JPH0244581B2 - - Google Patents
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- JPH0244581B2 JPH0244581B2 JP56063379A JP6337981A JPH0244581B2 JP H0244581 B2 JPH0244581 B2 JP H0244581B2 JP 56063379 A JP56063379 A JP 56063379A JP 6337981 A JP6337981 A JP 6337981A JP H0244581 B2 JPH0244581 B2 JP H0244581B2
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- aqueous solution
- titania
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- Catalysts (AREA)
Description
本発明は排ガス中の窒素酸化物除去用触媒(以
下脱硝触媒という)の再生方法に係るもので、更
に詳しくはアンモニアを還元剤として排ガス中の
窒素酸化物(以下NOxという)を除去する触媒
の再生方法に関する。 排ガス中のNOxは近年光化学スモツグの原因
物質の一つとして注目され、その除去法が種々提
案されているが、その中でアンモニアを還元剤と
して触媒の存在下、NOxを無害な窒素にまで還
元せしめる接触還元法がすでに実用段階に到達し
ている。ここで用いられる触媒はバナジウム−チ
タニア系が優れた活性を示すものとして一般的で
ある。バナジウムチタニア系にはV2O5とTiO2や
(V2O5+α成分)とTiO2の組合せがあり、α成
分としては例えば特開昭51−80696に記載のよう
な酸化モリブデンや酸化タングステンなどがあ
る。その組成はTiO280〜95wt%、V2O520〜5wt
%であるが、一般にはTiO290〜91wt%、V2O510
〜9wt%のものが多い。α成分のWO3やMoO3は
例えばTiO291wt%、V2O52wt%、WO37wt%の
ようにV2O5と置き換える形で配合される。 更に脱硝触媒の形状は第1図に示すようなハニ
カム状が多用されている。ハニカム触媒は大別し
てコート型とソリツド型とがあり、前者はハニカ
ム状の基材にバナジウム化合物を含むチタニアス
ラリーを塗布して、乾燥、焼成することにより作
られるが後者はチタニアにバナジウム化合物と水
を加えて混練し、ハニカム状に成形した後、乾
燥、焼成して作られる。(第1図矢印はガスの流
れ方向を示す) 脱硝触媒は一般には350〜450℃の温度領域で使
用されるが、排ガスがダーテイな場合には長期間
の使用によつて触媒の活性が低下する現象が認め
られる。触媒の活性を低下させる触媒毒としては
ナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属化合
物、マグネシウムやカルシウムなどの土類金属化
合物がよく知られているが、これらは燃料油や石
炭中に含まれるものである。その他にダストの付
着堆積による閉塞や表面積の低下も活性低下の要
因となる。 以上のように脱硝触媒の活性の経時的な低下に
ついては種々の要因があるが、活性の低下した触
媒について水洗後100〜500℃で焼成する方法(特
開昭51−80696)、水又は稀無機酸水溶液で洗浄す
るか、又は蒸気を吹付ける方法(特開昭52−
27091)、蓚酸水溶液を接触させバナジウム成分の
一部を抽出後、バナジウム化合物を含浸担持し、
焼成する方法(特開昭54−10294)などの活性回
復(再生)方法が提案されている。 しかしながら前記洗浄処理においては水溶性触
媒毒やダストが除去され、それなりの効果は認め
られるものの、活性成分であるバナジウムや、α
成分(酸化タングステン及び酸化モリブデンな
ど)が一部溶出して来るため未使用触媒の活性と
