JPS63264467A - ベンズアミド誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は、消化’ｉ　ｆｉ　１＃、亢進作用を有する新
規で有用なベンズアミド誘導体に関する。 従来の技術 特開昭５３−９０２７４号明細書には、ある種のＮ−［
（４−低級アルキル−２（又は３）−モルホリニル）メ
チル］−置換ペンズアミド誘導体がレセルピン拮抗作用
、鎮痛作用等を任し、例えば抗うつ剤、鎮痛剤等として
有用である、と開示されている。 一方、４−アミ／−５−クロ自−Ｎ　−［（２−ジエチ
ルアミノ）エチル］−２−メトキシベンズアミド［−役
名　メトクロプラミド；例えばＭａｒｃｋｌｙｌｄＧＸ
、第１θ版、　００１９　（＋９８３）参照］が１９６
０年代の半ばに制吐剤あるいは消化管機能亢進剤として
開発されて以来、種々の置換ベンズアミド誘導体が合成
され、その薬理学的性質が研究されてきた。 しかしながら、消化管機能亢進剤としてメトクロプラミ
ドをａｍする置換ベンズアミド誘導体に到達したとは言
い難いのが実状である。 本発明の目的 本発明者らは、優れた消化管機能亢進作用を有する置換
ぺ／ズアミド誘導体を見いだすべ（研究を続けてきたが
、アミド部分の窒素原子とモルホリン又はヘキサヒドロ
−１，４−オキサ４６７部分の２位の炭素原子がアルキ
レン基を介して結合する置換ベンズアミド誘導体がその
要件を溝たすこと、更にその中のいくつかがメトクロプ
ラミドよりも強い消化管機能亢進作用ををするにもかか
わらず、中枢神経系に対する副作用はメトクロプラミド
よりもはるかに弱いことを見いだし、更に研究を続けた
結果、本発明を完成した。 発明の構成及び効果 本発明によれば、一般式（Ｉ）

【式中、Ｒは水素原子、低級アルプキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキル基、シ
クロアルケニル基、置換基をイ「する低級アルキル基（
該置換基はハロゲン原子。 ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アシルオキシ基、ク
アノ基、ジ置換アミ７基、シクロアルキル基、シクロア
ルケニル基、飽和複素環ＪＩＣ又は非置換もしくは置換
ヘテロアリール基である）。 低級アルケニル基、低級アルキニル基、非置換もしくは
置換アリール（低級）アルケニルＪλ。 を意味し、■は低級アルキレフ基を意味し、右は水素原
子、ハロゲ／原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ
基を意味し、Ｙ２は水素原子又は低級アルキル基を０味
する）で示される基又は−Ｔ−（Ｗ）　ｐ−Ｒｓ　（Ｒ
ａ、　Ｔ　、　Ｗ及びｐは後記定義の通りである）で示
される基を意味し、Ｒ＋は水索酪子、ハロゲンＢ１子、
ヒドロキシ基。 メルカプト基、アルコキシ基、シクロアルキ・ルオキシ
１＆　、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基．酸
素ｈス子もしくはカルボニル基で中断されたアルコキシ
基．置換基をイｆするアルコキシ基（該置換基は／Ｓロ
ゲン原子，ヒドロキシ基，アシルオキシ基，ニトロ基，
シアノ基，カルボキシ基，低級アルコキシカルボニルＪ
＆．アミンＬ＆。 モノ置換アミ７基，ジ置換アミノ基，フタルイミドノ，
ｔ．シクロアルキル基，シクロアルケニルＪ＆，飽和複
素環基，非置換もしく（よ置換１１ノール基，非置換も
しくは置換へテロアリール基。 非置換もしくは置換フェノキシ基又は非置換もしくは置
換ベンゾイル基である）、アシルオキシＪ．ｃ，低級ア
ルキルチオ基，低級アルキルスルフィニル！．　低４１
）アルキルスルホニル基，ニド級アルキル！．　低級ア
ルケニル基，シクロアルキルＪ又はアラルキル基を意味
し、Ｒ＋ｏは低級アルキル基，低級アルケニル基，シク
ロアル牛ルＪＬ７エ二ル基又はアラルキル基を意味する
）で示される基又はアシルアミ／基を意味し、Ｒ２は水
素原子，ハロゲン原子，低級アルキル基。 低級アルコキシ基又はニトロ基を意味するか、あるいは
Ｒ＋とＲ２が一緒になって一ＮＲｏーＣＯーＮｌｌ−（
Ｒｏは前掲に同じものを意味する）で示されるＪ．ｃ又
バー０−Ｃｌ（Ｒｏ−ＣＨＲ＋ｔ−　（　Ｒｕ及びＲ１
２は同−又は異なって水索口子又は低級アルキル基を意
味する）で示される基を形成してもよく、Ｒ３は水素原
子，ハロゲン原子，低級アルコ↑・シじものを意味する
）で示される基、アシルアミ／ＩＡ、カルボキシ基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニルア
ミ７基又はニトロμを意味し、 Ｒ４は水素原子、へロゲ：／ｒｔ子、トリプルオロメチ
ル基、ヒドロキシ基、低級アルキレ基、二びＲｈｏは前
掲に同じものを意味する）で示される基、アシルアミツ
基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低
級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイ
ル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル
基。 低級アルキルスルホニル基、スルファモイル基。 低級アルキルスルフ１モイル基又はジ低級アルキルスル
ファモイル基を意味するか、 あるいはＲ３とＲ４が一緒になって−Ｎ　Ｒｅ　−Ｎ　
＝　Ｎ　−（Ｒ１１は前掲に同じものを意味する）で示
される基又は−Ｎ”Ｎ−ＮＲ５−（Ｒ９は前掲に同じも
のを意味する）で示される基を形成してもよく、Ｒ５は
水素ＩＩス子、ハｑゲンΩ子、ヒドロキシ基又は低級ア
ルコキシ基を意味するか、 あるいはＲ１１Ｒ２，Ｒ３，Ｒａ及びＲ５のうち隣接す
るいずれか２個が一緒になって低級アル−トレンジオキ
シ基を形成してもよ（、 Ｒｏは水Ｅ−ｃ子、低級アルキル基、低級アルケニル基
又はアラルキル基を意味し） Ｒｔは同−又は異な、て水素原子、低級アルキル基又は
フェニル基を意味し、 Ｒｓは非置換もしくは置換アリール基又は非置換もしく
は置換ジフェニルメチル基を意味し、Ｘは低級アルキレ
フ基を意味し、 Ｔは！ｎ結合又は低級アルキレン基を食味し、Ｗは−０
−、−３−、−Ｃｏ−（ケタール化された形であっても
よい）　、　　−ＮＲ＋ｓ−（Ｒ１３は水素原子又は低
級アルキル基を意味する）、　　−ＣＩ（（ＯＲ＋３）
　−（Ｒ１３は前掲に同じものを意味する）、−３ｏ−
、−＄０２−。 −ＣＯＮＩＩ−又Ｌｔ−ＮＨＣＯ−をを味し、ｍは１〜
３の整数を意味し、 ｎは１又は２を意味し、 ｐは０又は１を意味する。 但し、（ｉ）　Ｒ，、Ｒｇ、　　Ｒｓ、　　Ｒａ及びＲ
６のうち少なくとも２個は水素原子以外の原子又は基を
意味し、（目）Ｔが単結合のとき、ｐはＯを意味する。 ］で表される化合物並びにその酸付加塩類、第４級アン
モニウム塩類及びＮ−オキシド誘導体が提供される。 式（Ｉ）で表される化合物の酸付加塩類とは、構造中に
酸付加塩を形成し得る基を有する式（１）の化合物の酸
付加塩を意味する。これら塩類の中では生理的に許容さ
れる塩類が好ましく、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨ
ウ化水素酸塩、硫酸塩。 リン酸塩等の無機酸塩、及びシュウ酸塩、マレイン酸塩
、フマル酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、クエ／Ｗａ塩、酒
石酸塩、安息香酸塩、メタンスルホン酸塩等の作ａ酸塩
が挙げられる。式（Ｉ）の化合物の第４級アンモニウム
塩類とは、式（Ｉ）においてＲが水素原子、低級アルコ
キシカルボニル基及びアラルキルオキシカルボニル基以
外の基である化合物の第４級ア／そニウム塩を意味する
。具体的にはメチルジーシト、メチルプロミド、エチル
ヨーシト、エヂルブロミドのような低級アルキルハロゲ
ニド、メチル　メタンスルホネート、エチル　メタンス
ルホネートのような低級アルキル低級アルキルスルホネ
ート、メチル　ｐ−）ルエンスルホネートのような低級
アルキル　アリールスル、１、ネート等との第４級アン
モニウム塩が挙げられる。式（１）の化合物のＮ−オキ
シド誘導体とは、式（１）においてＲが水素原子、低級
アル：ｌキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニ
ル基及び容易に酸化され得る基以外の基であり、かっＲ
ｔ、　　Ｒａ及びＲ４が容易に酸化され得る基以外の基
である化合物のＮ−オキシド誘導体を意味する。式（１
）の化合物、その酸付加塩、第４級アンモニウム塩及び
Ｎ−オキシド誘導体は水和物又は溶媒和物の形で存在す
ることもあるので、これらの水和物及び溶媒和物もまた
本発明の化合物に包含される。 式（Ｉ）の化合物は、少なくとも１個の不斉炭素原子を
イ「するので、数種の立体異性体が存在し得る。これら
の立体異性体、それらの混合物及びラセミ休は本発明の
化合物に包含される。 本明細書における用語を以下に説明する。 「低級」とは、特にことわらない限り、１〜６個の炭素
原子を意味する。低級アルキル基、低級アルキル部分、
アルキル部分、低級アルキレン基又は低級アルキレン部
分は、直鎖伏でも分伎鎖伏でもよい。「低級アルコキシ
カルボニル基」の具体例としては、メトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル等が挙げ
られる。 ［アラルキルオキシカルボニル基」の具体例としては、
ベンジルオキシカルボニル等が挙げられる。 「シクロアルキル基」とは、炭素原子数３〜１２のもの
を意味し、例えばシクロプロピル、シフ１ブチル、シク
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオ
クチル、アダマンチル、ノルボルニル、デカヒドロナフ
チル等が挙げられる。 「シクロアルケニル基」とは、二重結合を１〜２個イｆ
する、炭素原子数５〜＋２のものを意味し、例、ｔ　１
１’シクロペンテニル、シクロへキセニル等が挙げられ
る。「低級アルキル基−」の具体例としては、メチル、
エヂル、プロピル、インプロピル、ブチル、イソブチル
、べブチル、ヘキシル等が挙げられる。「置換基を有す
る低級アルキル基」とは、任ａの位置に前掲の置換基の
１〜２個を佇するものを意味する。「ハロゲン原子」と
は、フッ素。 塩素、臭素、ヨウ素を意味する。「低級アルコキシ基λ
」、「低級アルキルチオ基」、「低級アルギルスルフィ
ニル基」又は「低級アルキルスルホニルＪλ」の具体例
としては、低級アルキル部分がメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル。 イソブチルであるもの等が挙げられる。「モノ置換アミ
７基」の具体例としては、メチルアミン基。 エチルアミノ基、プロピルアミン基等が挙げられる。「
ジ置換アミノ基」とは、ジ低級アルキルアミ７基又は環
状アミ７基を意味し、例えばジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、メチルエチルアミノ。 メチルプロピルアミノ、モルホリノ、１−ピロリジニル
、ピペリジノ、４−メチル−１−ピペラジニル等が挙げ
られる。「飽和複索環基」とは、酸素原子又はイオウ原
子を１〜２個含む環状エーテル又は環状チオエーテルか
ら由来する基を意味し、例えばテトラヒドロフリル、テ
トラヒドロチェニル、テトラヒドロピラニル、１，３−
もしくは１．４−ジオキサシクロヘキシル等が挙げられ
る。「ヘテロアリール基」とは、窒素原子、酸素原子又
はイ（つ原子を少なくとも１個含む単環性又は二環性の
ものを意味し、例えばフリル、チェニル、オキサシリル
、インオキサシリル、ピリジル、ピリミジニル、インド
リル、ベンズイソオキサシリル。 ベンズイソデアゾリル、キ／リル、インキノリル等が挙
げられる。「置換へテロアリール基」とは、ハロゲン原
子、低級アルキル基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ
基から選ばれる１〜２個の置換基をイ「するヘテロアリ
ール基を意味する。「低級アルケニル基」とは、１−２
位間以外の位置に二重結合を１〜２個任する、炭′Ａ原
子数３〜６のものを意味し、例えばアリル、２−ブテニ
ル、３−メチル−２−ブテニル、３−もしくは４−ぺブ
チニル、２−．３−．４−もしくは５−へキセニル等が
挙げられる。「低級アルキニル基」とは、ｌ−２位間以
外の位置に三重結合を１個有する、炭素原子数３〜６の
ものを意味し、例えば２−プロピニル、３−ブチニル、
５−へキシニル等が挙げられる。「アリール基」の具体
例としては、フェニル、ナフチル等が挙げられる。「置
換アリールＪＪ、Ｊトハ、ハロゲン原子、低級アルキル
基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシ基、低級アルコ
キシ斌、ニトロ基、シアン基、カルボキシ基、低級アル
コキシカルボニル基、カルバモイルｊＡ、　［１）アル
キルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバそイル基、
アミ７基、低級アルキルアミ７基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、スルファモイル基、低級アル↑・ルスルフ７そイ
ル基、ジ低級アルキルスルソ７モイル基及び低級アルキ
ルカルボニル基から選ばれる１〜５個の基で置換されて
いるアリール基を意味する。「非置換もしくは置換アリ
ール（低級）アルケニル基」の具体例としてはシンナミ
ル。 ４−フルオロシンナミル等が挙げられる。「アルコキシ
基」とは、炭素原子数１〜１２のものを意味し、例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブ
トキシ、インブトキシ、　５ｅｃ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、イソペンチルオキシ。 ヘキシルオキシ、イソへキシルオキシ、ヘプヂルオキシ
