JPH0243980A - 静電集塵装置 - Google Patents

静電集塵装置

Info

Publication number
JPH0243980A
JPH0243980A JP63192535A JP19253588A JPH0243980A JP H0243980 A JPH0243980 A JP H0243980A JP 63192535 A JP63192535 A JP 63192535A JP 19253588 A JP19253588 A JP 19253588A JP H0243980 A JPH0243980 A JP H0243980A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dust
dielectric material
electron beam
charge
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63192535A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2656080B2 (ja
Inventor
Hiroshi Saeki
宏 佐伯
Junji Ikeda
順治 池田
Hajime Ishimaru
石丸　肇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP63192535A priority Critical patent/JP2656080B2/ja
Priority to DE8989113192T priority patent/DE68903078T2/de
Priority to EP89113192A priority patent/EP0356684B1/en
Priority to US07/383,150 priority patent/US4941224A/en
Priority to KR1019890010971A priority patent/KR910004447B1/ko
Publication of JPH0243980A publication Critical patent/JPH0243980A/ja
Priority to US07/543,493 priority patent/US5125124A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2656080B2 publication Critical patent/JP2656080B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
    • B03C3/02—Plant or installations having external electricity supply
    • B03C3/04—Plant or installations having external electricity supply dry type
    • B03C3/12—Plant or installations having external electricity supply dry type characterised by separation of ionising and collecting stations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021—Cleaning or etching treatments
    • C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Electrostatic Separation (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、特に、真空を利用して薄膜の形成等を行う半
導体等の電子部品の製造装置、若しくは加速器の高周波
加速空洞等のような高電圧電極を有する真空チェンバー
において、ダストを除去するのに適する静電集塵装置に
関する。
術分野において広く普及している。しかしながら、真空
中のダストを除去する装置については未だ提供されてお
らず、真空中にガス等を送る場合にダストの真空中への
侵入を極力防止するため、フィルターを使用しているに
とどまる。
発明が解決しようとする課題 上記のように真空中にガス等を送る場合には、フィルタ
ーによりかなりの集塵効果を上げることはできる。しか
しながら、例えば真空中で使用する排気用ポンプ（イオ
ンポンプ、チタンサブリメーションポンプ）等から発生
するダストや真空隔壁に付着した薄膜のダストを除去す
ることはできない、このため、真空中で発生したダスト
により半ｉ体のウェハー等やその製造装置等が汚染され
、ウェハー等の製造の際の歩留まりが悪くなり、また、
排気用ポンプも劣化する。また、加速器の高周波加速空
洞にダストが集まり、このダストが高圧部品へ付着する
と、異常放電を生じ、粒子加速が十分できない。
ところで、大気中で使用されている従来の静電集塵装置
は、空気やガスを集塵電極間に通すことにより、これら
空気やガス中のダストを集塵電極に付着させるようにな
っているので、真空隔壁やウェハー上等に付着している
ダストを除去する場合に使用することができないばかり
でなく、折角ダストを集塵電極に付着させてもダストの
電荷が失われると落下するので、真空中の浄化を行うこ
とはできない。
本発明は、以上のような従来の課題を解決するものであ
り、特に真空隔壁やウェハー等に付着しているダストを
除去して浄化することができ、したがって、ウェハーや
製造装置等の汚染を防止して製造の際の歩留まりを向上
させることができ、また、排気用ポンプの劣化を防止す
ることができ、また、加速器における高圧部品の異常放
電を防止してその加速性能の向上の低下を防止すること
ができるようにした静電集塵装置を提供し、また、ダス
トを連続的に付着させて除去することができ、しかも、
真空隔壁外へ簡単に取り出すことができるようにした静
電集塵装置を提供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段 本発明は、上記目的を達成するため、真空隔壁に支持さ
れ、この真空隔壁内の除塵対象面に対し、電子ビームを
放射してダストを負の電荷に帯電させる電子ビーム放射
手段と、上記真空隔壁内で上記除塵対象面との対向面が
正の電位となり、上記角の電荷が与えられたダストを吸
着する誘電体と、この誘電体における北記除塵対象面と
の対向面に正の電位を与える手段とを備えたものである
。
