JPH0243979A - 物品洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は物品洗浄装置に係り、特にフロン等のような低
沸点溶剤を洗浄液として用いて物品表面に付着した異物
を除去する目的で行われる湿式の物品洗浄装置の改良に
関する。

〔従来の技術〕

従来の低沸点溶剤を用いて被洗浄物を浸漬洗浄する装置
は、普通数種の洗浄槽を直列に並べ、被洗浄物を各洗浄
槽に浸漬しつつ順次移送し、最後に上記乾燥を経て洗浄
処理を完了するようにしている。第３図はこの種の従来
装置の構成を示している０図示の装置は、沸、騰超音波
洗浄槽１、超音波洗浄槽２、冷却リンス槽３、および蒸
気発生槽４とを直列に隣接配置したものとなっている。

前記沸騰超音波洗浄槽１にはヒータ５Ａ、超音波振動子
６Ａと、循環ポンプ７Ａおよびフィルタ８Ａからなる洗
浄液濾過手段が装備され、超音波洗浄槽２には超音波振
動子６Ｂが装備されている。そして、冷却リンス槽３に
は冷却コイル９Ｃが取り付けられているとともに、この
冷却リンス槽３はオーバフロー室１０を介して前記超音
波洗浄槽２と接続され、かつ、循環ポンプ７Ｂとフィル
タ８Ｂ、８Ｃからなる循環濾過手段により循環濾過液を
冷却リンス槽３、オーバフロー室１０、超音波洗浄槽２
を順次循環されるようになっている。沸騰超音波洗浄槽
１と蒸気発生槽４から発生する溶剤蒸気の消費を低減さ
せるため、槽壁上部には蒸気凝縮用の冷却コイル９Ａ、
９Ｂ、９Ｄが設置されている。

このような物品洗浄装置により被洗浄物を洗浄する場合
は、被洗浄物１１を搬送アー１．１２の先端に設けた把
持具１３により掴んで移送するが、まず、付着異物の大
半を除去する目的で沸騰超音波洗浄槽１に浸漬し、溶剤
沸騰液（フロンの場合、約４７°Ｃ）中で一定時間超音
波を照射する。次に、仕上げ洗浄を目的として超音波洗
浄槽２に移送して浸漬し、同様に超音波を照射する。続
いて最終リンスと被洗浄物１１の温度降下のために冷却
リンス槽３に浸漬して充分温度を低下させた後に、槽上
部の蒸気ゾーン１４を経て蒸気洗浄させ、そのまま乾燥
させて次工程に移送されるようになっている。

（発明が解決しようとする課題） ところが、上記従来の低沸点溶剤を用いた物品洗浄装置
では、洗浄温度の上限が使用する溶剤によって制限され
、フロン１１３やメチレンクロライド等の低沸点溶剤を
用いて一貫処理を行う場合、溶剤温度の上昇による洗浄
効果の向上が期待できないため、充分な清浄度が得られ
ないという問題があった。また、清浄度を確保するため
、沸騰超音波洗浄槽を多段に設置して洗浄することも考
えられるが、かかる場合にはスペースが大きくなり、装
置の大型化が免れないという問題もあった。

本発明は、上記従来の問題点に着目し、コンパクトな装
置構成としつつ低沸点溶剤の温度を上げて清浄度を向上
させることのできる物品洗浄装置を捷供することを目的
とするものである。

［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、本発明に係る物品洗浄装置
は、被洗浄物が搬入される密閉可能な調圧室と、洗浄液
が加熱循環供給される洗浄槽とを接続して形成し、前記
調圧室と洗浄槽とを密閉分離可能に形成するとともに、
少なくとも調圧室に排気手段と圧気手段とを連結した構
成とした。

（作用〕 上記構成によれば、予め圧気状態にある調圧室と洗浄槽
とを遮断して洗浄槽を密閉し、同時に調圧室の内部気体
を排気して外気圧と同しくして被洗浄物を搬入する。そ
の後、調圧室を外部と遮断し、圧気して内圧を高めて洗
浄槽内圧と同じくし、調圧室と洗浄槽との連通を図る。

これにより洗浄槽内に搬入された被洗浄物を加圧された
洗浄液により洗浄させることができる。

ところで、フロン１１３等のような低沸点溶剤の飽和圧
力は、第２図に示されるように、液温度の上昇にしたが
って高くなる。しかもその粘性は温度が高い程小さい。

このようなことから、本発明に係る物品洗浄装置にて洗
浄液として低沸点溶剤を使用することにより、洗浄槽に
供給される循環洗浄液の加熱温度を高くしても液相を保
たせることができる。これにより被洗浄物を高温・低粘
性の洗浄液により洗浄させ、被洗浄物の形状が複雑であ
っても高い洗浄作用を発揮させることができ、洗浄槽が
小さくても充分高い洗浄効果を得ることができる。

