビレ/l ジメチルメチレ/,テトラメチレン。 ペンタメチレ乙へキサメチレフ等が才芥番fられる。 本発明の化合物のうちで好適なもの(才、式(1)にお
いてRがべ/ジル基であり、Xがメチレン基であり、 (1) R1, R21 R3, Ra及びR6
のうち隣接する0ずれか2個が一緒になってCI−C!
1アルキレンジオキシ基を形成し、残りの3個カ≦水索
に
用なベンズアミド額に関する。 従来の技術 特開昭53−90274号明細吉には、ある杜のN−[
(411’(lアルキル−2(又は3)−モルホリニル
)メチル]−置換ペンズアミド誘導体がレセルピン拮抗
作用、 tA痛作用等を存し、例えば抗うつ剤、鎮痒剤
等としてa用である、と開示されている。 一方、4−7ミ/−5−り0O−N−EC2−ジエチル
アミ/)エチル]−2−メトキシベンズアミド[一般名
メトクロプラミド;例えばMercklnde++、
第10版、 0019 (1983)参照]が1960
年代の半ばに制吐剤あるいは消化管機能亢進剤として開
発されて以来、種々の置換ベンズアミド誘導体が合成さ
れ、その薬理学的性質が研究されてきた。 本発明の目的 本発明者らは、優れた消化管機能亢進作用を有する置換
べ/ズアミド誘導体を見いだすべく研究を続けてきたが
、アミド部分の窒素原子とモルホリン部分の2位の炭素
原子がアルキレフ基を介して結合する置換ベンズアミド
誘導体がその要外を膚たずことを見いだし、更に研究を
続けた結果、本発明を完成した。 発明の構成及び効果 本発明によれば、−形成(I) (以下余白) [式中、Rは低級アルコキシカルボニル基、シクロアル
牛ル基、置換基を有する低級アルキル基(該置換基はジ
低級アルキルアミノ基、シクロアルキル基、シクロアル
ケニル基、フリル基。 ヂエニノシ基又はベンズイソオ手すゾリル甚である)、
低級アルケニル基、低級アルキニル基。 (Vは低級アルキレフ基を意味する)で示される基又は
−T−(W) p−Re (Re、 T 、 W及びp
は後記定義の通りである)で示される基を意味し、lセ
1は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基。 低級アルコキシ基、酸素原子で中断された低級アルコキ
シ基、置換基を何する低級アルコキシ基(該置換基はカ
ルボキシル基、アミノ基又はフタルイミド基である)、
低級アルキルチオ基。 は低級アルキル基を意味し、Raは低級アルキル基、シ
クロアルキル基、フェニル(低級)アルキル基を意味す
る)で示される基又はアシルアミノ基を意味し、 R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は
ニトロ基を意味するか、 あるいはR+とR2が一緒になってウレイレ7基を形成
してもよ転 R3は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、ア
ミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基、低級アルカ/イルアミノ基又はニトロ基を意味し、 R4は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、ニ
トロ基、アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低線アル
カノイルアミノ基、スルファモイル基又はジ低級アルキ
ルスルファモイル基を意味するか、 あるいはR3とR4が一緒になって−NH−N=N−で
示される基を形成してもよ(、 Re ハ水素i;i 子、ハロゲン原子又は低級アルコ
キシ基を意味するか、 あるいはR+、 Rz、 Rs、 Ra及びR6のう
ち隣接するいずれか2個が一緒になって低級アルキレン
ジオキシ基を形成してもよく、 Raはフェニル基、置換フェニル基(置換基はハロゲン
R3子、低級アルキル基、低級アルコキシ双、カルボキ
シル基及びアミノ基からij!ばれる1〜3個の原子又
は基である)又はジフェニルメチル基を意味し、 Xは低級アルキレン基を意味し、 Tは単結合又は低級アルキレン基を意味し、Wは酸素原
子又はイミノ基を意味し、 pはO又は1を意味する。 但し、(i) R11R1,R3,R4及びR8のうち
少な(とも2個は水素原子以外の葬子又は基を意味し、
(HATが単結合のとき、pはOを意味し、(iii)
R+がヒドロキシ基又は低級アルコキシ基であり、R
ilがアミノ基、ジ低級アルキルアミノ法又は低級アル
カノイルアミノ基であり、R4がハロゲン原子であり、
R2及びR6が水素原子のとき、Rは−T’ −(W’
) p−Re’ (Pは前掲に同じものを意味し、R
8′はフェニル基又はハロゲノフェニル基を意味し、T
′は低級アルキレフ基を意味し、W′は酸M原子を意味
する)で示される基以外の基を意味する。] で表される化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類が提供される。 式(1)で表される化合物の生理的に許容される酸付加
塩類とは、構造中に酸付加塩を形成しうる基を存する式
(I)の化合物の生理的に許容される酸付加塩を意味す
る。具体例としては塩酸塩。 臭化水′I7i酸塩、酸塩化ヨウ化水素酸塩塩、リン酸
塩等の無機酸塩、及びンユウ酸塩、マレイ/酸10フマ
ル酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩。 酒石酸塩、安息香酸塩、メタ/スルホ7M塩等の有機酸
塩が挙げられる。 式(I)の化合物は、少なくとも1個の不斉炭素原子を
イrするので、数種の立体異性体が存在しうる。これら
の立体異性体、それらの混合物及びラセミ体は本発明の
化合物に包含される。 本明細書における用語を以下に説明する。 「低級」とは、特にことわらない限り、1〜6個の炭素
原子を意味する。低級アルキル基、低級アルキル部分、
低級アルキレフ基又は低級アルキレン部分は、直鎖状で
も分枝鎖吠でもよい。「低級アルコキンカルボニル基J
の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プaボキシ力ルボニル等が挙げられる。「シク
ロアルキルIA Jとは、炭素原子数3〜6のものを意
味する。 「低級アルキル基」の具体例としては、メチル。 エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプヂル
、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。「置換基を有す
る低級アルキル基」とは、任意の位置に前掲の置換基の
1個をイrするものを意味する。 「ジ低級アルキルアミノ基」の具体例としては、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、メヂルエチルアミノ、メチ
ルプロピルアミノ等が挙げられる。 「シクロアルケニル基」とは、二重結合を1個有する、
炭素原子数5〜6のものを意味する。[低級アルケニル
基」とは、1−2位間以外の位置に二重結合を1個「す
る、炭素原子数3〜6のものを意味し、例えばアリル、
2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、3−もしく
は4−ペンテニル、2−.3−.4−もしくは6−ヘキ
セニル等が挙げられる。「低級アルキニル基」とは、1
−2位間以外の位置に三重結合を1個有する、炭素原子
数3〜6のものを意味し、例えば2−プロピニル、3−
ブチニル、5−へキシニル等が挙げられる。「フェニル
(低級)アルケニル基jの具体例としてはシンナミル等
が挙げられる。「ハロゲノ原子」とは、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素を意味する。「低級アルコキシ基」の具体
例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプ
ロポキシ、ブトキン、インブトキシ等が挙げられる。「
酸素原子で中断された低級アルコキシ基」とは、低級ア
ルキル部分の任意の位置が1〜2個の酸素原子で中断さ
れている低級アルコキシ基を意味し、例えば2−メトキ
シエトキシ、(2−メトキシエトキシ)メトキシ、2.
2−ジメトキシエトキシ等が挙げられる。「置換基をイ
rする低級アルコキシ基」とは、任意の位置に前掲の置
換基を存するものを意味するが、置換基が7ミノ基であ
るとき、これらの71Vは1位以外の炭素原子に結合し
ている。 具体例としては、カルボキシメトキシ、3−アミツブ1
ボtン、3−フタルイミドプロポキシ等が挙げられる。 「低級アルキルチオ基」の具体例としては、メチルチオ
、エヂルチオ、プロピルチオ。 イソプロピルチオ、ブヂルヂオ、インプヂルチオ等が挙
げられる。「アシル基」とは、フェニル置換不飽和術I
l/I族カルボン酸残基又はハロゲン原子。 低級アル午ル基、低級アルコキシ基もしくはニドロバで
置換されていてもよい安息香酸残基を章味シ、例エハン
ンナモイル、ベンゾイル、クロロベンゾイル、メチルベ
ンゾイル、メトキシベンゾイルル、ニトロベンゾイル等
が挙げられる。「低級アルキルアミノ′II5」の具体
例としては、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ等が挙げられる。「低級アルカノイル基」の具体例
としては、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブ
チリル等が挙げられる。「ジ低級アルキルスルフイル基
」の具体例として3才、ジメチルスルファモイル 「低級アルキレン基」の具体例1としてt!、メチレン
、エチレン、メチルメチレン、ト1Jメチレン。 プロビレ/l ジメチルメチレ/,テトラメチレン。 ペンタメチレ乙へキサメチレフ等が才芥番fられる。 本発明の化合物のうちで好適なもの(才、式(1)にお
いてRがべ/ジル基であり、Xがメチレン基であり、 (1) R1, R21 R3, Ra及びR6
のうち隣接する0ずれか2個が一緒になってCI−C!
