JPH024468A - 薄板表面処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気ディスクなど中空薄板状物体の浸漬塗布処
理等に適用される薄板表面処理装置に関するものである
。

従来の技術 磁気ディスクなど中空の薄板状物体の表面処理工程にお
いて、浸漬塗布を行う際の支持具は、被塗布物体の外周
側面を掴持するか、あるいは内周側面を釣支することが
試みられてきた。また、前記薄板状物体に浸漬塗布され
た形成層が均一になるよう要求される薄膜形成分野では
、溶液の濃度。

液面からの引上げ速度、被塗布物体の表面温度。

ぬれ性、液面の振動などが重要課題となっている。

特に、被塗布物体を液面から引上げる際に液面が振動す
ると塗布層が不均一になるため、被塗布物体の支持具は
断面積の小さい線材などを用いていた。

以下、図面を参照しながら上述した従来の浸漬塗布の一
例について説明する。

第６図は従来の浸漬塗布装置の構成を示すものである。

第６図において、５２は被塗布物体６１を支持する支持
具で、線材を湾曲させ凹凸形状にしたものであり、谷部
で被塗布物体５１の内周側面に係合し垂下させることに
より支持している。

前記支持具６２はワイヤ６３により定滑車６５を介して
ドラム６６で懸吊され、アクチュエータ６７でワイヤ５
３を巻回して処理槽６９にある処理液５８中に被塗布物
体６１を昇降させ浸漬塗布を実現している（例えば、特
公昭５７−９４９３２号公報参照）。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記構成では支持具の剛性不足のため量
産化が困難で、単純に線径を増し剛性を高めると、被塗
布物体との保合範囲が拡が９処理液の表面張力で処理液
が残留し局部的に塗布層が不均一になるという問題点が
あるとともに、被塗布物体の懸吊作業は作業者に委ねら
れ、この支持具を単に増設しても自動供給装置が複雑に
なる。

そこで、精密均等塗布層を量産し得る薄板表面処理装置
の開発が急務とされていた。

本発明は上記問題点に鑑み、被処理物体との保合部分で
処理液が残留しない支持具及びそれを用いた量産用の薄
板表面処理装置を提供するものである。

課題を解決するだめの手段 上記問題点を解決するために本発明の薄板表面処理装置
は、被処理物体に挿入し適当な間隔で支持できるＶ形状
の溝を有する帯状薄板と、この帯状薄板を支持しかつ被
処理物体に挿入されない部分が被処理物体より低位置に
突出した支持基板とからなる支持具を備えたことを特徴
とする。

また、前記支持具を３次元的に移送可能な手段と、被処
理物体を、その内径中心がほぼ水平でかつほぼ同軸上に
あるよう並列させて供給する供給手段と、除振された処
理槽とを備えたことを特徴とする。

作　　用 本発明は上記した構成を有し、帯状薄板と支持基板にて
支持具を構成したことにより、その断面の長辺が鉛直方
向と平行となシ、支持具の鉛直方向の断面２次モーメン
トは同断面積の中実棒の断面２次モーメントより大きく
なり、たわみ量も小さくより剛性が高くなる。つまシ、
薄板状の支持具が被塗布物体の荷重を支持するには有利
であシ、量産化には好適である。

一方、被処理物体を適当な間隔で位置決めする自動供給
装置は前記被処理物体が同形状であれば容易に構成でき
、前記の間隔で支持具にＶ型溝を形成すれば、前記被処
理物体はその間隔を確保した状態で処理工程を終え、ま
た供給手段に収納することができ自動化、量産化が実現
できる。

また、前記被処理物体との保合部分では、接触付近で処
理液の表面張力が作用し、液切れが悪いと処理液が残留
するため、接触跡が残ったり、局部的に塗布層が変動す
る結果となるが、上記構成により極めて薄い帯状薄板に
■型溝を形成し、被処理物体と液の表面張力により液留
シが発生しない十分隔てた位置で別個の支持基板により
支持しているので、接触跡や不均一塗布層の発生が防止
できる。

又、前記補強用の支持基板を被処理物体より低位置まで
突出した形状にすることにより、前記支持基板の液面か
らの脱離時に発生する液面振動を被処理物体の液面から
の脱離後に行うことができ、被処理物体への塗布層への
影響は回避できる。

