JPH024436A - 低いジオキサン含有率を有する、エーテルスルフアートを含有する界面活性剤混合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はエーテルスルフアートを含有する界面活性剤混
合物の製造方法及び低いジオキサン含有率を有する上記
界面活性剤混合物に関する。

エーテルスルフアートをアルカノール又はアルキルフェ
ノールとアルキレンオキシド、大抵エチレンオキシドと
の反応によって工業的に製造し、次いでアルキレンオキ
シド−付加生成物をクロルスルホン酸又は三酸化イオウ
の様な剤で硫酸化し、この際硫酸半エステルが生じ、こ
れを引き続きアルカリ化合物、たとえば水酸化アルカリ
で水性溶液中で中和する。硫酸化に際して特に副生成物
として１．４−ジオキサンがエーテルスルフアートに対
して０．５〜０．０３重量％の量で生じる。

Ｒ，Ｊ、：ｌシバ（にｏｃｉｂａ）等、毒物学、Δｐｐ
ｌｉｅｄ　Ｐｈａｒ＋ｍａｃｏ１ｏｇｙ、第３０巻（１
９７４）、第２７５〜２９８真の毒物学的実験から、１
．４−ジオキサンは動物実験で極めて多量に使用した時
に初めて健康を害することが明らかである。この実験か
らエーテルスルフアートの加工及び適用に於ける直接の
リスクが導かれないにもかかわらず、従来エーテルスル
フアートの製造及び適用、特に化粧料の分野で適用する
場合いかなるリスクも排除するために可能限り著しく減
少された１、４−ジオキサンの含有率を有する生成物が
極めて重要である。

エーテルスルフアート中の１．４−ジオキサン含有率を
減少するために、種々の方法が公知である。

それらすべての目的は、１，４−ジオキサンを既製のエ
ーテルスルフアートの熱又は水蒸気処理によって除去す
ることである。したがって米国特許筒４゜２８５．８８
１号明細書中にエーテルスルフアート／ジオキサン−混
合物とジオキサン不含水蒸気とを２５〜１５０℃の温度
で離脱装置中で接触させる方法が記載されている。この
際エーテルスルフアート／ジオキサン−混合物を薄層中
に流動形で使用するのが有利である。ドイツ特許公開第
３．１２６，１７５号公！［こよればエーテルスルフア
ートを濃縮された６０〜８０重量％水性溶液中で５０〜
１３０℃で減圧下に熱処理し、無臭にする。その際また
硫酸化の際に副生成物として形成された環状エーテル（
１８４−ジオキサン）を除去する。類（以の方法がドイ
ツ特許公開第３，０４４，４８８号公報中に記載され、
そこにまさに挙げられた目的は減少された１、４−ジオ
キサン含有率を有するエーテルスルフアートを製造する
ことである。この方法は装置上経費がかかり、かなりの
エネルギー量を必要とする。更に硫酸化及び中和で反応
混合物中の１．４−ジオキサンの含有率から生じる可能
なリスクは除かれない。

今や本発明者は、通常の硫酸化剤、クロルスルホン酸又
は三酸化イオウを用いて実施し、その際著しく少量の１
．４−ジオキサンがエーテルスルフアートの製造で生じ
るので、引き続きの精製費用は除かれる又は明らかに減
少することを見い出した。

この新規方法は、アルカノールオキシエチラートにカル
ボン三アミドオキシエチラートを比較的少量添加しただ
けで、硫酸化の際の１．４−ジオキサンの形成傾向を減
少させるという驚くべき知見に基づく。したがって通常
の中和の後界面活性剤混合物が得られ、この混合物はそ
の製造の段階からすでに同等の組成の混合物−これ中で
個々の成分は混合前に別々に硫酸化し、中和される−よ
り明らかに少ない１．４−ジオキサンを有する。