1アルキレンジオキシ基を形成し、残りの3個カ≦水索
に
【子である、
(2) RIがC1〜C4アルコキシ基又LtCt〜
C4アルキルチオ基であり、R4がスルファモイルりs
Rtr R3及びRlIが水素原子である、(31
R + fJ’アミノ基又はCt〜C3アルキルアミ
ノであり、R3が/10ゲン原子(特に塩素原子)又は
ニトロ基であり、Rtr Ra及びR6が水素原子で
ある、 +4J RIがアミノ基又はC1〜C3アルキルアミ
ノ基であり. Raがニトロ基.スルファモイル基又は
ジ(C1〜C2アルキル)スルフ1モイル基であり,
R2.R3及びR11が水素ロチであるか、(5)
RIがアミノ基又はCI++C3アルキルアミノ基であ
り、R3が7%ロゲン原子(特に塩素原子)又はC1〜
C3アルキルアミノ基であり、R4力≦ニトロ基であり
、R2及びRsが水素原子である、 化合物及びその生理的に許容される酸体カロ塩頬である
。 本発明の化合物は例えば以下の方法により製造すること
ができる。 方法(a)ニ 一般式(夏■) (以下余白) (式中.R2, Ra. R4及びR6は前掲に同じも
のを意味し、R1′はアシルアミノ基及び置換基として
カルボキシル基を有する低級アルフキシ基以外の前掲R
+と同じものを意味する。) で表される化合物又はその反応性誘導体と、−形成(I
n) R′ (式中、Xは前掲に同じものを意味し、R′はカルボキ
シル基をイ丁する基以外の前掲Rと同じものを意味する
。) で表される化合物とを反応させることにより、式(1)
においてRがR′で、RIがR+’である化合物を得る
ことができる。 式(II)の化合物の反応性MW体としては、例えば低
級アルキルエステル、活性エステル、酸無水物,酸ハラ
イド(特に酸クロリド)等を挙げることができる。活性
エステルの具体例としてはpニド[Iフェニルエステル
、2,4.5−トリクロロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、シアンメチルエステル、N−ヒ
ドロキシコハク酸イミドエステル、N−ヒドロキシフタ
ルイミドエステル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン
−2.3−ジカルボキシイミドエステル、N−ヒドロキ
シピペリジンエステル、8−ヒドロキシキノリ7エステ
ル、2−ヒドロキシフェニルエステル。 2−ヒドロキシ−4,5−ジクロロフェニルエステル、
2−ヒドロキシピリジンエステル、2−ピリジルチオー
ルエステル等が挙げられる。酸無水物としては、対称酸
無水物又は混合酸無水物が用いられ、混合酸無水物の具
体例としてはクロル炭酸エチル、クロル炭酸インブチル
のようなりロル炭酸アルキルエステルとの混合酸無水物
、クロル炭酸ベンジルのようなりロル炭酸アラルキルエ
ステルとの混合酸無水物、クロル炭酸フェニルのような
りロル炭酸アリールエステルとの混合酸無水物、イソ吉
草酸、ピバリン酸のようなアルカ7酸との混合酸無水物
等が挙げられる。 式(■)の化合物を用いる場合には、ジシクロへキンル
力ルポジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、N、N’−カルボ
ニルジイミダゾール、1−エトキシカルボニル−2−エ
トキシ−1,2−ジヒドロキノリンのような縮合剤の存
在下に反応させることができる。縮合剤きしてシンクロ
へキシルカルボジイミド又は1−エチル−3−(3−ジ
メチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を用いる
場合には、N−ヒドロキシコハク酸イミド、1−ヒドロ
キシベ/シトリアゾール、3−ヒドロキシ−4−オキソ
−3,4−ジヒドロ−1,2,3−ベンゾトリアジン、
N−ヒドロキシ−5−ノルボルネ/−23−ジカルボキ
シイミド等を添加して反応させてもよい。 式(II)の化合物又はその反応性MW体と式(III
)の化合物との反応は、溶媒中又は無溶媒下に行われる
。使用する溶媒は、原r[化合物の種類等に従って適宜
選択されるべきであるが、例えばべ/ゼ/、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類
、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲノ化炭化
水素類、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、
水等が挙げられ、これらの溶媒はそれぞれ単独で、ある
いは2種以上混合して用いられる。本反応は必要に応じ
て塩基の存在下に行われ、塩基の具体例としては、重炭
酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸アルカリ
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸アルカリ
あるいはトリエチルアミン。トリブチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、N−メチルモルホリンのような
有機塩基が挙げられるが、式(III)の化合物の過剰
量で兼ねることもできる。反応温度は用いる原料化合物
の1m等により異なるが、通常的−30℃ないし約20
0℃、好ましくは約−1θ℃ないし約150℃である。 なあ、式(IT)の化合物又は式(Iff)の化合物の
構造中に反応に関与する基が存在するときは、これらの
基は常法に従って保護しておき、反応後に脱離させるの
が望ましい。 方法(b)ニ 一般式(Iα) (式中、R1,R2,R3,R4,Rs及びXは前掲に
同じものを意味する。) で表される化合物と一般式(IV) Z −R’ (IV) (式中、R#はTが単結合でReがフェニル基又は置換
フェニル基である場合を除き前掲Rと同じものを意味し
、Zはアルコールの反応性エステル残基を意味する。) で表される化合物とを反応させることに上り、式(I)
においてRがR#である化合物を得ることができる。 式(IV)においてZで表されるアルコールの反応性エ
ステル残基としては、例えば塩素、臭素。 ヨウ素のようなハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ
、エフ/スルホニルオキシのような低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオ牛シ、p−トルエ
ンスルホニルオキシ、m−二トロベ/ゼ/スルホニルオ
キシのようなアリールスルホニルオキシ基等が挙げられ
る。 式(■α)の化合物と式(IV)の化合物との反応は、
通常、適当な溶媒中で行われ、溶媒の具体例としては、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケト/のようなケトン類、
テトラヒドロフラ乙ジオヤサンのようなエーテル類、エ
タノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール
類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等が挙げら
れる。これらの溶媒はそれぞれ単独で、又は2種以上を
混合して用いられる。本反応は塩基の存在下に行うのが
好ましく、塩基の具体例としては、(a)法の部分で述
べた塩基の具体例をそのまま挙げることができる。また
、式(■)においてZが塩素又は臭素である化合物を用
いるときは、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムのよう
なアルカリ金属ヨウ化物を添加すると反応は円滑に進行
する。反応温度は用いる原料化合物の種子等により異な
るが、通常的50℃ないし約200℃である。なお、式
(■α)の化合物又は式(IV)の化合物の構造中に反
応に関与する基が存在するときは、これらの基は常法に
従って保護しておき、反応後に脱離させるのが望ましい
。 方法(C)ニ 一般式(Iβ) (式中、R+ R!* R3* R4+ Rs及びXは
前掲に同じものを意味する。) で表される化合物と一般式(V) Z’−Re (V)(
式中%R9はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル2!、 il!lI素原子で中断され
たアルキル基又は置換基を作するアルキル基を意味し、
Z′はアルコールの反応性エステル残基を意味する。) で表される化合物とを反応させることにより、式(1)
においてRIがOR9である化合物を得ることができる
。 式(V)においてZ′で表されるアルコールの反応性エ
ステル残基としては、(b)法の部分で述べた具体例を
そのまま挙げることができる。 本反応は通常、塩基の存在下に適当な溶媒中で行われる
。塩基の具体例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのような炭酸アルカリ、テトラブチルアンモニウムヒ
ト「1キシド、ペンジルトリエチルアンモニウムヒドロ
キンドのような第4級水酸化アンモニウム、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金
属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ようなアルカリ金属水素化物等が挙げられる。使用する
溶媒は、原料化合物・塩基の8i類等に従って゛適宜選
択されるべきであるが、例えば塩化メチレン、アセト/
、アセトニトリル、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール、ジグリム。 ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げ
られる。式(V)において2′が塩素又は臭素である化
合物を用いるときは、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ
ムのようなアルカリ金属ヨウ化物を添加すると反応は円
滑に進行する。 本反応はまた、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよ
うな強111!基と相間移動触媒の存在下に、塩化メチ
レン−水のような相間移動触媒反応に通j7+′使用さ
れる溶媒系を用いて行うこともできる。 相間移動触媒としては、例えばテトラブチルアンモニウ
ムプロミド、セヂルトリメチルアンモニウムブロミド、
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチ
ルアンモニウムビスルフェー反応昌度は用いる原料化合
物の種類等により異なるが、通常的5℃ないし約150
℃である。なお、式(■β)の化合物又は式(V)の化
合物の構造中に反応に閃l)する基が存在するときは、
これらの基は常法に従って保護しておき、反応後に脱離
させるのが望ましい。 方法(d)ニ 一般式(Vl) (式中、R2,R3,Ra及びR5は前掲に同じものを
意味し、Rhoはアシル基からカルボニル部分を除いた
残基を意味する。) で表される化合物と、−形成(m)で表される化合物と
を反応させることにより、式(I)においてRがR′で
、RIがアシルアミノ基である化合物を得ることができ
る。 本反応は、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロト等が挙
げられる。 フラ乙 ジオキサ乙 リルのような溶媒中、 れる。 方法(e)ニ 一般式(■γ) クロロホル!い、アセトニド 約40℃ないし約90℃で行わ (式中、R,R2,R3,Ra、 Rs及びXは前掲
に同じものを意味し、Z#はハロゲン原子を意味する。 )で表される化合物と一般式(■) (式中、R7及びR8は前掲に同じものを意味する。)
で表される化合物とを反応させることにより、式化合物
を得ることができるヶ 本反応は、無溶媒下、又はエタノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドのような溶媒中、約60
°Cないし約150℃で行われる。 製法(a)、(b)、(c)。 (d)及び(C) によって得られる生成物がその晴遣中にニド0基をイf
するときは、常法に従って還元することにより、対応す
るアミン誘導体に変換することができる。(1■造中に
アミノ基又は低級アルキルアミノ基をイ「するときは、
常法に従って適当なアシル化剤と反応させることにより
、対応するアシルa 71体に変換することができる。 また、式(I)において、RIがアミノ基又はそ/置換
アミノ基で、R2がニトロJJ、である化合物は、常法
に従って還元した後、ホスゲ7.N、N’−カルボニル
シイミグゾールのような試薬と反応させることにより、
対応する2、3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−オ
ン誘導体に変換することができる。 上記各製法により生成する化合物は、クロマトグラフィ
ー、再結晶、再沈殿等の常法により単Nl +精製され
る。 (1カ造中に酸付加塩を形成しうる基を有する式(1)
の化合物は、原料化合物の選定1反応・処理条件等によ
り、遊離塩基又は酸付加塩の形で得られるa酸付加塩は
、常法、例えば炭酸アルカリ。 水酸化アルカリのような塩基で処理することにより、遊
離塩基に変えることができる。一方、遊離塩基は、常法
に従って各種の酸と処理することにより酸付加塩に導く
ことができる。 式(I)の化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類は、制吐#Iあるいは消化管機11ヒ瓦進剤七して、
急・慢性胃炎、胃・−二(h腸潰瘍、胃神経庁、胃下垂
などの疾患における食欲不振、悪心嘔吐、腹部膨満感等
の治療及び予防に、また食道・胆遵系疾患1便秘症の治
療及び予防に用いることができる。更にまた、ンスプラ
テンのような抗癌剤投与時の悪心、嘔吐の治療及び予防
にも用いることができる。その投与経路としては、経口
