JPH0243319B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0243319B2 JPH0243319B2 JP57041167A JP4116782A JPH0243319B2 JP H0243319 B2 JPH0243319 B2 JP H0243319B2 JP 57041167 A JP57041167 A JP 57041167A JP 4116782 A JP4116782 A JP 4116782A JP H0243319 B2 JPH0243319 B2 JP H0243319B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- object material
- plasma
- generation method
- turned
- ray generation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/009—Auxiliary arrangements not involved in the plasma generation
- H05G2/0094—Reduction, prevention or protection from contamination; Cleaning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＸ線発生源における材料構成に関す
る。
る。
従来、Ｘ線源とりわけレーザー光線または電子
線等による物体材料のプラズマ化によるＸ線源に
は、アルミニウム、モリブデン、炭素などの物体
材料を用い、雰囲気は通常真空が用いられてい
た。
線等による物体材料のプラズマ化によるＸ線源に
は、アルミニウム、モリブデン、炭素などの物体
材料を用い、雰囲気は通常真空が用いられてい
た。
しかし、上記従来技術では、物体材料のプラズ
マ化後の分解が行なわれず、上記物体材料がＸ線
発生装置の窓部等へ付着し、Ｘ線発生装置として
のＸ線発生の劣化を来たすという欠点があつた。
マ化後の分解が行なわれず、上記物体材料がＸ線
発生装置の窓部等へ付着し、Ｘ線発生装置として
のＸ線発生の劣化を来たすという欠点があつた。
本発明はかかる従来技術の欠点をなくし、プラ
ズマ化Ｘ線発生装置において、劣化のない効率的
なＸ線源を提供することを目的とする。
ズマ化Ｘ線発生装置において、劣化のない効率的
なＸ線源を提供することを目的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構
成は、Ｘ線発生源に関し、物体材料へのレーザー
光線または電子線の照射等により、物体材料のプ
ラズマ化によるＸ線を発生する装置において、物
体材料自体が分解あるいは、蒸発等によりガス化
され、周囲装置表面および主としてＸ線窓に付着
しＸ線の劣化を発生させず、容易にガス体あるい
はガス化後の排出を可能とすることを特徴とす
る。
成は、Ｘ線発生源に関し、物体材料へのレーザー
光線または電子線の照射等により、物体材料のプ
ラズマ化によるＸ線を発生する装置において、物
体材料自体が分解あるいは、蒸発等によりガス化
され、周囲装置表面および主としてＸ線窓に付着
しＸ線の劣化を発生させず、容易にガス体あるい
はガス化後の排出を可能とすることを特徴とす
る。
以下、実施例により本発明を詳述する。
第１図は本発明によるＸ線発生装置の一例を示
す装置の断面図である。ステンレス容器１内には
アルゴンあるいは窒素ガスが満たされ、物体材料
を入れる入口５、レーザー光線の入口となる石英
窓４、BeからなるＸ線窓３が容器１に設けられ、
入口５から氷柱又は氷片６が容器内に挿入され、
該氷柱又は氷片６に外部からレーザー光線７を照
準を焦点を絞つて入射し、氷をプラズマ化すると
20乃至40オングストロームの波長のＸ線８が強い
強度でＸ線窓８から放出される。プラズマ化され
た氷は水素ガスと酸素ガスとになり、Ｘ線容器の
内壁に付着することはなく、とりわけＸ線窓に付
着しＸ線照射強度を劣化させることがない。
す装置の断面図である。ステンレス容器１内には
アルゴンあるいは窒素ガスが満たされ、物体材料
を入れる入口５、レーザー光線の入口となる石英
窓４、BeからなるＸ線窓３が容器１に設けられ、
入口５から氷柱又は氷片６が容器内に挿入され、
該氷柱又は氷片６に外部からレーザー光線７を照
準を焦点を絞つて入射し、氷をプラズマ化すると
20乃至40オングストロームの波長のＸ線８が強い
強度でＸ線窓８から放出される。プラズマ化され
た氷は水素ガスと酸素ガスとになり、Ｘ線容器の
内壁に付着することはなく、とりわけＸ線窓に付
着しＸ線照射強度を劣化させることがない。
この様にプラズマ化後の生成物がガス体である
と、容器の内壁に付着することがない。すなわ
ち、プラズマ化後の生成物がガス体のものとし
て、氷（水の結晶体）の他アンモニアの結晶体、
アルゴン、クリプトン、キセノン等の各種不活性
ガスの氷すなわち結晶体があり、場合によつては
水等の液体物質もこれに該当する。更に、プラズ
マ化後、周囲雰囲気と反応して直ちにガス化する
ものとして、酸素雰囲気中の炭酸ガスの固体物
質、すなわちドライ、アイスがあり、一般にはド
ライ、アイスのプラズマ化後は炭素の折出がある
が、周囲酸素雰囲気により炭酸ガスとなる。前記
反応を応用する場合には各種炭化水素化合物もこ
れに該当する。
と、容器の内壁に付着することがない。すなわ
ち、プラズマ化後の生成物がガス体のものとし
て、氷（水の結晶体）の他アンモニアの結晶体、
アルゴン、クリプトン、キセノン等の各種不活性
ガスの氷すなわち結晶体があり、場合によつては
水等の液体物質もこれに該当する。更に、プラズ
マ化後、周囲雰囲気と反応して直ちにガス化する
ものとして、酸素雰囲気中の炭酸ガスの固体物