混合物に対して９９〜５モル％の式（Ｉ）Ｒ−０−（Ｃ
Ｈ２Ｃ１１２０）ａ）ｌ　　　　　（Ｉ　’）（式中 ＲはＣ−原子数８〜１８のアルキル基又はアルキル基１
ないし３個で置換されたアルキルフェニル基であり、但
しアルキル基のＣ−原子の全体数は４〜１２であり、 ａは１〜１０の数である。） なる化合物少なくとも１個及び混合物に対して１〜９５
モル％の式（ｎ） （式中 Ｒ１はＣ−原子数１〜１７のアルキル基、ｂは１〜２０
の数、 ＣはＯ又は１〜２０の数を示す。） なる化合物少なくとも１個から成る混合物を液状で２０
〜１２０℃で式（１）及び（ＩＩ）なる化合物中に含有
される一ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ−基１モルにつきクロルスル
ホン酸又はｓｏ、　０．９５〜１モルと反応させ、次い
で反応生成物を弐ＭＯＨ 〔式中Ｍ＝Ｎａ：に；Ｌｉ；１／２Ｍｇ；１／２Ｃａ；
１／２Ｂａ；又は　　　Ｒ３（式中Ｒ２ないしＲ５はＲ
２−Ｎ−１？’ 同−又は異っていてよく、夫々＋１　、　Ｃ−原子数１
〜４のアルキル基又は−ＧＨｚＣｌｈＯＨである。）〕 なる化合物の水性溶液又は懸濁液で中和することを特徴
とする、低いジオキサン含有率を有する、エーテルスル
フアートを含有する界面活性剤混合物の新規製造方法で
ある。

本発明によ・る方法にエチレンオキシドとアルカノール
との反応精製物が適し、そのアルキル基は直鎖状又は分
枝であってよ（、炭素鎖中にも二重結合を有することが
できる。これはＣ−原子数８〜１８を有しなければなら
ない。その良好な性質のためにアルキル基がＣ−原子数
１０−１６を有するアルカノールエチレンオキシド−反
応生成物が好ましい。

アルカノールに付加されたエチレンオキシド−単位の数
は１とｌＯの間でなければならない。但し２〜４エチレ
ンオキシド−単位が付加されたプルカッ−ルー反応生成
物が好ましい。

本発明による方法にもアルキル基１〜３個で置換された
アルキルフェノールのエチレンオキシド−付加生成物が
適する。この際１個のアルキル基又は数個のアルキル基
中の炭素原子全数は４〜１２でなければならない。この
アルキル基ｌ又は数個は分枝状であってよい。アルキル
フェノールは１〜１０、好ましくは４〜８エチレンオキ
シド−単位を付加含有しなければならない。

本発明による方法に関して式（１）なる化合物のみを使
用する必要はない。種々のアルキル基又はアルキルフェ
ニル基も存在する及び（又は）アルカノール又はアルキ
ルフェノールに種々の数のエチレンオキシド−が付加さ
れた、種々の化合物の混合物を同様に使用することがで
きる。−アルカノール又はアルキルフェノールのエチレ
ンオキシド−付加生成物の製造は当業者に、たとえばウ
ルマンズ　エンサイクロペディエデア　テクニソシエン
　ヘミ−（Ｕｌｌｍａｎｎ　ｓ　Ｅｎｃｙｋｌｏｐａｄ
ｉｅ　ｄｅｒｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ）
　、第４版（１９Ｂ２）、第２２巻、第４８９〜４９３
頁から公知である。

第二混合物成分として本発明による方法にカルボン酸ア
ミドのエチレンオキシド−付加生成物を使用する。この
アミドはカルボン酸から由来し、そのアルキル基はＣ−
原子数１〜１７を含有し、直鎖状又は分枝状であってよ
く、二重結合を炭素鎖中に含有することもできる。良好
な界面活性剤−性質のために、カルボン酸のアルキル基
にＣ−原子７〜１７個を有するカルボン酸アミドのエチ
レンオキシド−付加生成物が好ましい。エチレンオキシ
ドの付加は、窒素原子１個のみ及び２個で行うことがで
きる。この様な化合物を常法で、先ずカルボン酸メチル
エステルと七ノー又はジェタノールアミンとを反応させ
、次いでこの反応生成物をエチレンオキシドで更にオキ
シエチル化して製造する（たとえば上記に引用したウル
マンズ　エンサイクロヘティエ　デア　テクニソシエン
　ヘミ−第４９３頁並びにカートリンドナー（Ｋｕｒｔ
　Ｌｉｎｄｎｅｒ）“界面活性剤−繊維材料助剤−洗剤
ヘース”自然科学出版ｍｂｌ＋、シュッツガルト、１９
６４、第１巻、第９０４〜９０７及び９１２〜９１４頁
参照）。窒素原子と結合する、カルボン酸アミドの水素
原子夫々に１〜２０エチレンオキシド−単位を付加する
ことができる。その良好な入手可能性及び有効な作用の
ために、カルボン酸アミドの窒素原子と結合する水素原
子１このみに１〜６工チレンオキシドー単位を付加した
化合物が好ましい。