投与。 Jl−経口投与あるいは直腸内投与のいずれでもよい。 投与量は、化合物の種類、投与方法、患者の症吠・年令
等により異なるが、通常0.001〜20fg/kg7
日、好ましくは0.004〜5w*/kg/日である。 式(I)の化合物又はその塩は通常、製剤用担体と混合
して調製した製剤の形で投与される。製剤用担体として
は、製剤分野において常用され、かつ式(I)の化合物
又はその塩と反応しない物質が用いられる。具体的には
、例えば乳糖、ブドウ糖、マンニット、デキストリン、
シクロデキストリン、デンプ7.白糖、メクケイ酸アル
ミン酸マグネシウム。 合[戊ケイ酸アルミニウム、結晶セルU−ス、カルボキ
ンメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシプ[Iピル
デンプン、カルボキシメチルセルロースカルシウム、イ
オン交換樹脂、メチルセルロース。 ゼラチン アラビアゴム、プルラン、ヒドロキンプロピ
ルセルロース、低置換度ヒドロキンプロピルセルロース
、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピ
ロリド/、ポリビニルアルコール、軽質無水ケイ酸、ス
テアリン酸マグネシウム。 タルク、トラガント、ベントナイト、ビーガム。 カルボキシビニルポリマー、酸化チタ/、ンルビタ/脂
肪酸エステル、ラウリル硫酸ナトリウム。 グリセリン、脂肪酸グリセリンエステル、精製ラノリン
、グリセロゼラチン、ポリソルベート、マクロゴール、
植物Mh、 ロウ、プロビレ/グリコール、水等が挙げ
られる。剤型としては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散
剤、シロップ剤、懸濁剤。 注射剤、小割等が挙げられる。これらの製剤は常法に従
って調製される。なお液体製剤にあっては、用時、水又
は他の適当な媒体に溶解又は懸濁する形であってもよい
。また錠剤、顆粒剤は周知の方法でコーティングしても
よい。 これらの製剤は、式(I>の化合物又はその生理的に許
容される酸付加塩を0.5%以上、好ましくは1〜70
%の割合で含をすることができる。これらの製剤はまた
、治療上価値ある他の成分を含有していてもよい。 本発明を更に具体的に説明するために、以下に参考例及
び実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。なお、化合物の同定は元素分析値、マ
ス・スペクトル、 IRスペクトル、NMRスペクト
ル等により行った。 また、以下の参考例及び実施例において記αの簡略化の
ために次の略号を使用することもある。 Me:メチル基 :エチル基 :プロピル基 :フェニル基 :アセチル基 :エタノール :ア七ト/ ニア七ト二トリル :クロロホルム :ジオキサン :塩化メチレン :ジエチルエーテル :ヘキサン :シクロヘキサン :イソプロビルアルコール :メタノール :ジイソプロピルエーテル :トルエン 参考例I 2−アミノメチル−4−ベンジルモルホリンの製造: (J) Syn、 Commun、、 10.59〜
73 (1980)に記αの方法に従って合成した、4
−ベンジル−2−クロロメチルモルホリン80.4g
、 フタルイミドカリウム78.0g及びジメチルホ
ルムアミド700■1から成る混合物を撹拌しながら5
時間加熱還流する。反応液を氷水中に注ぎ、析出する結
晶を濾取し、水洗後インプロピルアルコールから再結晶
してN−[(4−べ/ジルー2−モルホリニル)メチル
コツタルイミド107 gを得る。 融点 136〜1
39℃(2)上記フタルイミド体67.2gにエタノー
ル+801と85%抱水ヒドラジン20.0gを加え、
撹拌しながら30分加熱a流する。析出結晶を濾去し、
d液にクロロホルムと水を加えて振盪する。有機層を飽
和食地水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧で留去して油状の目的物33.5gを得る
。この遊離塩基の一部を少量のエタノールに溶解し、フ
マル酸のエタノール溶液を加え、濃縮したのち冷却する
と目的物の3/2フマル酸塩・1/2水和物が結晶とし
て析出する。 融点166〜108℃ 参考例2 2−アミツメデル−4−フェニルモルホリンの製造: 参考例1(1)における4−ベンジル−2−クロロメチ
ルモルホリンの代わりに2−クロロメチル−4−フェニ
ルモルホリンを用い、参考(PH(Ilび(2)と同様
に反応・処理して目的物を得る。 参考例3 2−アミ/メチル−4−べ/ジルモルホリンの製i0: (+1 4−ベンジル−2−クロロメチルモルホリン1
5.0g、アジ化ナトリウム8.6g及びジメチルホル
ムアミド150■「から成る混合物を130℃で2時間
撹拌する。反応液に水を加えジエチルエーテルで抽出す
る。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧で留去して油状の2
−アジドメチル−4−ベンジルモルホリフ15gを得る
。 ■ 上記アジド体15gのトルエン401溶液を、予め
一5℃に冷却しておいた水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウムナトリウムの70%トルエン溶液6
01中に少しずつ滴下する。滴下終了後室温で1.5時
間撹拌する。反応液中に10%水酸化ナトリウム水溶液
を少しずつ加えて残余の還元剤を分解した後、有機層を
分取し水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムでQ2.燥する。溶媒を減圧で留去して浦吠の目
的物11gを得る。 参考例4 2−アセチルアミノメチル−4−べ/ジルモルホリンの
製造: N−[(4−ベンジル−2〜モルホリニル)メチル]フ
タルイミド1132 g+ 85%抱水ヒドラジン43
.3ff及びエタノール100 mlから成る混合物を
撹拌しながら20分加熱a流する。析出結晶をd・2去
し、濾液にクロロホルムと水を加えて振盪する。有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。不溶物を濾去し、濾液に無水酢酸98.3gを加え
、室温で2時間撹拌する。反応液に水酸化ナトリウム水
溶液を加えて振役後、有機層を水、次いで飽和食塩水で
洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥した有機層を減
圧で濃縮し、残渣をトルエンから再結晶して目的物10
1 gを得る。 融点110〜111℃ 参考例5 2−アセチルアミノメチルモルホリンの製造:2−アセ
チルアミツメデル−4−ベンジルモルホリン120F、
エタ/−ル1000■!及び酢酸301から成る混
合物を10%パラジウム炭素5gを触媒として加温上常
圧で水素添加する。計算量の水素を吸収した後、触媒を
濾去し、濾液を減圧で濃縮して7+11伏の目的物を得
る。 参考例6 2−アセデルアミノメチル−4−(4−メチルベ/ジル
)モルホリノの製造: 2−アセチルアミノメチルモルホリン4.0g。 4−メチルベンジルクロリド3.5g、無水炭酸カリウ
ム17.5g、 ヨウ化カリウム0.4g及びメチル
エヂルケトン4001から成る混合物を17時間加熱還
流する。不溶物をσ・!去し、濾液を減圧で濃縮する。 残渣にクロロホルムと水を加えて振盪し、有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を減圧で留去し、残渣をトルエン−ヘキサンから再結
晶して目的物5.1gを得る。 融点97〜98℃ 参考例7〜23 参考例6における4−メチルベンジルクロリドの代わり
に対応するアルキル化剤を用い、参考例6と同様に反応
・処理して表1に示す化合物を得る。 表 1 表 1 (続き) 参考例24 2−アミツメデル−4 メチルベンジル) モルホリ/の製造: 2−アセデルアミノメチル−4−(4−メチルベンジル
)そルホリン3.0gにlθ%塩ff150m+を加え
、4時間加熱還流する。反応液に水酸化ナトリウム水溶
液を加えてアルカリ性にし、クロロホルムで抽出する。 有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧で留去して油状の目的物を得る。 参考例25 2−アミノメチル−4−置換モルホリンの製造:参考例
24における2−アセチルアミツメデル−4−(4−メ
チルベンジル)モルホリノの代わりに参考例4.7.0
.14.1[+及び19〜22の生成物を用い、参考例
24と同様に反応・処理して、対応する2−アミノメチ
ル体を得る。 参考例26 2−アミノメチル−4−(4−メトキシベンジル)モル
ホリンの製造: 2−アセチルアミノメチル−4−(4−メトキシベンジ
ル)モルホリン3.3gにIθ%水ffi化すトリウム
水溶液001を加え、20時間加熱還流する。 反応液をクロロホルムで抽出し、有機層を水、次いで飽
和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。tB媒を減圧で留去して油状の目的物を得る。 参考例27 2−アミノメチル−4−置換モルホリンの製造:参考例
26における2−アセチルアミノメチル−4−(4−メ
トキシベンジル)モルホリンの代わりに、参考例8.1
0〜13.15.17.18及び23の生成物を用い、
参考例2Bと同様に反応・処理して、対応する2−アミ
ノメチル体を得る。 参考例28 2−アミノメチル−4−エトキシカルボ二ルモルホリン
の製造: (1)N−[:(4−べ/ジルー2−モルホリニル)メ
チル]フタルイミド30.0gにトルエン200■1を
加え、60℃に加温する。クロル炭酸エチル19.4g
を滴下した後、1時間加熱還流する。反応液を水、次い
で飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣をイソプロピルアル
コール−ジエチルエーテルから再結晶してN−[(4−
エトキシカルボニル−2−モルホリニル)メチル]フタ
ルイミド27.8gを得る。 融点 1貫3〜115℃ (2) 上記エトキシカルボ二ル体10.0g及び85
%抱水ヒドラジン2.9g及びエタノール10m1から
成る混合物を10分加熱還流する。析出結晶を濾去し、
濾液にクロロホルムと水を加えて振盪する。有機層を飽
和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧で、留去して油状の目的物5.8gを得る
。 参考例29 2−ベンジルアミノ−5−ニトロ安息香酸の製造: 2−クロロ−5−二トロ安息香酸5gとベンジルアミン
15 gのエタノール40m1溶液を10時間加熱還流
した後、減圧で溶媒を留去する。残渣を水1001に懸
濁し、酢酸で弱酸性(PH約4)にする。 室温で1時間撹拌し、析出結晶を濾取して目的物4.8
gを得る。 @点23B〜248℃(エタノールから再
結晶) 参考例30 2−へキシルアミノ−5−二トロ安息香酸の製造: 参考例29におけるベンジルアミンの代わりにヘキシル
アミンを用い、参考例29と同様に反応・処理して目的
物を得る。融点101〜!63℃(ジインプロピルエー
テル−ヘキサンから再結晶)参考例31 2−アセチルアミノ−4−ジメチルアミノ−5−ニトロ
安息香酸の製造: 2−アセチルアミノ−4−クロロ−5−二トロ安息香f
i11.3g、 40%ジメチルアミン水溶液4011
及びエタノール100■1から成る混合物を5時間加熱
還流した後、減圧で濃縮する。残渣に水100■1を加
え、酢酸で弱酸性(PH約4)にし、析出結晶を濾取し
て目的物8.6gを得る。 融点230〜255℃(エタノールから再結晶)参考例
32 2−アミノ−4−9メチルアミノ−5−ニトロ安息香酸
の製造: 2−アセチルアミノ−4−ジメチルアミノ−5ニトロ安
息香酸8.5g、+C1塩酸201及び水80■から成
る混合物を10(1℃で30分撹拌する。冷後、反応液
に水酸化ナトリウム5gを加え、更に10%水酸化ナト
リウム水溶液を均一溶液になるまで加える。次いで酢酸
で弱酸性(pH約4)にし、析出結晶を4取して目的物
番、8gを得る。 融点240〜250℃(メタノールから再結晶)参考例
33 2〜アミノ−4−メチルアミノ−5−ニトロ安息香酸の
製造: 2−アセチルアミノ−4−クロo−5−二トロ安息香W
IilOgと40%モノメチルアミン水溶液60−の混
合物を80℃で10時間撹拌する。反応液を減圧で15
縮し、残渣に40%モノメチルアミン水溶液1001を
加え、更に80℃で20時間撹拌する。冷後、水501
1を加え、酢酸で弱酸性(pH約4)にし、析出結晶を
4取して目的物7.6gを得る。 EA点200〜272℃(アセトニトリルから再結晶)
参考例34 2−アセチルアミ/−4−クロロ−5−ジメチルアミノ
スルホニル安息香酸の製造: (+) クロルスルホン#25gに、室温で2−アセ
チルアミノ−4−りaa安息香f@8.5gを徐々に加
え、次いで温度を150℃までゆっくりと上げ、4.5
時間加熱する。冷後、水中に反応液をゆっくりと注ぎ、
析出する結晶をめ3取し、水洗したのち乾燥して2−ア
セチルアミノ−4−クロn−5−り[10スルホニル安
息香酸4,5gを得る。 C) 上J己5−りrjOスルホニル体4.5gのテト
ラヒビ0フラン50w+lfJ液に、水冷下30%ジメ
チルアミン水溶液301を加え、同温度で1時間撹拌す
る。反応液に水100■1を加え、濃塩酸で酸性にし、
析出する結晶を濾取し、よく水洗したのち乾燥して目的
物3.9gを得る。 参考例35 2−アミノ−4−り0o−5−ジメチルアミノスルホニ
ル安息香酸の製造: 2−アセチルアミノ−4−クロロ−5−ジメチルアミノ
スルホニル安息香酸3.9gのIθ%塩ffi+001
懸濁液を4時間加熱還流する。減圧で水を留去した後、
20%炭酸カリウム水溶液でpH5にし、析出する結晶
をidI&し、水洗したのち乾燥して目的物2.8gを
得る。 参考例36 2−アミ/−5−プaモー3−ニトロ安息香酸の製造: 3−ニトロアントラニル酸5.0gのジメチルホルムア
ミド20mlTtg液にN−プロモスクシ/イミド5.
