JPH0242211A - 真空装置用摺動機械部品 - Google Patents
真空装置用摺動機械部品Info
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- JPH0242211A JPH0242211A JP19203688A JP19203688A JPH0242211A JP H0242211 A JPH0242211 A JP H0242211A JP 19203688 A JP19203688 A JP 19203688A JP 19203688 A JP19203688 A JP 19203688A JP H0242211 A JPH0242211 A JP H0242211A
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- Japan
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- vacuum
- machine part
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- polyimide film
- bearing
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Landscapes
- Sliding-Contact Bearings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、真空蒸着装置、スパッタリング装置等の真空
装置の内部に於て使用される摺動機械部品に関する。
装置の内部に於て使用される摺動機械部品に関する。
（従来の技術）
従来、例えば真空蒸着装置には、その内部にシャッター
の開閉や、基板の自公転、基板の搬送などの可動機構が
設けられ、軸受、歯車などの摺動機械部品が数多く使用
されている。この場合、金属と金属が接触する部分には
主として黄銅の摺動機械部品が使用されることが多い。
の開閉や、基板の自公転、基板の搬送などの可動機構が
設けられ、軸受、歯車などの摺動機械部品が数多く使用
されている。この場合、金属と金属が接触する部分には
主として黄銅の摺動機械部品が使用されることが多い。
（発明が解決しようとする課題）
真空装置の内部に設けられた摺動機械部品が加熱される
と、カジリが発生して正常な作動を行なえなくなる不都
合があり、例えば基板を３００℃以上に加熱して光学膜
を真空蒸着する場合、基板の自公転治具やシャッター開
閉装置に使用されている歯車、軸受は等の摺動機械部品
も加熱され、基板の自公転やシャッターの開閉の作動に
異常を来たす欠点があった。
と、カジリが発生して正常な作動を行なえなくなる不都
合があり、例えば基板を３００℃以上に加熱して光学膜
を真空蒸着する場合、基板の自公転治具やシャッター開
閉装置に使用されている歯車、軸受は等の摺動機械部品
も加熱され、基板の自公転やシャッターの開閉の作動に
異常を来たす欠点があった。
また、摺動機械部品が例えば黄銅製の場合、２００℃以
上の真空中では黄銅に含まれる亜鉛が蒸発して真空室内
を汚染する欠点がある。
上の真空中では黄銅に含まれる亜鉛が蒸発して真空室内
を汚染する欠点がある。
本発明は、かかる不都合、欠点を解決し、高温、真空下
で正常に作動する機械部品を提供することを目的とする
ものである。
で正常に作動する機械部品を提供することを目的とする
ものである。
（課題を解決するための手段）
本発明では、真空装置に使用される軸受その他の摺動機
械部品の表面に、真空中でポリイミドの膜を形成するこ
とにより、前記目的を達成するようにした。
械部品の表面に、真空中でポリイミドの膜を形成するこ
とにより、前記目的を達成するようにした。
（作 用）
真空装置に使用される軸受、歯車、回転軸などの摺動機
械部品を例えば１０−’Ｔｏｒｒの真空中に置いて加熱
し、これに原料モノマーを蒸発させてポリイミドの膜を
形成する。該ポリイミドの膜の形成を真空中で行なうこ
とにより寸法精度が高く、細かい部品であっても精度よ
くその表面に膜を形成出来る。またポリイミドの膜で覆
われた該部品は、その膜により真空中での該部品からガ
スの放出が少なくなると共に摺動抵抗（動摩擦係数）が
低下し、部品のカジリを防止することが出来、該部品を
使用した装置の作動不良を防げる。
械部品を例えば１０−’Ｔｏｒｒの真空中に置いて加熱
し、これに原料モノマーを蒸発させてポリイミドの膜を
形成する。該ポリイミドの膜の形成を真空中で行なうこ
とにより寸法精度が高く、細かい部品であっても精度よ
くその表面に膜を形成出来る。またポリイミドの膜で覆
われた該部品は、その膜により真空中での該部品からガ
スの放出が少なくなると共に摺動抵抗（動摩擦係数）が
低下し、部品のカジリを防止することが出来、該部品を
使用した装置の作動不良を防げる。
（実施例）
本発明の実施例を別紙図面につき説明するに、第１図に
於て、符号（１）は真空容器、（２）は該真空容器（１
）内に設けられた基板加熱用ヒーター、（３）は該ヒー
ター（２）に取付けられたＳＵＳ製の軸受（３ａ）から
なる摺動機械部品、（４）は基板を示し、該基板（４）
は該軸受（３ａ）により支承されたＳＵｓ製の搬送用ロ
ーラー（５）により該真空容器（１）内を搬送されるよ
うにした。
於て、符号（１）は真空容器、（２）は該真空容器（１
）内に設けられた基板加熱用ヒーター、（３）は該ヒー
ター（２）に取付けられたＳＵＳ製の軸受（３ａ）から
なる摺動機械部品、（４）は基板を示し、該基板（４）
は該軸受（３ａ）により支承されたＳＵｓ製の搬送用ロ
ーラー（５）により該真空容器（１）内を搬送されるよ
うにした。
該摺動機械部品（３）の軸受（３ａ）は、第１図示のよ
うに真空容器＜１）内に取付けされる前に、例えば第２
図示のような真空排気系（６）と外周のヒータ（７）と
を備えたステンレス製の真空処理室（８）内に於てポリ
イミドの膜の形成処理が施される。
うに真空容器＜１）内に取付けされる前に、例えば第２
図示のような真空排気系（６）と外周のヒータ（７）と
を備えたステンレス製の真空処理室（８）内に於てポリ
イミドの膜の形成処理が施される。
該処理室（８）内の上方には、蒸発口を上向きとした原
料モノマーの蒸発容器（９） （９）が設けられ、その
一方には原料モノマーとしてピロメリト酸二無水物が収