同等のレベルまで再成することはできない。特に
蓚酸水溶液で洗浄する方法はバナジウムを蓚酸バ
ナジルとして強制的に溶出させるものであり、ま
たα成分もかなり溶出して来るので、当然活性の
向上は見込めない。従つて上記洗浄後に活性成分
を再担持させることが必要となる。 ところが前述のコート型触媒は前記洗浄後単に
バナジウム化合物を含浸担持させる従来法では再
生不良であり、バナジウム化合物又は〔バナジウ
ム化合物+α成分の化合物〕を含むチタニアスラ
リーを塗布することによりはじめて良好に再生さ
れることを見出した。前記バナジウム化合物とし
てはメタバナジン酸アンモニウムや蓚酸バナジ
ル、α成分の化合物としてはパラタングステン酸
アンモニウム及モリブデン酸アンモニウムが一般
によく使用される。更に第1図に示すように排ガ
スはハニカムの穴を通過する訳でこの穴の径が小
さくなれば、即ち塗布層の厚みが増せば、当然圧
力損失の上昇をきたすことになり、また塗布層の
ヒビ割れやはく離の原因となるため、やみくもに
チタニアスラリーを塗布することはできないので
ある。この点について本発明者らは種々検討し、
チタニアスラリーの粘度をある好ましい範囲に制
御することにより活性の低下したコート型ハニカ
ム触媒を未使用触媒と同等の活性と圧力損失を有
する触媒へ再生できることを見出し、本発明を完
成するに至つた。 以下本発明を詳細に説明する。 本発明によるコート型触媒の再生は、まず活性
の低下した触媒を、水又は硫酸、硝酸及び塩酸な
どの無機酸の希水溶液で洗浄する。更に必要に応
じて蓚酸水溶液による洗浄を追加する。その後バ
ナジウム化合物又は〔バナジウム化合物+α成分
の化合物〕を含むチタニアスラリ(粘度0.3〜2.0
ポイズ)を塗布して乾燥、焼成することにより再
生触媒が得られる。前記チタニアスラリー中のバ
ナジウム化合物やα成分の化合物の配合は焼成し
た後の組成が前述のように例えばTiO291wt%、
V2O52wt%WO37wt%となるようにあらかじめ計
算して決められる。 NOx含有排ガスの脱硝触媒として長時間使用
された結果、活性の低下した触媒には、多くの場
合触媒表面にダストが付着堆積しているのであら
かじめ水又は稀無機酸水溶液で洗浄、除去するの
であるが、この時アルカリ金属化合物などの水溶
性の被毒物も除去される。一方活性成分のバナジ
ウムや前記のα成分も一部溶出して来るので長時
間の洗浄は好ましくない。またダストや被毒物に
よる汚染が著しく水又は稀無機酸水溶液による洗
浄のみではそれらの除去が困難な場合には更に蓚
酸水溶液で好ましくは加温下で洗浄することが効
果的である。 上記洗浄によりダストや被毒物を除去した触媒
は、バナジウム化合物又は〔バナジウム化合物+
α成分の化合物〕を含むチタニアスラリーに浸漬
するなどの方法によつて該スラリーを塗布され
る。該スラリーの粘度は0.3〜2.0ポイズが好まし
く、0.3ポイズ以下では活性の回復が十分でなく、
また2.0ポイズ以上では塗布層の厚みが増大して
通気圧力損失の増大や塗布層のヒビ割れ、はく離
の促進などを引き起し好ましくない。 該スラリーを塗布された触媒は、乾燥と焼成を
経て未使用触媒と比較して遜色ない活性と通気圧
力損失を有する触媒に再生される。 以上詳述したように本発明の方法により活性の
低下したコート型バナジウム−チタニア系触媒、
すなわちV2O5−TiO2、及び(V2O5+α成分)−
TiO2の組合せからなる触媒、を形状を損うこと
もなく、未使用触媒と同等のレベルにまで再生す
ることができる訳でその実用的価値は極めて大き
い。 次に本発明を実施例により更に具体的に説明す
る。 実施例 1 TiO291wt%、TiO29wt%を含むコート型ハニ
カム触媒を用い、下記条件でボイラ排ガスを2年
間処理したところ、380℃における初期NOx除去
率83%のものが74.5%に低下した。 排ガス処理条件 処理ガス量 温 度 空間速度 100Nm3/h 300〜400℃ 10000 1/h NH3/NOx比.NOx SOx 1.0 350ppm 1000ppm この性能の低下した触媒を触媒の見掛け容積