5gを加え、室温で一夜放置する。反応液を氷水中に注
ぎ、析出する結晶を濾取し、よく水洗したのち乾燥して
目的物6.5gを得る。 融点206〜213℃ 参考例37 ツージメチルアミ/−6−ニトロ−2−フェニル−4H
−3,1−ベンゾオキサジン−4−オンの製造: 2−アミ/−4−ジメチルアミノ−5−二トロ安息香#
3.Ogのピリジン301溶液に室温でべ7ゾイルクロ
リド5.1gを加えた後、80〜100 ’Cで21+
!!間撹拌する。反応液を氷水中1=注ぎ、酢酸で弱酸
性(pH約0)にし、析出する結晶を’a2取し、アセ
トニトリルから再結晶して目的物3.7gを得る。 融
点 178〜179℃ 参考例38〜46 対応する原料化合物を用い、参考例37と同様に反応・
処理して表2に示す化合物を得る。 (以下余白) 表2 4−アミノ−5−クロロ−2−メトキン−N−(2−モ
ルホリニルメチル 後記実施例2に記αの方法に従って製造した4−アミノ
−5−クロロ−N− [ (4−エトキシカルボニル−
2−モルホリニル)メチル]ー2ーメトキシペ/ズアミ
ド0.1g,水酸化カリウムlO.1g及びインプロピ
ルアルコール801から成る混合物を撹拌しながら3時
間加熱還流する.tB媒を減圧で留去し、残渣にクロロ
ホルムと水を加えて振りする。イ「機層を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減
圧で留去する。残渣をインプロピルアルコールからTI
Tm品して目的物1.4gを得る。融点101〜162
℃参考例48 4−アミノ−N− [ (4−ベンジル−2−モルホリ
ニル)メチル]ー5ークロロー2ーヒドロキシベンズア
ミドの製造: (+)2−アミノメチル−4−ベンジルモルホリフ[1
.0gの塩化メチレン601溶液に4−アミノ−5−ク
ロロ−2−メトキシ安息香1!IIO.O g 1次い
で1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カ
ルボジイミド塩酸塩e.o gを加え、室温で3時間撹
拌する。反応液を水,水酸化ナトリウム水溶液,水,飽
和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を減圧で留去し、残渣をア七トン−トルエンか
ら再Pi品して4−アミノ−N−[(4−ベンジル−2
−モルホリニル)メチル]ー5ークロロー2ーメトキシ
ベンズアミド8.6gを得る。融点148〜150℃■
60%水素化ナトリウム0.52gのジメチルホルム
アミド201懸濁液に、水冷下エラ/チオール0、81
gのジメチルホルムアミド51溶液を加え、室温で0
.5時間撹拌する。反応液に4−アミノ−N − [(
4−べ/ジルー2ーモルホリニル)メチル]ー5ークロ
ロー2ーメトキシベンズアミド3.4gを加え、100
℃で1時間撹拌する。6後、溶媒を減圧で留去する。残
渣に水を加え、クロロホルムで洗浄した後、10%塩酸
で中和する。析出物を濾取し、水洗した後イソプロピル
アルコールから再結晶して目的物の1水和物2.3gを
得る。 融点153〜155℃ 参考例49 4−アミノ−5−クロcj−2−メトキシ−N−[[:
4− [3−(4−ニトロフェノキシ)プロピル]ー2
ーモルホリニル]メチル]ベンズアミドの製造: 参考例4g(1)における2−アミノメチル−4−ベン
ジルモルホリンの代わりに、2−アミツメデル−4−
[3− (4−二トロフェノキシ)プロピル1モルホリ
ンを用い、参考例48(1)と同様に反応・処理して、
目的物・1 15 EtOllを得る。 融点149〜153℃(エタノールから再結晶)実施例
I N−[(/l−ベンジル−2−モルホリニル)メヂル]
ー6ーブロモー2.3ージメトキシベンズアミ ドの製
造: クロロホルム301に6−ブロモ−2.3−ジメトキシ
安息香ffi1.5g,塩化チオニル1.O g及びジ
メチルホルムアミド1滴を加え、撹拌しながら1時間加
熱還流する.減圧でクロロホルムを留去した後、トルエ
ン201を加え更に減圧で0縮する。 残渣をクロロホルム201に溶解し、トリエチルアミン
81を加えた後、室温で2−アミノメチル−4−ベンジ
ルモルホリフ 1ITB液を滴下する。反応液を室温で一夜撹拌した後
、水、水酸化ナトリウム水溶液、t!和食塩水の順で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧で留去して油状の目的物2.1gを得る。 マス・スペクト/L# m/z : 448 (M”
)実施例2 4−7ミノー5−クロロ−N−[(4−エトキシカルボ
二ルー2−モルホリニル)メチル]−2−メトキシベン
ズアミドの製造: 2−7ミノメチルー4−エトキシカルボニルモルホリン
5.8gの塩化メチレン100m1m液に4アミノ−5
−クロロ−2−メトキシ安息香酸5.021次いで1−
エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミド塩酸塩5.2gを加え、室温で4時間撹拌する。 反応液を水、水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を減圧で留去し、残渣をクロロホルムに溶解し、シリカ
ゲル80gを用いてカラムクロマトグラフィーを行う。 クロロホルム溶出部を捨て、10%0%メタノ−ルーフ
10ホルム部を集め、li1媒を留去して油状の目的物
7.5gを得る。 この遊離塩基をエタノールに溶解し、シュウ酸1.9g
のエタノール溶液を加えて約10m1まで0縮した後ジ
エチルエーテルを加える。析出する結晶を6取して目的
物のシュウ酸塩を得る。 融点!40〜151℃ 実施例3〜65 対応する原r4化合物を用い、実施例1及び2と同様に
反応・処理して表3〜5に示す化合物を得る。 表3 表 (続き) 表5 実施例66 4−アミノ N−[(4−ベンジル−2−モル ホリニル)メチル]−5−クロロ−2−(3−フタルイ
ミドプロポキシ)べ/ズアミドの製造:4−アミ/−N
−[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル]−5
−クロロー2−ヒドロキシベンズアミド2.0gをIN
水酸化ナトリウム水溶液20−1に溶解し、撹拌下、臭
化テトラブヂルアンモ二つム1.7gを加える。続いて
、塩化メチレン20m1.3−フタルイミドプロピルプ
ロミド1.7gを加え、室温で15時間撹拌する。反応
液を減圧で濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、水、次い
で飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する
。溶媒を減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、5%メタノール−クロロホルムで
溶出し、油接物2.2gを得る。 これをエタ/−ル201に溶解し、フマル酸0.6gを
加え、しばらく撹拌する。析出する結晶をσり取し、イ
ンプロピルアルコールから再結晶して目的物の7マル酸
塩・1/2水和物2.1gを得る。 融点139〜143℃ 実施例67 4−アミノ−N−[(4−ベンジル−2−モル:1.リ
ニル)メチルコーラ−クロロ−2−[(2−メトキシエ
トキシ)メトキシ]ベンズアミドの製造: 実施例6Gにおける3−フタルイミドプロピルプロミド
の代わりに、(2−メトキシエトキシ)メチルクロリド
を用い、実施例6Gと同様に反応・処理して目的物の2
7マル酸塩を得る。 融点153〜156°C(イソプ
ロピルアルコールから再結晶)実施例68 5− [N−(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチ
ル]カルバモイル−6−メドキシー111−べ/シトリ
アゾールの製造: 実施例2における4−アミ/−5−クロロ−2−メトキ
ン安息香酸と2−アミノメチル−4−エトキンカルボニ
ルモルホリンの代わりに、それぞれ5−カルボキシ−6
−メドキシー11−1−ベンゾトリアゾールと2−アミ
ノメチル−4−ベンジルモル;j、リンを用い、実施例
2の第1バラグラフと同様に反応・処理して目的物を得
る。融点145〜147°C(酢酸エチル−アセトンか
ら再結晶)実施例69 2−ベンゾイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−
モルホリニル)メチル]−4−ジメチルアミン−5−ニ
トロベンズアミドの製造ニ ア−ジメチルアミノ−6−ニトロ−2−フェニル−4H
−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン3.3g、2−
アミノメチル−4−ベンジルモルホリフ2.2gのテト
ラヒドロフラン601溶液を4時間加熱還流する。減圧
で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルのカラムクロマ
トグラフィーに付す。 2%メタノール−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去し
て目的物4.5gを得る。融点161〜104℃(エタ
ノールから再結晶) 実施例70〜78 対応する原料化合物を用い、実施例69と同様に反応・
処理して表6に示す化合物を得る。 表6 1) マス・スペクトルにおけるm/z (M”)(以
下同じ)実施例79 N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチルゴ
ー2−メチルアミノ−5−ジメチルアミ/スk +t、
ニルベンズアミドの製造: N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル]
−5−ジメチルアミノスルホニル−2−フルオロベンズ
アミド1.0gのエタノール101溶液に30%′メチ
ルアミンエタノール溶液11を加え、48時間加熱ig
流する。溶媒を減圧で留去し、残渣をクロロホルムに溶
解し、水洗したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧を留去し、残渣をエタ/−ルから再結晶して
目的物0.6gを得る。 融点 145〜140℃ 実施例80〜81 対応する原料化合物を用い、実施例79と同様に反応・
処理して表7に示す化合物を得る。 (以下余白) 表7 5−アミ/−2−べ/シイルアミノーN −[(4−べ
/ジルー2−モルホリニル)メチル]−4−ジメチルア
ミノベンズアミドの製造: 2−ベアシイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−
モルホリニル)メチル]−4−ジメチルアミン−5−ニ
トロベンズアミド2.4gと製塩fi15m+のメタノ
ール350 m1Fj濁液に塩化第一スズ・2水和物5
gを加え、室温でl 111間撹拌する。反応液に水2
00菖lを加え、10%水酸化ナトリウム水溶液でアル
カリ性にした後、クロロホルムで抽出する。 クロロホルム層を乾燥したのち減圧で濃縮し、残渣をシ
リカゲルのカラムクロマトグラフィーに付す、2%メタ
ノール−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去して粉末状
の目的物1.9gを得る。 マス・スペクトルm/z : 487 (M” )実施
例83 5−ベンゾイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−
モルホリニル)メチル]−2−ジメチルアミノベンズア
ミドの製造: N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル】
−2−ジメチルアミノ−5−ニトロベンズアミド1.1
gとメタノール1001の混合物を5%パラジウム炭素
100■を触媒として室m、’rt圧で水素添加する。 計算量の水素を吸収したのち触媒を〜去し、濾液を減圧
で濃縮する。残渣をクロロホルム2011に溶解し、ベ
ンゾイルクロリド0.5gを加えて室温で1時間撹拌す
る。反応液を希水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥
したのち減圧で濃縮する。残渣をシリカゲルのカラムク
ロマトグラフィーに付し、2%メタノール−クロロホル
ムで溶出し、溶媒を留去して粉末状の目的物0.8gを
得る。 マス・スペクトルm/z : 472 (M”
)実施例84 5−アセチルアミノ−2−ベンゾイルアミノ−N −[
(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル−コイ−ジ
メチルアミノベンズアミドの製造:5−アミノ−2−ベ
ンゾイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−モルホ
リニル)メチル]−4−ジメチルアミノベ/ズアミド0
.6gと無水酸l!!211のピリジン51溶液を室温
で一夜放置した後、水100 mlを加え、酢酸で弱ア
ルカリ性(1))(約8)にする。水層を傾去し、残渣
の油接物質をクロロホルムで抽出し、クロロホルム層を
乾燥したのち減圧でa縮する。残渣をシリカゲルのカラ
ムクロマトグラフィーに付し、2%メタノール−クロロ
ホルムで溶出し、溶媒を留去して粉末状の目的物0.4
gを得る。マス・スペクトルm/z : 529 (M
” )実施例85 4−[N−[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチ
ル〕カルバモイル]−2,3−ジヒドロベンズイミダゾ
ール−2−オンの製造: 2−アミノ−N −[(4−ベンジル−2−モルホリニ
ル)メチル]−3−二トロペンズアミド0.9gのメタ
ノールIOm+溶液に、水冷下、塩化第一スズ1.7g
の製塩113m1溶液を滴下した後、徐々に室温にもど
し一夜撹拌する。反応液に水酸化ナトリウム水溶液を加
えてアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し、無水硫酸
マグネシウムで92 燥t ル。 溶媒を減圧で留去し、残渣を無水テトラヒドロ7う75
1に溶解し、N、N’−カルボニルジイミダゾール0.
5gを加え、室温で一夜放置する。溶媒を威圧で留去し
、残渣をクロロホルムに溶解し、シリカゲルのカラムク
ロマトグラフィーに付す。 2%クロロホルム−メタノールで溶出し、溶媒を留去し
て粉末状の目的物を得る。 マス・スペクトルm/z : 308 (M” )実施
例86 4−アミノ−N−[[4−(4−カルボキシベンジル)
−2−モルホリニル]メチル]−5−クロロ−2−メト
キシベンズアミドの製造:4−アミ/−5−クロロ−2
−メトキシ−N−(2−モルホリニルメチル)ベンズア
ミド3.8g。 4−ブロモメチル安息香酸2.7g、 ヨウ化カリウム
Igと無水炭酸カリウム18gにメチルエチルヶ) 7
80m1とジメチルホルムアミド時間加熱還流する。不
溶物を濾取し、水に溶解し、濃塩酸で酸性にすると結晶
が析出する。これを濾取し、エタノールから再結晶して
目的物の塩酸塩・1水和物2.0gを得る。融点240
〜242°C実施例87 4−アミノ−5−クロロ−N− [[− [3−(2.