また、上記誘電体がテープ状に形成され、このテープ状
の誘電体を走行させる一対のハブと、一方のハブから他
方のハブへ走行するテープ状の誘電体に走行の途中の除
塵対象面と対向する位置で正の電位を有するための電極
とを有するカセットに納められ、テープ状の誘電体が走
行手段により走行されるように構成されたものである。
作用 本発明は、上記構成により次のような作用を有する。
真空隔壁内の除塵対象面に対して電子ビーム放射手段に
より電子ビームを放射してダストを負の電荷に帯電させ
、一方、誘電体における除塵対象面との対向面を電圧印
加手段により正の電位とし、この正の電位を有する誘電
体に上記のように負の電荷に帯電させたダストを吸着さ
せることができる。
また、誘電体をテープ状に形成し、カセットに納め、一
方のハブから他方のハブへ走行させ、この間、除塵対象
面との対向面を電圧印加手段により正の電位を与えるこ
とにより、上記と同様に負の電荷に帯電させたダストを
吸着させることができる。
実施例 以下１本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
まず、本発明の第１の実施例について説明する。第１図
は本発明の第１の実施例における静電集塵装置を示す要
部の断面図である。
第１図において、１は真空隔壁、２は真空隔壁ｌに支持
された電子銃であり、フィラメント３と複数の引き出し
電極４．５とを有し、これらフィラメント３と引き出し
電極４．５が真空隔壁１に気密状態を保って挿通されて
いる。６はフィラメント３の電源、７は引き出し電極４
．５の高電圧電源である。８は電子銃２から放出される
電子ビームシャワー、９は真空隔壁ｌの内側に配置され
たウェハー等の基板であり、その除塵対象面に電子ビー
ムシャワー８が放射される。１０は真空隔壁ｌの内側に
配置された誘電体であり、エボキシガテス等の高誘電体
物質からなり、電子ビームシャワー８を遮らないように
基板９の除塵対象面に対し、傾斜した状態で対向されて
いる。１１は誘電体１０の背面に設けられたＣｕからな
る電極であり、その−側が真空隔壁ｌに気密状態を保っ
て挿通されている。１２は電極１１の高電圧電源である
。
以上の構成において、以下、その動作について説明する
。
電源６．７により電子銃２を駆動させ、電子ビームシャ
ワー８を基板９の除塵対象面に放射させる。この電子ビ
ームシャワー８により除塵対象面のダスト１３は負の電
荷に帯電する。
方、電源１２により電極１１を負の電位を与えると、誘
電体１０における電極１１とは反対側の面、すなわち基
板９の除塵対象面との対向面側が正の電位を有する。こ
れにより負の電荷に帯電したダスト１３が正の電位にあ
る誘電体ｌＯに吸着される。このとき誘電体ｌｏは正の
電位となってもＣｕ等の電極とは異なり、電流が流れな
いので、誘電体１０に付着したダスト１３が正の電荷に
帯電することはなく、したがって、誘電体１０に付着し
た状態に保持される。
このようにして基板９の除塵対象面を浄化することがで
きる。
次に、本発明の第２の実施例について説明する。第２図
は本発明の第２の実施例における静電集塵装置を示す要
部の概略平面図である。
本実施例においては、第２図に示すように誘電体１０が
テープ状に形成され、巻き取り可能にカセッ）１４内に
納められたものである。すなわち、テープ状の誘電体１
０がシェル１５内で一方のハブ１６に巻き取られ、この
ハブ１６から他方のハブ１７へ走行可能に納められ、走
行の途中で、回転回走なローラ状の電極１１ａおよび板
状の電極１１ｂに案内され、電極１１ａの外周部で基板
９の除塵対象面に対し、傾斜した状態で対向されている
。ハブ１７は駆動手段（図示省略）により回転され、こ
れによりハブ１６から引き出されたテープ状の誘電体１
゜が電極１１ａ、ｌｌｂに沿って走行し、ハブ１７に巻
き取られるようになっている。その他の構成は上記第１
の実施例と同様である。
以上の構成において、以下、その動作について説明する
。
上記第１の実施例と同様に電子銃２から電子ビームシャ
ワー８を基板９の除塵対象面に放射させる。この電子ビ
ームシャワー８により除塵対象面のダスト１３は負の電
荷に帯電する。
方、電源１２により電極１１ａ、ｌｌｂに負の電位を与
え、テープ状の誘電体１０における基板９の除塵対象面
との対向面側を正の電位とする。これにより負の電荷に
帯電したダスト１３が正の電位にあるテープ状の誘電体
１０に吸着され、この吸着状態に保持される。ダス）１
３の付着によりテープ状の誘電体１０が部分的に汚染さ
れると、駆動手段によりハブ１７を回転させ、テープ状
の誘電体１０を少し巻き取り、新しい清浄な面を基板９
の除塵対象面に対向させることができる。したがって、
誘電体１０の清浄な面を連続的に送り出すことができ、
誘電体１０のほぼ全長がダスト１３の付着により汚染さ
れると、カセット１４と共に、真空隔壁外に取り出して
廃棄することができる。
なお、電子銃２と誘電体ｌＯを真空隔壁ｌの内面に対向
するように配置することにより、真空隔壁ｌの内面のダ
ストを除去することができる。また、電子銃２を角度可
変とし、誘電体１０をマニピュレータにより移動させる
ように構成することもできる。
発明の効果 以上述べたように本発明によれば、真空隔壁内の除塵対
象面に対し、電子ビーム放射手段により電子ビームを放
射してダストを負の電荷に帯電させ、一方、誘電体にお
ける除塵対象面との対向面を正の電位とするようにして
いるので、この正の電位を有した誘電体に上記のように
負の電荷に帯電させたダストを吸着させ、浄化すること
ができる。したがって、ウェハーや製造装置等の汚染を
防止して製造の際の歩留まりを向上させることができ、
また、排気用ポンプの劣化を防止することができ、また
、加速器における高圧部品の異常放電を防止してその加
速性能の低下を防止することができる。
また、誘電体をテープ状に形成し、カセットに納め、一
方のハブから他方のハブへ走行させ、この間、除塵対象
面との対向面を正の電位とすることにより、上記と同様
に負の電荷に帯電させたダストを吸着させ、浄化するこ
とができる。したがって、ダストを連続的に吸着させて
除去することができ、しかも、真空隔壁外へ簡単に取り
出すことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１の実施例における静電集塵装置を
示す要部の断面図、第２図は本発明の第２の実施例を示
す要部の概略平面図である。 １・・・真空隔壁、２・・・電子銃、８・・・電子ビー
ムシャワー、９・・・基板、工Ｏ・・・誘電体、１１．
１１ａ、ｌｌｂ・・・電極、１３・・・ダスト、１４・
・・カセット、１６．１７・・・ハブ。 代理人の氏名　弁理士　粟野重孝　はか１名味 手続補正書