アルカノールオキシエチラートに対してすでに述べた様
に、カルボン酸アミドのエチレンオキシド−付加生成物
に於ても特定の式の化合物のみを使用する必要はなく、
しばしば式（ｎ）なる化合物の混合物も有利に使用する
ことができる。この化合物はカルボン酸アミド基のアル
キル基がＣ−原子の数で及び（又は）窒素原子と結合す
る水素原子１又は２個に付加されたエチレンオキシド−
単位の数で異なる。

本発明によれば、混合物に対して９９〜５モル％の式（
１）なるアルカノールオキシエチラート又はアルキルフ
ェノールオキシエチラート少なくとも１個および混合物
に対して１〜９５モル％の式（Ｉ［）なるカルボン酸ア
ミドオキシエチラート少なくとも１個から成る混合物を
液状でクロルスルホン酸又はＳＯ３と反応させる。混合
物中で式（ＩＩ）なる化合物の含有率が１モル％以下で
あるとき、添加物の本発明による１、４−ジオキサン−
減少作用はほんの僅かな程度でしか認められず、混合物
中で式（Ｉ［）なる化合物の含有率が９５モル％以上で
あるとき、その１．４−ジオキサン−減少は成程著しく
あるが、式（１）なる化合物がかなり少量で存在するが
ゆえにもはや工業的に重要な程度に硬化を生じない。混
合物に対して９７〜３０モル％の式（１）なる化合物中
なくとも１個及び混合物に対して３〜７０モル％の式（
ｎ）なる化合物中なくとも１個を含有する混合物をクロ
ルスルホン酸又はＳＯＩと反応させるのが好ましい。

クロルスルホン酸又は５０３との反応での温度は２０〜
１２０℃であるのが好ましい。１２０℃以上で一般にあ
まりにも多（の副反応−これは特に生成物の変色を導く
−が生じる。２０℃以下の反応温度は原則的に可能であ
るが、一般に不利である。というのは反応されうるオキ
シエチラート混合物の粘度が不必要に高くなるからであ
り、ガス相中でＳＯ３による硫酸化を適用した場合ＳＯ
，の晶出によって困難が生じうるからである。３０〜８
０℃の反応温度を選ぶのが有利である。

原則的に本発明による反応にジカルボン酸ジアミドのオ
キシエチラートも使用することができる。

この場合２つの窒素原子の夫々と結合するト原子１個づ
つにエチレンオキシドが付加されるあるいは２つの窒素
原子と結合する水素原子４個すべてにエチレンオキシド
が付加される。このジカルボン酸は直鎖状又は場合によ
り分枝状Ｃ−原子１〜１８のアルキレン残基を有するこ
とができる。更にこれは２〜２０エチレンオキシド−単
位を窒素原子と結合する水素原子に付加して有すること
ができる。

その上ジカルボン酸ジアミドオキシエチラ−１−は本発
明による方法にとってあまり重要でない。というのはこ
れは一般に式（ＩＩ）なる化合物より高い融点を有する
からである。このことはより一層高い硫酸化温度を必要
とする。なぜならば一般にこれを得るのが一層困難であ
るからである。

上述の様に、クロルスルホン酸又はＳｏ）と式（１）及
び（ＩＩ）の化合物の液状混合物との反応を実施する。

反応温度を、液状混合物の粘度が攪拌又は流下を、たと
えば流下フィルム型反応器中で困難なく可能する様に選
択するのが好都合である。粘度を減少させるために、オ
キシエチラートともクロルスルホン酸又はＳＯｘ　とも
反応しない溶剤を使用することができ、たとえばハロゲ
ン化炭化水素である。しかし一般に溶剤の使用は不必要
である。

式（１）と（ｎ）なる化合物の混合物とクロルスルホン
酸又はＳＯ，との反応は、混合物中に含有される一ＣＨ
ｚＣ１ｌｔＯＨ−基１モルあたり、０．９５〜１モルク
ロルスルホン酸又はＳＯ３を反応させる様にして行われ
る。

たとえば式（１）及び（ＩＩ）なる化合物の混合物のＯ
Ｈ−数を測定し、それによって算出された債のクロルス
ルホン酸又はＳ０３を反応混合物の揺動及び冷却下に反
応温度が２０〜１２０℃の目的値以上に上らない様に調
節された間隔で添加する。