3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−オン−1−イル
)プロピル]ー2ーモルホリニル]メヂル]−2−メト
キシベンズアミドの製造=4ーアミノー5ークロロ−2
−メトキシ−N−(2−モルホリニルメチル)ベンズア
ミ3.8g。 1−(3−クロロプロピル)−2.3−ジヒドロベンズ
イミダゾール−2−オン2.7g, ヨウ化カリウム
1gと無水炭酸カリウム18gにメチルエチルケトン8
01とジメチルホルムアミド 21時間加熱還流する。不溶物を濾去し、濾液を減圧′
tJ縮する。残渣にクロロホルムと水を加えて振盪し、
存機層を飽和食塩水で洗i9後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣をシリカゲル5
0gのカラムクロマトグラフィーに付す。lO%メタ/
−ルークロロホルム溶出部を集め、溶媒を減圧で留去し
て油伏の目的物を得る。 これをシュウ酸のエタノール溶液で処理してシュウ酸塩
となし、メタノールから再結晶して目的物の2シユウ酸
塩・1 /2 MeOl−1を得る。 融点191〜!95℃ 実施例88 4−アミノ−N− [ [4− [3− (4−アミノ
フェノキシ)プロビルコー2ーモルホリニル]メチル]
−5−クロロ−2−メトキシベンズアミドの製造: 4−アミノ−5−クロロ−3−メトキシ−N−[ [4
− [3− (4−二トロフェノキシ)プロピル〕ー2
ーモルホリニル]メチル]ベンズアミド・1 15 E
tO)1 1.7 gとエタノール50■1の混合物を
酸化白金0.3gを触媒として室温、常圧で水素添加す
る。計算量の水素を吸収したのち触媒を濾去し、濾液を
減圧で約101まで濃縮する。この残液にシ、つ酸のエ
タノール51溶液を加え、再び約101まで濃縮した後
ジエチルエーテルを加える。 析出する結晶を濾取し、エタノールから再結晶して目的
物のシュウ酸塩・3/2EtOH・l/2水和物0.8
gを得る。 融点212〜218℃実施例89 4−アミノ−2−(3−7ミノプロボキシ)−N−[(
4−べ/ジルー2−モルホリニル)メチル]−5−クロ
ロベンズアミドの製造:4−アミノ−N−[(4−ベン
ジル−2−モルホリニル)メチル]−5−クロI=1−
2− (3−フタルイミドプロポキシ)ベンズアミド1
.2 gのエタノール30■1溶液に、85%抱水ヒド
ラジン0.22gを加え、撹拌しながら2時間加熱還流
する。析出結晶を濾去し、濾液にクロロホルムを加え、
水。 飽和食塩水の順で洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒を減圧で留去し、得られる油吠物を酢酸エ
チルで結晶化して目的物の1水和物0.7gを得る。融
点177〜179℃実施例90 4−アミノ−N−[(4−ベンジル−2−モルホリニル
)メチル]−2−カルボキシメトキシ−5−クロロベン
ズアミドの製造: 実施例6Bにおける3−フタルイミドプロピルプロミド
の代わりに、ブロモ酢酸エチルエステルを用い、実施例
66の第1パラグラフと同様に反応・処理して油接の4
−アミノ−N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル
)メチル]−5−クロロー2−エトキシカルボニルメト
キシベンズアミドを得る。 この生成物0.7gのエタノール1511溶液に、IN
水酸化ナトリウム水溶液4.511を加え、1時間加熱
還流する。エタノールを留去し、残液を10%塩酸で中
和したのち濃縮乾固する。残渣を水−エタノール(1:
1)から再結晶して目的物の1/4水和物0.3gを
得る。融点252〜255℃特許出願人 大日本製薬
株式会社
C4アルキルチオ基であり、R4がスルファモイルりs
Rtr R3及びRlIが水素原子である、(31
R + fJ’アミノ基又はCt〜C3アルキルアミ
ノであり、R3が/10ゲン原子(特に塩素原子)又は
ニトロ基であり、Rtr Ra及びR6が水素原子で
ある、 +4J RIがアミノ基又はC1〜C3アルキルアミ
ノ基であり. Raがニトロ基.スルファモイル基又は
ジ(C1〜C2アルキル)スルフ1モイル基であり,
R2.R3及びR11が水素ロチであるか、(5)
RIがアミノ基又はCI++C3アルキルアミノ基であ
り、R3が7%ロゲン原子(特に塩素原子)又はC1〜
C3アルキルアミノ基であり、R4力≦ニトロ基であり
、R2及びRsが水素原子である、 化合物及びその生理的に許容される酸体カロ塩頬である
。 本発明の化合物は例えば以下の方法により製造すること
ができる。 方法(a)ニ 一般式(夏■) (以下余白) (式中.R2, Ra. R4及びR6は前掲に同じも
のを意味し、R1′はアシルアミノ基及び置換基として
カルボキシル基を有する低級アルフキシ基以外の前掲R
+と同じものを意味する。) で表される化合物又はその反応性誘導体と、−形成(I
n) R′ (式中、Xは前掲に同じものを意味し、R′はカルボキ
シル基をイ丁する基以外の前掲Rと同じものを意味する
。) で表される化合物とを反応させることにより、式(1)
においてRがR′で、RIがR+’である化合物を得る
ことができる。 式(II)の化合物の反応性MW体としては、例えば低
級アルキルエステル、活性エステル、酸無水物,酸ハラ
イド(特に酸クロリド)等を挙げることができる。活性
エステルの具体例としてはpニド[Iフェニルエステル
、2,4.5−トリクロロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、シアンメチルエステル、N−ヒ
ドロキシコハク酸イミドエステル、N−ヒドロキシフタ
ルイミドエステル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン
−2.3−ジカルボキシイミドエステル、N−ヒドロキ
シピペリジンエステル、8−ヒドロキシキノリ7エステ
ル、2−ヒドロキシフェニルエステル。 2−ヒドロキシ−4,5−ジクロロフェニルエステル、
2−ヒドロキシピリジンエステル、2−ピリジルチオー
ルエステル等が挙げられる。酸無水物としては、対称酸
無水物又は混合酸無水物が用いられ、混合酸無水物の具
体例としてはクロル炭酸エチル、クロル炭酸インブチル
のようなりロル炭酸アルキルエステルとの混合酸無水物
、クロル炭酸ベンジルのようなりロル炭酸アラルキルエ
ステルとの混合酸無水物、クロル炭酸フェニルのような
りロル炭酸アリールエステルとの混合酸無水物、イソ吉
草酸、ピバリン酸のようなアルカ7酸との混合酸無水物
等が挙げられる。 式(■)の化合物を用いる場合には、ジシクロへキンル
力ルポジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、N、N’−カルボ
ニルジイミダゾール、1−エトキシカルボニル−2−エ
トキシ−1,2−ジヒドロキノリンのような縮合剤の存
在下に反応させることができる。縮合剤きしてシンクロ
へキシルカルボジイミド又は1−エチル−3−(3−ジ
メチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を用いる
場合には、N−ヒドロキシコハク酸イミド、1−ヒドロ
キシベ/シトリアゾール、3−ヒドロキシ−4−オキソ
−3,4−ジヒドロ−1,2,3−ベンゾトリアジン、
N−ヒドロキシ−5−ノルボルネ/−23−ジカルボキ
シイミド等を添加して反応させてもよい。 式(II)の化合物又はその反応性MW体と式(III
)の化合物との反応は、溶媒中又は無溶媒下に行われる
。使用する溶媒は、原r[化合物の種類等に従って適宜
選択されるべきであるが、例えばべ/ゼ/、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類
、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲノ化炭化
水素類、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、
水等が挙げられ、これらの溶媒はそれぞれ単独で、ある
いは2種以上混合して用いられる。本反応は必要に応じ
て塩基の存在下に行われ、塩基の具体例としては、重炭
酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸アルカリ
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸アルカリ
あるいはトリエチルアミン。トリブチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、N−メチルモルホリンのような
有機塩基が挙げられるが、式(III)の化合物の過剰
量で兼ねることもできる。反応温度は用いる原料化合物
の1m等により異なるが、通常的−30℃ないし約20
0℃、好ましくは約−1θ℃ないし約150℃である。 なあ、式(IT)の化合物又は式(Iff)の化合物の
構造中に反応に関与する基が存在するときは、これらの
基は常法に従って保護しておき、反応後に脱離させるの
が望ましい。 方法(b)ニ 一般式(Iα) (式中、R1,R2,R3,R4,Rs及びXは前掲に
同じものを意味する。) で表される化合物と一般式(IV) Z −R’ (IV) (式中、R#はTが単結合でReがフェニル基又は置換
フェニル基である場合を除き前掲Rと同じものを意味し
、Zはアルコールの反応性エステル残基を意味する。) で表される化合物とを反応させることに上り、式(I)
においてRがR#である化合物を得ることができる。 式(IV)においてZで表されるアルコールの反応性エ
ステル残基としては、例えば塩素、臭素。 ヨウ素のようなハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ
、エフ/スルホニルオキシのような低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオ牛シ、p−トルエ
ンスルホニルオキシ、m−二トロベ/ゼ/スルホニルオ
キシのようなアリールスルホニルオキシ基等が挙げられ
る。 式(■α)の化合物と式(IV)の化合物との反応は、
通常、適当な溶媒中で行われ、溶媒の具体例としては、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケト/のようなケトン類、
テトラヒドロフラ乙ジオヤサンのようなエーテル類、エ
タノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール
類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等が挙げら
れる。これらの溶媒はそれぞれ単独で、又は2種以上を
混合して用いられる。本反応は塩基の存在下に行うのが
好ましく、塩基の具体例としては、(a)法の部分で述
べた塩基の具体例をそのまま挙げることができる。また
、式(■)においてZが塩素又は臭素である化合物を用
いるときは、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムのよう
なアルカリ金属ヨウ化物を添加すると反応は円滑に進行
する。反応温度は用いる原料化合物の種子等により異な
るが、通常的50℃ないし約200℃である。なお、式
(■α)の化合物又は式(IV)の化合物の構造中に反
応に関与する基が存在するときは、これらの基は常法に
従って保護しておき、反応後に脱離させるのが望ましい
。 方法(C)ニ 一般式(Iβ) (式中、R+ R!* R3* R4+ Rs及びXは
前掲に同じものを意味する。) で表される化合物と一般式(V) Z’−Re (V)(
式中%R9はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル2!、 il!lI素原子で中断され
たアルキル基又は置換基を作するアルキル基を意味し、
Z′はアルコールの反応性エステル残基を意味する。) で表される化合物とを反応させることにより、式(1)
においてRIがOR9である化合物を得ることができる
。 式(V)においてZ′で表されるアルコールの反応性エ
ステル残基としては、(b)法の部分で述べた具体例を
そのまま挙げることができる。 本反応は通常、塩基の存在下に適当な溶媒中で行われる
。塩基の具体例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのような炭酸アルカリ、テトラブチルアンモニウムヒ
ト「1キシド、ペンジルトリエチルアンモニウムヒドロ
キンドのような第4級水酸化アンモニウム、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金
属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ようなアルカリ金属水素化物等が挙げられる。使用する
溶媒は、原料化合物・塩基の8i類等に従って゛適宜選
択されるべきであるが、例えば塩化メチレン、アセト/
、アセトニトリル、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール、ジグリム。 ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げ
られる。式(V)において2′が塩素又は臭素である化
合物を用いるときは、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ
ムのようなアルカリ金属ヨウ化物を添加すると反応は円
滑に進行する。 本反応はまた、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよ
うな強111!基と相間移動触媒の存在下に、塩化メチ
レン−水のような相間移動触媒反応に通j7+′使用さ
れる溶媒系を用いて行うこともできる。 相間移動触媒としては、例えばテトラブチルアンモニウ
ムプロミド、セヂルトリメチルアンモニウムブロミド、
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチ
ルアンモニウムビスルフェー反応昌度は用いる原料化合
物の種類等により異なるが、通常的5℃ないし約150
℃である。なお、式(■β)の化合物又は式(V)の化
合物の構造中に反応に閃l)する基が存在するときは、
これらの基は常法に従って保護しておき、反応後に脱離
させるのが望ましい。 方法(d)ニ 一般式(Vl) (式中、R2,R3,Ra及びR5は前掲に同じものを
意味し、Rhoはアシル基からカルボニル部分を除いた
残基を意味する。) で表される化合物と、−形成(m)で表される化合物と
を反応させることにより、式(I)においてRがR′で
、RIがアシルアミノ基である化合物を得ることができ
る。 本反応は、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロト等が挙
げられる。 フラ乙 ジオキサ乙 リルのような溶媒中、 れる。 方法(e)ニ 一般式(■γ) クロロホル!い、アセトニド 約40℃ないし約90℃で行わ (式中、R,R2,R3,Ra、 Rs及びXは前掲
に同じものを意味し、Z#はハロゲン原子を意味する。 )で表される化合物と一般式(■) (式中、R7及びR8は前掲に同じものを意味する。)
で表される化合物とを反応させることにより、式化合物
を得ることができるヶ 本反応は、無溶媒下、又はエタノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドのような溶媒中、約60
°Cないし約150℃で行われる。 製法(a)、(b)、(c)。 (d)及び(C) によって得られる生成物がその晴遣中にニド0基をイf