、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、つブ
テニルオキシ、ドデシルオキシ等が挙ケラれる。「アル
ケニルオキシ基」とは、酸素原子に隣接する炭素原子以
外の位置に二重結合を１〜２個ＴＴする、炭素原子数３
〜ＩＯのものを意味し、例えばアリルオキシ、２−ブテ
ニルオキシ。 ３−ブテニルオキシ、３−メチル−２−ブテニルオキシ
、３−もしくは４−ペンテニルオキシ、４−もしくは５
−へキシニルオキシ、６−へブテニルオキシ等が挙げら
れる。「アルキニルオキシＪＪ、」とは、酸素原子に隣
接する炭素原子以外の位置に三重結合を１個イ丁する、
炭素原子数３〜ＩＯのものを意味し、例えば２−プロピ
ニルオキシ、３−ブチニルオキシ、５−へキシニルオキ
シ等が挙げられる。「酸素原子もしくはカルボニル基で
中１１ｉされたアルコキシ基」とは、アルキル部分の任
意の位置が１〜２個の酸素原子もしくはカルボニル基で
中断されているアルコキシ基（好ましくは、アルキル部
分の炭素原子数が２〜６のもの）を意味し、例えば２−
メトキシエトキシ基、（２−メト＝ｔ・ジェトキシ）メ
トキシ基、２．２−ジメトキシェトキ７基、２−オキン
プロボキシ、３−オキンブトトシ等が挙げられる。［２
２換基を「するアルコキシ基」とは、任意の位置に前掲
の置換基の１〜２個を有するアルコキシ基（好ましくは
、炭素原子数１〜６のもの）を費味するが、置換基がヒ
ト「１キシ基、アシルオキシ基、アミ７基、モノ置換ア
ミ／試又はジ置換アミノ基であるとき、これらのＪＪ、
は１位以外の炭素原子に結合している。具体例としては
、２−クロロエトキシ、２−ヒドロキシプ０ボキシ、３
−ヒドロキシプロポキシ、２−アセトキシプロポキシ、
シアノメトキシ、カルボキシメトキシ、エトキシカルボ
ニルメトキシ、３−アミ／プロポキシ、２−ジメチルア
ミ／エトキシ、３−フタルイミドプロポキシ、シクロプ
ロピルメトキシ、シクロへキシルメトセ、シ、３−シク
ロへキセニルメトキシ、ベンジルオキシ、２−７エニル
エトキシ、３−フェニルプロポキシ、２−フェノキシエ
トキシ、３−フェノキシプロポキシ。 ２−（４−クロロフェノキシ）エトキシ、３−（４−ク
ロロフェノキシ）プロポキシ、５−（４−フルオロフェ
ノキシ）ペンチルオキシ、ベンゾイルメトキシ、３−（
４−フルオロベンゾイル）プロポキシ等が挙げられる。 「アラルキル基」の具体例としては、ベンジル、フェネ
チル、ナフチルメチル等が挙げられる。「アシル基」と
は、非置換もしくは置換飽和脂肪族カルボ７酸残基、非
置換もしくは置換不飽和脂肪族カルボン酸残基又は非置
換もしくは置換芳香族カルボン酸残基を意味し、例えば
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、インブ
チリル、２−メチル−２−７エノキシアセヂル、アクリ
ロイル、メタクリロイル、シ／す゛モイル、べ／ゾイル
、クロロベンゾイル、メチルベンゾイル、メトキシベン
ゾイル、ニトロベンゾイル等が挙げられる。［置換ジフ
ェニルメチル基」とは、フェニル部分が１〜３個のハロ
ゲン涼了、低級アルキル基、トリフルオロメチル基。 シアノ基又はニドｒ１基で置換されているジフェニルメ
チル基を意味する。「低級アルキレフ基」の具体例とし
ては、メチレン、エチレン、メチルメチレン、トリメチ
レン、プロピレンｌ　ジメチルメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘギサメチレ７等が挙げられる。 「容易に酸化され得る基」とは、通常のＮ−オキシド化
条件下に酸化される基を意味し、例えばジ置換アミノ（
低級）アルキル基、チェニル（低級）アルキル基、ピリ
ジル（低級）アルキル基、　　−Ｔ’　−Ｗ’　−Ｒｓ
　（Ｒｇ　Ｌｔ　ｎｉ＋掲に同じものを意味し、Ｔ′は
低級アルキレフ）Ｊ、を意味し、Ｗ′は−８−又は−Ｓ
Ｏ−を意味する）、低級アル−トルチオ基等が挙げられ
る。 本発明の化合物のうちで好適なものは、式（１）におい
てＲがピリジルメチル基。 を、意味し、Ｗ＃は−Ｏ−，−Ｓ−又は−ＣＯ−を意味
し、１籟は水素原子、フッ素原子、塩素原子、トリフル
オロメチル基、シア／１に、又はニトロ基を意味し、ｑ
は１〜４の整数を意味する）、ペンタフルオロベンジル
基、２−ニトロ−４−クロロベンジル基。 ！−フェニルエチル基又はナフチルメチル基（ナフチル
部分がフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、
シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい）であり
、Ｒ６が水素原子であり、Ｒフが水素原子又はメチル基
であり、Ｘはエチレン基又はエチレン基であり、ｍが１
であり、ｎが１又は２であり、 （１）　Ｒ１がヒドロキシ基＊　　Ｃ＋−Ｃ＋ａアルコ
キシ基。 Ｃ５〜Ｃｏシクロアルキルオキシ基、　　Ｃ３〜Ｃ５ア
ルケニルオキシ基、　　Ｃ３〜Ｃｓアルキニルオキシ基
、カルボニル基で中断された０２〜Ｃ４アルコキシ基、
１位以外の炭素Ｋｉ子がヒト「１午シ基で置換されたＣ
２〜Ｃ５アルコキシ基又は置換基をイ「するＣＩ〜Ｃ５
アルコキシ基（接置ｆｆ１Ｊ又はハロゲン原子、シアノ
Ｊλ、　Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニル基＋　Ｃ３〜
Ｃ５シクロアルキル基、ハロゲン原子で置換されていて
もよいフェニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよ
いフェノキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよ
いべ／ジイル基である）であり、Ｒ３がアミ７ノ＆又は
ジ（Ｃ＋〜Ｃ２アルキル）アミ７基又はＣ２〜Ｃ６アル
カノイルアミノ基であり、Ｒ４がハロゲン原子（特に塩
素原子）であり、Ｒ２及びＲＩ＋が水素に【子である、
■　Ｒ＋、　　Ｒ２，Ｒ３，Ｒａ及びＲ５のうち隣接す
るいずれか２個が一緒になってＣＩＡ−Ｃ３アルキレ／
ジオキシＵを形成し、残りの３個が水？（ｉ　Ｋ！子で
ある、 （３１Ｒ＋がＣ１〜Ｃ４アルコキシ基又はＣ＋〜Ｃ４ア
ルキルチオ基であり、Ｒ４がスルフ１モイル基であり、
Ｒ２１Ｒ３及びＲ５が水素原子である、＋４Ｊ　　Ｒ＋
がアミ７基又はＣＩ〜Ｃ３アルキルアミ７基であり、Ｒ
３がハロゲン原子（特に塩素原子）又はニトロ基であり
、Ｒ２，Ｒａ及びＲ６が水素ＬＪ子である、 （５１Ｒ＋がアミ７基又はＣＩ〜Ｃ３アルキルアミノ基
であり、Ｒａがニトロ基、スルフ１モイル基。 ＣＩ〜Ｃ２アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ＋〜Ｃ
２アルキル）スルファモイル基であり、Ｒｊ！、　　Ｒ
３及びＲ６が水素原子であるか、（６１Ｒ＋がアミ７基
又はＣｌ＝Ｃ３アルキルアミ／入（であり、Ｒ３がハロ
ゲン原子（特に塩素原子）又はＣ＋〜Ｃ３アルキルアミ
ノ基であり、Ｒ４がニド０基であり、Ｒ２及びＲ５が水
素原子である、 化合物並びにその生理的に許容される酸付加塩類。 第４級アンモニウム塩類及びＮ−ｉキシド誘ＪΩ体であ
る。 更に好適な化合物は、一般式（Ｉλ） ［式中、　ＲａはピリジルメチルＷ、ベンジル基。 フルオロベアジル基、クロロペ／ジル基、ト瞥ノフルオ
ロメチルベンジル基、シアノベンジル基又は３−（４−
クロロフェノキシ）プロピル基を意味し、 Ｒ＋ａはＣ＋〜Ｃ７アルコキシ基、シクロペンデル第１
・シ基、３−ブテニルオキン基、３−メチル−２−ブテ
ニルオキシ基、２−オキソプロポキシ基、２−ヒドロキ
シプロポキシ基又は２−クロ【１エトキシ基を意味し、 Ｒａａはアミ７基、ジメチルアミノ基又はＣ２〜Ｃ４ア
ルカノイルアミ７基を意味し、 Ｒ７′は水素原子又はメチル基を意味し、ｎはｌ又は２
を意味する。］ で表される化合物並びにその生理的に許容されるｆｆｉ
　ｆ−１゛加塩類、第４級アンモニウム塩類及びＮ−オ
キシド誘導体である。 より一層好店な化合物は、一般式（Ｉｂ）［式中、Ｒｂ
はピリジルメチル基、ベンジル基。 フルオロベンジル基、クロロベンジル）Ａ又は３−（１
１−クロロフェノキシ）プロピル基を意味し、Ｒ＋ｂは
メト午シ基、エトキシ基、ブトキシ基。 イソブトキシ基、ぺ／チルオキシＪ！、インペンデルオ
キシ基、３−メチル−２−ブテニルオキシ基又は２−ヒ
ドロキシプロポキシ基を意味し、Ｒｉｂはアミノ基又は
アセチルアミノＪλを意味する。］ で表される化合物並びにその生理的に許容される酸付加
塩類及びＮ−オキンド誘導体である。 本発明の化合物のうちで特に好適なものとして、例えば
次の化合物及びその生理的に許容される酸付加塩類が挙
げられる。 ４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシ−Ｎ−［［４−
（４−フルオロベンジル）−２−モルホリニルコメチル
］べ／ズアミド。 ４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシ−Ｎ−［［４−
（３−ピリジル）メチル−２−モルホリニル］メチル］
ベンズアミド。 ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル
）メチル］−５−クロロ−２−（３−メチル−２−ブテ
ニルオキシ）べ／ズアミド。 ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モル、１りニ
ル）メチルコー２−ブトキン−５−り【目１ベンズアミ
ド。 ４−アミノ−２−ブトキシ−５−クロｒ、ｌ　−Ｎ　−
［［４−（４−フルオロベンジル）−２−モルｈリニル
］メチル］ベンズアミド。 ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モル；１．’
）　＝　ｔｖい１ｆｋＥ−５−１゜。−２−イア４フヂ
ルオキシベンズアミド。 ４−アミ７−５−クロロ−Ｎ−［［４−（２−クロロベ
ンジル）−２−モルホリニル］メチル］−２−エトキシ
ベンズアミド。 ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル
）メチル］−５−クロロー２−エトキシベンズアミド。 ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル
）メチル］−５−クロロー２−メトキシベンズアミド。 ４−アミノ−５−クロロ−Ｎ−［［４−（／ｌ−シアノ
ベンジル）−２−モルホリニル］メチル］−２−メトキ
シベンズアミド。 ４−アミノ−５−クロロ−Ｎ−［［４−［３−（４−ク
ロロフェノキシ）プロピルコー２−モルホリニル］メチ
ル］−２−メトキシベンズアミド。 及び ４−アセチルアミノ−５−クロロ−２−エトキシ−Ｎ−
［［４−（４−フルオロベンジル）−２−モルホリニル
］メチル］ベンズアミド発明の化合物は例えば以下の方
法により製造することができる。 方ｔＪ：（ａ）ニ 一般式（Ｉｌ） （式中、Ｒ２，Ｒａ及びＲ５は前掲に同じものを意味し
、Ｒ１′はアシルアミノ基及び置換パとしてカルボキシ
基もしくはカルボキシ置換アリール基をイ［するアルコ
キシ基以外のｉＩイ掲Ｒ１と同じものを意味し、Ｒコ′
はカルボキシ基以外の前掲Ｒ３と同じものを意味する。 ） で表される化合物又はその反応性誘導体と、一般式（Ｉ
ＩＩ　） Ｒ′ （式中、Ｒａ＋　　Ｒ７，Ｘ、　ｍ及びｎは前掲に同じ
ものを意味し　Ｒｌは水素原子以外の前掲Ｒと同じもの
を意味するが、Ｒ′中にはカルボキシ基をイｆする基は
存在しない。） で表される化合物とを反応させることにより、式（１）
においてＲ＋がアシルアミノ基及び置換基としてカルボ
キシ基もしくはカルボキン置換アリールノ」（を存する
アルコキシ基以外の１工；【子又は基であり、Ｒ３がカ
ルボキシ基以外の原子又は基であり１、Ｒが水素原子以
外の基であり、かつその基中にカルボキシＪ、ｃを有す
る基が存在しない化合物を得ることができる。 式（ｎ　＞の化合物の反応性誘導体としては、例えば低
級アルキルエステル、活性エステル、酸無水物、酸ハラ
イド（特に酸クロリド）等を挙げることができる。活性
エステルの具体例としてはｐ−ニトロフェニルエステル
、２，４．５−）ジクロロフェニルエステル、べ／タク
ロロフェニルエステル、シア／メチルエステル、Ｎ−ヒ
ドロキシコ１１り酸イミドエステル、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネ
ン−２，３−ジカルボキシイミドエステル、Ｎ−ヒドロ
キンピペリジンエステル、８−ヒドロキシキノリンエス
テル、２−ヒドロキシフェニルエステル。 ２−ヒドロキシ−４，５−ジクロロフェニルエステル、
２−ヒドロキシピリジンエステル、２−ピリジルチオー
ルエステル等が挙げられる。酸無水物としては、対称酸
無水物又は混合酸無水物が用いられ、混合酸無水物の具
体例としてはクロル炭酸エチル、クロル炭酸インブチル
のようなりロル炭酸アルキルエステルとの混合酸無水物
、クロル炭酸ベンジルのようなりロル炭酸アラルキルエ
ステルとの混合酸無水物、クロル炭酸フェニルのような
りｒ１ル炭酸アリールエステルとの混合酸無水物、イソ
青草酸、ピバリン酸のようなアルカ／酸との混合酸無水
物等が挙げられる。 式（ＩＩ　’）の化合物を用いる場合には、ジシクロへ
、トシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメ
チルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、Ｎ、Ｎ’
−カルボニルジイミダゾール、１−エト−トンカルボニ
ル−２−エトキシ−１，２−ジヒド「ｊキノリ／のよう
な縮合剤の存在下に反応させることかできるａ縮合剤と
してジシクロへキシルカルボジイミド又は１−エチル−
３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩
酸塩を用いる場合には、Ｎ−ヒドロキシフハク酸イミド