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）真空隔壁に支持され、この真空隔壁内の除塵対象
    面に対し、電子ビームを放射してダストを負の電荷に帯
    電させる電子ビーム放射手段と、上記真空隔壁内で上記
    除塵対象面との対向面が正の電位を与えられ、上記負の
    電荷が与えられたダストを吸着する誘電体と、この誘電
    体における上記除塵対象面との対向面を正の電位とする
    手段とを備えた静電集塵装置。
  2. （２）誘電体がテープ状に形成され、このテープ状の誘
    電体を走行させる一対のハブと、一方のハブから他方の
    ハブへ走行するテープ状の誘電体に走行の途中の除塵対
    象面と対向する位置で正の電位を与えるための電極とを
    有するカセットに納められ、テープ状の誘電体が走行手
    段により走行されるように構成された請求項１記載の静
    電集塵装置。
JP63192535A 1988-08-01 1988-08-01 静電集塵装置 Expired - Lifetime JP2656080B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63192535A JP2656080B2 (ja) 1988-08-01 1988-08-01 静電集塵装置
DE8989113192T DE68903078T2 (de) 1988-08-01 1989-07-19 Elektrostatischer staubsammler zur verwendung in vakuumsystemen.
EP89113192A EP0356684B1 (en) 1988-08-01 1989-07-19 Electrostatic dust collector for use in vacuum system
US07/383,150 US4941224A (en) 1988-08-01 1989-07-19 Electrostatic dust collector for use in vacuum system
KR1019890010971A KR910004447B1 (ko) 1988-08-01 1989-08-01 진공시스템용 정전기 집진기
US07/543,493 US5125124A (en) 1988-08-01 1990-06-26 Electrostatic dust collector for use in vacuum system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63192535A JP2656080B2 (ja) 1988-08-01 1988-08-01 静電集塵装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0243980A true JPH0243980A (ja) 1990-02-14
JP2656080B2 JP2656080B2 (ja) 1997-09-24