するときは、常法に従って還元することにより、対応す
るアミン誘導体に変換することができる。(1■造中に
アミノ基又は低級アルキルアミノ基をイ「するときは、
常法に従って適当なアシル化剤と反応させることにより
、対応するアシルa 71体に変換することができる。 また、式(I)において、RIがアミノ基又はそ/置換
アミノ基で、R2がニトロJJ、である化合物は、常法
に従って還元した後、ホスゲ7.N、N’−カルボニル
シイミグゾールのような試薬と反応させることにより、
対応する2、3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−オ
ン誘導体に変換することができる。 上記各製法により生成する化合物は、クロマトグラフィ
ー、再結晶、再沈殿等の常法により単Nl +精製され
る。 (1カ造中に酸付加塩を形成しうる基を有する式(1)
の化合物は、原料化合物の選定1反応・処理条件等によ
り、遊離塩基又は酸付加塩の形で得られるa酸付加塩は
、常法、例えば炭酸アルカリ。 水酸化アルカリのような塩基で処理することにより、遊
離塩基に変えることができる。一方、遊離塩基は、常法
に従って各種の酸と処理することにより酸付加塩に導く
ことができる。 式(I)の化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類は、制吐#Iあるいは消化管機11ヒ瓦進剤七して、
急・慢性胃炎、胃・−二(h腸潰瘍、胃神経庁、胃下垂
などの疾患における食欲不振、悪心嘔吐、腹部膨満感等
の治療及び予防に、また食道・胆遵系疾患1便秘症の治
療及び予防に用いることができる。更にまた、ンスプラ
テンのような抗癌剤投与時の悪心、嘔吐の治療及び予防
にも用いることができる。その投与経路としては、経口
投与。 Jl−経口投与あるいは直腸内投与のいずれでもよい。 投与量は、化合物の種類、投与方法、患者の症吠・年令
等により異なるが、通常0.001〜20fg/kg7
日、好ましくは0.004〜5w*/kg/日である。 式(I)の化合物又はその塩は通常、製剤用担体と混合
して調製した製剤の形で投与される。製剤用担体として
は、製剤分野において常用され、かつ式(I)の化合物
又はその塩と反応しない物質が用いられる。具体的には
、例えば乳糖、ブドウ糖、マンニット、デキストリン、
シクロデキストリン、デンプ7.白糖、メクケイ酸アル
ミン酸マグネシウム。 合[戊ケイ酸アルミニウム、結晶セルU−ス、カルボキ
ンメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシプ[Iピル
デンプン、カルボキシメチルセルロースカルシウム、イ
オン交換樹脂、メチルセルロース。 ゼラチン アラビアゴム、プルラン、ヒドロキンプロピ
ルセルロース、低置換度ヒドロキンプロピルセルロース
、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピ
ロリド/、ポリビニルアルコール、軽質無水ケイ酸、ス
テアリン酸マグネシウム。 タルク、トラガント、ベントナイト、ビーガム。 カルボキシビニルポリマー、酸化チタ/、ンルビタ/脂
肪酸エステル、ラウリル硫酸ナトリウム。 グリセリン、脂肪酸グリセリンエステル、精製ラノリン
、グリセロゼラチン、ポリソルベート、マクロゴール、
植物Mh、 ロウ、プロビレ/グリコール、水等が挙げ
られる。剤型としては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散
剤、シロップ剤、懸濁剤。 注射剤、小割等が挙げられる。これらの製剤は常法に従
って調製される。なお液体製剤にあっては、用時、水又
は他の適当な媒体に溶解又は懸濁する形であってもよい
。また錠剤、顆粒剤は周知の方法でコーティングしても
よい。 これらの製剤は、式(I>の化合物又はその生理的に許
容される酸付加塩を0.5%以上、好ましくは1〜70
%の割合で含をすることができる。これらの製剤はまた
、治療上価値ある他の成分を含有していてもよい。 本発明を更に具体的に説明するために、以下に参考例及
び実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。なお、化合物の同定は元素分析値、マ
ス・スペクトル、 IRスペクトル、NMRスペクト
ル等により行った。 また、以下の参考例及び実施例において記αの簡略化の
ために次の略号を使用することもある。 Me:メチル基 :エチル基 :プロピル基 :フェニル基 :アセチル基 :エタノール :ア七ト/ ニア七ト二トリル :クロロホルム :ジオキサン :塩化メチレン :ジエチルエーテル :ヘキサン :シクロヘキサン :イソプロビルアルコール :メタノール :ジイソプロピルエーテル :トルエン 参考例I 2−アミノメチル−4−ベンジルモルホリンの製造: (J) Syn、 Commun、、 10.59〜
73 (1980)に記αの方法に従って合成した、4
−ベンジル−2−クロロメチルモルホリン80.4g
、 フタルイミドカリウム78.0g及びジメチルホ
ルムアミド700■1から成る混合物を撹拌しながら5
時間加熱還流する。反応液を氷水中に注ぎ、析出する結
晶を濾取し、水洗後インプロピルアルコールから再結晶
してN−[(4−べ/ジルー2−モルホリニル)メチル
コツタルイミド107 gを得る。 融点 136〜1
39℃(2)上記フタルイミド体67.2gにエタノー
ル+801と85%抱水ヒドラジン20.0gを加え、
撹拌しながら30分加熱a流する。析出結晶を濾去し、
d液にクロロホルムと水を加えて振盪する。有機層を飽
和食地水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧で留去して油状の目的物33.5gを得る
。この遊離塩基の一部を少量のエタノールに溶解し、フ
マル酸のエタノール溶液を加え、濃縮したのち冷却する
と目的物の3/2フマル酸塩・1/2水和物が結晶とし
て析出する。 融点166〜108℃ 参考例2 2−アミツメデル−4−フェニルモルホリンの製造: 参考例1(1)における4−ベンジル−2−クロロメチ
ルモルホリンの代わりに2−クロロメチル−4−フェニ
ルモルホリンを用い、参考(PH(Ilび(2)と同様
に反応・処理して目的物を得る。 参考例3 2−アミ/メチル−4−べ/ジルモルホリンの製i0: (+1 4−ベンジル−2−クロロメチルモルホリン1
5.0g、アジ化ナトリウム8.6g及びジメチルホル
ムアミド150■「から成る混合物を130℃で2時間
撹拌する。反応液に水を加えジエチルエーテルで抽出す
る。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧で留去して油状の2
−アジドメチル−4−ベンジルモルホリフ15gを得る
。 ■ 上記アジド体15gのトルエン401溶液を、予め
一5℃に冷却しておいた水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウムナトリウムの70%トルエン溶液6
01中に少しずつ滴下する。滴下終了後室温で1.5時
間撹拌する。反応液中に10%水酸化ナトリウム水溶液
を少しずつ加えて残余の還元剤を分解した後、有機層を
分取し水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムでQ2.燥する。溶媒を減圧で留去して浦吠の目
的物11gを得る。 参考例4 2−アセチルアミノメチル−4−べ/ジルモルホリンの
製造: N−[(4−ベンジル−2〜モルホリニル)メチル]フ
タルイミド1132 g+ 85%抱水ヒドラジン43
.3ff及びエタノール100 mlから成る混合物を
撹拌しながら20分加熱a流する。析出結晶をd・2去
し、濾液にクロロホルムと水を加えて振盪する。有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。不溶物を濾去し、濾液に無水酢酸98.3gを加え
、室温で2時間撹拌する。反応液に水酸化ナトリウム水
溶液を加えて振役後、有機層を水、次いで飽和食塩水で
洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥した有機層を減
圧で濃縮し、残渣をトルエンから再結晶して目的物10
1 gを得る。 融点110〜111℃ 参考例5 2−アセチルアミノメチルモルホリンの製造:2−アセ
チルアミツメデル−4−ベンジルモルホリン120F、
エタ/−ル1000■!及び酢酸301から成る混
合物を10%パラジウム炭素5gを触媒として加温上常
圧で水素添加する。計算量の水素を吸収した後、触媒を
濾去し、濾液を減圧で濃縮して7+11伏の目的物を得
る。 参考例6 2−アセデルアミノメチル−4−(4−メチルベ/ジル
)モルホリノの製造: 2−アセチルアミノメチルモルホリン4.0g。 4−メチルベンジルクロリド3.5g、無水炭酸カリウ
ム17.5g、 ヨウ化カリウム0.4g及びメチル
エヂルケトン4001から成る混合物を17時間加熱還
流する。不溶物をσ・!去し、濾液を減圧で濃縮する。 残渣にクロロホルムと水を加えて振盪し、有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を減圧で留去し、残渣をトルエン−ヘキサンから再結
晶して目的物5.1gを得る。 融点97〜98℃ 参考例7〜23 参考例6における4−メチルベンジルクロリドの代わり
に対応するアルキル化剤を用い、参考例6と同様に反応
・処理して表1に示す化合物を得る。 表 1 表 1 (続き) 参考例24 2−アミツメデル−4 メチルベンジル) モルホリ/の製造: 2−アセデルアミノメチル−4−(4−メチルベンジル
)そルホリン3.0gにlθ%塩ff150m+を加え
、4時間加熱還流する。反応液に水酸化ナトリウム水溶
液を加えてアルカリ性にし、クロロホルムで抽出する。 有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧で留去して油状の目的物を得る。 参考例25 2−アミノメチル−4−置換モルホリンの製造:参考例
24における2−アセチルアミツメデル−4−(4−メ
チルベンジル)モルホリノの代わりに参考例4.7.0
.14.1[+及び19〜22の生成物を用い、参考例
24と同様に反応・処理して、対応する2−アミノメチ
ル体を得る。 参考例26 2−アミノメチル−4−(4−メトキシベンジル)モル
ホリンの製造: 2−アセチルアミノメチル−4−(4−メトキシベンジ
ル)モルホリン3.3gにIθ%水ffi化すトリウム
水溶液001を加え、20時間加熱還流する。 反応液をクロロホルムで抽出し、有機層を水、次いで飽
和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。tB媒を減圧で留去して油状の目的物を得る。 参考例27 2−アミノメチル−4−置換モルホリンの製造:参考例
26における2−アセチルアミノメチル−4−(4−メ
トキシベンジル)モルホリンの代わりに、参考例8.1
0〜13.15.17.18及び23の生成物を用い、
参考例2Bと同様に反応・処理して、対応する2−アミ
ノメチル体を得る。 参考例28 2−アミノメチル−4−エトキシカルボ二ルモルホリン
の製造: (1)N−[:(4−べ/ジルー2−モルホリニル)メ
チル]フタルイミド30.0gにトルエン200■1を
加え、60℃に加温する。クロル炭酸エチル19.4g
を滴下した後、1時間加熱還流する。反応液を水、次い
で飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣をイソプロピルアル
コール−ジエチルエーテルから再結晶してN−[(4−
エトキシカルボニル−2−モルホリニル)メチル]フタ
ルイミド27.8gを得る。 融点 1貫3〜115℃ (2) 上記エトキシカルボ二ル体10.0g及び85
%抱水ヒドラジン2.9g及びエタノール10m1から
成る混合物を10分加熱還流する。析出結晶を濾去し、
濾液にクロロホルムと水を加えて振盪する。有機層を飽
和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧で、留去して油状の目的物5.8gを得る
。 参考例29 2−ベンジルアミノ−5−ニトロ安息香酸の製造: 2−クロロ−5−二トロ安息香酸5gとベンジルアミン
15 gのエタノール40m1溶液を10時間加熱還流
した後、減圧で溶媒を留去する。残渣を水1001に懸
濁し、酢酸で弱酸性(PH約4)にする。 室温で1時間撹拌し、析出結晶を濾取して目的物4.8
gを得る。 @点23B〜248℃(エタノールから再
結晶) 参考例30 2−へキシルアミノ−5−二トロ安息香酸の製造: 参考例29におけるベンジルアミンの代わりにヘキシル
アミンを用い、参考例29と同様に反応・処理して目的
物を得る。融点101〜!63℃(ジインプロピルエー
テル−ヘキサンから再結晶)参考例31 2−アセチルアミノ−4−ジメチルアミノ−5−ニトロ
安息香酸の製造: 2−アセチルアミノ−4−クロロ−5−二トロ安息香f
i11.3g、 40%ジメチルアミン水溶液4011
及びエタノール100■1から成る混合物を5時間加熱
還流した後、減圧で濃縮する。残渣に水100■1を加
え、酢酸で弱酸性(PH約4)にし、析出結晶を濾取し
て目的物8.6gを得る。 融点230〜255℃(エタノールから再結晶)参考例
32 2−アミノ−4−9メチルアミノ−5−ニトロ安息香酸
の製造: 2−アセチルアミノ−4−ジメチルアミノ−5ニトロ安
息香酸8.5g、+C1塩酸201及び水80■から成
る混合物を10(1℃で30分撹拌する。冷後、反応液
に水酸化ナトリウム5gを加え、更に10%水酸化ナト
リウム水溶液を均一溶液になるまで加える。次いで酢酸
で弱酸性(pH約4)にし、析出結晶を4取して目的物
番、8gを得る。 融点240〜250℃(メタノールから再結晶)参考例
33 2〜アミノ−4−メチルアミノ−5−ニトロ安息香酸の
製造: 2−アセチルアミノ−4−クロo−5−二トロ安息香W
IilOgと40%モノメチルアミン水溶液60−の混
合物を80℃で10時間撹拌する。反応液を減圧で15
縮し、残渣に40%モノメチルアミン水溶液1001を
加え、更に80℃で20時間撹拌する。冷後、水501
1を加え、酢酸で弱酸性(pH約4)にし、析出結晶を
4取して目的物7.6gを得る。 EA点200〜272℃(アセトニトリルから再結晶)
参考例34 2−アセチルアミ/−4−クロロ−5−ジメチルアミノ
スルホニル安息香酸の製造: (+) クロルスルホン#25gに、室温で2−アセ
チルアミノ−4−りaa安息香f@8.5gを徐々に加
え、次いで温度を150℃までゆっくりと上げ、4.5
時間加熱する。冷後、水中に反応液をゆっくりと注ぎ、
析出する結晶をめ3取し、水洗したのち乾燥して2−ア
セチルアミノ−4−クロn−5−り[10スルホニル安
息香酸4,5gを得る。 C) 上J己5−りrjOスルホニル体4.5gのテト
ラヒビ0フラン50w+lfJ液に、水冷下30%ジメ
チルアミン水溶液301を加え、同温度で1時間撹拌す
る。反応液に水100■1を加え、濃塩酸で酸性にし、
析出する結晶を濾取し、よく水洗したのち乾燥して目的
物3.9gを得る。 参考例35 2−アミノ−4−り0o−5−ジメチルアミノスルホニ
ル安息香酸の製造: 2−アセチルアミノ−4−クロロ−5−ジメチルアミノ
スルホニル安息香酸3.9gのIθ%塩ffi+001
懸濁液を4時間加熱還流する。減圧で水を留去した後、
20%炭酸カリウム水溶液でpH5にし、析出する結晶
をidI&し、水洗したのち乾燥して目的物2.8gを
得る。 参考例36 2−アミ/−5−プaモー3−ニトロ安息香酸の製造: 3−ニトロアントラニル酸5.0gのジメチルホルムア
ミド20mlTtg液にN−プロモスクシ/イミド5.