本発明による方法の好ましい実施形態に於て式（１）及
び（■）なる化合物の混合物を、非反応性ガス斗共に０
．５〜１０容量％、好ましく　１〜５容量％ＳＯ，を含
有するガス混合物と、化合物（１）及び（ＩＩ）中に含
有される一ＧＨｚＣＩｌ□ＯＨ−基１モルあたり０．９
５〜１モル５０３が弐（１）及び（■）なる化合物の混
合物によって吸収されるまで接触させる。いつこういう
ことになるかは、たとえば反応混合物の酸敗の測定によ
って確認することができる。

クロルスルホン酸との反応を、標準大気圧で実施し、Ｓ
Ｏ３との反応を非反応性ガスとの混合物の形で、有利に
０．５〜１００ｋｐａの圧力で実施することができ、こ
の場合また標準大気圧を使用するのが好ましい。

ＳＯ３との混合物に対する非反応性ガスとして空気、窒
素、二酸化炭素又は貴ガス、たとえばアルゴンが適する
。このガスをできる限り蒸気不含である形で使用しなけ
ればならない。

非反応性ガスとＳ（ｈとから成る混合物の製造並びにこ
れと式（り及び（ｆｆ）なる化合物の液状混合物との反
応に関して、公知の工業用設備及び装置が適する。たと
えばこれは“石けん一泊一脂肪一ロウ”、第１０７巻（
１９８１）、第４７〜５１頁中に記載されている。

弐（１）及び（ＩＩ）なる化合物の混合物と上記量のク
ロルスルホン酸又はＳ０３　とを反応させた場合、硫酸
化剤の添加をやめ、反応混合物を場合により冷却し、直
ちに冷却しながら中和する。更に弐Ｍｏ１ｔ　（式中Ｍ
　＝　ＮａＨＫ；Ｌｉ；１／２Ｍｇ；１／２Ｃａ；１／
２Ｂａ又は　　１７３　　　　　　　（式中Ｒ２〜Ｒ３
は同−又は異っＲ２−Ｎ−Ｒ’ Ｓ ていてよく、夫々Ｈ，Ｃ−原子数１〜４のアルキル基又
は−ＣＨｚＧＨｚＯＨを示す。）〕なる化合物少なくと
も１個の水性溶液を使用する。１／２Ｍｇは、中和のた
めに化合物Ｍｇ　（ＣＩ）　ｚを使用することを示し、
この際しかしたとえば式Ｎａ１ｌの化合物に比較してこ
の化合物のモル量の１／２シか中和に使用しない。

１／２Ｃａ及び１／２Ｂａは同様な意味を有する。本発
明による中和は、中和される生成物の水性溶液がｐＨ−
値を６．５〜９の範囲に有することを意味する。中和を
弐ＭＯＲ（式中Ｍ−Ｎａ；に；１／２Ｍｇ；ＮＨａ又は
Ｎ１１（Ｃ１ｌ□ＣＨ２０Ｈ）　３である。）なる化合
物受なくとも１個の水性溶液を用いて行うのが好ましい
。

式ＭＯＨなる化合物１個（又は数個）の水性溶液の含有
量は、本発明により製造された界面活性剤混合物の要求
される水含有量に従う。一般に界面活性剤混合物の水性
溶液に対して２０〜７０重量％の水含有率を適用し、よ
り一層高い水含有率はとにかく可能であるが、経済的理
由（輸送重量及び容量）からあまり適切でない。使用す
べき水量で弐ＭＤ１１なる化合物ｌ又は数個を完全に溶
解できない場合、この化合物を一部微分散された固形で
含有する水性懸濁液を使用する。

クロルスルホン酸又はＳＯｌと反応した反応混合物の中
和を、所望されない副反応又は分解反応を避けるために
反応直後に行わねばならない。中和は公知方法に従って
公知装置中で行われる。この装置はたとえばソープアン
ドケミカルスペシアリティーズ、第４３巻（１９６７）
、Ｎｏ、５、第１２４頁、右横及び第１２６頁、左欄並
びに第三回中に記載されている。

中和後に生じる、本発明により製造された界面活性剤混
合物の水性溶液は、一般にそのまま使用できる。これは
場合により、たとえばその色の改良のために又は１，４
−ジオキサンのその含有率をもっと減少させるために公
知の方法に従って後処理することができる。ジオキサン
を更に除去するための後処理は、すべての場合専らエー
テルスルフアートを含有する界面活性剤溶液から１．４
−ジオキサンを除去する、従来技術として最初に記載し
た方法に比してかなり少ない費用である。