実施例 以下本発明の一実施例の薄板表面処理装置について図面
を参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例にお
ける薄板表面処理装置の構成図を示すものである。第１
図において、２３は支持具で、薄板基板１とはＶ型溝を
形成された帯状薄板２で構成されている。３は被塗布物
体である。ペース１４上に設置された水平方向の移送手
段１３と、それに装着された垂直方向の移送手段２６と
、もう一つの水平方向の移送手段２４とにより３次元的
な自由度を持つ移送手段が構成されている。

移送手段２４はフレーム２１にガイド１９．ボールネジ
７、アクチュエータ８及び可動部１６を取付けて成り、
アクチュエータ８の駆動により可動部１６が移動し、そ
れに取付けられた支持具２３を移送する。移送手段２６
はフレーム２２にガイド２０．ボールネジ９．プーリー
１１．ベルト１２とアクチュエータ１０及び可動部２６
を取付けて成シ、アクチュエータ１ｏの駆動により、可
動部２６が移動し、それに取付けられた移送手段２４を
移送する。なお、図には示さないが移送手段１３も上記
移送手段と同様な構造でアクチュエータにより移送手段
２６を移送する。またペース１４には処理液４を入れた
処理槽６が除振効果のあるエアバネ６により支持された
構成をもっている。−方、支持具２３の可動範囲に開閉
動作する位置決めカムローラ１６により位置決めされた
被塗布物体３の収納パレット１８を設置した構成により
供給部が構成されている。

次に、動作を説明する。被塗布物体３が１つ以上挿入さ
れている前記収納パレット１８は被塗布物体３を上方に
抜脱可能であシ、前記収納パレット１８内部には第４図
に示すように前記被塗布物体３を並設できるように外周
を支持する溝があり、前後左右方向に開閉可能な駆動手
段１７とそれに配設されたカムローラ１６により、支持
具２３が被塗布物体３の内径に挿入できる位置で収納パ
レット１８を位置決めする。支持具２３は移送手段２４
により被塗布物体３の内径に干渉せずに挿入され、前記
Ｖ型溝薄板２の谷部と被塗布物体の中心が重なったとこ
ろで停止する。この状態で移送手段２６が上昇すると第
３図に示したように被塗布物体は安定した状態で垂下さ
れ、移送手段１３により平行移動して再度移送手段２６
により前記処理槽５内に浸漬される。適当な時間浸漬さ
せた後、前述した手順と逆の順序で被塗布物体３を塗布
させ乾燥した状態で収納パレットに回収できる。

また、好ましくは第２図に示したように前記支持基板１
と前記Ｖ型溝を有する帯状薄板２を２組併設して支持具
２３を構成する。またさらに好ましくは、前記被塗布物
体３を引上げ時に支持具２３が被塗布物体より遅延して
液面から離脱する形状にすることにより、支持具２３か
らの処理液の滴下による液面振動の防止ができる。

発明の効果 以上のように本発明は■型溝を有する帯状薄板と被塗布
物体より低位置に突出した形状の補強用支持基板から成
る支持具を備えた薄板表面処理装置により、精密均等塗
布層を形成することができ、さらに、前記支持具に移送
手段と、被塗布物体の位置決め供給手段、処理槽を配設
することにより、自動化、量産化を実現でき、品質の安
定、コストの削減が期待でき大なる効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例における薄板表面処理装置の正
面図、第２図は第１図のＡ部詳細側面図、第３図は第１
図のＢ部拡大正面図、第４図は第１図の収納パレットと
その位置決め供給手段の平面図、第５図は従来の表面処
理装置の正面図である。 １・・・・・・支持基板、２・・・・・・Ｖ型溝を有す
る帯状薄板、３・・・・−・被塗布物体、４・・・・・
・処理液、６・・・・・・処理槽、１３，２４．２５・
・・・・・移送手段、１８・・・・・・収納パレット、
２３・・・・・・支持具。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）被処理物体の内径に挿入可能で前記被処理物体を
   一枚ずつ適当な間隔で支持できるＶ形状の溝を形成した
   帯状薄板と、この帯状薄板を支持しかつ被処理物体の内
   径に挿入されない部分が被処理物体より低位置に突出し
   た形状の支持基板とからなる支持具を備えたことを特徴
   とする薄板表面処理装置。
2. （２）請求項１記載の支持具を３次元的に移送する移送
   手段と、前記被処理物体を、その内径中心がほぼ水平で
   かつほぼ同軸上にあるよう並列に配列させて供給する供
   給手段と、除振効果のある除振台の上に設置された処理
   槽とを備えたことを特徴とする薄板表面処理装置。