(外寸より算出)の3.3倍の水及び温水に浸漬し、
水及び温水を循環しながら30分〜1時間洗浄し
た。洗浄後はバナジウムの溶出により橙色に着色
し、化学分析によつて洗浄水中のバナジウムを定
量したところ触媒中のバナジウムの5〜20%が溶
出していた。またカリウムはいずれの条件下でも
100%溶出していた。 洗浄後の触媒を乾燥し、前記と同様の排ガス処
理条件でNOx除去率を測定したところ比較例1
(第1表)に示すように完全には回復しなかつた。 更に70℃の温水中で30分間上記と同様にして洗
浄した触媒を乾燥し、メタバナジン酸アンモニウ
ムを溶解したメチルアミン水溶液に浸漬して含浸
させ排ガス処理に供したところNOx除去率は比
較例2に示すとおり77.5%で水洗のみのものとほ
とんど変らなかつた。 次に比較例1と同様に水及び温水で30分〜1時
間洗浄した触媒を得、TiO288.7wt%、メタバナ
ジン酸アンモニウム11.3wt%の割合ではかり取
り、メチルアミン水溶液を加えて調整した粘度
0.5ポイズのチタニアスラリーに浸漬してスラリ
ーを塗布し、乾燥、焼成して前記排ガス処理条件
下でNOx除去率を測定したところ第1表に示す
とおり初期のNOx除去率へ完全に回復した。
下脱硝触媒という)の再生方法に係るもので、更
に詳しくはアンモニアを還元剤として排ガス中の
窒素酸化物(以下NOxという)を除去する触媒
の再生方法に関する。 排ガス中のNOxは近年光化学スモツグの原因
物質の一つとして注目され、その除去法が種々提
案されているが、その中でアンモニアを還元剤と
して触媒の存在下、NOxを無害な窒素にまで還
元せしめる接触還元法がすでに実用段階に到達し
ている。ここで用いられる触媒はバナジウム−チ
タニア系が優れた活性を示すものとして一般的で
ある。バナジウムチタニア系にはV2O5とTiO2や
(V2O5+α成分)とTiO2の組合せがあり、α成
分としては例えば特開昭51−80696に記載のよう
な酸化モリブデンや酸化タングステンなどがあ
る。その組成はTiO280〜95wt%、V2O520〜5wt
%であるが、一般にはTiO290〜91wt%、V2O510
〜9wt%のものが多い。α成分のWO3やMoO3は
例えばTiO291wt%、V2O52wt%、WO37wt%の
ようにV2O5と置き換える形で配合される。 更に脱硝触媒の形状は第1図に示すようなハニ
カム状が多用されている。ハニカム触媒は大別し
てコート型とソリツド型とがあり、前者はハニカ
ム状の基材にバナジウム化合物を含むチタニアス
ラリーを塗布して、乾燥、焼成することにより作
られるが後者はチタニアにバナジウム化合物と水
を加えて混練し、ハニカム状に成形した後、乾
燥、焼成して作られる。(第1図矢印はガスの流
れ方向を示す) 脱硝触媒は一般には350〜450℃の温度領域で使
用されるが、排ガスがダーテイな場合には長期間
の使用によつて触媒の活性が低下する現象が認め
られる。触媒の活性を低下させる触媒毒としては
ナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属化合
物、マグネシウムやカルシウムなどの土類金属化
合物がよく知られているが、これらは燃料油や石
炭中に含まれるものである。その他にダストの付
着堆積による閉塞や表面積の低下も活性低下の要
因となる。 以上のように脱硝触媒の活性の経時的な低下に
ついては種々の要因があるが、活性の低下した触
媒について水洗後100〜500℃で焼成する方法(特
開昭51−80696)、水又は稀無機酸水溶液で洗浄す
るか、又は蒸気を吹付ける方法(特開昭52−
27091)、蓚酸水溶液を接触させバナジウム成分の
一部を抽出後、バナジウム化合物を含浸担持し、
焼成する方法(特開昭54−10294)などの活性回
復(再生)方法が提案されている。 しかしながら前記洗浄処理においては水溶性触