5gを加え、室温で一夜放置する。反応液を氷水中に注
ぎ、析出する結晶を濾取し、よく水洗したのち乾燥して
目的物6.5gを得る。 融点206〜213℃ 参考例37 ツージメチルアミ/−6−ニトロ−2−フェニル−4H
−3,1−ベンゾオキサジン−4−オンの製造: 2−アミ/−4−ジメチルアミノ−5−二トロ安息香#
3.Ogのピリジン301溶液に室温でべ7ゾイルクロ
リド5.1gを加えた後、80〜100 ’Cで21+
!!間撹拌する。反応液を氷水中1=注ぎ、酢酸で弱酸
性(pH約0)にし、析出する結晶を’a2取し、アセ
トニトリルから再結晶して目的物3.7gを得る。 融
点 178〜179℃ 参考例38〜46 対応する原料化合物を用い、参考例37と同様に反応・
処理して表2に示す化合物を得る。 (以下余白) 表2 4−アミノ−5−クロロ−2−メトキン−N−(2−モ
ルホリニルメチル 後記実施例2に記αの方法に従って製造した4−アミノ
−5−クロロ−N− [ (4−エトキシカルボニル−
2−モルホリニル)メチル]ー2ーメトキシペ/ズアミ
ド0.1g,水酸化カリウムlO.1g及びインプロピ
ルアルコール801から成る混合物を撹拌しながら3時
間加熱還流する.tB媒を減圧で留去し、残渣にクロロ
ホルムと水を加えて振りする。イ「機層を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減
圧で留去する。残渣をインプロピルアルコールからTI
Tm品して目的物1.4gを得る。融点101〜162
℃参考例48 4−アミノ−N− [ (4−ベンジル−2−モルホリ
ニル)メチル]ー5ークロロー2ーヒドロキシベンズア
ミドの製造: (+)2−アミノメチル−4−ベンジルモルホリフ[1
.0gの塩化メチレン601溶液に4−アミノ−5−ク
ロロ−2−メトキシ安息香1!IIO.O g 1次い
で1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カ
ルボジイミド塩酸塩e.o gを加え、室温で3時間撹
拌する。反応液を水,水酸化ナトリウム水溶液,水,飽
和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を減圧で留去し、残渣をア七トン−トルエンか
ら再Pi品して4−アミノ−N−[(4−ベンジル−2
−モルホリニル)メチル]ー5ークロロー2ーメトキシ
ベンズアミド8.6gを得る。融点148〜150℃■
60%水素化ナトリウム0.52gのジメチルホルム
アミド201懸濁液に、水冷下エラ/チオール0、81
gのジメチルホルムアミド51溶液を加え、室温で0
.5時間撹拌する。反応液に4−アミノ−N − [(
4−べ/ジルー2ーモルホリニル)メチル]ー5ークロ
ロー2ーメトキシベンズアミド3.4gを加え、100
℃で1時間撹拌する。6後、溶媒を減圧で留去する。残
渣に水を加え、クロロホルムで洗浄した後、10%塩酸
で中和する。析出物を濾取し、水洗した後イソプロピル
アルコールから再結晶して目的物の1水和物2.3gを
得る。 融点153〜155℃ 参考例49 4−アミノ−5−クロcj−2−メトキシ−N−[[:
4− [3−(4−ニトロフェノキシ)プロピル]ー2
ーモルホリニル]メチル]ベンズアミドの製造: 参考例4g(1)における2−アミノメチル−4−ベン
ジルモルホリンの代わりに、2−アミツメデル−4−
[3− (4−二トロフェノキシ)プロピル1モルホリ
ンを用い、参考例48(1)と同様に反応・処理して、
目的物・1 15 EtOllを得る。 融点149〜153℃(エタノールから再結晶)実施例
I N−[(/l−ベンジル−2−モルホリニル)メヂル]
ー6ーブロモー2.3ージメトキシベンズアミ ドの製
造: クロロホルム301に6−ブロモ−2.3−ジメトキシ
安息香ffi1.5g,塩化チオニル1.O g及びジ
メチルホルムアミド1滴を加え、撹拌しながら1時間加
熱還流する.減圧でクロロホルムを留去した後、トルエ
ン201を加え更に減圧で0縮する。 残渣をクロロホルム201に溶解し、トリエチルアミン
81を加えた後、室温で2−アミノメチル−4−ベンジ
ルモルホリフ 1ITB液を滴下する。反応液を室温で一夜撹拌した後
、水、水酸化ナトリウム水溶液、t!和食塩水の順で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧で留去して油状の目的物2.1gを得る。 マス・スペクト/L# m/z : 448 (M”
)実施例2 4−7ミノー5−クロロ−N−[(4−エトキシカルボ
二ルー2−モルホリニル)メチル]−2−メトキシベン
ズアミドの製造: 2−7ミノメチルー4−エトキシカルボニルモルホリン
5.8gの塩化メチレン100m1m液に4アミノ−5
−クロロ−2−メトキシ安息香酸5.021次いで1−
エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミド塩酸塩5.2gを加え、室温で4時間撹拌する。 反応液を水、水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を減圧で留去し、残渣をクロロホルムに溶解し、シリカ
ゲル80gを用いてカラムクロマトグラフィーを行う。 クロロホルム溶出部を捨て、10%0%メタノ−ルーフ
10ホルム部を集め、li1媒を留去して油状の目的物
7.5gを得る。 この遊離塩基をエタノールに溶解し、シュウ酸1.9g
のエタノール溶液を加えて約10m1まで0縮した後ジ
エチルエーテルを加える。析出する結晶を6取して目的
物のシュウ酸塩を得る。 融点!40〜151℃ 実施例3〜65 対応する原r4化合物を用い、実施例1及び2と同様に
反応・処理して表3〜5に示す化合物を得る。 表3 表 (続き) 表5 実施例66 4−アミノ N−[(4−ベンジル−2−モル ホリニル)メチル]−5−クロロ−2−(3−フタルイ
ミドプロポキシ)べ/ズアミドの製造:4−アミ/−N
−[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル]−5
−クロロー2−ヒドロキシベンズアミド2.0gをIN
水酸化ナトリウム水溶液20−1に溶解し、撹拌下、臭
化テトラブヂルアンモ二つム1.7gを加える。続いて
、塩化メチレン20m1.3−フタルイミドプロピルプ
ロミド1.7gを加え、室温で15時間撹拌する。反応
液を減圧で濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、水、次い
で飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する
。溶媒を減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、5%メタノール−クロロホルムで
溶出し、油接物2.2gを得る。 これをエタ/−ル201に溶解し、フマル酸0.6gを
加え、しばらく撹拌する。析出する結晶をσり取し、イ
ンプロピルアルコールから再結晶して目的物の7マル酸
塩・1/2水和物2.1gを得る。 融点139〜143℃ 実施例67 4−アミノ−N−[(4−ベンジル−2−モル:1.リ
ニル)メチルコーラ−クロロ−2−[(2−メトキシエ
トキシ)メトキシ]ベンズアミドの製造: 実施例6Gにおける3−フタルイミドプロピルプロミド
の代わりに、(2−メトキシエトキシ)メチルクロリド
を用い、実施例6Gと同様に反応・処理して目的物の2
7マル酸塩を得る。 融点153〜156°C(イソプ
ロピルアルコールから再結晶)実施例68 5− [N−(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチ
ル]カルバモイル−6−メドキシー111−べ/シトリ
アゾールの製造: 実施例2における4−アミ/−5−クロロ−2−メトキ
ン安息香酸と2−アミノメチル−4−エトキンカルボニ
ルモルホリンの代わりに、それぞれ5−カルボキシ−6
−メドキシー11−1−ベンゾトリアゾールと2−アミ
ノメチル−4−ベンジルモル;j、リンを用い、実施例
2の第1バラグラフと同様に反応・処理して目的物を得
る。融点145〜147°C(酢酸エチル−アセトンか
ら再結晶)実施例69 2−ベンゾイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−
モルホリニル)メチル]−4−ジメチルアミン−5−ニ
トロベンズアミドの製造ニ ア−ジメチルアミノ−6−ニトロ−2−フェニル−4H
−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン3.3g、2−
アミノメチル−4−ベンジルモルホリフ2.2gのテト
ラヒドロフラン601溶液を4時間加熱還流する。減圧
で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルのカラムクロマ
トグラフィーに付す。 2%メタノール−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去し
て目的物4.5gを得る。融点161〜104℃(エタ
ノールから再結晶) 実施例70〜78 対応する原料化合物を用い、実施例69と同様に反応・
処理して表6に示す化合物を得る。 表6 1) マス・スペクトルにおけるm/z (M”)(以
下同じ)実施例79 N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチルゴ
ー2−メチルアミノ−5−ジメチルアミ/スk +t、
ニルベンズアミドの製造: N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル]
−5−ジメチルアミノスルホニル−2−フルオロベンズ
アミド1.0gのエタノール101溶液に30%′メチ
ルアミンエタノール溶液11を加え、48時間加熱ig
流する。溶媒を減圧で留去し、残渣をクロロホルムに溶
解し、水洗したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧を留去し、残渣をエタ/−ルから再結晶して
目的物0.6gを得る。 融点 145〜140℃ 実施例80〜81 対応する原料化合物を用い、実施例79と同様に反応・
処理して表7に示す化合物を得る。 (以下余白) 表7 5−アミ/−2−べ/シイルアミノーN −[(4−べ
/ジルー2−モルホリニル)メチル]−4−ジメチルア
ミノベンズアミドの製造: 2−ベアシイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−
モルホリニル)メチル]−4−ジメチルアミン−5−ニ
トロベンズアミド2.4gと製塩fi15m+のメタノ
ール350 m1Fj濁液に塩化第一スズ・2水和物5
gを加え、室温でl 111間撹拌する。反応液に水2
00菖lを加え、10%水酸化ナトリウム水溶液でアル
カリ性にした後、クロロホルムで抽出する。 クロロホルム層を乾燥したのち減圧で濃縮し、残渣をシ
リカゲルのカラムクロマトグラフィーに付す、2%メタ
ノール−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去して粉末状
の目的物1.9gを得る。 マス・スペクトルm/z : 487 (M” )実施
例83 5−ベンゾイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−
モルホリニル)メチル]−2−ジメチルアミノベンズア
ミドの製造: N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル】
−2−ジメチルアミノ−5−ニトロベンズアミド1.1
gとメタノール1001の混合物を5%パラジウム炭素
100■を触媒として室m、’rt圧で水素添加する。 計算量の水素を吸収したのち触媒を〜去し、濾液を減圧
で濃縮する。残渣をクロロホルム2011に溶解し、ベ
ンゾイルクロリド0.5gを加えて室温で1時間撹拌す
る。反応液を希水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥
したのち減圧で濃縮する。残渣をシリカゲルのカラムク
ロマトグラフィーに付し、2%メタノール−クロロホル
ムで溶出し、溶媒を留去して粉末状の目的物0.8gを
得る。 マス・スペクトルm/z : 472 (M”
)実施例84 5−アセチルアミノ−2−ベンゾイルアミノ−N −[
(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチル−コイ−ジ
メチルアミノベンズアミドの製造:5−アミノ−2−ベ
ンゾイルアミノ−N −[(4−ベンジル−2−モルホ
リニル)メチル]−4−ジメチルアミノベ/ズアミド0
.6gと無水酸l!!211のピリジン51溶液を室温
で一夜放置した後、水100 mlを加え、酢酸で弱ア
ルカリ性(1))(約8)にする。水層を傾去し、残渣
の油接物質をクロロホルムで抽出し、クロロホルム層を
乾燥したのち減圧でa縮する。残渣をシリカゲルのカラ
ムクロマトグラフィーに付し、2%メタノール−クロロ
ホルムで溶出し、溶媒を留去して粉末状の目的物0.4
gを得る。マス・スペクトルm/z : 529 (M
” )実施例85 4−[N−[(4−ベンジル−2−モルホリニル)メチ
ル〕カルバモイル]−2,3−ジヒドロベンズイミダゾ
ール−2−オンの製造: 2−アミノ−N −[(4−ベンジル−2−モルホリニ
ル)メチル]−3−二トロペンズアミド0.9gのメタ
ノールIOm+溶液に、水冷下、塩化第一スズ1.7g
の製塩113m1溶液を滴下した後、徐々に室温にもど
し一夜撹拌する。反応液に水酸化ナトリウム水溶液を加
えてアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し、無水硫酸
マグネシウムで92 燥t ル。 溶媒を減圧で留去し、残渣を無水テトラヒドロ7う75
1に溶解し、N、N’−カルボニルジイミダゾール0.