新規方法に従ってクロルスルホン酸又はＳｏｌと反応す
る式（１）及び（ＩＩ）なる化合物の混合物を、対応す
る化合物を一緒に混合して製造する又はフルカノール少
なくとも１個及び窒素原子と結合する水素原子１又は２
個が夫々−ＧＨｚＧＨｚＯＨ−基１個によって置された
カルボン酸アミド少なくとも１個の混合物のオキシエチ
ル化によって製造することができる。

更に本発明による対象は界面活性剤混合物に対して０．
０１５重量％より少ない１．４−ジオキサン及び界面活
性剤混合物に対して９５重量％より多くエーテルスルフ
アート−混合物−これはそれ自体エーテルスルフアート
−混合物に対して９７〜３０モル％の弐（ｎ［） Ｒ−０−（ＣｌｌｚＣＨｚＯ）　ａｓＯＪ　　　　　　
　（Ｉ［［）（式中Ｒ，ａ及びＨは上述の意味を有する
。）なる化合物受なくとも１個及びエーテルスルフアー
ト混合物に対して３〜７０モル％の弐（ＩＶ）及び（又
は）（■） Ｒ’−ＧＯ−Ｎ）ｌ（Ｃ１ｌ□ＣＨ２０）ｂｓＯ，Ｍ　
　　　（Ｖ）（式中Ｒ’、ｂ及び門は上述の意味を有し
、ｄは１〜２０の数を示す。） なる化合物受なくとも１個から成る−を含有する水に溶
解されたエーテルスルフアートを含有する界面活性剤混
合物である。

上記式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）中のＨはＮａ；
に；１／２Ｍｇ；ＮＨａ又はＮｌｌ　（（４１ｚＣＨ２
０１１）　３を示す界面活性剤混合が好ましい。

同様に好ましい実施形態に於て上記式（１）中のａは２
−４の数を示す。

更に上記式（ＩＶ）及び（Ｖ）中のＲ１はＣ−原子数７
〜１７のアルキル基である界面活性剤混合物が好ましい
。

新規界面活性剤混合物を、たとえば上記新規方法に従っ
て製造することができる。

本発明による方法は、界面活性剤混合物に対して０．０
１５重量％より少ない１．４−ジオキサンを含有する、
水に溶解されたエーテルスルフアートを含有する界面活
性剤混合物を製造することができる。

この方法の特別な利点は、１，４−ジオキサンの形成が
界面活性剤混合物の製造の間すでに著しい程度で減少さ
れるので、完成された水に溶解された界面活性剤混合物
が残存する１、４−ジオキサンの除去のために全く後処
理する必要もないか、あるいは極めて僅かなジオキサン
−残存量を要求するならば、従来技術に比して価格上好
都合に後処理することができることである。新規方法を
、最小の装置費用を伴う通常の硫酸化装置中で実施する
ことができる。これはたとえばボディーケア剤、たとえ
ば泡浴剤、ヘアーシャンプー又は化粧品、更に食器用洗
剤又は洗剤として使用できる生成物を生じる。

次の例及び比較例は本発明を更に詳細に説明するための
ものである： 例１ないし２７及び比較例ｖ１ないしＶ２Ｏ：垂直に立
てられた管及びされに同心的配置された、より小さい直
径を有する第二の管から成る装置中に、外側の管の内壁
及び内側の管の外壁を湿めらして、夫々試験で次表Ｉに
記載した、式（１）及び（ｎ）なる化合物の液状混合物
を上方から供給する。２つの同心的に配置された管の間
の空間に、窒素との混合物２容量％として三酸化イオウ
１モル（８０ｇ）／時間を連続的に加える。外側の管の
外壁及び内側の管の内壁を２０°Ｃの水で冷却する。

装置の底部に排出されるガスは三酸化イオウ０．０１容
量％を含有する。式（１）及び（ＩＩ）なる化合物の混
合物１モルあたり三酸化イオウ０．９９５モルを吸収す
る。種々の冷却水−流れ速度の適用によって得られた硫
酸化混合物が２５〜４０℃の温度を有する上記装置から
排出し、次いでこれを２０℃の水で冷却された、種々の
量の水中に水さんたナトリウム３９．８ｇを有する水性
溶液中に直ちに１時間導入する。この水の量は次表■か
ら明らかである。