媒毒やダストが除去され、それなりの効果は認め
られるものの、活性成分であるバナジウムや、α
成分(酸化タングステン及び酸化モリブデンな
ど)が一部溶出して来るため未使用触媒の活性と
同等のレベルまで再成することはできない。特に
蓚酸水溶液で洗浄する方法はバナジウムを蓚酸バ
ナジルとして強制的に溶出させるものであり、ま
たα成分もかなり溶出して来るので、当然活性の
向上は見込めない。従つて上記洗浄後に活性成分
を再担持させることが必要となる。 ところが前述のコート型触媒は前記洗浄後単に
バナジウム化合物を含浸担持させる従来法では再
生不良であり、バナジウム化合物又は〔バナジウ
ム化合物+α成分の化合物〕を含むチタニアスラ
リーを塗布することによりはじめて良好に再生さ
れることを見出した。前記バナジウム化合物とし
てはメタバナジン酸アンモニウムや蓚酸バナジ
ル、α成分の化合物としてはパラタングステン酸
アンモニウム及モリブデン酸アンモニウムが一般
によく使用される。更に第1図に示すように排ガ
スはハニカムの穴を通過する訳でこの穴の径が小
さくなれば、即ち塗布層の厚みが増せば、当然圧
力損失の上昇をきたすことになり、また塗布層の
ヒビ割れやはく離の原因となるため、やみくもに
チタニアスラリーを塗布することはできないので
ある。この点について本発明者らは種々検討し、
チタニアスラリーの粘度をある好ましい範囲に制
御することにより活性の低下したコート型ハニカ
ム触媒を未使用触媒と同等の活性と圧力損失を有
する触媒へ再生できることを見出し、本発明を完
成するに至つた。 以下本発明を詳細に説明する。 本発明によるコート型触媒の再生は、まず活性
の低下した触媒を、水又は硫酸、硝酸及び塩酸な
どの無機酸の希水溶液で洗浄する。更に必要に応
じて蓚酸水溶液による洗浄を追加する。その後バ
ナジウム化合物又は〔バナジウム化合物+α成分
の化合物〕を含むチタニアスラリ(粘度0.3〜2.0
ポイズ)を塗布して乾燥、焼成することにより再
生触媒が得られる。前記チタニアスラリー中のバ
ナジウム化合物やα成分の化合物の配合は焼成し
た後の組成が前述のように例えばTiO291wt%、
V2O52wt%WO37wt%となるようにあらかじめ計
算して決められる。 NOx含有排ガスの脱硝触媒として長時間使用
された結果、活性の低下した触媒には、多くの場
合触媒表面にダストが付着堆積しているのであら
かじめ水又は稀無機酸水溶液で洗浄、除去するの
であるが、この時アルカリ金属化合物などの水溶
性の被毒物も除去される。一方活性成分のバナジ
ウムや前記のα成分も一部溶出して来るので長時
間の洗浄は好ましくない。またダストや被毒物に
よる汚染が著しく水又は稀無機酸水溶液による洗
浄のみではそれらの除去が困難な場合には更に蓚
酸水溶液で好ましくは加温下で洗浄することが効
果的である。 上記洗浄によりダストや被毒物を除去した触媒
は、バナジウム化合物又は〔バナジウム化合物+
α成分の化合物〕を含むチタニアスラリーに浸漬
するなどの方法によつて該スラリーを塗布され
る。該スラリーの粘度は0.3〜2.0ポイズが好まし
く、0.3ポイズ以下では活性の回復が十分でなく、
また2.0ポイズ以上では塗布層の厚みが増大して
通気圧力損失の増大や塗布層のヒビ割れ、はく離
の促進などを引き起し好ましくない。 該スラリーを塗布された触媒は、乾燥と焼成を
経て未使用触媒と比較して遜色ない活性と通気圧
力損失を有する触媒に再生される。 以上詳述したように本発明の方法により活性の
低下したコート型バナジウム−チタニア系触媒、
すなわちV2O5−TiO2、及び(V2O5+α成分)−
TiO2の組合せからなる触媒、を形状を損うこと
もなく、未使用触媒と同等のレベルにまで再生す
ることができる訳でその実用的価値は極めて大き
い。 次に本発明を実施例により更に具体的に説明す
る。 実施例 1 TiO291wt%、TiO29wt%を含むコート型ハニ
カム触媒を用い、下記条件でボイラ排ガスを2年