5gを加え、室温で一夜放置する。溶媒を威圧で留去し
、残渣をクロロホルムに溶解し、シリカゲルのカラムク
ロマトグラフィーに付す。 2%クロロホルム−メタノールで溶出し、溶媒を留去し
て粉末状の目的物を得る。 マス・スペクトルm/z : 308 (M” )実施
例86 4−アミノ−N−[[4−(4−カルボキシベンジル)
−2−モルホリニル]メチル]−5−クロロ−2−メト
キシベンズアミドの製造:4−アミ/−5−クロロ−2
−メトキシ−N−(2−モルホリニルメチル)ベンズア
ミド3.8g。 4−ブロモメチル安息香酸2.7g、 ヨウ化カリウム
Igと無水炭酸カリウム18gにメチルエチルヶ) 7
80m1とジメチルホルムアミド時間加熱還流する。不
溶物を濾取し、水に溶解し、濃塩酸で酸性にすると結晶
が析出する。これを濾取し、エタノールから再結晶して
目的物の塩酸塩・1水和物2.0gを得る。融点240
〜242°C実施例87 4−アミノ−5−クロロ−N− [[− [3−(2.
3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−オン−1−イル
)プロピル]ー2ーモルホリニル]メヂル]−2−メト
キシベンズアミドの製造=4ーアミノー5ークロロ−2
−メトキシ−N−(2−モルホリニルメチル)ベンズア
ミ3.8g。 1−(3−クロロプロピル)−2.3−ジヒドロベンズ
イミダゾール−2−オン2.7g, ヨウ化カリウム
1gと無水炭酸カリウム18gにメチルエチルケトン8
01とジメチルホルムアミド 21時間加熱還流する。不溶物を濾去し、濾液を減圧′
tJ縮する。残渣にクロロホルムと水を加えて振盪し、
存機層を飽和食塩水で洗i9後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣をシリカゲル5
0gのカラムクロマトグラフィーに付す。lO%メタ/
−ルークロロホルム溶出部を集め、溶媒を減圧で留去し
て油伏の目的物を得る。 これをシュウ酸のエタノール溶液で処理してシュウ酸塩
となし、メタノールから再結晶して目的物の2シユウ酸
塩・1 /2 MeOl−1を得る。 融点191〜!95℃ 実施例88 4−アミノ−N− [ [4− [3− (4−アミノ
フェノキシ)プロビルコー2ーモルホリニル]メチル]
−5−クロロ−2−メトキシベンズアミドの製造: 4−アミノ−5−クロロ−3−メトキシ−N−[ [4
− [3− (4−二トロフェノキシ)プロピル〕ー2
ーモルホリニル]メチル]ベンズアミド・1 15 E
tO)1 1.7 gとエタノール50■1の混合物を
酸化白金0.3gを触媒として室温、常圧で水素添加す
る。計算量の水素を吸収したのち触媒を濾去し、濾液を
減圧で約101まで濃縮する。この残液にシ、つ酸のエ
タノール51溶液を加え、再び約101まで濃縮した後
ジエチルエーテルを加える。 析出する結晶を濾取し、エタノールから再結晶して目的
物のシュウ酸塩・3/2EtOH・l/2水和物0.8
gを得る。 融点212〜218℃実施例89 4−アミノ−2−(3−7ミノプロボキシ)−N−[(
4−べ/ジルー2−モルホリニル)メチル]−5−クロ
ロベンズアミドの製造:4−アミノ−N−[(4−ベン
ジル−2−モルホリニル)メチル]−5−クロI=1−
2− (3−フタルイミドプロポキシ)ベンズアミド1
.2 gのエタノール30■1溶液に、85%抱水ヒド
ラジン0.22gを加え、撹拌しながら2時間加熱還流
する。析出結晶を濾去し、濾液にクロロホルムを加え、
水。 飽和食塩水の順で洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒を減圧で留去し、得られる油吠物を酢酸エ
チルで結晶化して目的物の1水和物0.7gを得る。融
点177〜179℃実施例90 4−アミノ−N−[(4−ベンジル−2−モルホリニル
)メチル]−2−カルボキシメトキシ−5−クロロベン
ズアミドの製造: 実施例6Bにおける3−フタルイミドプロピルプロミド
の代わりに、ブロモ酢酸エチルエステルを用い、実施例
66の第1パラグラフと同様に反応・処理して油接の4
−アミノ−N −[(4−ベンジル−2−モルホリニル
)メチル]−5−クロロー2−エトキシカルボニルメト
キシベンズアミドを得る。 この生成物0.7gのエタノール1511溶液に、IN
水酸化ナトリウム水溶液4.511を加え、1時間加熱
還流する。エタノールを留去し、残液を10%塩酸で中
和したのち濃縮乾固する。残渣を水−エタノール(1:
1)から再結晶して目的物の1/4水和物0.3gを
得る。融点252〜255℃特許出願人 大日本製薬
株式会社
Claims (6)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Rは低級アルコキシカルボニル基、シクロアル
キル基、置換基を有する低級ア ルキル基(該置換基はジ低級アルキルアミ ノ基、シクロアルキル基、シクロアルケニ ル基、フリル基、チエニル基又はベンズイ ソオキサゾリル基である)、低級アルケニ ル基、低級アルキニル基、フェニル(低級)アルケニル
基、▲数式、化学式、表等があります▼(Vは低級ア ルキレン基を意味する)で示される基又は −T−(W)_p−R_6(R_6、T、W及びpは後
記定義の通りである)で示される基を意味し、R_1は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルコキ
シ基、酸素原子で中断さ れた低級アルコキシ基、置換基を有する低 級アルコキシ基(該置換基はカルボキシル 基、アミノ基又はフタルイミド基である)、低級アルキ
ルチオ基、ニトロ基、アミノ基、▲数式、化学式、表等
があります▼(R_7は水素原子又は低級アルキル基を
意味し、R_8は低級アルキル基、シクロアルキル基、
フェニル(低級)アルキル基を 意味する)で示される基又はアシルアミノ 基を意味し、 R_2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又
はニトロ基を意味するか、 あるいはR_1とR_2が一緒になってウレイレン基を
形成してもよく、 R_3は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、
アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルカノイ ルアミノ基又はニトロ基を意味し、 R_4は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、
ニトロ基、アミノ基、ジ低級アル キルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、スルファモ
イル基又はジ低級アルキルスル ファモイル基を意味するか、 あるいはR_3とR_4が一緒になって−NH−N=N
−で示される基を形成してもよく、 R_5は水素原子、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基
を意味するか、 あるいはR_1、R_2、R_3、R_4及びR_5の
うち隣接するいずれか2個が一緒になって低級ア ルキレンジオキシ基を形成してもよく、 R_6はフェニル基、置換フェニル基(置換基はハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級ア ルコキシ基、カルボキシル基及びアミノ基 から選ばれる1〜3個の原子又は基である)又はジフェ
ニルメチル基を意味し、 Xは低級アルキレン基を意味し、 Tは単結合又は低級アルキレン基を意味し、Wは酸素原
子又はイミノ基を意味し、 pは0又は1を意味する。 但し、(i)R_1、R_2、R_3、R_4及びR_
5のうち少なくとも2個は水素原子以外の原子又は 基を意味し、(ii)Tが単結合のとき、pは0を意味
し、(iii)R_1がヒドロキシ基又は低級アルコキ
シ基であり、R_3がアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基又は低級アルカノ イルアミノ基であり、R_4がハロゲン原子であり、R
_2及びR_5が水素原子のとき、Rは−T′−(W′
)_p−R_6′(Pは前掲に同じものを意味し、R_
6′はフェニル基又はハロゲノフェニル基を意味し、T
′は低級アルキレン基を意味し、W′は酸素原子を意味
する)で示される基以外の基を意味する。] で表される化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類。 - (2)Rがベンジル基であり、R_1、R_2、R_3
、R_4及びR_5のうち隣接するいずれか2個が一緒
になってC_1〜C_3アルキレンジオキシ基を形成し
、残りの3個が水素原子であり、Xがメチレン基である
特許請求の範囲第1項記載の化合物及びその生理的に許
容される酸付加塩類。 - (3)Rがベンジル基であり、R_1がC_1〜C_4
アルコキシ基又はC_1〜C_4アルキルチオ基であり
、R_4がスルファモイル基であり、R_2、R_3及
びR_5が水素原子であり、Xがメチレン基である特許
請求の範囲第1項記載の化合物及びその生理的に許容さ
れる酸付加塩類。 - (4)Rがベンジル基であり、R_1がアミノ基又はC
_1〜C_3アルキルアミノ基であり、R_3が塩素原
子又はニトロ基であり、R_2、R_4及びR_5が水
素原子であり、Xがメチレン基である特許請求の範囲第
1項記載の化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類。 - (5)Rがベンジル基であり、R_1がアミノ基又はC
_1〜C_3アルキルアミノ基であり、R_4がニトロ
基、スルファモイル基又はジ(C_1〜C_2アルキル
)スルファモイル基であり、R_2、R_3及びR_5
が水素原子であり、Xがメチレン基である特許請求の範
囲第1項記載の化合物及びその生理的に許容される酸付
加塩類。 - (6)Rがベンジル基であり、R_1がアミノ基又はC
_1〜C_3アルキルアミノ基であり、R_3が塩素原
子又はC_1〜C_3アルキルアミノ基であり、R_4
がニトロ基であり、R_2及びR_5が水素原子であり
、Xがメチレン基である特許請求の範囲第1項記載の化
合物及びその生理的に許容される酸付加塩類。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10155286 | 1986-04-30 | ||
| JP61-101552 | 1986-04-30 | ||
| JP61-315090 | 1986-12-31 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62108529A Division JPS63264467A (ja) | 1986-04-30 | 1987-04-30 | ベンズアミド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0242069A true JPH0242069A (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=14303590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12824289A Pending JPH0242069A (ja) | 1986-04-30 | 1989-05-22 | ベンズアミド類 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0242069A (ja) |
| DD (1) | DD256325A5 (ja) |
| MX (1) | MX6263A (ja) |
| ZA (1) | ZA873022B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997011054A1 (fr) * | 1995-09-22 | 1997-03-27 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | Composes d'acide benzoique et leur emploi medical |
| JP2011063586A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-31 | Dainippon Sumitomo Pharma Co Ltd | アミド誘導体からなる医薬 |
-
1987
- 1987-04-28 ZA ZA873022A patent/ZA873022B/xx unknown
- 1987-04-28 MX MX626387A patent/MX6263A/es unknown
- 1987-04-29 DD DD30225687A patent/DD256325A5/de not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-05-22 JP JP12824289A patent/JPH0242069A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997011054A1 (fr) * | 1995-09-22 | 1997-03-27 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | Composes d'acide benzoique et leur emploi medical |
| JP2011063586A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-31 | Dainippon Sumitomo Pharma Co Ltd | アミド誘導体からなる医薬 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DD256325A5 (de) | 1988-05-04 |
| ZA873022B (en) | 1987-10-20 |
| MX6263A (es) | 1993-11-01 |
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