Family

ID=16292893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63192535A Expired - Lifetime JP2656080B2 (ja) 1988-08-01 1988-08-01 静電集塵装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4941224A (ja)
EP (1) EP0356684B1 (ja)
JP (1) JP2656080B2 (ja)
KR (1) KR910004447B1 (ja)
DE (1) DE68903078T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11123773B2 (en) * 2017-12-28 2021-09-21 Asml Netherlands B.V. Apparatus for and a method of removing contaminant particles from a component of an apparatus

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2746668B2 (ja) 1989-07-18 1998-05-06 松下電器産業株式会社 静電集塵装置
US5125124A (en) * 1988-08-01 1992-06-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electrostatic dust collector for use in vacuum system
US5400465A (en) * 1994-03-30 1995-03-28 Home Care Industries, Inc. Vacuum cleaner with charge generator and bag therefor
US5762691A (en) * 1995-03-21 1998-06-09 Sikorsky Aircraft Corporation Aerodynamic-electrostatic particulate collection system
FI111475B (fi) 1997-09-24 2003-07-31 Metso Paper Inc Menetelmä ja sovitelma sumun ja pölyn hallitsemiseksi paperin ja kartongin valmistuksessa ja jälkikäsittelyssä
FI105052B (fi) * 1998-07-08 2000-05-31 Valmet Corp Menetelmä paperin valmistamiseksi, sovitelma menetelmän toteuttamiseksi ja menetelmän avulla valmistettu paperituote
US20030206837A1 (en) 1998-11-05 2003-11-06 Taylor Charles E. Electro-kinetic air transporter and conditioner device with enhanced maintenance features and enhanced anti-microorganism capability
US6544485B1 (en) 2001-01-29 2003-04-08 Sharper Image Corporation Electro-kinetic device with enhanced anti-microorganism capability
US7695690B2 (en) 1998-11-05 2010-04-13 Tessera, Inc. Air treatment apparatus having multiple downstream electrodes
US6176977B1 (en) 1998-11-05 2001-01-23 Sharper Image Corporation Electro-kinetic air transporter-conditioner
US7220295B2 (en) 2003-05-14 2007-05-22 Sharper Image Corporation Electrode self-cleaning mechanisms with anti-arc guard for electro-kinetic air transporter-conditioner devices
US7318856B2 (en) 1998-11-05 2008-01-15 Sharper Image Corporation Air treatment apparatus having an electrode extending along an axis which is substantially perpendicular to an air flow path
US20050210902A1 (en) 2004-02-18 2005-09-29 Sharper Image Corporation Electro-kinetic air transporter and/or conditioner devices with features for cleaning emitter electrodes
KR100393478B1 (ko) * 2000-03-29 2003-08-06 주식회사종근당 자가유화 매트릭스형 경점막·경피흡수제제
GB0300688D0 (en) * 2003-01-13 2003-02-12 Gallaher Ltd Contaminant removal device and method
US7405672B2 (en) 2003-04-09 2008-07-29 Sharper Image Corp. Air treatment device having a sensor
US20050051420A1 (en) 2003-09-05 2005-03-10 Sharper Image Corporation Electro-kinetic air transporter and conditioner devices with insulated driver electrodes
US7906080B1 (en) 2003-09-05 2011-03-15 Sharper Image Acquisition Llc Air treatment apparatus having a liquid holder and a bipolar ionization device
US7517503B2 (en) 2004-03-02 2009-04-14 Sharper Image Acquisition Llc Electro-kinetic air transporter and conditioner devices including pin-ring electrode configurations with driver electrode
US7724492B2 (en) 2003-09-05 2010-05-25 Tessera, Inc. Emitter electrode having a strip shape
US7077890B2 (en) 2003-09-05 2006-07-18 Sharper Image Corporation Electrostatic precipitators with insulated driver electrodes
US7767169B2 (en) 2003-12-11 2010-08-03 Sharper Image Acquisition Llc Electro-kinetic air transporter-conditioner system and method to oxidize volatile organic compounds
US7638104B2 (en) 2004-03-02 2009-12-29 Sharper Image Acquisition Llc Air conditioner device including pin-ring electrode configurations with driver electrode
US20060016333A1 (en) 2004-07-23 2006-01-26 Sharper Image Corporation Air conditioner device with removable driver electrodes
US7311762B2 (en) 2004-07-23 2007-12-25 Sharper Image Corporation Air conditioner device with a removable driver electrode
US7285155B2 (en) 2004-07-23 2007-10-23 Taylor Charles E Air conditioner device with enhanced ion output production features
JP2006222242A (ja) * 2005-02-10 2006-08-24 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置および製造方法
US7833322B2 (en) 2006-02-28 2010-11-16 Sharper Image Acquisition Llc Air treatment apparatus having a voltage control device responsive to current sensing
US20080157007A1 (en) * 2006-12-27 2008-07-03 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Active particle trapping for process control
US8092577B2 (en) * 2008-12-19 2012-01-10 Steris Corporation Method and apparatus for removing gaseous or vaporous sterilants from a medium
TWI484055B (zh) * 2009-07-23 2015-05-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 承載組件及使用該承載組件之鍍膜裝置
DE102017211316A1 (de) 2017-07-04 2019-01-10 MTU Aero Engines AG Turbomaschinen-Dichtring
DE102021207398A1 (de) 2021-07-13 2023-01-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4071334A (en) * 1974-08-29 1978-01-31 Maxwell Laboratories, Inc. Method and apparatus for precipitating particles from a gaseous effluent
DE3414121A1 (de) * 1984-04-14 1985-10-24 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim Verfahren und vorrichtung zur reinigung von abgasen
US4744833A (en) * 1987-06-11 1988-05-17 International Business Machines Corporation Electrostatic removal of contaminants