、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ
−４−オキソ−３，４−ジヒドロ−１，２，３−ペンシ
トリアジ／、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネ７−２．
３−ジカルボキシイミド等を添加して反応させてもよい
。 式（ｒｌ）の化合物又はその反応性誘導体と式（ＩＩＩ
）の化合物との反応は、溶媒中又は無溶媒下に行われる
。使用する溶媒は、原料化合物の種類等に従って適宜選
択されるべきであるが、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類、ジエヂルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、水
子が挙げられ、これらの溶媒はそれぞれ単独で、あるい
は２種以上混合して用いられる。本反応は必要に応じて
塩基の存在下に行われ、塩基の具体例としては、重炭酸
ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸アルカリ、
炭酸−Ｊ″トリウム炭酸カリウムのような炭酸アルカリ
あるいはトリエチルアミン、トリブチルアミン、シイツ
ブ「ノビルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンのよう
な有機塩基が挙げられるが、式（ＩＩＩ）の化合物の過
剰ＩＬｋで」にねることもできる。反応温度は用いる原
料化合物の種類等により異なるが、通常的−３０℃ない
し約２００℃、好ましくは約−１０°Ｃないし約１５０
℃である。なお、式（ＩＩ）の化合物又は式（ＩＩＩ）
の化合物の構造中に反応に関与する基が存在するときは
、これらの基は常法に従って保獲しておき、反応後に脱
離させるのが望ましい。 方法（ｂ）ニ 一般式（■α） （式中、Ｒ＋、　　Ｒ２，Ｒ３，Ｒａ、　　Ｒｓ、　　
Ｒｅ、　　Ｒ７，Ｘ。 ｍ及びｎはｆｌｉｆ掲に同じものをα味し、ＰＣはアミ
７基の保護基を意味する。） で表される化合物のアミン基の保護基を脱離させるこき
により、式（Ｉ）においてＲが水素原子である化合物を
得ることができる。 式（Ｉα）においてＰｃで表されるアミノ基の保護ノ＾
としては、例えば低級アルコキシヵルボニルバ、ベノジ
ルオキシ力ルボニル基、ベンジル基等が挙げられる。 本坊は常法に従って行われ、例えば式（Ｉａ）において
Ｐｃが低級アルコキシカルボニル基である化合物の場合
はアルカリ条件下に加水分解することにより、またＰｃ
がべ／ジルオキシカルボニル１人又はベンジル基である
化合物の場合は加水素分解することにより行われる。 アルカリ条件下における加水分解に用いる溶媒としては
、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ールのようなアルコール類、ジオキサ７、水等が挙げら
れ、それぞれ単独で、あるいは２種以上混合して用いら
れる。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのような水酸化アルカリ等が用いられる。反応
温度は通常的５０℃ないし約１００℃である。 加水素分解に用いる溶媒としては、例えばメタノール、
エタノール、インプロピルアルコールのようなアルコー
ル類、酢酸エチル、酢酸、ジオキサン、水等が挙げられ
、それぞれ単独で、又は２種以上混合して用いられる。 触媒としては、例えばパラジウム炭素等が用いられ、反
応温度は通常的２０°Ｃないし約８０°Ｃである。 方法（Ｃ）ニ 一般式（Ｉａ） （式中、Ｒ＋、　　Ｒ２，Ｒ１１，Ｒ４，Ｒｓ、　　Ｒ
ｏ、　　Ｒ７，Ｘ。 ｍ及びｎは前掲に同じものを意味する。）で表される化
合物と一般式（ＩＶ） Ｚ　−Ｒ”　　　　　　　　　　（ＩＶ　）（式中、Ｒ
″は水素原子である場合、及びＴがｔＢ結合でＲ８が非
置換もしくは置換アリール基又は非置換もしくは置換へ
テロアリール基である場合を除き前掲Ｒと同じものを意
味し、Ｚはアルコールの反応性エステル残基を意味する
。）で表される化合物とを反応させることにより、式（
１）においてＲがＲ“である化合物を得ることができる
。 式（ＩＶ）においてＺで表されるアルコールの反応性エ
ステル残基としては、例えば塩素、臭素。 ヨウ素のようなハロゲノ原子、メタンスルホニルオキシ
、エタンスルホニルオキシのような低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエ
ンスルホニルオキシ、ｍ−二トロベンゼンスルホニルオ
キシのようなアリールスルホニルオキシ基等が挙げられ
る。 式（■β）の化合物と式（ＩＶ）の化合物との反応は、
通常、適当な溶媒中で行われ、溶媒の具体例としては、
べ／ゼン、トルエ／、キシレンのような芳香族炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
テトラヒドロフラン。 ジオキサンのようなエーテル類、エタノール、・イソプ
ロピルアルコールのようなアルコール類、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらの溶
媒はそれぞれ単独で、又は２（・Ｒ以」二を混合して用
いられる。本反応は塩基の存在下に行うのが好ましく、
塩基の具体例としては、（ａ）法の部分で述べた塩基の
具体例をそのまま挙げることができる。また、式（ｒＶ
）において２が塩素又は臭素である化合物を用いるとき
は、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムのようなアルカ
リ金属ヨウ化物を添加すると反応は円滑に進行する。反
応４度は用いる原料化合物の種類等により異なるが、通
常的５０℃ないし約２００℃である。なお、式（■β）
の化合物又は式ＩＶ）の化合物の構逍中に反応に関与す
る基が存在するときは、これらの基は常法に従って保護
しておき、反応後に脱離させるのが望ましい。 方法（ｄ）ニ 一般式（■ア） （式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｒａ、　Ｒｓ、　Ｒ１１，Ｒ７，
Ｘ、　ｍ及びｎは前掲に同じものを意味し、Ｒ＃′は水
素原子以外の前掲Ｒに同じものを意味する。）で表され
る化合物と一般式（Ｖ） Ｚ’　　　Ｒ＋ｓ　　　　　　　　　　　　　　　　　
（Ｖ）（式中、ＲＩ５はアルキル基、シクロアルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、酸素原子もしくはカル
ボニル基で中断されたアルキル基又は置換基をイ「する
アルキル基を意味し、Ｚ′はアルコールの反応性エステ
ル残基を意味する。）で表される化合物とを反応させる
ことにより、式（Ｉ）においてＲ１がＯＲ＋ｓである化
合物を得ることができる。 式（Ｖ）においてＺ′で表されるアルコールの反応性エ
ステル残基としては、（Ｃ）法の部分で述べた具体例を
そのまま挙げることができる。 本反応は通常、塩基の存在下に適当な溶媒中で行われる
。塩基の具体例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのような炭酸アルカリ、テつラブチルアメモ二つムヒ
ドロキシド、べ／ジルトリエチルアンモニウムヒドロキ
シドのような第４級水酸化アンモニウム、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムメトキシドのようなアルカリ金属
アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物等が挙げられる。使用する溶
媒は、ｐ、：ｒ　ｊ１化合物・塩１！の種類等に従って
適宜選り（されるべきであるが、例えば塩化メチレン、
アセトン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、
インプロピルアルコール、ジグリムジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等が挙げられる。式（Ｖ）に
おいて２′が塩素又は臭素である化合物を用いるときは
、ジウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムのようなアルカリ
金属ヨウ化物を添加すると反応は円滑に進行する。 本反応はまた、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよ
うな強塩基と相間移動触媒の存在下に、塩化メチレ／−
水のような相間移動触媒反応に通常使用される溶媒系を
用いて行うこともできる。 相聞移動触媒としては、例えばテトラブチルア／モニウ
ムブロミド、セチルトリメチルアンモニウムプロミド ロリド、テトラブチルアンモニウムビスルフェート等が
挙げられる。 反応温度は用いる原料化合物の種類等により異なるが、
通常的５℃ないし約１５０℃である。なお、式（■γ）
の化合物又は式（Ｖ）の化合物の構造中に反応に関与す
る基が存在するときは、これらの基は常法に従って保護
しておき、反応後に脱離させるのが望ましい。 方７ノ、（ｃ）ニ 一般式（Ｖｌ） （式中、Ｒ２，　Ｒ３，　Ｒａ及びＲ５は前掲に同じも
のを意味し、Ｒ１１１はアシルＪＪ．からカルボニル部
分を除いた残基を意味する。） で表される化合物と、一般式（■′） （式中、Ｒ．Ｒ８，Ｒ７，Ｘ，ｍ及びｎは前掲に同じも
のを意味する。） で表される化合物とを反応させることにより、式（１）
においてＲ＋がアシルアミノ基である化合物を得ること
ができる。 本反応は、ベンゼ／，トルエン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、クロロホルム、アセトニトリルのような溶
媒中、約４０℃ないし約９０°Ｃで行われる。 方法（「）ニ 一般式（Ｉδ） （式中、Ｒ，　　Ｒ２，　　Ｒ３．　　Ｒ４，　　Ｒ５
，　　Ｒｏ＋　　Ｒ７，　　Ｘ。 ｍ及びｎは前掲に同じものを意味し、Ｚ＃は／１０ゲ／
原子を意味する。） で表される化合物と一般式（■） （式中、Ｒ＋＋及びＲ＋ｏは前掲に同じものを意味する
。）で表される化合物とを反応させることにより、式化
合物を得ることができる。 本反応は、無溶媒下、又はエタノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドのような溶媒中、約６０
℃ないし約１５０℃で行われる。 製法（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）及び（「
）によって得られる生成物がその構造中にニトロ基を有
するときは、常法に従って還元することにより、対応す
るアミン誘導体に変換することができる。構造中にヒド
ロキシ基、アミ７基又はモノ置換アミ７基を有するとき
は、常法に従って適当なアシル化剤と反応させることに
より、対応するアシル誘導体に変換することができる。 逆に、構造中にアシルアミノ基又はエステル部分をイ丁
するときは、常法に従ってに加水分解することにより、
対応するアミン、アルコール、フェノール又はカルボン
酸誘導体に変換することができる。 また、構造中にケト／性のカルボニル人（をイ「すると
きは、常法に従って還元することにより、対応するアル
コール誘Ｊｇ体に変換することができる。 更に、式（１）において、　Ｒ＋がアミノ基又はモノ置
換アミ７Ｍで、Ｒ２がニトロ基である化合物は、爪゛法
に従って還元した後、ホスゲン、Ｎ、Ｎ’−カルボニル
ジイミダゾールのような試薬と反応させることにより、
対応するス３−ジヒドロペンズイミグゾール−２−オ／
誘４体に変換することができる。 上記各製法により生成する化合物は、クロマトグラフィ
ー、再結晶、再沈殿等の常法により単離。 精製される。 構造中に酸付加塩を形成し得る基を（Ｔする式（１）の
化合物は、原料化合物の選定１反応・処理条件等により
、遊離塩基又は酸付加塩の形で得られる。酸付加塩は、
常法、例えば炭酸アルカリ。 水酸化アルカリのような塩基で処理することにより、遊
離塩基に変えることができる。一方、遊離塩１人は、常
法に従って各種の酸と処理することにより酸付加塩に導
くことができる。 また、式（１）においてｒ＜が水素原子、低級アルコキ
シカルボニル基及びアラルキルオキシ力ルボニルバ以外
の基である化合物は、第４級アンモニウム塩製造に通常
用いられる試薬と反応させ、更に必要に応じて、得られ
た第４級アンモニウム塩のア二オ／を他のアニオンと置
換することにより、モルホリ／又はヘキサヒドロ−１，
４−オキサゼビ７部分における第４級アンモニウム塩に
導（ことができる。 また、式（１）においてＲが水素卵子、低級アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基及び容易
に酸化され得る基以外の基であり、かつＲ１，Ｒ３及び
Ｒ４が容易に酸化され得る基以外の基である化合物は、
通常のＮ−オキシド化条件下に酸化することにより、モ
ルホリン又はヘキサヒドロ−１，４−オキ９４６７部分
のＮ−オキシド誘導体に導くことができる。 以下に、本発明の代表的化合物並びに市販の消化管機能
亢進剤であるメトクロプラミド塩酸塩１水和物について
の薬理試験の結果を示し、本発明の化合物の薬理作用を
説明する。 試験例１　　胃排出能ｆＣ進作用 本試験は、Ｓｃａｒｐｉｇｎａｔｏらの方法［Ａｒｃｈ
、　ｔｎｔ。 １’ｈａｒｍａｃｏｄｙｎ、、　２Ｌ０．２８０〜２９
４　（１９８０）参ｌ１１１　］にＱ＋（じて行った。 ウィスター系雄性ラット（体重１３０〜１５０ｒｒ）を
１８時間聞納した後、フェ／−ルレッドヲ０．０５％の
割合で含存する１、５％メチルセルロース溶液１．５１
を経口投与した。投与１５分後に胃を摘出し、胃内に残
存するフェノールレッド量を測定した。なお、試験化合
物は０．５％トラガ／ト溶液に溶解又は懸濁し、フェノ
ールレッド投与の６０分前に経口投与した。胃内残存フ
ェノールレッドＪＪ、に基づいて胃排出率を算出し、更
に対＋１＜１群の胃排出率と比較して亢進率を求めた。 使用した動物数は対照群及びメトクロブロマミド塩酸塩