〔実施例〕

以下に本発明に係る物品洗浄装置の具体的実施例を図面
を参照して詳細に説明する。

第１図は実施例に係る物品洗浄装置の断面構成図である
。この図に示されるように、当該物品洗浄装置は、本体
中央部に洗浄室を構成する洗浄槽２０とその上部の調圧
室２２を設けており、前記洗浄槽２０内にはフロン１１
３等の洗浄液が入れられ、この液中に被洗浄物２４を浸
漬するようにしている。洗浄槽２０の側壁には超音波振
動子２６が取り付けられ、これを起動することで洗浄槽
２０内に浸漬された被洗浄′＃２４を超音波洗浄するよ
うになっている。また、洗浄槽２０はオーバフロー式の
槽構造とされ、溢流液を内周壁に設けたグループにて一
旦受け、これを洗浄室外部に設けた加熱槽２８に送給す
るようにしている。加熱槽２８にはヒータ３０と温度セ
ンサ３２が備えられ、加熱槽２８内の洗浄液を所定温度
まで加熱するようにしている。そして加熱槽２８には洗
浄槽２０への循環路が設けられ、これに循環ポンプ３４
とフィルタ３６（３６Ａ、３６Ｂ）を配置し、温度コン
トロールされ、循環濾過した洗浄液を洗浄槽２０に還流
させるようにしている。

上記洗浄槽２０の上部には調圧室２２が設けられている
が、これは洗浄槽２０の上部入口開口を介して連通され
ている。すなわち、洗浄槽２０の上部には調圧室２２の
側壁を構成し、被洗浄物２４を洗浄室内に導入するため
の導入筒部３日が一体的に立設されている。そして、導
入筒部３８の上端入口開口は被洗浄物２４の出入口とな
るが、これは一定圧力（例えば、ゲージ圧力１ｋｇ／ｃ
＋１）に耐えられるスライド扉４０によって開閉可能と
され、調圧室２２と洗浄槽２０からなる洗浄室が密閉遮
断可能となっている。調圧室２２内には導入筒部３８の
内壁に沿って冷却コイル４２が配設され、この冷却コイ
ル４２にてフロン蒸気の冷却を行い、蒸気漏洩を防止す
るようにしている。

このような洗浄室を構成する洗浄槽２０と調圧室２２と
は更に密閉分離可能に構成されている。

すなわち、洗浄槽２０内には円板形状の物品保持台４６
が昇降ロンド４８を介して昇降移動可能に設けられてお
り、この物品保持台４６が上昇して洗浄槽２０の入口開
口に密着することで調圧室２２との間が仕切られ、洗浄
槽２０と調圧室２２との間で通気が遮断されるようにな
っている。また、上記物品保持台４６は仕切り状態で調
圧室２２に導入された被洗浄物２４を受け、下降移動に
転じて被洗浄物２４を洗浄槽２０の洗浄液中に浸漬させ
、超音波洗浄が可能な位置まで被洗浄物２４を移動させ
る。

上述のような洗浄室構成において、調圧室２２と加熱槽
２８を含む洗浄槽２０には排気手段と圧気手段が接続さ
れている。まず、調圧室２２にはその内部ガスを室外に
排出することができるように、排気弁４４が導入筒部３
８の壁面に取り付けられている。そして、調圧室２２、
洗浄槽２０、および加熱槽２８の各々には、コンプレッ
サ５０を介して供給される圧縮空気がエアバルブ５２（
５２Ａ、５２Ｂ、５２Ｃ）、インライン用エアフィルタ
５４　（５４Ａ、５４Ｂ、５４Ｃ）により清浄化されて
個別に導入され得るようになっている。したがって、前
記排気弁４４の作用と、このコンプレッサ５０の起動と
エアバルブ５２の開閉操作によって、各室内の圧力調整
ができる。圧力状態を検知するために、調圧室２２、洗
浄槽２０、および加熱槽２８には圧力センサ５６が取り
付けられている。

上記のような洗浄室構成に加えて、調圧室２２を囲繞し
、かつ被洗浄物２４の搬入装置を内蔵した大きな空間容
積をもつ容器体５日が設けられている。この容器体５８
は洗浄槽２０の一方の側部に張り出した搬入側張出部６
０と他方の側部に張り出した搬出側張出部６２を存し、
各張出部６０．６２の底面に搬入扉６４、搬出扉６６を
設けている。また、各界６４．６６の下方位置であって
、洗浄槽２０の両側部には搬入扉６４の下方位置まで被
洗浄物２４を搬送する搬入コンベア６８と、被洗浄物２
４を搬出扉６６を介して受は取り、これを系外に搬出す
る搬出コンベア７０が設けられている。一方、容器体５
８の内部には、前記物品保持台４６の昇降ロッド４８が
中央位置に設けられ、これはロンド先端に設けた回転モ
ータ７２によって回転可能とされるとともに、図示しな
い昇降手段により昇降可能となっている。このような昇
降ロンド４８を挟んで片側には搬入扉６４から被洗浄物
２４を受は取り、開かれたスライドｒｉｉ４０から物品
保持台４６上、に被洗浄物２４を移載する第一搬送装置
７４が設けられ、他方には洗浄が完了した被洗浄物２４
を物品保持台４６から受は取り、搬出扉６６を通じて搬
出コンベア７０上に移載する第二搬送装置７６が設けら
れている。これらの搬送装置７４．７６は逆Ｕ字状のガ
イド７８によって案内される移動ロンド８０とその下端
に設けられた把持具８２を有し、被洗浄物２４の移送、
受は渡しをする。