間処理したところ、380℃における初期NOx除去
率83%のものが74.5%に低下した。 排ガス処理条件 処理ガス量 温 度 空間速度 100Nm3/h 300〜400℃ 10000 1/h NH3/NOx比.NOx SOx 1.0 350ppm 1000ppm この性能の低下した触媒を触媒の見掛け容積
(外寸より算出)の3.3倍の水及び温水に浸漬し、
水及び温水を循環しながら30分〜1時間洗浄し
た。洗浄後はバナジウムの溶出により橙色に着色
し、化学分析によつて洗浄水中のバナジウムを定
量したところ触媒中のバナジウムの5〜20%が溶
出していた。またカリウムはいずれの条件下でも
100%溶出していた。 洗浄後の触媒を乾燥し、前記と同様の排ガス処
理条件でNOx除去率を測定したところ比較例1
(第1表)に示すように完全には回復しなかつた。 更に70℃の温水中で30分間上記と同様にして洗
浄した触媒を乾燥し、メタバナジン酸アンモニウ
ムを溶解したメチルアミン水溶液に浸漬して含浸
させ排ガス処理に供したところNOx除去率は比
較例2に示すとおり77.5%で水洗のみのものとほ
とんど変らなかつた。 次に比較例1と同様に水及び温水で30分〜1時
間洗浄した触媒を得、TiO288.7wt%、メタバナ
ジン酸アンモニウム11.3wt%の割合ではかり取
り、メチルアミン水溶液を加えて調整した粘度
0.5ポイズのチタニアスラリーに浸漬してスラリ
ーを塗布し、乾燥、焼成して前記排ガス処理条件
下でNOx除去率を測定したところ第1表に示す
とおり初期のNOx除去率へ完全に回復した。
【表】
実施例 2
実施例1と同様にして得られた性能の低下した
触媒を、まず常温の水をかけて軽く洗浄し、次に
触媒の見掛け容積の3.3倍の蓚酸水溶液(70℃)
に浸漬し、液を循環しながら1時間洗浄した。洗
浄後は蓚酸バナジルの生成によつて青色となつ
た。この時の触媒からのバナジウムの溶出率は蓚
酸濃度により第2図のように変化した。25〜50g
(蓚酸二水塩)/(H2O)の濃度で約90%のバ
ナジウムが溶出し、濃度を更に上昇させても溶出
率の向上はない。蓚酸水溶液による洗浄において
ハニカム基材にコートされたチタニアもかなりは
く離することが認められた。 蓚酸水溶液で洗浄した触媒を乾燥して実施例1
と同様の排ガス処理条件にてNOx除去率を測定
したところ比較例3(第2表)に示すとおり、非
常に低い値であつた。 また蓚酸水溶液で洗浄した触媒を乾燥後、蓚酸
バナジル水溶液に浸漬し、乾燥、焼成して排ガス
処理に供したところ比較例4に示すように何の効
果も認められなかつた。 次に蓚酸水溶液で洗浄して触媒を得、
TiO285.5wt%、蓚酸バナジル14.4wt%の割合で
はかり取り水を加えて調整した粘度1.0ポイズの
チタニアスラリーに浸漬してスラリーを塗布し、
乾燥と焼成を行い実施例1と同様の排ガス処理条
件下でNOx除去率を測定したところ第2表に示
すとおり初期のNOx除去率へ回復した。
触媒を、まず常温の水をかけて軽く洗浄し、次に
触媒の見掛け容積の3.3倍の蓚酸水溶液(70℃)
に浸漬し、液を循環しながら1時間洗浄した。洗
浄後は蓚酸バナジルの生成によつて青色となつ
た。この時の触媒からのバナジウムの溶出率は蓚
酸濃度により第2図のように変化した。25〜50g
(蓚酸二水塩)/(H2O)の濃度で約90%のバ
ナジウムが溶出し、濃度を更に上昇させても溶出
率の向上はない。蓚酸水溶液による洗浄において
ハニカム基材にコートされたチタニアもかなりは
く離することが認められた。 蓚酸水溶液で洗浄した触媒を乾燥して実施例1
と同様の排ガス処理条件にてNOx除去率を測定
したところ比較例3(第2表)に示すとおり、非
常に低い値であつた。 また蓚酸水溶液で洗浄した触媒を乾燥後、蓚酸
バナジル水溶液に浸漬し、乾燥、焼成して排ガス
処理に供したところ比較例4に示すように何の効
果も認められなかつた。 次に蓚酸水溶液で洗浄して触媒を得、
TiO285.5wt%、蓚酸バナジル14.4wt%の割合で