１水和物投与群については５匹、それ以外は４匹である
。 結果を表１に示す。 表　１　　胃排出能冗進作用 ′）　実施例１（１）の化合物を意味する（以下同じ）
。 ｗ）　シス体の７マル酸塩 表　１　（続き） 表１から明らかなように、試験した本発明の化合物はい
ずれも、メトクロプラミド塩酸塩１水和物よりも強い胃
排出能冗進作用を示した。 試験例２　　急性毒性 体重！８〜２５ｇのｄｄＹ系雄性マウスを各群１０匹使
用した。０．５％トラガント溶液に溶解又は懸濁した試
験化合物の所定用量を経口投与し、投与後７０間にわた
り死亡の有無を観察した。結果を試験例３の結果ととも
に表２に示す。 試験例３　　中枢作用 体重１８〜２５ｇのｄｄＹ系雄性マウスを各群３匹使用
した。０．５％トラガント溶液に溶解又は懸濁した試験
化合物を１００ｇ八ｇの割合で経口投与し、役！】後２
時間までの一般行動変化・症状をＩｒｗｉｎの方法［Ｉ
’ｓｙｃｈｏｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｉａ、　３．２２
２〜２５７　（１９０８）参１１１′１］に皇じて観察
した。試験化合物により惹起されるカタレプシー、眼瞼
下垂、運動量の変化等の中枢作用の強度を総合的に判定
し、次のような７１段階＝ｆ価を行った。 一：作用なし ＋：やや作用あり ＋：かなり作用あり ＋１＋：箸明に作用あり （以下余白） 表２　　中枢作用及び急性毒性 “）　実施例！（１）の化合物を意味する（以下同じ）
。 表２（続き） 表２から明らかなように、試験した本発明化合物の中枢
作用及び急性毒性はいずれも、メトクロプラミド境酸塩
ｌ水和物のそれらよりも弱いものであった。これらの結
果は、本発明化合物の消化管機能亢進作用と中枢神経系
に対する副作用とがよ（分離されていることを示唆して
いる。 式（１）の化合物並びにその生理的に許容される酸付加
塩類、第４級アンモニウム塩類及びＮ−オキシド誘導体
は、制吐剤あるいは消化管機能ｙ〔進剤として、急・慢
性青炎、冑・十二指腸潰瘍。 胃神経序、胃下垂などの疾忠における食欲不振。 悪心、嘔吐、腹部膨７葭感等の治療及び予防に、また食
道・胆道系疾忠１便秘症の治療及び予防に用いることが
できる。更にまた、ンスブラチンのような抗癌剤投与時
の悪心、嘔吐の治療及び予防にも用いることができる。 その投与経路としては、経ロ役！ｊ、非経口投与あるい
は直腸内投与のいずれでもよい。投与量は、化合物の種
類、投与方法。 忠名の症状・年令等により異なるが、通常０．００１〜
２０ｍｇ　７ｋｇ　１０、好ましくは０．００４〜５　
ｎ　７ｋｇ　ｌ［１である。式（１）の化合物、その塩
又はＮ−オキシド誘導体は通常、製剤用担体と混合して
調製した製剤の形で投与される。製剤用担体としては、
製剤分野において常用され、かつ式（１）の化合物。 その塩又はＮ−オキシドｉ　３１３体と反応しない物質
が用いられる。具体的には、例えば乳糖、ブドウ糖、マ
ンニット、デキストリ乙　シフロブ↑・ストリン、デ／
プン、白糖、メクケイ酸アルミ／酸マグネシウム、合成
ケイ酸アルミニウＡ　、結晶セル

【ｊ−ス、カルボキシ
メチルセルロースナトリ嘗ツノ・。 ヒト１１キシプ【ゴビルデンプン、カッ１ボキシメチル
セルロースカルシウム、イオ７　交換Ｂｔ　脂、　　）
　チルセルロース、ゼラチン、アラビアゴム、プルラフ
。 ヒドロキシプロピルセルロース、低置換度ヒドロキシプ
ロピルセルロース、ヒドロキング１ピルメチルセルロー
ス、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、軽
質無水ケイ酸、ステアリン酸マグネシウム、クルクツト
ラガント、ベントナイト、ビーガム、カルボキシビニル
ポリマー、酸化チタン、ンルビタン脂肪酸エステル、ラ
ウリル硫酸ナトリウム、グリセリン、脂肪酸グリセリン
エステル、精製ラノリン、グリセロゼラチン、ポリンル
ベート、マクロゴール、植物浦、ロウ、プロピレングリ
コール、水等が挙げられる。剤型としては、錠剤、カプ
セル剤、顆粒剤、細粒剤、散剤。 シロップ剤、！！濁剤、注射剤、坐剤等が挙げられる。 これらの製剤は常法に従って調製される。なお液体製剤
にあっては、用時、水又は他の適当な媒体に溶解又は懸
濁する形であってもよい。また錠剤、顆粒剤、８０１粒
剤は周知の方法でコーディングしてもよい。 これらの製剤は、式（Ｉ）の化合物、その生理的に許容
される塩又はＮ−オキシド誘導体を０．５％以」−１好
ましくは１〜７０％の割合で含イｆすることができる。 これらの製剤はまた、治療上価値ある他の成分を含イ「
していてもよい。 本発明を更に具体的に説明するために、以下に参考例及
び実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。なお、化合物の同定は元素分析値、マ
ス・スペクトル、ＩＲスペクトル、ＮＭＲスペクトル等
により行った。 また、以下の参考例及び実施例において記俄のｆｆ１ｉ
略化のために次の略号を使用することもある。 Ｍｃ：メチル基 ＩシＬ　：エチル基 Ｐｒ：プロピル基 Ｐｈ：フェニル基 へ〇ニアセチル基 Ａ　：エタノール ＡＣニア七トン Ａｌシ　：酢酸エチル へＮニアセトニトリル ＣＩｌ　　：クロロホルム Ｄｏニジオキサ／ ＤＭ：塩化メチレン　　゛ Ｉ−ニジエチルエーテル ＩＩ：へキサン ｃ−＋１　ニジクロヘキサン ＩＰ：イソプロピルアルコール Ｎ１：メタノール ＰＥニジイソプロピルエーテル Ｔ　：トルエン 参考例１ ２−アミノメチル−４−ベンジルモルホリンの製造： （１）　Ｓｙｎ、　Ｃｏｍｍｕｎ、、　１０．５９〜７
３　（１９８０）に記桟の方ｌノＺに従って合成した、
４−ベンジル−２−クロロメチルモルホリン８０．４ｇ
　、　　フタルイミドカリウムＩＲ，ＯｋＣ及びジメチ
ルホルムアミド７００１から成る混合物を撹拌しながら
５時間加熱１Ｈ７１ｔする。反応液を氷水中に注ぎ、析
出する結晶を濾取し、水洗後イソプロピルアルコールか
ら再結晶してＮ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル
）メチル］フクルイミド１０７　ｇを得る。融点！３（
ｉ〜１３９℃（２）」二３己フタルイミド体０７．２ｇ
にエタノール１８０■１と８５％抱水ヒドラジン２０．
０ｇを加え、撹拌しながら３０分加熱還流する。析出結
晶を濾去し、濾液にりＩＩ　Ｌｌホルムと水を加えて振
盪する。有機層を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧で留去して油杖の目的
物３３．５Ｊｒを得る。この遊離塩基の一部を少量のエ
タノールに溶解し、フマル酸のエタノール溶液を加え、
濃縮したのち冷却すると目的物の２７マル酸塩かも一部
として析出する。融点　１００〜１７０℃参考例２ ２−アミノメチル−４−フェニルモルホリンの製造： 参考例１（■）における４−ベンジル−２−クロロメチ
ルモルホリフの代わりに２−クロＣＩメチル＝４−フェ
ニルモルホリンを用い、参考例１（１）及び（２）と同
様に反応・処理して目的物を得る。 参考例３ ２−アミノメチル−４−ベンジルモルホリンの製造： ＋１１　４−ベンジル−２−クロロメチルモルホリン１
５．０ｇ　、アジ化ナトリウム８．６ｇ及びジメチルホ
ルムアミド＋５０■１から成る混合物を１３０℃で２０
？間撹拌する。反応液に水を加えジエチルエーテルで抽
出する。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗ｌ子後、無
水ＦＡ酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧で留去して
曲状の２−アジドメチル−４−ベンジルモルホリン１５
ｇを得る。 ＋２）」−記アシト体１５ｇのトルエン４０ｍ１Ｔｌｉ
我を、ｒ・め−５“Ｃに冷却しておいた水素化ビス（２
−メトキシエト↑・シ）アルミニウムナトリウムの７０
％トルエ／溶液（ｉＯｍｌ中に少しずつ滴下するａｔｆ
ｊｒ下終Ｙ後室温で１．５時間撹拌する。反応液中に１
０％水酸化ナトリウム水溶液を少しずつ加えて残余の還
元剤を分解した後、有機層を分取し水、次いで飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。、溶媒
を減圧で留去して浦吠の目的物１１ｇを得る。 参考例４ ２−アセチルアミノメチル−４−ベンジルモル、！、リ
ンの製造： Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル）メチル］フ
タルイミド１０２　ｇ、　８５％抱水ヒドラジン４Ｌ３
ｇ及びエタノールｌ００１から成る混合物を撹ｔ↑しな
がら２０分加熱還流する。析出結晶を４去し、ｂ２４に
クロロボルムと水を加えて振盪する。イ「機届を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。不溶
物を濾去し、酸液に無水酢酸９８．３ｇを加え、室温で
２時間撹拌する。反応液に水酸化り°トリウム水溶液を
加えてｔｇ丑後、有機層を水、次いで飽和食塩水で洗１
′ｐする。無水硫酸マグネシラ！・で乾燥した有機層を
減圧で濃縮し、残ｔｈをトル、ｒ、ンから再結晶して目
的物１０１　ｇを得る。 融点１１０〜Ｉ　Ｉ　Ｉ　”Ｃ 参考例５ ２−アセチルアミノメチルモルホリ／の製命：２−アセ
チルアミノメチル−４−べ／ジルそルホリン１２０ｇ、
　　エタノール１０００　ｍｌ及び酢酸３０１から成る
混合物をＩθ％パラジウム炭素５ｇを触媒として加ム下
常圧で水素添加する。計算量の水素を吸収した後、触媒
を濾去し、濾液を減圧で濃縮して油状の目的物を得る。 参考例６ ２−アセチルアミ／メチル−４−（４−フルオｒ１ベン
ジル）モルホリンの製造： ２−アセチルアミノメチルモルホリン７．０ｇ。 ４−フルオロベアジルクロリド１２ｇ、無水炭酸カリウ
ム５６ｇ、ヨウ化カリウムｔｇ及びメチルエヂルケト７
１００■Ｉから成る混合物を１７時間加熱還流する。不
溶物を濾去し、濾液を減圧で濃縮する。 残渣にクロロホルムと水を加えて振侃し、有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を減圧で留去し、残渣をトルエンから再結晶して目的
物９．３ｇを得る。 融点１２０〜１２２℃ 参考例７〜６２ 参考例６における４−フルすロベ７ジルクロリトの代わ
りに対応するアルキル化剤を用い、参考例〔ｌと同様に
反応・処理して表３に示す化合物を得る。 （以下余白） 表　　３ 表　３（続き） 表　３（続き） 表　　３　（続き） 参考例６３ ２−アミ／メチル−４−（４−フル第１ベンジル）モル
ホリフの製造： ２−アセチルアミノメチル−４−（４−フルオロベンジ
ル）モルホリフ３．０ｇに１０％塩酸５０ｍ＋を加え、
４時間加熱還流する。反応液に水酸化ナトリウム水溶液
を加えてアルカリ性にし、クロロホルムで抽出する。有
機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。 ｉ８煤を減圧で留去して油状の目的物を得る。 参考例６４ ２−アミノメチル−４−置換モルホリンの製造：参考例
６３における２−アセチルアミノメチル−４−（４−フ
ルオロベンジル）モルポリ／の代わりに参考例４，７〜
１８．２１〜３３．３８〜４１．５３〜５５及び５８〜
旧の生成物を用い、参考例６３と同様に反応・処１！Ｉ
Ｉ　して、対応する２−アミノメチル体を得る。 参考例６５ ２−アミノメチル−４−［３−（４−クロロフェノキシ
）プロピル１モルホリンの製造：２−アセチルアミノメ
チル−４−［３−（４−クロ【１フエノキシ）プロピル
１モルホリン３．３ｇに１０％水酸化り・トリウム水＋
８液６０１１を加え、２０時間加／Ａ　’Ｅｌ　′ｔ／
ｌする。反応液をクロ【１ホルノ・で抽出し、イ１゛機
層を水、次いで飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を減圧で留去してｉ＋ｂ状の
Ｌｌ的物を得る。 参考例６６ ２−アミノメチル−４＝置換モルホリンの製造：参考例
６５における２−アセデルアミツメデル−４−［３−（
／Ｉ−り「１０フエノキシ）プロピル１モル、１．リン
の代わりに、参考例＋９．２０．３４〜３７゜４２〜４
５．４７〜５２．５０．５７及び６２の生成物を用い、
参考例６５と同様に反応・処理して、対応する２−アミ
ノメチル体を得る。 参考例６７ ２−アミノメチル−１１−エトキンカルボニルモル、１
．リンの製造： （１１Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル）メチ
ル］フタルイミド３０．０ｇにトルエン２０ｏ１を加工
、６０℃に加温する。クロル炭酸エチル１９．４ｇを滴
下した後、１時間加熱還流する。反応液を水、次いで飽
和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を減圧で留去し、残ｔｈをイソプロピルアルコ
ール−ジエチルエーテルから再結晶してＮ−［（４−エ
トキシカルボニル−２−モルホリニル）メチル］フタル
イミド２７．８ｇを得る。融点１１３〜１１５℃ （２）　上記エトキシカルボニル体１０．０ｇ及び８５
％抱水ヒドラジン２．９ｇ及びエタノール１０１から成
る混合物を１０分加熱還流する。析出結晶を濾去し、ｔ
２液にクロロホルムと水を加えて振盪する。イｒｔｌＡ
届を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧で留去して油状の目的物５．８ｇを
得る。 参考例６８ ４−ベンジル−２−シアノメチルモルホリンの製造： Ｓｙｎ、　Ｃｏｍｍｕｎ、　１０．５９〜７３（１９８
０）に記俄の方法に従って合成した、４−ベンジル−２
−クロロメチルモルホリン２２．５ｇ、　　シアン化カ
リウム１３ｇ、　　ヨウ化カリウム１ｇ及びジメチルス
ルホキシド４０１から成る混合物を１２０℃で５時間撹
拌する。今後、反応液に水を加えジエチルエーテルで抽
出する。 イ「機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち
溶媒を留去して、面状の目的物２０１ｒを得る。 参考例６９ ２−（２−アミノエチル）−４−ベンジルモルホリンの
製造： ４−ベンジル−２−シアノメチルモルホリフ２０ｇ、Ｑ
アンモニア水１０ｍ１及びエタノール１００　ｉｔから
成る混合物を、ラネーニブケル２ｇの存在下２時間水素
添加する。触媒を紹去し、濾液を減圧で濃縮して油状の
目的物ＩＧ、５ｇを得る。これを酢酸エチルに溶解し、
マレイン酸のエタノール溶液で処即して→レイン酸塩と
なし、エタノール−酢酸エチルから再結晶して目的物の
３７２マレイ／酸塩を得ル、Ｆａ点１２３〜１２５℃ 参考例７０ ２−（２−ヒドロキシエチル）−４−ベンジルモルホリ
ンの製造： Ｓｙｎ、　Ｃｏｍｍｕｎ、　１０．５９〜７３（＋９８
０＞に記αの方法に従って合成した、２−エトキシカル
ボニルメチル−４−べ／ジルモルホリン４１ｇのジエチ
ルエーテル＋００ｍ１溶液を、水素化リチウムアルミニ
ウム５９．２ｇのジエチルエーテル１５０　ｍｌ懸濁液
に徐々に滴下する。室温で１時間撹拌した後、酢酸エチ
ル、次いで水を加えて残余の水素化リチウムアルミニウ
ムを分解する。不溶物を濾去し、濾液を減圧でＯ縮して
油状の目的物３４．４ｇを得る。 参考′例７１ ２−（２−アセトキシエチル）−４−ベンジルモルホリ
ンの製迅： ２−（２−ヒドロキシエチル）−４−ペンジルモルホリ
ｙ２７．７ｇ、）リエチルアミン２８１及び酢ｆｆｉエ
チルｌ００１から成る混合物に無水酢酸１７．８ｍｌを
徐々に滴下した後、１時間Ｉｆｆ　＋１’、する。反応
液を減１１；でり縮し、残渣をクロロホルムに溶解し、
シリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付す。り［１
「Ｉホルムで溶出する部分を集め、溶媒を留去して面状
の目的物２９．１ｇを得る。 参考例７２ ２−（２−アセトキンエチル）−４−ベンジルオキシカ
ルボニルモルホリンの製造： ２−（２−アセトキシエチル）−４−ベンジルモル；Ｊ
、リン２９．１ｇをアセトニドニル２００１に溶解し、
これにクロル炭酸ベンジル２４．４ｇを徐々に加えたの
ち３０分加熱還流する。今後、反応液を減圧で濃縮し、
残渣をヘキサンに溶解し、シリカゲルのカラ！・クロマ
トグラフィーに付す。ヘキサンで溶出する部分を捨て、
ヘキサン−クロロホルム（１：ｌ）で溶出する部分を集
め、溶媒を留去して浦伏の１１的物２４．５ｇを得る。 参考例７３ ２−（２−ヒドロキシエチル）−４−べ／ジルオキシカ
ルボニルモルホリンの製造： ２−（２−アセトキシエチル）−４−べ７ジルオキシカ
ルボニルモルホリ７２４．５ｇ、水酸化カワウｌ、８．
９ｇ、　エタノール４０１及び水４０１の混合物を３０
分加熱還流する。反応液を減圧で濃縮し、残ｔｈにジエ
チルエーテルと水を加えて振盪する。有機層を水洗した
のち無水硫酸ナトリウムで乾燥し、１１ｉ媒を留去して
油状の目的物＋５ｆｆを得る。 参考例７４ ２−（２−クロロエチル）−４−ペンジルオキジカルボ
ニルモルホリンのｉ！ｌ偕： ２−（２−ヒドロキシエチル）−４−べ／ジルオキシカ
ルボニルモルホリフ アミド 物に塩化ヂオニルＩｎ．３ｍｌを徐々に加えた後、２時
間加ＦＡ還流する。今後、反応液を減圧で濃縮して曲状
の［１的物１０ｇを得る。 参考例７５ ２−（２−シアノエチル）−４−ペンジルオキシ力ルポ
ニルモルホリ／の製造： ２−　（２−クロロエチル）−４−べ／ジルオキシクＪ
ルポニルモルホリン１６ｇ，シアン化カリウム０、３ｇ
．　　ヨウ化カリウム１ｇ及びジメチルホルムアミド５
０１から成る混合物を１００℃で５時間撹拌する。今後
、反応液に水を加えてジエチルエーテルで抽出し、任機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し、残
渣をジエチルエーテル−ヘキサンから再結晶して目的物
１０．７ｇを得る。 融点５９〜ＣＯ℃ 参考例７６ ２−（２−シアノエチル）モルホリンの製造：２−（２
−シアノエチル）−４−べ／ジルオキシカルボニルモル
ホリンＩＯ．７ｇとエタノール６０１の混合物を５％パ
ラジウム炭Ｊ１ｇを触媒に用いて水Ｊ２添加する。計３
７量の水素を吸収した後、触媒を濾去し、濾液を減圧で
：ｅＪ縮して油状の目的物５、４ｇを得る。 参考例７７ ２−（２−シアノエチル）−４−べ／ジルモルホリンの
製造： ２−（２−シア／エチル）モルホリン５．４ｇ。 ベンジルクロリド５．４ｇ，炭酸カリウム５．４）７。 ヨウ化カリウム０．５ｇ及びメチルエチルヶトン３。 １から成る混合物を１時間加熱還流する。今後、不溶物
を濾去し、濾液を濃縮する。残渣をジエチルエーテルに
溶解し、希塩酸で抽出する。水層を希水酸化ナトリウム
水溶液で塩基性にした後、クロロホルムで抽出し、ｆｒ
ａ層を無水硫酸ナトリウムで乾燥する．溶媒を留去して
油状の目的物８．０ｇを得る。 参考例７８ ２−（３−アミノプロピル）−４−べ／ジルモルホリノ
の製造： ２−”（２−シアノエチル）−１１−ペンジルモルホリ
ｙ８ｇ，Ｑアンモニア水４膳１及びエタノール６０１か
ら成る混合物をラネーニッケル存在下に水Ｊ’ｉ　’Ｌ
Ｂ加する。計算量の水素を吸収した後、触媒をｌＩ２人
し、濾液を濃縮して浦状の目的物７ｇを得る。 参考例７９ ２−（２−クロロベンジル）アミン−１−メチルエタ／
−ルの製造： ２−アミノ−！ーメチルエタノール２５．０ｇ，　２−
ク１１０ベンズアルデヒド５１．５Ｈ，　ｒｆｉ炭酸ナ
トリウム３３．ｎに及びメタノールＩＯ００ｍ　ｌから
成る混合物を撹拌しながら４時間加ＦＡ還流する。反応
液を約１０℃に冷却後、水素化ホウ素ナトリウム１３．
９ｇを少しずつ加える。加え終わった後、内湯を室温ま
で上昇させながら１時間撹拌する。メク／−ルを減圧で
留去し、残１１りに水，クロロホルムを加えて振盪する
。有ｌａＩｆ！ｊを水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧で留去して油
状の目的物５５．０ｇを得る。 参考例８０ ４−（２−クロロベンジル）−２−クロロメチル−６−
メチルそルホリンの製造： ２−（２−クロロベンジル）アミ／−１−メチルエタノ
ール２ｏ．ｏｇとエピクロルヒドリン９．７　ｇから成
る混合物を室温で２４時間撹拌する。反応液に濃酸ｆｆ
ｉ３０ｍｌを加え１５０℃で３０分加熱する。反応液を
氷水中に注入し、水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性
にした後、トルエンで抽出する。イ「成層を水、次いで
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧で留去して浦状の］−１的物１９．７ｇを得
る。 ′ｌ；考例８ｌ Ｎ−　［［４−（２−クロロベンジル）−６−メチル−
２−モルホリニル］メチルコフタルイミドの製造： ４−（２−クロロベンジル）−２−り【７　ｊＪメチル
ー６−メチルモルホリン１９．７ｇ、　フタルイミドカ
リ自ンム１４．０ｇ及びジメチルホルムアミドから成る
混合物を、撹拌しながら約１５０℃で５時間加熱する。 反応液を氷水中に注入しジエチルエーテルで抽出する。 ４１機層を水、次いで飽和食塩水で洗ｊ′ｐＬ　、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧で留去して油状
の目的物２Ｇ．Ｏｇを得る。 参考例８２ ２−アセチルアミノメチル−４−（２−クロロベアジル
）−６−メチルモルホリ／の製造：Ｎ−［［４−（２−
クロロベンジル）−６−メチル−２−そルホリニル］メ
チル］フタルイミド２０ｇ，　　１００％抱水ヒドラジ
ン４．２ｇ及びエタノール２０１から成る混合物を撹拌
しながら１５分加熱還流する。析出結晶を濾去し、濾液
にクロロホルムと水を加えて１８１する。イｆａ８を飽
和食塩水で洗ｉ′？ＩＬ　、無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち無水酢酸１４．７ｆｆを加え、室温で２時間
撹拌する。反応液に水酸化り“トリウム水溶液を加えて
振討する。 イ「機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄したのち無水Ｗ
ｔ酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧で留去し、残
渣をシリカゲル３００ｇのカラ！・クロマトグラフィー
に付す。酢酸エチルで溶出する部分を集め、溶媒を留去
して油状の目的物１５ｇを得る。 参考例８３ ２−アミノメチル−４−（２−クロロベアジル）−〇ー
メチルモル；１１リンの製造： ２−アセチルアミノメチル−４−（２−クロロベアジル
）−６−メチルモルホリフ３．０ｇに１０％塩酸６０−
１を加え、２時間加熱還流する。反応液に水酸化ナトリ
ウム水溶液を加えクロロホルムで抽出する。４１機層・
を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧で留去して油状の目的物２．２
ｇを得る。 参考例８４ ２−アミノメチル−４−（２−クロロベアジル）−５，
５−ジメチルモルホリ／の製造：参考例７９における２
−アミノ−１−メチルエタノールの代わりに２−アミノ
−２−メチルプロパツールを用い、参考例７９と同様に
反応・処理して２−（２−クロロベアジル）アミノ−２
−メチルプロパツールを得る。以下、この化合物を用い
、順次参考例８０，　８１．　８２及び８３と同様に反
応・処理して油状の目的物を得る。 参考例８５ ２−アミノメチル−４−ベンジル−へキサヒトｒ＋　−
　１．　４−オキサゼピンの製造：６４例７９における
２−アミノ−ｌ−メチルエタ／−ルと２−クロロベンズ
アルデヒドの代わりに３−アミノプロパツールとぺ／ズ
アルデヒドを用い、参考例７９と同様に反応・処理して
３−べ／ジルアミツブロバノールを得る。以下、この化
合物を用い、順次参考例８０，　８１．　８２及び８３
と同様に反応・処理して油状の目的物を得る。 参Ｊ５例８６ ２−アミノメチル−４−ベンジル−５−メチルモルホリ
ンの製造： ２−ベンジルアミツブロバノール５．８ｇとＮ−（２．
３−エポキシプロピル）フタルイミド７、５ｇから成る
混合物を８０℃で３時間撹拌する。反応液に０硫ａ　１
８．９ｇを少ししずつ加え、加え終わった後１５０℃で
２時間撹拌する。反応液を冷却し、氷水を加え水酸化ナ
トリウム水溶液でアルカリ性にした後、り１１ロホルム
で抽出する。イ「機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、クロロホルムを減圧
で留去して油状の目的物３６８ｇを得る。 参考例８７ ２−アミノメチル−４−ペノジル−６−フェニルモルホ
リ７の製造： 参考例８６における２−べ／ジルアミツブロバノールの
代わりに２−べ／ジルアミ／−１−フェニルエタノール
を用い、参考例８６と同様に反応・処理して油状の目的
物を得る。 参考例８８ ２−アミツメデル−４−ベンジル−５−フ、ニルモルホ
リンの製造： 参考例８６における２−ベンジルアミツブロバノールの
代わりに２−べ／ジルアミノー２ーフェニルエタ／−ル
を用い、参考例８６と同様に反応・処理して油状の目的
物を得る。 参考例８９ ２−アセデルアミノメチル−４−（４−フルオロベンジ
ル）モルホ’）　７０）　ｌｉＪ　ｉＬＬ：Ｎ−（４−
フルオロベンジル）エタノールアミンＩＯ，ＯｆｆとＮ
−（２，３−エポキシプロピル）フタルイミド１２．３
ｇから成る混合物を８０℃で３時間撹拌する。反応液に
ＩＯ硫１ｔＬ１１．ｌを少しずつ加え、加え終わった後
１５０℃で２時間撹拌する。反応液を冷却し、氷水を加
え水酸化ナトリウム水Ｍｉ＆でアルカリＰ１にした後、
クロロホルムで抽出する。 イ１゛機層を水、次いで飽和食塩水で洗７子し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥したのち無水酢ｆｆ１ｏ、ｏｇを
加える。この＋８液を室温で２時間撹拌した後、氷水、
水酸化ナトリウム水溶液を順次加え、室温でしばらく撹
拌する。クロロホルム居を分取し、水。 飽和食塩水の順で洗１？シたのち無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。クロロホルムを減圧で留去し、残渣をトル
エンから再結晶して目的物８．８ｇを得る。 参考例００ ４−ベンジル−２−メチルアミ／メチルモルボリ／の製
造： （１）　　／ｉ−ベンジル−２−アセチルアミノメチル
モルホリン６．０ｇをテトラヒドロフラン５ｏ−１に溶
解し、６０％水素化ナトリウム０．５３ｇを加え、室４
で１時間撹拌した後、ヨウ化メチル１．９ｇのテトラヒ
ドロフラン溶液を滴下する。室温で４時間撹拌した後テ
トラヒドロ７ランを留去し、残渣に水を加え酢酸エチル
で抽出する。イ「機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち溶媒を減圧で留去
する。残１ｈをシリカゲルのカラムクロマトグラフィー
に付し、りｌ’Ｊ口：１．ルムで溶出し、１ｓ媒を留去
してｉ＋ｌ＋状の４−ベンジル−２−（Ｎ−メチル）ア
セチルアミツメデルモルホリン６．３ｇを得る。 （２）　上記Ｎ　−メチル休６，３ｇを１０Ｖ＆塩酸１
２０　ｍｌに溶解し、５時間加熱還流する。今後、４８
％水酸化ナトリウム水溶液を加えて石基性にし、クロロ
ホルムで抽出する。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち溶媒を留去し
て油状の目的物６．０ｇを得る。 参考例９１ ２−ベンジルアミノ−５−二トロ安息’ＩＦ　ｍの製造
： ２−クロロ−５−二トロ安息香酸５ｇとべ／ジルアミン
１５　ｇのエタノール４０１溶液を１０時間加熱還流し
た後、減圧で溶媒を留去する。残渣を水１００１に懸濁
し、酢酸で弱酸性（ｐＨ約４）にする。 室ムで１時間撹拌し、析出結晶を岡取して「目的物４．
８ｇを得る。融点２３８〜２４８℃（エタ／−ルから再
結晶） 参考例９２ ２−へキシルアミノ−５−ニトロ安息香酸の製造： 参考例９Ｉにおけるベンジルアミンの代わりにヘキシル