この際混合物の温度は３５℃以上に上昇しない。必要に
応じて式（Ｉ）及び（Ｉｆ）なる化合物の硫酸化混合物
の導入終了後に、２０％水性苛性ソーダ溶液の少量を水
性水酸化ナトリウム溶液中に加え、ｐＨ一値を７に調整
する。水酸化ナトリウムを溶解する水量を、硫酸化され
る混合物の導入後、式（ＩＩ［）及び（Ｖ）なる化合物
のナトリウム塩の水性溶液が存在する様に算出する。こ
の水性溶液は上記化合物の約３０重量％を含有する。表
■中に記載された混合物Ａ−にの分子量は、混合物の成
分の０ト数から算出される。この数は表Ｉ中にカッコ内
に表示０）ＩＺで夫々記載され、２つの成分の混合割合
を考慮に入れである。この混合割合は種々の試験に関し
て表１及び■から明らかである。

上述の様に製造された、式（ＩＩＩ）及び（Ｖ）なる化
合物のナトリウム塩の３０重量％水性溶液から、ジオキ
サン含有率を測定する。夫々の試験に於て無水混合物に
対する、式（Ｉ［［）及び（Ｖ）なる化合物のナトリウ
ム塩の重量％で表■及び■中に記載する。

比較試験ｖ１ないしＶＩＯ，Ｖ２１及びＶ２３を、夫々
式（ｒ）の混合されていない単一成分のみを用いて及び
比較試験ＶｌｌないしＶ２Ｏ並びにν２２及びＶ２４は
夫々式（ＩＩ）の混合されていない単一成分を用いて実
施する。この際測定されるジオキサン値は表■及び■か
ら明らかである。

次表Ｉ中でＥＯはエチレンオキシドを示す。たとえば“
ドデシル／テトラデシルアルコール＋３ＥＯ”は、平均
３工チレンオキシド単位で付加されたＣ−原子数１２〜
１４の種々のフルカノールの混合物である。“ヤシ脂肪
酸”又は“獣脂肪脂酸”は夫々次に記載する鎖長分布（
重量％で）を有する飽和脂肪族カルボン酸の混合物であ
る： Ｃ，Ｃ，。Ｃ＋ｔ　Ｃ＋ａ　Ｃｈ　Ｃｓヤシ脂肪酸　　
７　６　５１　１９　８　９獣脂肪脂酸　　−−１３３
１６５ 表１８ 使用される式（＋）及び（ＩＩ）なる化合物の混合物Ａ
）（＋）　　ドデシルアルコール＋２　ＥＯ（Ｏｆ（Ｚ
　２０４）及び（■）ヤシ脂肪酸−１−／　エタ）　−
ルア　ミＦ＋１，６　ＥＯ（ＯＩＩＺ　２０３）Ｂ）（
＋）　　ドデシル／テトラゾツルアルコール＋３　［０
（ＯＨｚ　１７３）及び（ＴＩ）　ヤシ脂肪酸モノエタ
ノールアミド＋１．６　ＥＯ（ＯＨ２２０３）Ｃ）（＋
）Ｆデシル’フルＤ−７Ｌ／４−２　ＥＯ（ＯＨ２２０
４）及び（旧ヤシ脂肪酸モノエタノールアミド（ＯＨｚ
　２２４）口）（Ｉ）ドデシル／テトラデシルアルコー
ル＋３　ＥＯ（ＯＨｚ　１７３）及び（ＩＩ）ヤシ脂肪
酸モノエタノールアミド（０１１Ｚ２２４）Ｅ）（＋）
　　ドデシルアルコール＋２　ＥＯ（ＯＨ２２０４）及
び（Ｔｌ）ヤシ脂肪酸モノエタノールアミド＋５　ＥＯ
（０１２１３２）Ｆ）（１）　　ドデシル／テトラゾツ
ルアルコール＋３２Ｏ（ＯＨｚ　１７３）及び（ＩＩ）
　ヤシ脂１１Ｂ酸モ／　ｆ−タ／　−ルＴ　ミＦ　＋５
　［０（ＯＩＩＺ　１３２）Ｇ）　（＋）　　Ｆテシル
フル＋−ル＋２　ＥＯ（０１１ｚ２０４）及び（ＩＩ　
）　＊Ｈ肪脂酸モ／　ｘ　タ／　−ルアミド＋５　ＥＯ
（ＯＩＩＺ　１４６））１）（１）　　ドデシルアルコ
ール＋２　ＥＯ（０１１Ｚ２０４）及びＩ） Ｋ） （ｎ） ＜Ｕ） （ＩＩ） 酢酸モノエタノールアミド　（ＯＨ２５５０）／　二／
１，７１ｍ／　−／Ｌ、＋４　ＥＯ（ＯＨ２１５５）及
びヤシ脂肪酸モノエタノールアミド（０１１２２２４）
ノニルフェノール＋１２　ＥＯ（０）ＩＺ７６）及びヤ
シ脂肪酸モノエタノールアミド　（０１１２２２４）比
較試験ｖ１ないしＶ２Ｏ及び例１ないし２７で使用され
る、式（Ｉ）及び（ｎ）なる化合物の七モル割合、及び
約３０％水性溶液中で測定されたジオキサン含有率は次
表から明らかである：表Ｈに対する脚注： ＊）　　式（１）なる化合物と式（ＩＩ）なる化合物の
モル割合（モル％）。