はかり取り水を加えて調整した粘度1.0ポイズの
チタニアスラリーに浸漬してスラリーを塗布し、
乾燥と焼成を行い実施例1と同様の排ガス処理条
件下でNOx除去率を測定したところ第2表に示
すとおり初期のNOx除去率へ回復した。
【表】
実施例 3
TiO291wt%、V2O52wt%、WO37wt%を含む
コート型ハニカム触媒を用い実施例1と同様にボ
イラ排ガスを2年間処理したところ、380℃にお
ける初期NOx除去率84%のものが76%に低下し
た。 この性能の低下した触媒を常温の水をかけて軽
く洗浄し触媒の見掛け容積の3.3倍の温水(70℃)
又は蓚酸水溶液(70℃)に浸漬し、液を循環しな
がら一定時間洗浄した。この時の触媒からのバナ
ジウム及びタングステンの溶出率は第3図のよう
に変化した。 上記により洗浄された触媒を得、TiO289.7wt
%、メタバナジン酸アンモニウム2.5wt%、パラ
タングステン酸アンモニウム7.8wt%の割合では
かり取り、メチルアミン水溶液を加えて調製した
種々の粘度のチタニアスラリーに浸漬してスラリ
ーを塗布し、乾燥と焼成を行い、実施例1と同様
の排ガス処理条件でNOx除去率と触媒充填層圧
力損失を測定し第4図、第5図の結果を得た。ス
ラリー粘度が2.0ポイズを越えると圧損が急激に
上昇し、またスラリー粘度が0.3以下となれば
NOx除去率は80%より低くなり不適である。な
お未使用触媒の圧力損失は28mmH2O/mであつ
た。 実施例 4 実施例1と同様にして得られた性能の低下した
触媒を、触媒の見掛け容積の3.3倍の1%硫酸水
溶液(50℃)に浸漬し、液を循環しながら1時間
洗浄した。その後、実施例1と同様のチタニアス
ラリー(粘度0.5ポイズ)に浸漬して、スラリー
を塗布し、乾燥、焼成して実施例1と同様の排ガ
ス処理条件でNOx除去率を測定したところ83.5
%であつた。 実施例 5 触媒成分としてバナジウムとタングステンを含
むコート型ハニカム触媒を用い実施例1と同様の
条件でボイラ排ガスを2年間処理したところ、
380℃における初期NOx除去率84%のものが76%
へ低下した。 実施例3と同様にして得られた性能の低下した
触媒を、常温の水で洗浄し、更に触媒の見掛け容
積の3.3倍の蓚酸水溶液(濃度25g/)に浸漬
し、液を循環しながら1時間洗浄した。この時の
バナジウムの溶出は温度によつて第3表のように
変化した。また温度の上昇によつてチタニアのは
く離も増大した。 この触媒を、実施例3と同様にして調製した粘
度1.0ポイズのチタニアスラリーに浸漬してスラ
リーを塗布し、乾燥と焼成を行い実施例1と同様
の排ガス処理条件下でNOx除去率を測定したと
ころ第3表に示すとおり、初期NOx除去率へ回
復した。
コート型ハニカム触媒を用い実施例1と同様にボ
イラ排ガスを2年間処理したところ、380℃にお
ける初期NOx除去率84%のものが76%に低下し
た。 この性能の低下した触媒を常温の水をかけて軽
く洗浄し触媒の見掛け容積の3.3倍の温水(70℃)
又は蓚酸水溶液(70℃)に浸漬し、液を循環しな
がら一定時間洗浄した。この時の触媒からのバナ
ジウム及びタングステンの溶出率は第3図のよう
に変化した。 上記により洗浄された触媒を得、TiO289.7wt
%、メタバナジン酸アンモニウム2.5wt%、パラ
タングステン酸アンモニウム7.8wt%の割合では
かり取り、メチルアミン水溶液を加えて調製した
種々の粘度のチタニアスラリーに浸漬してスラリ
ーを塗布し、乾燥と焼成を行い、実施例1と同様
の排ガス処理条件でNOx除去率と触媒充填層圧
力損失を測定し第4図、第5図の結果を得た。ス
ラリー粘度が2.0ポイズを越えると圧損が急激に
上昇し、またスラリー粘度が0.3以下となれば
NOx除去率は80%より低くなり不適である。な
お未使用触媒の圧力損失は28mmH2O/mであつ
た。 実施例 4 実施例1と同様にして得られた性能の低下した
触媒を、触媒の見掛け容積の3.3倍の1%硫酸水