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11123773B2 (en) * 2017-12-28 2021-09-21 Asml Netherlands B.V. Apparatus for and a method of removing contaminant particles from a component of an apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
US4941224A (en) 1990-07-17
KR910004447B1 (ko) 1991-06-29
JP2656080B2 (ja) 1997-09-24
EP0356684A3 (en) 1990-04-04
KR900002847A (ko) 1990-03-23
EP0356684B1 (en) 1992-09-30
DE68903078D1 (de) 1992-11-05
DE68903078T2 (de) 1993-02-18
EP0356684A2 (en) 1990-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0243980A (ja) 静電集塵装置
US5125124A (en) Electrostatic dust collector for use in vacuum system
TWI740157B (zh) 真空處理裝置、假基板裝置
TWI582256B (zh) 薄型基板處理裝置
KR20000076925A (ko) 성막장치에 있어서의 기판유지구의 표면의 퇴적막의제거방법 및 성막장치 그리고 박막작성장치
JP4105778B2 (ja) 気流搬送装置
JP2746668B2 (ja) 静電集塵装置
JPH0467776B2 (ja)
JPH09148310A (ja) 半導体製造装置およびそのクリーニング方法ならびに半導体ウエハの取り扱い方法
JP2000138275A (ja) 半導体製造装置
JPH05275350A (ja) 半導体製造装置
JPS6086272A (ja) スパツタ装置
JP2001247955A (ja) 真空成膜装置
JPH02275630A (ja) 異物除去装置
JPS6286728A (ja) 半導体製造装置
JPH03116728A (ja) 半導体製造装置内の異物低減方法
JP3315502B2 (ja) 真空トンネルの洗浄方法及び洗浄装置
JPS5855571A (ja) プラズマエツチング装置
JPH02148647A (ja) イオン注入装置のイオンソース洗浄治具及び洗浄方法
JPH04282851A (ja) 静電吸着器とそれを用いたウェ−ハ処理装置
JP2002093360A (ja) 真空処理装置
CN114182220A (zh) 溅射装置及成膜方法
JPH0855902A (ja) 半導体ウエハの処理方法
JPH0525634A (ja) 真空成膜装置
JPH06168934A (ja) スパッタリング方法およびスパッタリング装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090530

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090530

Year of fee payment: 12