質、すなわちドライ、アイスがあり、一般にはド
ライ、アイスのプラズマ化後は炭素の折出がある
が、周囲酸素雰囲気により炭酸ガスとなる。前記
反応を応用する場合には各種炭化水素化合物もこ
れに該当する。
このようにプラズマ化後の物質がガス化する事
によりＸ線発生装置の照射強度の劣化のない効率
的なＸ線源となすことができる効果がある。
によりＸ線発生装置の照射強度の劣化のない効率
的なＸ線源となすことができる効果がある。
第１図は本発明になるＸ線源装置の一実施例を
示す断面図である。 １……Ｘ線装置容器、２……Ｘ線装置容器内雰
囲気、３……Ｘ線窓、４……レーザー入射窓、５
……試料挿入口、６……試料、７……レーザー光
線、８……Ｘ線。
示す断面図である。 １……Ｘ線装置容器、２……Ｘ線装置容器内雰
囲気、３……Ｘ線窓、４……レーザー入射窓、５
……試料挿入口、６……試料、７……レーザー光
線、８……Ｘ線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 物体材料へのレーザー光線または電子線の照
射等により前記物体材料をプラズマ化し、Ｘ線を
発生させるＸ線発生方法において、H2O、アン
モニア等の比較的低い融点の結晶固体を前記物体
材料として用い、物体材料のプラズマ化後の生成
物が、前記物体材料自身の分解または蒸発により
ガス化されることを特徴とするＸ線発生方法。 ２ 物体材料へのレーザー光線または電子線の照
射等により前記物体材料をプラズマ化し、Ｘ線を
発生させるＸ線発生方法において、アルゴン、ク
リプトン、キセノン等の不活性元素の結晶固体を
前記物体材料として用い、前記物体材料のプラズ
マ化後の生成物が、前記物体材料自身の分解また
は蒸発によりガス化されることを特徴とするＸ線
発生方法。 ３ 前記物体材料の周辺雰囲気を真空あるいはア
ルゴン、窒素等の不活性雰囲気とすることを特徴
とする特許請求の範囲第１項、第２項に記載のＸ
線発生方法。 ４ 物体材料へのレーザー光線または電子線の照
射等により前記物体材料をプラズマ化し、Ｘ線を
発生させるＸ線発生方法において、炭酸ガスの結
晶固体または液体を前記物体材料として用い、前
記物体材料を酸素雰囲気中でプラズマ化すること
によつて、前記炭酸ガスと前記酸素を化合しガス
化することを特徴とするＸ線発生方法。 ５ 物体材料へのレーザー光線または電子線の照
射等により前記物体材料をプラズマ化し、Ｘ線を
発生させるＸ線発生方法において、前記物体材料
に液体を用い、物体材料は、プラズマ化後の生成
物が、雰囲気との化合、前記物体材料自身の分解
あるいは蒸発等によりガス化されることを特徴と
するＸ線発生方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57041167A JPS58158842A (ja) | 1982-03-16 | 1982-03-16 | Ｘ線発生方法 |
| US06/438,569 US4538291A (en) | 1981-11-09 | 1982-11-02 | X-ray source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57041167A JPS58158842A (ja) | 1982-03-16 | 1982-03-16 | Ｘ線発生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58158842A JPS58158842A (ja) | 1983-09-21 |
| JPH0243319B2 true JPH0243319B2 (ja) | 1990-09-27 |
Family
ID=12600863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57041167A Granted JPS58158842A (ja) | 1981-11-09 | 1982-03-16 | Ｘ線発生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58158842A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3586244T2 (de) * | 1984-12-26 | 2000-04-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Vorrichtung zur Erzeugung von Weich-Röntgenstrahlen durch ein Hochenergiebündel. |
| JPH0225737A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-29 | Hitachi Ltd | 表面分析方法および装置 |
| US5577091A (en) * | 1994-04-01 | 1996-11-19 | University Of Central Florida | Water laser plasma x-ray point sources |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS586795B2 (ja) * | 1979-06-09 | 1983-02-07 | 大久保 勝弘 | 金属の部分的電気メッキ方法 |
-
1982
- 1982-03-16 JP JP57041167A patent/JPS58158842A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58158842A (ja) | 1983-09-21 |
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