溶液(50℃)に浸漬し、液を循環しながら1時間
洗浄した。その後、実施例1と同様のチタニアス
ラリー(粘度0.5ポイズ)に浸漬して、スラリー
を塗布し、乾燥、焼成して実施例1と同様の排ガ
ス処理条件でNOx除去率を測定したところ83.5
%であつた。 実施例 5 触媒成分としてバナジウムとタングステンを含
むコート型ハニカム触媒を用い実施例1と同様の
条件でボイラ排ガスを2年間処理したところ、
380℃における初期NOx除去率84%のものが76%
へ低下した。 実施例3と同様にして得られた性能の低下した
触媒を、常温の水で洗浄し、更に触媒の見掛け容
積の3.3倍の蓚酸水溶液(濃度25g/)に浸漬
し、液を循環しながら1時間洗浄した。この時の
バナジウムの溶出は温度によつて第3表のように
変化した。また温度の上昇によつてチタニアのは
く離も増大した。 この触媒を、実施例3と同様にして調製した粘
度1.0ポイズのチタニアスラリーに浸漬してスラ
リーを塗布し、乾燥と焼成を行い実施例1と同様
の排ガス処理条件下でNOx除去率を測定したと
ころ第3表に示すとおり、初期NOx除去率へ回
復した。
第1図は一般に脱硝触媒として使用されるハニ
カム型触媒の構造例を示し、第2図は性能の低下
したTiO2−V2O5系触媒を蓚酸水溶液で洗浄する
ときの、蓚酸濃度に対応するバナジウムの溶出率
をプロツトしたグラフであり、第3図は性能の低
下したTiO2−V2O5−WO3系触媒を蓚酸水溶液で
洗浄するときの、蓚酸濃度に対応するバナジウム
及びタングステンの溶出率をプロツトしたグラフ
であり、第4図及び第5図は、性能の低下した
TiO2−V2O5−WO3系触媒の再生時に使用するチ
タニアスラリーの粘度に対応して、再生された触
媒のNOx除去率及び圧力損失をプロツトしたグ
ラフである。
カム型触媒の構造例を示し、第2図は性能の低下
したTiO2−V2O5系触媒を蓚酸水溶液で洗浄する
ときの、蓚酸濃度に対応するバナジウムの溶出率
をプロツトしたグラフであり、第3図は性能の低
下したTiO2−V2O5−WO3系触媒を蓚酸水溶液で
洗浄するときの、蓚酸濃度に対応するバナジウム
及びタングステンの溶出率をプロツトしたグラフ
であり、第4図及び第5図は、性能の低下した
TiO2−V2O5−WO3系触媒の再生時に使用するチ
タニアスラリーの粘度に対応して、再生された触
媒のNOx除去率及び圧力損失をプロツトしたグ
ラフである。
Claims (1)
- 1 ダストや被毒物質の付着又は蓄積によつて活
性の低下した使用済の、V2O5及びTiO2よりなる
か、或いはこれにWO3及び/又はMoO3を加えて
なるバナジウム−チタニア系コート型脱硝触媒の
再生にあたり、水または稀無機酸水溶液で該触媒
を洗浄した後、そのままかもしくは蓚酸水溶液で
更に洗浄するかし、次いで粘度0.3〜2.0ポイズの
バナジウム化合物を含むチタニアスラリーを塗布
し、乾燥、焼成することを特徴とする使用済脱硝
触媒の再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56063379A JPS57180433A (en) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | Regeneration of used denitration catalyst |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56063379A JPS57180433A (en) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | Regeneration of used denitration catalyst |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57180433A JPS57180433A (en) | 1982-11-06 |