アミ／を用い、参考例９１と同様に反応・処理して目的
物を得る。、融点１旧〜１６３℃（シイツブ［１ピルエ
ーテル−ヘキサンから再結晶）参考例９３ ２−アセチルアミノ−４−ジメチルアミノ−５−ニトロ
安息香酸の製造： ２−アセチルアミ／−４−クロロ−５−二トロ安息香酸
１１．３ｇ、　４９％ジメチルアミン水Ｍａ４０ｍｌ及
びエタノール１００■１から成る混合物を５時間加熱還
流した後、減圧でＣ縮する。残渣に水１００　ｍｌを加
え、酢酸で弱酸性（ｐＨ約４）にし、析出結晶をｈ２　
＋ｙして目的物８．６ｇを得る。 融点２３０〜２５５℃（エタノールから再結晶）参考例
９４ ２−アミ／−４−ジメチルアミノ−５−二トロ安Ｌ１．
６酸の製造： ２−アセデルアミ／−４−ジメチルアミノ−５−ニド「
１安息香酸０．５ｇ、濃塩酸２０ｍ１及び水８０ｍ１か
ら成る混合物を１００　’Ｃで３０’ｔ＞撹拌する。今
後、反応液に水酸化ナトリウム５ｇを加え、更に１０％
水酸化ナトリウム水溶液を均一溶液になるまで加える。 次いで酢酸で弱酸性（ｆａ１１約４）にし、析出結晶を
濾取して目的物４．８　ｇをｉする。 融点２４０〜２５０℃（メタノールから再結晶）参考例
９５ ２−アミノ−４−メチルアミノ−５−ニトロ安息香酸の
′Ａ造： ２−アセチルアミノ−４−クロロ−５−二トロ安息香酸
１０ｇと４０％モノメチルアミン水溶液６０−１の混合
物を８０℃で１０時間撹拌する。反応液を減圧で濃縮し
、５５渣に４０％モノメチルアミン水溶液ｌ００１を加
え、更に８０℃で２０時間撹ｌ↑する。今後、水５０１
を加え、酢酸で弱酸性（ｐＩ■約４）にし、析出結晶を
４取して目的物７．６ｇを得る。 融点２１３０〜２７２℃（アセトニトリルから再結晶）
ｔｊ考例９Ｇ ２−アセデルアミノ−４−クロロ−５−ジメチルアミノ
スルホニル安息香酸の製造： （１）　　り０ルスルホ７Ｗ！１２５ｇに、室温で２−
アセチルアミノ−４−クロロ安息香ｆｆ１８．５ｇを徐
々に加え、次いで１ｕｌｌ’を１５０℃までゆっくりと
上げ、４．５時間加熱する。今後、水中に反応液をゆっ
（りと注ぎ、析出する結晶を濾取し、水洗したのち乾燥
して２−アセチルアミ／−４−りｒｊ　Ｎ　−５−りｊ
’ｌ　ＩＪスルホニル安息香酸４．５ｇを得る。 伐）　上記５−クロ「Ｊスルホニル体４．５ｇのテトラ
ヒト＋】フシ１５０１溶液に、水冷下３０ＬＡジメチル
アミン水溶液３０１を加え、同潟度でＩ　０４７間撹拌
する。反応液に水＋００■１を加え、濃塩酸で酸性にし
、析出する結晶を濾取し、よく水洗したのち乾燥して目
的物３．９ｇを得る。 参考例９７ ２−アミノ−４−クロ０−５−ジメチルアミノスル；１
．ニル安息香酸の製造： ２−アセチルアミノ−４−クロロ−５−ジメチルアミノ
スルホニル安息香Ｗｔ３．９［の１ｏ％塩ｍ１ｏ。 １懸濁液を４時間加ＦＡ還流する。減圧で水を留去した
後、２０％炭酸カリウム水溶液でｐＨ５にし、析出する
結晶を濾取し、水洗したのち乾燥して目的物２．８ｇを
得る。 参考例９８ ２−アミノ−５−ブロモ−３〜ニトロ安息香酸の製造： ３−ニドロア７トラニル酸５．０ｇのジメチルホルムア
ミド２０ｍ１ｉｌ’ｊ液にＮ−ブロモスクシンイミド５
．５ｇを加え、室温で一夜放置する。反応液を氷水中に
１１ぎ、析出する結晶を濾取し、よく水洗したのち乾燥
して目的物０．５ｇを得る。 融点２０６〜２１３℃ 参考例９９ ７−シメチルアミノー６−二トロー２−７エニルー４１
１−３．１−ベンゾオキサジン−４−オンの製造： ２−アミノ−４−ジメチルアミ／−５−二トロ安息香酸
３．６ｇのピリジン３０１１溶液に室温でベンゾイルク
ロリド５．１ｇを加えた後、８０〜１００℃で２時間撹
拌する。反応液を氷水中に注ぎ、酢酸で弱酸性（ｆ）Ｉ
ｆ約６）にし、析出する結晶を濾取し、アセトニトリル
から再結晶して目的物３．７ｇを得る。　融点　１７８
〜口９℃ 参考例１００〜１０９ 対応する１！■料化合物を用い、参考例９９と同様に反
応・処理して表４に示す化合物を得る。 表　４ （以下余白） 実施例１ ４−アミ／−５−クロロ−２−エトキシ−Ｎ−［［４−
（４−フルオロベンジル）−２−モルホリニル］メチル
］ベンズアミドの製造：＋１１　２−アミノメチル−４
−（４−フルオロベンジル）モルホリン２．５ｇの趨化
メチレ：１５０ｍ１ｉ液に４−アミノ−５−クロ０−２
−エトキシ安息谷酸２．７ｇ、次いで１−エチル−３−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
２．４ｇを加え、室温で４時間撹拌する。反応液を水。 水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧で留去
し、残渣をエタノールから再結晶して目的物３．０ｇを
得る。融点１５１〜１５３℃（２）　上記遊離塩基２．
０ｇをエタノール５０１に溶解し、３５％エタノール塩
ｆｉ５ｍｌを加える。析出する結晶を濾取し、エタノー
ルから再結晶してＬＩ目的物塩酸塩１．０　ｇを得る。 融点１００〜１６３℃（３）　　上記遊離塩基７．０ｇ
をエタノール１００■１に加Ｆ′Ａ溶解し、クエン酸引
水和物３．８ｇを加える。 加熱してクエン酸を溶解した後、２０ｍ１までＣ躇ｉし
冷却する。析出する結晶を濾取し、エタノールから再結
晶して１］的物のクエ／酸塩８．６ｇを得る。 融点１４３〜１４５℃ （４）　　上記遊離塩Ｊλ１．Ｏｇを１０％クエン酸水
溶液４０１に加熱溶解した後、反応液を冷却する。析出
する結晶を濾取して目的物のクエン酸塩・２水和物１．
１　ｇを得る。融点■０〜！１３℃実施例２ ４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシ−Ｎ−［［４−
（４−フルオロベンジル）−２−モルホリニル］メチル
］ベンズアミドの製造：４−アミ／−５−クロロ−２−
エトートシ安息香ｍ２．９ｇの塩化メチレン５０１懸濁
液にトリエチルアミン１．６ｇを加え、内温を一５℃に
冷却した後、り「！ル炭酸イソブチル２．０ｇを少しず
つ加える。 −５℃で１時間撹拌した後、２−アミノメチル−４−（
４−フルオロペンツル）モルホリン３．０ｇの塩化メチ
レンｌ０ｗ１溶液を滴下し、加え終わったのち室温で一
夜撹拌する。反応液を水、１０％水酸化ナトリウム水溶
液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣をエタノールから
再結晶して目的物４．１　ｇを得る。融点１５１〜１５
３℃実施例３ ４−７ミノーＮ−［３−（４−ベンジル−２−モルホリ
ニル）プロピル］−５−クロロー２−メトキシベンズア
ミドの製造： ２−（３−アミノプロピル）−４−ベンジルモルホリン
２．０ｇの塩化メチレン４０１溶液に４−アミノ−５−
クロロ−２−メトキシ安息香酸１．７ｇ１次いで１−エ
チル−３−（３−ジメチルアミツブ［Ｊピル）カルポジ
・ｆミド地酸塩１．８　ｇを加え、室温で４時間撹拌す
る。反応液を水、水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食
塩水の順で洗ン争し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶媒を減圧で留去し、残渣をクロロホルムに溶解し、
シリｉＪゲル３０ｇを用いてカラムクロマトグラフィー
を行う。クロロホルム溶出部を捨て、１０％０％メタノ
−ルーフ１１１ホルム部を集め、溶媒を留去して油状の
目的物２．５ｇを得る。 この遊離塩基をエタノール５０１に溶解し、シュウｆｆ
１０．０ｇのエタノールｌ０ｍ１溶液を加えて約１０ｍ
１まで濃縮した後ジエチルエーテルを加える。析出する
結晶を濾取し、エタノールから再結晶して目的物のシュ
ウ酸塩・１／２水和物を得る。 融点■８〜＋２１”Ｃ 実施例４ ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベアジル−２−モルホリニル
）メチル］−２−ブトキシー５−クロロベンズアミドの
製造： ４−アミノ−Ｎ−［（４−べ／ジルー２−モルホリニル
）メチル］−５−クロロー２−ヒト「Ｉキシベ／ズアミ
ドル、ＯｇをＩＮ水酸化ナトリウｌ−水溶液３２１に溶
解し、撹拌下、臭化テトラブチルアンモニウム３．４ｇ
を加える。続いて、塩化メチレン３２１．臭化ブチル４
．３ｇを加え、室温で１５時間撹（↑する。反応液を減
圧で濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、水、次いで飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、５％メタノールークＩｊＯホルムで溶出
し、面状物５．５ｇを得る。これをエタノール２０１に
溶解し、フマルＩＩ１．５ｇを加え、しばらく撹拌する
。 析出する結晶をｔ３取し、エタノールから再結晶して目
的物のフマル酸塩弓１２水和物４．６ｇを得る。 融点１８８〜１９０℃ 実施例５ Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル）メチル］−
６−ブロモー２．３−ジメトキシベンズアミトの製造： り１１０；１．ルム３０１に６−ブロモ−２，３−ジメ
トキシ安息香＃１．５ｇ、塩化チオニル！、Ｏｇ及びジ
メチルホルムアミド１　ｔＲを加え、撹拌しながら１ｆ
ｉＩｆ間加熱還流する。減圧でクロロホルムを留去した
後、トルエン２０１を加え更に減圧でＱＭする。 残渣をクロロホルム２０１に溶解し、トリエチルアミン
８１を加えた後、室温で２−アミノメチル−４−べ７ジ
ルモルホリ：／ｌ、８ｇのクロロホルム２０■１溶液を
滴下する。反応液を室温で一夜撹拌した後、水、水酸化
ナトリウム水Ｈ液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧で留去して浦吠の目的物２．Ｉｇを得る。 マス・スペクトルｍ／ｚ　：　４４８　（Ｍ”　）実施
（ζ１６ ４−アミノ−５−クロロ−Ｎ−［（４−エトキシカルボ
ニル−２−モルホリニル）メチル］−２−メトキシベン
ズアミドの製造： ２−アミノメチル−４−エトキシカルボニルモル；１．
リン５．８ｇの塩化メチレン１００■１溶液に４−アミ
ノ−５−クロロ−２−メトキシ安息香酸５．０ｇ１次い
で１−エヂルー３−（３−ジメチルアミ／プ「１ピル）
カルボジイミド塩酸塩５．２ｇを加え、室ｉシで４時間
撹拌する。反応液を水、水酸化ナトリウ！・水溶液、水
、飽和食塩水の順で洗１子し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣をクロロホルムに
溶解し、シリカゲル８０ｇを用いてカラムクロマトグラ
フィーを行う。 クロロホルム溶出部を捨て、１０％０％メタノ−ルーフ
０；１、ルム溶出部を集め、＋８煤を留去して面状の目
的物７．５ｇを得る。 この遊離塩基をエタノールに溶解し、シュウ酸１゜９ｇ
のエタノール溶液を加えて約１０ｍ１までり縮した後ジ
エチルエーテルを加える。析出する結晶を濾取して目的
物のシュウ酸塩を得る。 融点１４０〜＋５１”Ｃ 実施例７ ４−アミノ−５−り１：１Ｏ−Ｎ−［［４−（４−シア
ノベンジル）−２−モルホリニル］メチル］−２−メト
キシベンズアミドのｍ造： ２−アミノメチル−４−（４−シアノベンジル）モルホ
リフ１．５ｇの塩化メチレン４０ｇ１６ｉｆｆｌに４−
アミ／−５−クロ１１−２−メトキシ安息香酸１．２ｇ
１次いで１−エチル−３−（３−ジメチルアミ／プ［１
ピル）カルボジイミド塩酸塩１．３ｇを加え、室温で３
時間撹拌する。反応液を水、水酸化ナトリウム水溶液、
水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を減圧で留去して浦杖の目的物を得る。 この遊離塩基を少量のエタノールに溶解し、フマル酸０
．７ｇのエタノール溶液を加えた後、約ＩＯ■１までＱ
縮する。冷却し、析出する結晶を濾取し、エタノールか
ら再結晶して目的物のフマル酸塩を得る。融点１６３〜
１０７℃ 実施例８ ４−アミ／−Ｎ−［２−（４−べ／ジル−２御キシベノ
ズアミドの製造： 実施例１　（１）における２−アミツメデル−４−（４
−フルオロベンジル）モルホリンの代わりに２−（２−
アミノエチル）−４−べ／ジルモルホリンを用い、実施
例１（１）と同様に反応・処理して［１的物を得る。融
点１４９〜１５１°Ｃ（メタノールから再結晶） 実施例９ ４−アミ／−　Ｎ　−　［２　−　（４−ベンジル−２
−（−ル：１，リニル）エチル］ー５ークロロー２ーメ
トキシベ／ズアミドの製造： 実施例７における２−アミノメチル−４−（４−シア７
ベ／ジル）モルホリ／の代わりに２−（２−アミノエチ
ル）−４−ベンジルモルホリンを用い、実施例７と同様
に反応・処理して目的物の１／２フマル酸塩・３／２Ｅ
ｔＯＩＩを得る。 Ｍ点［ｉ８〜７２℃（エタノール−ジエチルエーテルか
ら再結晶） 実施例１０ ４−アミノ−Ｎ−［２−［４−（４−シアノベンジル）
−２−モルホリニル］エヂル］−５−クロ１１−２−メ
トキシベンズアミドの５！２造：実施例７の第１パラグ
ラフにおける２−アミノメチル−４−（４−シアノベン
ジル）モルホリフの代わりに２−（２−アミノエチル）
−４−（４−シアノベンジル）モルホリンを用い、実施
例７の第１パラグラフと同様に反応・処理して目的物の
１／４水和物を得る。＠点１８０〜１８２℃（インプロ
ピルアルコールから再結晶） 実施例Ｉ！ ５−クロロ−Ｎ−［１：４−　［３−（４−クロロフェ
ニルオキシ）プロピル］−２−モルホリニル］メチル］
−４−ジメチルアミノ−２−メトキシベンズアミドの５
！Ｉ這： 実施例７の第１パラグラフにおける２−アミノメチル−
４−（４−シアノベンジル）そルホリンと４−アミノ−
５−クロロ−２−メトキシ安息香酸の代わりに、それぞ
れ２−アミノメチル−４−［３−（４−クロロフェニル
オキシ）プロピル］そル、１．リンと５−クロロ−４−
ジメチルアミノ−２＝メトキシ安息谷酸を用い、実施例
７の第１パラグラフと同様に反応・処理して目的物の１
／２水和物を？ｉする。融点１２８〜１３０℃（エタノ
ールから再結晶） 実施例１２ ５−クロロ−Ｎ−［［４−（４−シアノベンジル）−２