められ、もう一方には４．４′−ジアミノジフェニルエ
ーテルが収められる。そして該処理室（８）の内面及び
軸受（３ａ）をヒーター（７）により例えば２００℃に
加熱し、該処理室（８）内を１×１０−’Ｔｏｒｒに排
気すると、蒸発用容器（９） （９）から蒸発した原料
モノマーが軸受（３ａ）の全面に均一な膜厚で付着し、
ポリイミドの膜（ＩＯが形成される。
料モノマーの蒸発容器（９） （９）が設けられ、その
一方には原料モノマーとしてピロメリト酸二無水物が収
められ、もう一方には４．４′−ジアミノジフェニルエ
ーテルが収められる。そして該処理室（８）の内面及び
軸受（３ａ）をヒーター（７）により例えば２００℃に
加熱し、該処理室（８）内を１×１０−’Ｔｏｒｒに排
気すると、蒸発用容器（９） （９）から蒸発した原料
モノマーが軸受（３ａ）の全面に均一な膜厚で付着し、
ポリイミドの膜（ＩＯが形成される。
５ＵＳ３０４の摺動機械部品（３）同士が２ Ｘ １０
−’ＴＯｒｒの真空中で摩擦する場合、第３図の曲線Ａ
で示すようにその動摩擦係数は温度の上昇と共に増大す
るが、その少なくとも一方の部品（３）にポリイミドの
厚さ１０μｍの膜を形成すると同図の曲線Ｂで示すよう
に１桁以上小さい摩擦係数となった。
−’ＴＯｒｒの真空中で摩擦する場合、第３図の曲線Ａ
で示すようにその動摩擦係数は温度の上昇と共に増大す
るが、その少なくとも一方の部品（３）にポリイミドの
厚さ１０μｍの膜を形成すると同図の曲線Ｂで示すよう
に１桁以上小さい摩擦係数となった。
該ポリイミドの膜（′ＩＯを形成した軸受（３ａ）を第
１図示の如く使用した場合、真空容器（１）内をＩ Ｘ
１０””Ｔｏｒｒまで排気したのち基板（４）の処理
のためこれをヒーター（２）によって４５０℃に加熱す
ると、これに伴なって該軸受（３ａ）が３５０〜４５０
℃まで昇温するが、該基板（４）を４５０’Ｃで３０分
間ローラー（５）上に保持した後であっても該ローラー
（５）を回転して基板（４）を搬送することが出来た。
１図示の如く使用した場合、真空容器（１）内をＩ Ｘ
１０””Ｔｏｒｒまで排気したのち基板（４）の処理
のためこれをヒーター（２）によって４５０℃に加熱す
ると、これに伴なって該軸受（３ａ）が３５０〜４５０
℃まで昇温するが、該基板（４）を４５０’Ｃで３０分
間ローラー（５）上に保持した後であっても該ローラー
（５）を回転して基板（４）を搬送することが出来た。
これに対し、軸受（３ａ）にポリイミドの膜がないと、
前記と同様の高温真空状態では、軸受（３ａ）とローラ
ー（５）のＳＵＳ製のローラー軸との間にカジリを生じ
、ローラーが回転せず、基板（４）の搬送が出来なかっ
た。
前記と同様の高温真空状態では、軸受（３ａ）とローラ
ー（５）のＳＵＳ製のローラー軸との間にカジリを生じ
、ローラーが回転せず、基板（４）の搬送が出来なかっ
た。
尚、該摺動機械部品（３）が黄銅型である場合、これに
ポリイミドの膜を形成することにより該部品（３）から
の亜鉛の蒸発拡散を防げ、真空容器内の汚染が防げる。
ポリイミドの膜を形成することにより該部品（３）から
の亜鉛の蒸発拡散を防げ、真空容器内の汚染が防げる。
（発明の効果）
以上のように、本発明によるときは、真空装置に使用さ
れる摺動機械部品の表面に真空中でポリイミドの膜を形
成するようにしたので、摩擦が少なくなり、該部品から
の放出ガスを防ぐことが出来、真空装置の作動を良好と
なし得る等の効果がある。
れる摺動機械部品の表面に真空中でポリイミドの膜を形
成するようにしたので、摩擦が少なくなり、該部品から
の放出ガスを防ぐことが出来、真空装置の作動を良好と
なし得る等の効果がある。
第１図は本発明の実施例の裁断側面図、第２図はポリイ
ミドの膜の形成手段を示す断面線図、第３図は真空中に
於ける動摩擦係数の変化を示す線図である。
ミドの膜の形成手段を示す断面線図、第３図は真空中に
於ける動摩擦係数の変化を示す線図である。
Claims (1)
- 真空装置に使用される軸受その他の摺動機械部品の表面
に、真空中でポリイミドの膜を形成したことを特徴とす
る真空装置用摺動機械部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19203688A JPH0242211A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 真空装置用摺動機械部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19203688A JPH0242211A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 真空装置用摺動機械部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0242211A true JPH0242211A (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=16284537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19203688A Pending JPH0242211A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 真空装置用摺動機械部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0242211A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63172019A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-15 | Toyota Motor Corp | 組合せ摺動部材 |
-
1988
- 1988-08-02 JP JP19203688A patent/JPH0242211A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63172019A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-15 | Toyota Motor Corp | 組合せ摺動部材 |
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