| JPH0244581B2 true JPH0244581B2 (ja) | 1990-10-04 |
Family
ID=13227595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56063379A Granted JPS57180433A (en) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | Regeneration of used denitration catalyst |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57180433A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60209252A (ja) * | 1984-04-03 | 1985-10-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 脱硝触媒の再生方法 |
| JPS60212237A (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | アンモニア接触還元脱硝触媒の再生方法 |
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| JP3377715B2 (ja) * | 1997-02-27 | 2003-02-17 | 三菱重工業株式会社 | 脱硝触媒の再生方法 |
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| JP4264642B2 (ja) * | 2003-09-18 | 2009-05-20 | 日立造船株式会社 | 熱的劣化触媒の再生方法 |
| JP4518851B2 (ja) * | 2004-07-08 | 2010-08-04 | バブコック日立株式会社 | 再生脱硝触媒およびその製法 |
| US8048818B2 (en) * | 2008-03-26 | 2011-11-01 | Babcock & Wilcox Power Generation Group, Inc. | In-situ regeneration of a catalyst masked by calcium sulfate |
| JP5526369B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2014-06-18 | バブコック日立株式会社 | 脱硝触媒の再生方法 |
| JP5535769B2 (ja) * | 2010-06-02 | 2014-07-02 | 三菱重工業株式会社 | 排ガス処理触媒の再生方法及びこの方法を使用した排ガス処理触媒 |
| JP6147663B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2017-06-14 | 三菱重工業株式会社 | Cos転換触媒の触媒再生方法 |
| CN105170198A (zh) * | 2015-09-21 | 2015-12-23 | 武汉钢铁(集团)公司 | 一种scr板式脱硝催化剂工厂化再生方法 |
| CN113477083B (zh) * | 2021-07-05 | 2022-11-22 | 国家电投集团远达环保催化剂有限公司 | 一种失活脱硝除尘陶瓷管再生方法 |
-
1981
- 1981-04-28 JP JP56063379A patent/JPS57180433A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57180433A (en) | 1982-11-06 |
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