−モルホリニル］メチル］−４−ジメヂルアミノ−２−
メトキシベンズアミドの製造：実施例７の第１パラグラ
フにおける４−アミ／−５−クロロ−２−メトキシ安息
香酸の代わりに５−クロロ−４−ジメチルアミノ−２−
メトキシ安息香酸を用い、実施例７の第１パラグラフと
同様に反応・処理して目的物を得る。 融点　１０１〜１０３℃（エタノールから再結晶）実施
例１３ ４−アミノ−５−クロロ−Ｎ−［［４−（２−クロロベ
ンジル）−６−メチル−２−モルホリニルコメチル］−
２−エトキシベンズアミドの製造：（１）２−アミ／メ
チル−／１−（２−りａｎベアジル）−６−メチルモル
ホリン２．２ｇの塩化メチレフ５０１溶液に４−アミノ
−５−クロ［１−２−エトキシ安息香酸１．９ｇ１次い
で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カ
ルボジイミド塩酸塩１．７ｇを加え、室潟で４時間撹拌
する。反応液を水、水酸化ナトリウム溶液、水、飽和食
塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 １溶媒を減圧で留去し、残渣をシリカゲル８０１ｒのカ
ラムクロマトグラフィーに付す。酢酸エヂルーヘキサン
ークロロホルム（１：１’：１）で溶出する部分を集め
、溶−煤を減圧で留去して面接の目的物２．６ｇを得る
。 （２１上ｊ己遊離塩基２．６ｇを”　９　／　−ル５０
ｍ１に溶解し、フマルｒｖ！ｔ１．５ｇのエタノール２
０ｍ１溶液を加え、約１０１まで濃縮する。析出する結
晶を一１ｉｆｔ　Ｉ、、イソプロピルアルコールから再
結晶して目的物の２７マル酸塩を得る。　融点１５０−
１５４℃実施例１４ ４−アミ／−５−クロロ−Ｎ−Ｉｍ［４−（２−り１０
ベンジル）−５，５−ジメチルー２−モルホリニル］メ
チル］−２−メトキシベンズアミドの製造； 実施例＋］（１１における２−アミ／メチル−４−（２
−りＬｌ　ｔ’ｌべ／ジル）−６−メチルモルホリンの
代わりに２−アミノメチル−４−（２−クロロベンジル
）−５，５−ジメチルモル５１；リンを用い、実施例１
３（１１と同様に反応・処理して目的物を得る。 融点１８１〜１８４℃（エタノールから再＄＋！ｊ品）
実施例１５ ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベアジル−ヘキサヒト０−１
．４−オ牛すゼピ／−２−イル）メチル］−５−クロロ
ー２−エトキシベンズアミドの製造：実施例＋３（１）
における２−アミノメチル−４−（２−クロロベンジル
）−６−メチルモルポリ／の代わりに２−アミノメチル
−４−ペンジルーヘヤサヒドロー１，４−オキサゼビ／
を用い、実施例ｌ１ｌ（１）と同様に反応・処理して目
的物を得る。この遊離塩基を実施例７６■と同様にして
フマル酸塩となし、イソプロピルアルコールから再結晶
してｎ的物の７マル酸塩を得る。　融点１８０〜１８３
℃実施例１６ ４−アミノ−Ｎ−Ｃ（４−べ／ジルー６−フェニルー２
−モルホリニル）メチル］−５−クロロー２−エトキシ
ベンズアミドの製造： 実施例＋３（１）における２−アミ７メチルー４−（２
−クロロベンジル）−６−メチルモルホリ／の代わりに
２−アミノメチル−４−べ／ジル−６−７エニル に反応・処理して油状の目的物を得る。 マス・スペクトルｍ／ｚ　：　４７９　（　Ｍ”　）実
施例１７ ４−アミノ−Ｎ−［（４−ぺ／ジルー５ー７エールー２
ーモルホリニル）メチル］ー５ークロロー２ーエトキン
ベ／ズアミドの製造： 実施例Ｉ３における２−７ミノメチルー４−（２−りｏ
ｎベンジル）−６−メチルモルホリ／の代わりに２−ア
ミツメデル−４−べ／ジルー５ーフェニルモルホリンを
用い、実施例Ｉ３と同様に反応・処Ｐ１１シてｎ的物の
３／４フマル哉塩を得る。 ＨＡ　点２　１　（ｉ〜２２１℃（エタノールから再結
晶）実施例１８ ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−５−メチル−２−
モルホリニル）メチル］ー５ークロロー２ーエトキシベ
／ズアミドの製造： 実施例１３０）における２−７ミ／メチＩレー４−（２
−クロロベンジル）−６−メチルモル：１，リンの代わ
りに２−アミツメデル−４−ベンジル−５−メチルモル
ホリンを用い、カラムク１マドグラフイーの際の溶出溶
媒がクロロホルムであることを除いて、実施例＋３（１
）と同様に反応・処理し、低極性溶出部分を集めて溶媒
を留去する。残ｔ／Ｌに７マル酸のエタノール溶液を加
え濃縮して、モルホリフ部分の２位のメチレンと５位の
メチルの相対配置がシスである目的物の７マル酸塩を得
る。 融点　１４〜１１６℃（インプロピルアルコールから再
結晶） 高極性溶出部分も集めて溶媒を留去し、残渣をイソプロ
ピルアルコールから再結晶してモルホリン部分の２位の
メチレンと５位のメチルの相対配置がトランスである目
的物を得る。　融点１０９〜１１１℃（インプロピルア
ルコールから再結晶）ＮＭＲ　７．へ９　）　ル（ＣＤ
Ｃｌ２＞　６　：　３．３４（ｔｌ−２ａｘ。 ｄｄ，　　Ｊ２Ｌに−２・＊　＝１１．２）１ｚ　ｌ　
Ｊ２”−３　＝１０．３）１ｚ　）　＋３、７（ｉ　（
　ＩＩ−２”）　、　ｄｄ，　　ＪｔｅＬｔ”　＝　Ｉ
ｌ．２１１ｚ　ｌ　Ｌ”Ｌ＊＝３．３１−１ｚ　　）　
　　、２．４１　　（Ｉｆ−３，　　　ｍ）　　　、１
．９３（ＩＩ−５　　　　。 ｄｄ　＊　　　Ｊ　ｓ”　−　ｓＱ　　＝　１　１　、
０　夏１ｚ　　、　　Ｊｓ”−ｏ　　＝　　ＩＯ．ＩＩ
Ｉｚ　　）　　。 ２、０７　（　ＩＩ−５７　、　ｄｄ．　　Ｊｓ”＃−
ｓＬＸ＝　Ｉｌ．ＯＩＩｚ　、　Ｊｓ’？−。 ＝　２．１１［ｚ　）　、　３．０４　（　ＩＩ−Ｇ　
、　ｍ　）実施例１９〜１４０ 対応する原料化合物を用い、実施例１〜３。 ５〜７及び１３と同様に反応・処理して表５〜８に示す
化合物を得る。 表５ 表　５（続き） 表５（続き） 表５（続き） （以下余白） 表６ 表８ 対応する１１；（料化合物を用い、実施例４と同様に反
応・処理して表０に示す化合物を得る。 表０ 表９（続き） 表９（続き） 実施例１８５ ５−［Ｎ＝（４−ベンジル−２−モルホリニル）メチル
］カルバモイル−６−メドキシーＩ　ＩＩ−ベアシトリ
アゾールの製造： 実施例２における４−アミノ−５−クロロ−２−エトキ
シ安息香酸と２−アミノメチル−４−（４−フルオロベ
ンジル）モルホリ／の代わりに、それぞれ５−力、ルボ
キシ−６−メトキシ−Ｉ　ＩＩ　−べ／シトリアゾール
と２−アミノメチル−４−ベンジルモルホリンを用い、
実施例２と同様に反応・処理して目的物を得る。　融点
　１４５〜１４７℃（酢酸エチル−アセトンから再結晶
） 実施例１８６ ２−べ／シイルアミノーＮ　−［（４−ベンジル−２−
モルホリニル）メチル］−４−ジメチルアミ／−５−ニ
トロベンズアミドの製造ニ ア−ジメチルアミノ−６−ニトロ−２−フェニル−４Ｉ
Ｉ　−３，１−ベンゾオキサシアー４−オン３．３Ｊ７
，２−アミノメチル−４−べ／ジルモルホリノ２．２ｇ
のテトラヒドロ７ラン６０■１溶液を４　［１４７間加
熱還流する。減圧で溶媒を留去した後、残を存をンリカ
ゲルのカラムクロマトグラフィーに（ｔｌｏ。 ２％メタノール−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去し
て目的物４．５　ｇを得る。融点１０１〜１６４℃（エ
タノールから再結晶） 実施例１８７〜１９６ 対応する原料化合物を用い、実施例ＩＦＩ［ｉと同様に
反応・処理して′＆ｌＯに示す化合物を得る。 （以下余白） 表１Ｏ １）　マス・スペクトルにおけるｍ／ｚ　（Ｍ”　）（
以下同じ）実施例１０７ Ｎ　−［（４−べ／ジルー２−モルホリニル）メチル］
−２−メチルアミノー５−ジメチルアミノスル；Ｉ；　
ニルベンズアミドの製造： Ｎ　−［（４−べ／ジルー２−モルホリニル）メチル］
−５−ジメチルアミノスルホニル−２−フル矛ロベンズ
アミド１．０ｇのエタ／−ルｌ０ｍ１Ｍ１＆に３０％メ
ヂメチミンエタノールｔｉｌ液１ｍｌを加え、４８時間
加熱還流する。溶媒を減圧で留去し、残渣をクロロホル
ムに溶解し、水洗したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を減圧で留去し、残γｈをエタ／−ルから再
結晶して目的物０．６ｇを得る６　融点　１４５〜１４
０℃ 実施例１９８〜２０２ 対応する原料化合物を用い、実施例＋９７と同様に反応
・処理して表１１に示す化合物を得る。 （以下余白） 表１１ 実施例２０３ ５−アミノ−２−ベンゾイルアミノ−Ｎ　−［（４−ベ
ンジル−２−モルホリニル）メチル］−４−ジメチルア
ミノベンズアミドの製造： ２−ベンゾイルアミノ−Ｎ　−［（４−ベンジル−２−
モルホリニル）メチル］−４−ジメチルアミノ−５−ニ
トロベ／ズアミド２．４ｇとり塩酸１５−１のメタノー
ル１５０冒１懸濁液に塩化第一スズ・２水和ｖＡ５ｓｒ
を加え、室、仙で１０！ｆ間撹（↑する。反応液に水２
００■１を加え、１０％水酸化ナトリウム水溶液でアル
カリ性にした後、クロロホルムで抽出する。 クロロホルム層を乾燥したのち減圧で濃縮し、残ｌｈを
シリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付す、、２％
メタノール−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去して粉
末状の目的物１．９　ｇを得る。 ？ス、　ス／＜クト／Ｉ／　ｍ／ｚ　：　４８７　（Ｍ
”　）実施例２０４ ５−ベンゾイルアミノ−Ｎ　−［（４−ベンジル−２−
モルホリニル）メチル］−２−ジメチルアミノベンズア
ミドの製造： Ｎ　−［（４−べ／ジルー２−モルホリニル）メチル］
−２−ジメチルアミノ−５−二トロペンズアミド１．１
ｇとメタノール１００■１の混合物を５％パラジウム炭
素１００鴫を触媒として室温、常圧で水素添加する。計
算量の水素を吸収したのち触媒を濾去し、濾液を減圧で
濃縮する。残渣をクロロホルム２０１に溶解し、ベンゾ
イルクロリド０．５ｇを加えて室温で１時間撹拌する。 反応液を希水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥した
のち減圧で濃縮する。残渣をシリカゲルのカラムクＩ７
マトグラフイーに付し、２％メタノールークロロホル１
１でｌ？Ｅ出し、溶媒を留去して粉末状の目的物０．８
ｇヲ得ル。マス・スペクトルｍ／ｚ　：　４７２　（Ｍ
”　）実施例２０５ ５−アセチルアミノ−２−べ／シイルアミノーＮ　−［
（４−ベンジル−２−モルホリニル）メチル］−４−ジ
メチルアミノベ／ズアミドの製造：５−アミ／−２−ベ
ンゾイルアミノ−Ｎ　−［（４−べ／ジルー２−モルホ
リニル）メチル］−４−ジメチルアミノベ／ズアミド０
．６ｇと無水酢酸２−１のピリジン５１溶液を室温で一
夜放置した後、水！００■１を加え、酢酸で弱アルカリ
性（ｐＨ約８）にする。水層を傾去し、残渣の油接物質
をクロロホルムで抽出し、クロロホルム層を乾燥したの
ち減圧でＷ５ｔＭする。残渣をシリカゲルのカラムクロ
マトグラフィーに付し、２％メタノール−クロロ、１．
ルムで溶出し、溶媒を留去して粉末状の目的物０．４ｇ
を得る。マス−２ベクトルｍ／ｚ　：　５２９　（Ｍ”
　）実施例２０６ ４−４Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル）メチ
ル］カルバモイル］−２，３−ジヒドロベ７ズイミダゾ
ール−２−オンの製造： ２−アミノ−Ｎ　−［（４−ベンジル−２−モルホリニ
ル）メチル］−３−ニトロベンズアミＦ０．９ｇのメタ
ノール１０１溶液に、水冷下、塩化第一スズ１．７ｇの
濃塩酸３−１溶泗を滴下した後、徐々に室温にもどし一
夜撹拌する０反応液に水酸化ナトリウム水ｉ８液を加え
てアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。 溶媒を減圧で留去し、残渣を無水テトラヒドロフラン５
ｍｌに溶解し、Ｎ、Ｎ’−カルボニルジイミダゾール０
．５ｇを加え、室温で一夜放置する。溶媒を減圧で留去
し、残渣をクロロホルムに溶解し、シリカゲルのカラム
クロマトグラフィーに付す。 ２％クロロホルノーーメタノールで溶出し、溶媒を留去
して粉末状の目的物を得る。 マス・スペクトルｍ／ｚ　：　３００　（Ｍ”　）実施
例２０７ ４−アミ７〜５−クロロ−２−メトキシ−Ｎ−（２−モ
ルホリニルメチル）ベンズアミドの′！Ａ造：４−アミ
ノー５−クロロ−Ｎ−［（４−エトキシカルボニル−２
−モルホリニル）メチル］−２−メトキシベンズアミド
０．１ｇ　、水酸化カリウムＩＯ，１ｇ及びインプロピ
ルアルコール６０１から成る混合物を撹拌しながら３時
間加熱還流する。溶媒を減圧で留去し、残渣にクロロホ
ルムと水を加えて振盪する。イ「種層を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
で留去する。 残ｔＮをイソプロピルアルコールから再結晶して目的物
１．４ｇを得る。融点ｔＣ＋〜１０２°ＣＣ＋側２０８ ４−アミ／−Ｎ−［［４−（４−カルボキシベンジル）
−２−モルホリニル］メチル］−５−クロロ−２−メト
キシベンズアミドの製造：（１）　４−アミ／−Ｎ−［
（４−ベンジル−２−モル：１、リニル）メチル］−５
−クロロー２−メトキンベンズアミド５．０ｇ、　　エ
クノール１００薦１及び酢１”ｆｔ２２０ｍ　ｌから成
る混合物を１％パラジウム炭素を触媒として室、２下常
圧で水素添加する。計算量の水（：を吸収した後、触媒
を濾去し、濾液を減圧で濃縮して４−γミノー５−クロ
ロー２−メトキシ−Ｎ−（２−モルホリニルメチル）ベ
ンズアミドを得る。 ■　上記脱ベンジル体３．８ｇ、４−ブロモメチル安息
香酸２．７ｇ、　ヨウ化カリウム１ｇと無水炭酸カリウ
ム１８ｇにメチルエチルケトン８０１とジメチルホルム
アミド２０１を加え、２１時間加熱還流する。不溶物を
濾取し、水に溶解し、濃塩酸で酸性にすると結晶が析出
する。これを濾取し、エタノールから再結晶して目的物
の塩酸塩２．０ｇを得る。 融点２４０〜２４２℃ 実施例２０９ ４−アミノ−５−クロロ−Ｎ−［［４−［３−（２，３