平均分子量を０ト数から計算する。

式（酸）及び（Ｖ）なる化合物の無水混合物に対する ＊＊車）　　ＮａＯＨ３９，８ｇを溶解する水の量。

傘車） 比較試験Ｖ２１及びＶ２２並びに例２８ないし３０：比
較試験ｖ１ないしＶ２Ｏ及び例１ないし２７に記載した
様に処理するが、三酸化イオウ２容量％を含有する混合
物の代りに三酸化イオウ７容量％を含有する混合物を使
用する。この際再度三酸化イオウ１モル（８０ｇ）１時
間を装置中に導入する。装置から排出する残存ガスは、
三酸化イオウ０．０３容量％を含有し、従って三酸化イ
オウ０．９９６モルが式（１）及び（ＩＩ）なる化合物
の液状混合物によって吸収される。使用される化合物は
表Ｉ中のＡ）の記載に相当する。比較試験Ｖ２１又はＶ
２２に関しては、混合物の純粋な単一成分を使用する。

式（１）及び（ＩＩ）なる化合物のモル割合、使用され
る水量及び式（［）及び（Ｖ）なる化合物のナトリウム
塩の約３０重量％を含有する、製造された水性溶液中で
測定されたジオキサン含有率は次表■から明らかである
。

比較試験Ｖ２３及びＶ２４並びに例３１ないし３３：比
較試験に関しては純粋な成分、例に関しては式（Ｉ）及
び（ｎ）なる化合物の混合物−これは表Ｉ中のＣ）に記
載されている−を使用する。２ｄｍ’容量の攪拌フラス
コ−これは温度計を有し、外部から水で冷却できる一中
に、夫々の試験に関して上述の化合物及び混合物２モル
を単一成分の種々の混合割合で予め導入し、攪拌及び２
０℃の水で冷却下にクロルスルホン酸２モル（２３３ｇ
）を内部温度３０℃の維持下で滴下し、次いで攪拌フラ
スコを２．６ＫＰａの加圧下に排気し、生じる塩化水素
ガスの残りを除去する。得られた硫酸化反応混合物を、
水酸化ナトリウム７９．５ｇ及び夫々表■に記載された
量の水を含有する水性溶液中に加える。この際硫酸化さ
れた混合物と水酸化ナトリウム溶液との反応の間に温度
が３５℃以上に上昇しないことを、冷却によって保証す
る。導入の終了後、必要に応じて２０重量％水酸化ナト
リウムを含有する水性溶液の比較的少量の添加でｐ）ｌ
−値を７に調整する。

式（ＩＩＩ）及び（Ｖ）なる化合物のナトリウム塩約３
０重量％を含有する、この様に製造された水性溶液のジ
オキサン含有率を測定する。これを次表■中に化合物（
Ｉｌｌ）及び（Ｖ）の、無水ナトリウム塩に対する重量
％で記載する。