このように構成された物品洗浄装置の作用は次のように
なる。被洗浄物２４は搬入コンベア６８によって搬出扉
６６の直下まで搬送される。ここで第一搬送装置７４の
移動ロッド８０の先端把持具８２によって容器体５日内
に搬入され、洗浄室のスライド扉４０の直上位置にて待
機される。次いで、物品保持台４６が上昇され洗浄槽２
０と調圧室２２とを気密的に区分し、同時に調圧室２２
の排気弁４４を開放して調圧室２２の内部の圧力を容器
体５日内の圧力と同じにする。圧力が等しくなったこと
を圧力センサ５６にてｌ認した後、スライド扉４０を開
き、移動ロッド８０を下降させて物品保持台４６上に被
洗浄物２４を置く。移動ロッド８０が上昇した後、スラ
イド扉４０が閉められ、コンプレッサ５０からの圧縮空
気の供給が開始され、調圧室２２の内圧が洗浄槽２０お
よび加熱槽２８を含む循環系と同じ（例えば、ゲージ圧
力１ｋｇ／ｃ−ｄ）になるまで高められる。！Ｊ１圧室
２２の内圧が洗浄槽２０と同じくなった段階で、中央の
昇降ロッド４８を下降させ、被洗浄物２４とこれを載置
している物品保持台４６とを洗浄槽２０内のフロン等の
低沸点溶剤に浸漬させる。

フロンに代表される低沸点溶剤は、第２図に示すように
、１　ｋｇ／ａＪ程度圧力を高めれば、６０°Ｃでも液
相を呈し、かつ粘性は更に下がるため、複雑形状をした
物品の洗浄には有効である。被洗浄物２４はこの圧力が
高められているため、高温で液相を呈している。このフ
ロンの中で回転モータ７２によってゆっくり回転されな
がら被洗浄物２４は超音波洗浄される。この後、昇降ロ
ッド４８を上昇させることにより、物品保持台４６が再
び洗浄槽２０と調圧室２２とを遮断させる。そして、区
分された調圧室２２の排気弁４４を開放して調圧室２２
の内圧を容器体５８の圧力に等しくした後、スライド扉
４０を開いて第二搬送装置７６の移動ロッド８０を下降
させて被洗浄物２４を掴み、洗浄室から持ち上げ移動す
る。その後は移動ロッド８０をガイド７８に沿って移動
させ、搬出扉６６から搬出コンベア７０上に移載し、次
工程に送られる。

なお、容器体５８は天井部に吹き出しファン８４、高性
能エアフィルタ８６、整流板８８を備えた吹き出しユニ
ットが設けられ、循環ダクト９０を介して容器体５８の
内部空気を循環させ、常に清浄な状態に保つようにして
いる。

このような実施例に係る物品洗浄装置によれば、洗浄室
を洗浄槽２０と調圧室２２とによって構成し、これらを
分離遮断可能に形成したので、洗浄槽２０の洗浄液を高
温・低粘性に保持しつつ被洗浄物２４の超音波洗浄を行
わせることができる。

したがって、複雑形状で高清浄度が要求される電子部品
等の高清浄化が可能となる上に、洗浄槽２０を多段に設
ける必要がないために、装置構成のコンパクト化が図れ
る利点もある。

なお、上記実施例においては、洗浄液としてフロンの例
を示したが、メチレンクロライドや、フロン１１３に界
面活性剤やアルコール等を混入した混合溶剤を用いても
よい。また、洗浄槽２０は浸漬洗浄槽としているが、部
品形状や要求清浄度によっては加圧高温溶剤をスプレー
して行うスプレー洗浄方式とすることも可能である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、高温・低粘度の
洗浄用溶剤が使用できるため、複雑形状部品に対して、
特に洗浄効果が向上し、かつ洗浄槽を多段にしなくても
高い洗浄効果が得られるという優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例に係る物品洗浄装置の断面図、第２図は
フロンの蒸気線図、第３図は従来の物品洗浄装置の断面
図である。 ２０・・・・・・洗浄槽、２２・・・・・・調圧室、２
４・・・・・・被洗浄物、２６・・・・・・超音波振動
子、２８・・・・・・加熱槽、３４・・・・・・循環ポ
ンプ、４０・・・・・・スライド扉、４４・・・・・・
排気弁、４６・・・・・・物品保持台、４８・・・・・
・昇降ロッド、５０・・・・・・コンプレッサ、８０・
・・・・・移動ロッド、８２・・・・・・把持具。 出願人　日立プラント建設株式会社 第 図 １−”− フ　ロ　ノ　ンｊｔ　　ン二 （９Ｃ） 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）、被洗浄物が搬入される密閉可能な調圧室と、洗
   浄液が加熱循環供給される洗浄槽とを接続して形成し、
   前記調圧室と洗浄槽とを密閉分離可能に形成するととも
   に、少なくとも調圧室に排気手段と圧気手段とを連結し
   たことを特徴とする物品洗浄装置。