−ジヒドロベンズイミダゾール−２−オン−１−イル）
プロピル］−２−モルホリニル］メチル］−２−メトキ
シベンズアミドの製造：（璽）　４−アミノ−Ｎ−［（
４−ベンジル−２−モルホリニル）メチル］−５−クロ
ロー２−メト午シベ／ズアミド５．０ｇ、エタノールｌ
００１及び酢酸２０１から成る混合物を１０９Ａパラジ
ウム炭素１ｇを触媒として室温下常圧で水素添加する。 計算量の水素を吸収した後、触媒を濾去し、濾液を減圧
で濃縮して４−アミノ−５−クロロ−２−メトキシ−Ｎ
−（２−モルホリニルメチル）ベンズアミドを得る。 ■　上記脱ベンジル体３．８ｇ、１−　（３−１０ロプ
ロピル）−２，３−ジヒドロベンズイミダゾール−２−
オン２．７ｇ、ヨウ化カリウム１ｇと無水炭酸カリウム
１８ｇにメチルエチルケトン８０１とジメチルホルムア
ミド２０１を加え、石時間加熱還流する。不溶物を濾去
し、濾液を減圧ａｍする。残渣にクロロホルムと水を加
えて振盪し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣をシ
リカゲル５０ｇのカラムクロマトグラフィーに付す。１
０％メタノール−クロロホルム溶出部を集め、溶媒を減
圧で留去して油状の目的物を得る。これをシュウ酸のエ
タノール溶液で処理してシュウ酸塩となし、メタノール
から再結晶して目的物の２シ、つ酸塩・１　／２　Ｍｅ
ｏｌｌを得る。　融点１９１〜１９５℃実施例２１０ ４−アミノ−Ｎ−［［４−［３−（４−アミノフェノキ
シ）プロピル］−２−モルホリニル］メチル］−５−ク
ロロ−２−メトキシベンズアミドの製造： ４−アミノ−５−クロロ−３−メトキシ−Ｎ−［［４−
［３−（４−ニトロフェノキシ）プロピル］−２−モル
ホリニル］メチル］ベンズアミド寺１１５　ＥｔＯＩＩ
　１．７　ｆｆとエタノール５０■１の混合物を酸化白
金０．３ｇを触媒として室温、常圧で水素添加する。Ｊ
１算量の水素を吸収したのち触媒を濾去し、濾液を減圧
で約１０１まで濃縮する。この残液にシュウ酸のエタノ
ール５１溶液を加え、再び約１０１まで濃縮した後ジエ
チルエーテルを加える。 析出する結晶をｊｌ−２Ｉｆｌｌし、エタノールから再
結晶して目的物のシュウ酸塩・３／２ＥｔＯＩＩ・ｌ／
２水和物０．８ｇを得る。融点２１２〜２１０℃実施例
２１１ ４−アミノ−Ｎ−［（４−べ／ジルー２−モルホリニル
）メチル］−５−クロロ−２−（２−ヒドロキシプロポ
キシ）ベンズアミドのｉ！！造：４−アミノ−Ｎ−［（
４−ベンジル−２−モルホリニル）メチル］−５−クロ
ロ−２−（２−オキンプロボキシ）ベンズアミド１．０
　ｇをメタノール１５−１に溶解し、撹拌しながら水素
化ホウ素ナトリウム０．１４ｇを加えた後、室温で３０
分撹拌を続ける。メタノールを減圧で留去し、残渣にク
ロ「」ホルムを加える。クロロホルム溶液を水洗し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧で留去して油状
の目的物１．３ｇを得る。これをエタノール１０■１に
溶解し、フマル酸０．４２ｇを加え、しばらく撹拌する
。析出物を濾取し、エタノールから再結晶して目的物の
１／２フマル酸塩・３／４水和物を得る。融点９４〜９
７℃ 実施例２１２ ４−アミノ−２−（３−アミノプロポキシ）−Ｎ−［（
４−ベンジル−２−モルホ、リニル）メチル］−５−ク
ロロベンズアミドの製造：、１−アミノ−Ｎ−［（４−
べ／ジルー２−モルホリニル）メチル］−５−クロロ−
２−（３−フタルイミドプロポキシ）べ／グアミド１．
２ｇのエタノール３０■１ｒＢｉｌ［に、８５％抱水ヒ
ドラジン０．２２ｇを加え、撹拌しながら２時間加熱還
流する。析出結晶を濾去し、ｒｈ２液にクロロホルムを
加え、水。 飽和食塩水の順で洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒を減圧で留去し、得られる油状物を酢酸エ
チルで結晶化して目的物の１永和物０．７ｇを得る。融
点７７〜７９℃ 実施例２１３ ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル
）メチル］−２−カルボキシメトキシ−５−クロロベン
ズアミドの製造： ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル
）メチル］−５−クロロー２−エトキシ力ルポニルメト
キシベ／ズアミド０．７ｇのエタノール１５ｍ１溶液に
、ＩＮ水酸化ナトリウム水水溶本番５腸１を加え、１時
間加熱還流する。エタノールを留去し、残液を１０％塩
酸で中和したのち０縮乾固する。残渣を水−エク／−ル
（１：Ｉ）から再結晶して目的物の１／４水和物０．３
ｇを１１）る。 融点２５２〜２５５℃ 実施例２１４ ４−アミノ−Ｎ−［（４−ベンジル−２−モルホリニル
）メチル］−５−クロロー２−ヒトロートジベンズアミ
ドの製造： ６０％水素化ナトリウム０．５２ｇのジメチルホルムア
ミド２０１懸濁液に、水冷下エフ／チオール０．８１Ｓ
ｒのジメチルホルムアミド５園１溶液を加え、室、急で
０．５時間撹拌する。反応液に４−アミノ−Ｎ−［（４
−ベンジル−２−モルホリニル）メチル］−５−クロ０
−２−メトキシベンズアミド３．４ｇを加え、１００℃
で１時間撹拌する。今後、溶媒を減圧で留去する。残渣
に水を加え、りＯＩ−１ホルムで洗庁した後、１０％塩
酸で中和する。析出物を濾砲し、水洗した後イソプロピ
ルアルコールかう再結晶して目的物の１水和物２．３ｇ
を得る。 融点１５３〜１５５℃ 実施例２１５ ２−［（４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシベンゾ
イル）アミノメチル］−４−（２−クロロベンジル）−
４−メチルモルホリニウム　ヨーシトの製造： ４−アミノ−５−クロロ−Ｎ−［［４−（２−クロロベ
ンジル）−２−モルホリニル］メチル］−２−エトキシ
ベ／ズアミド２．４ｇのメタノール１００■曹溶液にヨ
ウ化メチル番、Ｏｇを加え、室温で２４時間撹拌する。 反応液に活性炭を加え、しばらく加熱した後、活性炭を
濾去する。濾液を減圧で約１０＋１まで濃縮し、析出す
る結晶を鑵取し、メタ／−ルから再結晶して目的物の１
／２水和物＋、ａｇを得る。融点１８４〜１８８℃ 実施例２１０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒは水素原子、低級アルコキシカルボニル基、
   アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキル基、シ
   クロアルケニル基、置換基を有する低級アルキル基（該
   置換基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルコキシ
   基、アシルオキシ基、シアノ基、ジ置換アミノ基、シク
   ロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素環基又は
   非置換もしくは置換ヘテロアリール基である）、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基、非置換もしくは置換ア
   リール（低級）アルケニル基、▲数式、化学式、表等が
   あります▼（Ｕ は単結合又はカルボニル基を意味し、Ｖは低級アルキレ
   ン基を意味し、Ｙ＿１は水素原子、ハロゲン原子、低級
   アルキル基又は低級アルコキシ基を意味し、Ｙ＿２は水
   素原子又は低級アルキル基を意味する）で示される基又
   は −Ｔ−（Ｗ）＿ｐ−Ｒ＿８（Ｒ＿８、Ｔ、Ｗ及びｐは後
   記定義の通りである）で示される基を意味し、 Ｒ＿１は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メル
   カプト基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、ア
   ルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、酸素原子もし
   くはカルボニル基で中断されたアルコキシ基、置換基を
   有するアルコキシ基（該置換基はハロゲン原子、ヒドロ
   キシ基、アシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボ
   キシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基、モノ
   置換アミノ基、ジ置換アミノ基、フタルイミド基、シク
   ロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、非
   置換もしくは置換アリール基、非置換もしくは置換ヘテ
   ロアリール基、非置換もしくは置換フェノキシ基又は非
   置換もしくは置換ベンゾイル基である）、アシルオキシ
   基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基
   、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基、アミノ基、▲
   数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＿９は水素原子、
   低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロアルキル基
   又はアラルキル基を意味し、Ｒ＿１＿０は低級アルキル
   基、低級アルケニル基、シクロアルキル基、フェニル基
   又はアラルキル基を意味する）で示される基又はアシル
   アミノ基を意味し、 Ｒ＿２は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低
   級アルコキシ基又はニトロ基を意味するか、 あるいはＲ＿１とＲ＿２が一緒になって −ＮＲ＿９−ＣＯ−ＮＨ−（Ｒ＿９は前掲に同じものを
   意味する）で示される基又は−Ｏ−ＣＨＲ＿１＿１−Ｃ
   ＨＲ＿１＿２−（Ｒ＿１＿１及びＲ＿１＿２は同一又は
   異なって水素原子又は低級アルキル基を意味する）で示
   される基を形成してもよく、 Ｒ＿３は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、
   アミノ基、▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＿９
   及びＲ＿１＿０は前掲に同じものを意味する）で示され
   る基、アシルアミノ基、カルボキシ基、低級アルコキシ
   カルボニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基又はニ
   トロ基を意味し、 Ｒ＿４は水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル
   基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シア
   ノ基、アミノ基、▲数式、化学式、表等があります▼（
   Ｒ＿９及びＲ＿１＿０は前掲に同じものを意味する）で
   示される基、アシルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
   ル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、
   ジ低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルチオ基、
   低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル
   基、スルファモイル基、低級アルキルスルファモイル基
   又はジ低級アルキルスルファモイル基を意味するか、 あるいはＲ＿３とＲ＿４が一緒になって−ＮＲ＿９−Ｎ
   ＝Ｎ−（Ｒ＿９は前掲に同じものを意味する）で示され
   る基又は−Ｎ＝Ｎ−ＮＲ＿９−（Ｒ＿９は前掲に同じも
   のを意味する）で示される基を形成してもよく、Ｒ＿５
   は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は低級アル
   コキシ基を意味するか、 あるいはＲ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４及びＲ＿５の
   うち隣接するいずれか２個が一緒になって低級アルキレ
   ンジオキシ基を形成してもよく、 Ｒ＿６は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基
   又はアラルキル基を意味し、 Ｒ＿７は同一又は異なって水素原子、低級アルキル基又
   はフェニル基を意味し、 Ｒ＿８は非置換もしくは置換アリール基又は非置換もし
   くは置換ジフェニルメチル基を意味し、Ｘは低級アルキ
   レン基を意味し、 Ｔは単結合又は低級アルキレン基を意味し、Ｗは−Ｏ−
   、−Ｓ−、−ＣＯ−（ケタール化された形であってもよ
   い）、−ＮＲ＿１＿３−（Ｒ＿１＿３は水素原子又は低
   級アルキル基を意味する）、 −ＣＨ（ＯＲ＿１＿３）−（Ｒ＿１＿３は前掲に同じも
   のを意味する）、−ＳＯ−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯＮＨ
   −又は−ＮＨＣＯ−を意味し、 ｍは１〜３の整数を意味し、 ｎは１又は２を意味し、 ｐは０又は１を意味する。 但し、（ｉ）Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４及びＲ＿
   ５のうち少なくとも２個は水素原子以外の原子又は基を
   意味し、（ｉｉ）Ｔが単結合のとき、ｐは０を意味する
   。］ で表される化合物並びにその酸付加塩類、第４級アンモ
   ニウム塩類及びＮ−オキシド誘導体。