手続補正書 補正の内容 平成 １年 ３月２３日 明細書全文を別紙の通り補正致します。

（発明の名称は変更なし）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）混合物に対して９９〜５モル％の式（ I ）Ｒ−Ｏ
   −（ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ）ａＨ（ I ）（式中 ＲはＣ−原子数８〜１８のアルキル基又はアルキル基１
   ないし３個で置換されたアルキルフェニル基であり、但
   しアルキル基のＣ−原子の全体数は４〜１２であり、 ａは１〜１０の数である。） なる化合物少なくとも１個及び混合物に対して１〜９５
   モル％の式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中 Ｒ＾１はＣ−原子数１〜１７のアルキル基、ｂは１〜２
   ０の数、 ｃは０又は１〜２０の数を示す。） なる化合物少なくとも１個から成る混合物を液状で２０
   〜１２０℃で式（ I ）及び（II）なる化合物中に含有
   される−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＨ−基１モルにつきクロル
   スルホン酸又はＳＯ＿３０．９５〜１モルと反応させ、
   次いで反応生成物を式ＭＯＨ 〔式中Ｍ＝Ｎａ；Ｋ；Ｌｉ；１／２Ｍｇ；１／２Ｃａ；
   １／２Ｂａ；又は▲数式、化学式、表等があります▼（
   式中Ｒ＾２はないしＲ＾５は 同一又は異っていてよく、夫々Ｈ、Ｃ−原子数１〜４の
   アルキル基又は−ＣＨ＿２ＣＨ＿ＯＨである。）〕 なる化合物の水性溶液又は懸濁液で中和することを特徴
   とする、低いジオキサン含有率を有する、エーテルスル
   ファートを含有する界面活性剤混合物の製造方法。 ２）混合物に対して式（ I ）なる化合物９７〜３０重
   量％及び混合物に対して式（II）なる化合物３〜７０重
   量％をクロルスルホン酸又はＳＯ＿３と反応させる請求
   項１記載の方法。 ３）式（ I ）及び（II）なる化合物の混合物を、非反
   応性ガスと共にガス混合物に対して０．５〜１０容量％
   ＳＯを含有するガス混合物と、化合物（ I ）及び（II
   ）中に含有される−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＨ−基１モルあ
   たり０．９５〜１モルＳＯ＿３が式（ I ）及び（II）
   なる化合物の混合物によって吸収されるまで接触させる
   請求項１又は２記載の方法。 ４）式（ I ）中のＲはＣ−原子数１０〜１６のアルキ
   ル基である請求項１ないし３記載の方法。 ５）式（ I ）中のａは２〜４の数である請求項１ない
   し４のいずれかに記載した方法。 ６）式（II）中のｂは１〜６の数、ｃは０である請求項
   １ないし５のいずれかに記載した方法。 ７）式（II）中のＲ＾１はＣ−原子数７〜１７のアルキ
   ル基である請求項１ないし６のいずれかに記載した方法
   。 ８）Ｍ＝Ｎａ；Ｋ；１／２Ｍｇ；ＮＨ＿４又はＮＨ（Ｃ
   Ｈ＿２ＣＨ＿２ＯＨ）＿３である請求項１ないし７のい
   ずれかに記載した方法。 ９）ガス混合物は１ないし５容量％ＳＯ＿３を含有する
   請求項３ないし８のいずれかに記載した方法。 １０）界面活性剤混合物に対して０．０１５重量％より
   少ない１，４−ジオキサン及び界面活性剤混合物に対し
   て９５重量％より多いエーテルスルファート−混合物−
   これはそれ自体エーテルスルファート−混合物に対して
   ９７〜３０モル％の式（III）Ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２ＣＨ
   ＿２Ｏ）ａＳＯ＿３Ｍ（III）（式中Ｒ、ａ及びＭは請
   求項１に記載した意味を有する。） なる化合物少なくとも１個及びエーテルスルファート−
   混合物に対して３〜７０モル％の式（IV）及び（又は）
   （Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） Ｒ＾１−ＣＯ−ＮＨ（ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ）ｂＳＯ＿３
   Ｍ（Ｖ）（式中Ｒ＾１、ｂ及びＭは請求項１に記載した
   意味を有し、ｄは１〜２０の数を示す。） なる化合物少なくとも１個から成る−を含有する水に溶
   解されたエーテルスルファートを含有する界面活性剤混
   合物。 １１）ＭはＮａ；Ｋ；１／２Ｍｇ；ＮＨ＿４又はＮＨ（
   ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＨ）＿３を示す請求項１０記載の界
   面活性剤混合物。 １２）式（III）中のａは２〜４の数である請求項１０
   又は１１記載の界面活性剤混合物。 １３）式（IV）及び（Ｖ）中のＲはＣ−原子数７〜１７
   のアルキル基である請求項１０ないし１２のいずれかに
   記載した界面活性剤混合物。