JPH0244325U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0244325U JPH0244325U JP12341788U JP12341788U JPH0244325U JP H0244325 U JPH0244325 U JP H0244325U JP 12341788 U JP12341788 U JP 12341788U JP 12341788 U JP12341788 U JP 12341788U JP H0244325 U JPH0244325 U JP H0244325U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide
- processing apparatus
- sample
- center
- plasma processing
- Prior art date
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- Pending
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、本考案の一実施例のマイクロ波プラ
ズマ処理装置の要部構成図である。 １……マグネトロン、２……導波管、３……偏
心導波管、４……プラズマ発生室、５……試料台
、６……ウエハ、７，９……歯車、８……ベアリ
ング、１０……モータ。
ズマ処理装置の要部構成図である。 １……マグネトロン、２……導波管、３……偏
心導波管、４……プラズマ発生室、５……試料台
、６……ウエハ、７，９……歯車、８……ベアリ
ング、１０……モータ。
Claims (1)
- マグネトロンと導波管とプラズマ発生室とを有
するマイクロ波プラズマ処理装置において、前記
導波管の中心と前記プラズマ発生室内試料の中心
とを偏心させて前記導波管を設け、該偏心導波管
を前記試料中心を中心に回転させる手段を設けた
ことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12341788U JPH0244325U (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12341788U JPH0244325U (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244325U true JPH0244325U (ja) | 1990-03-27 |
Family
ID=31372252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12341788U Pending JPH0244325U (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244325U (ja) |
-
1988
- 1988-09-22 JP JP12341788U patent/JPH0244325U/ja active Pending