JPH024469A - 薄膜塗布装置 - Google Patents
薄膜塗布装置Info
- Publication number
- JPH024469A JPH024469A JP15557688A JP15557688A JPH024469A JP H024469 A JPH024469 A JP H024469A JP 15557688 A JP15557688 A JP 15557688A JP 15557688 A JP15557688 A JP 15557688A JP H024469 A JPH024469 A JP H024469A
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- JP
- Japan
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- coating liquid
- coating
- solvent
- tank
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、物体の表面に薄膜を形成する薄膜塗布装置
に関する。
に関する。
近年、磁気記録媒体の表面保護膜、電子写真用感光体の
感光層、プリント基板へのフランクス塗布膜やＩＣ基板
へのレジスト塗布膜など、ミクロンオーダーあるいはそ
れ以下の膜厚の？゛・γ膜で、かつ、所定の機能を有す
る膜が必要となる技術分野が増大してきている。
感光層、プリント基板へのフランクス塗布膜やＩＣ基板
へのレジスト塗布膜など、ミクロンオーダーあるいはそ
れ以下の膜厚の？゛・γ膜で、かつ、所定の機能を有す
る膜が必要となる技術分野が増大してきている。
このような膜は、その機能が均一であることが要求され
るが、薄膜であるためにわずかな膜厚の差が機能の大幅
なばらつきを引き起こすことになるので、厚みのばらつ
きのできるだけ少ない均一な膜厚の膜が望まれる。その
ため、従来のはけ塗りやスプレーガン塗装などの塗膜形
成法は適用できず、より均一な膜厚の塗膜を得ることの
可能なスピンコード法やディッピング法が用いられる。
るが、薄膜であるためにわずかな膜厚の差が機能の大幅
なばらつきを引き起こすことになるので、厚みのばらつ
きのできるだけ少ない均一な膜厚の膜が望まれる。その
ため、従来のはけ塗りやスプレーガン塗装などの塗膜形
成法は適用できず、より均一な膜厚の塗膜を得ることの
可能なスピンコード法やディッピング法が用いられる。
しかしながら、スピンコード法は高速回転の駆動系を必
要とし、塗膜を形成すべき物体の表面の面積が広い場合
とか１表面の形状が複雑な場合には塗布が困難あるいは
不可能となるので、ディッピング法が広く用いられてき
た。
要とし、塗膜を形成すべき物体の表面の面積が広い場合
とか１表面の形状が複雑な場合には塗布が困難あるいは
不可能となるので、ディッピング法が広く用いられてき
た。
ディッピング法は、機能性の材料を有機溶媒中に溶解あ
るいは分１１にさせ、場合によっては、さらに粘着剤、
可塑剤などを加えて塗布液とし、塗布液溜としての塗布
液槽に充填し、この塗布液中に被塗布物体を浸漬して塗
膜形成面に塗布液を接触させ、ついで被塗布物体を引き
上げて乾燥させ塗膜を形成する方法で、簡便であり、し
かも塗布液の粘度、被塗布物体の塗布液からの引き上げ
速度を調節することにより、比較的簡単に薄膜を得るこ
とができる。
るいは分１１にさせ、場合によっては、さらに粘着剤、
可塑剤などを加えて塗布液とし、塗布液溜としての塗布
液槽に充填し、この塗布液中に被塗布物体を浸漬して塗
膜形成面に塗布液を接触させ、ついで被塗布物体を引き
上げて乾燥させ塗膜を形成する方法で、簡便であり、し
かも塗布液の粘度、被塗布物体の塗布液からの引き上げ
速度を調節することにより、比較的簡単に薄膜を得るこ
とができる。
さらに、このディッピング法と原理的に類似する薄膜塗
布方法は種々考えられる。そのような方法の一つとして
、本出願人は、被塗布物体の鉛直な塗膜形成面に対して
塗布液を貯留し得る間隙を介して対向する而を有する塗
布治具を備え、がっ、塗膜形成面と塗布治具とを鉛直方
向に相対的に移動させる機掃を設けた薄膜塗布装置を用
い、デインピング法における塗布液槽のかわりに塗膜形
成面とこれに対向する塗布治具の面との間の空隙を塗布
液貯留部とし、この空隙に塗布液を貯留させて塗膜形成
面と接触させ、塗膜形成面と塗布治具とを鉛直方向に相
対的に移動させ、塗膜形成面上に薄膜を形成することを
提案した（特願昭６０−１７４９３０号）。このような
貯留部を塗布液溜として利用することにより、使用する
塗布液量をディッピング法に比べて大幅に低減でき、し
かもより均一な膜厚の薄膜を形成することができる。
布方法は種々考えられる。そのような方法の一つとして
、本出願人は、被塗布物体の鉛直な塗膜形成面に対して
塗布液を貯留し得る間隙を介して対向する而を有する塗
布治具を備え、がっ、塗膜形成面と塗布治具とを鉛直方
向に相対的に移動させる機掃を設けた薄膜塗布装置を用
い、デインピング法における塗布液槽のかわりに塗膜形
成面とこれに対向する塗布治具の面との間の空隙を塗布
液貯留部とし、この空隙に塗布液を貯留させて塗膜形成
面と接触させ、塗膜形成面と塗布治具とを鉛直方向に相
対的に移動させ、塗膜形成面上に薄膜を形成することを
提案した（特願昭６０−１７４９３０号）。このような
貯留部を塗布液溜として利用することにより、使用する
塗布液量をディッピング法に比べて大幅に低減でき、し
かもより均一な膜厚の薄膜を形成することができる。
上述のディッピング法では、塗布液槽は被塗布物体が充
分通過できるだけの開口部を持っていなければならない
し、少なくとも塗布作業中はその開口部は開いたままと
なる。塗布液に揮発性の高い溶媒が含まれている場合（
薄膜塗布の場合には一般的にそうである）、その塗布液
槽の密閉性がこわされる時間、いわゆる開口時間によっ
て、塗布液からの溶媒の揮発が無視できな（なる。すな
わち、溶媒の揮発により塗布液の組成が変わり、それに
つれて塗膜の膜厚が変化してしまう。このような現象を
防ぐために、粘度モニターなどにより溶媒の揮発量を常
時監視して、揮発分を補充するような＆１１．Ｗを付加
することが考えられる。しかし、粘度などをモニターし
ながら揮発分を補充する方法は、応答が遅くて、塗布作
業環境の突発的な変化などにより、塗布液の溶媒の揮発
量が突発的に変化した場合には対応できにくいという欠
点があった。
分通過できるだけの開口部を持っていなければならない
し、少なくとも塗布作業中はその開口部は開いたままと
なる。塗布液に揮発性の高い溶媒が含まれている場合（
薄膜塗布の場合には一般的にそうである）、その塗布液
槽の密閉性がこわされる時間、いわゆる開口時間によっ
て、塗布液からの溶媒の揮発が無視できな（なる。すな
わち、溶媒の揮発により塗布液の組成が変わり、それに
つれて塗膜の膜厚が変化してしまう。このような現象を
防ぐために、粘度モニターなどにより溶媒の揮発量を常
時監視して、揮発分を補充するような＆１１．Ｗを付加
することが考えられる。しかし、粘度などをモニターし
ながら揮発分を補充する方法は、応答が遅くて、塗布作
業環境の突発的な変化などにより、塗布液の溶媒の揮発
量が突発的に変化した場合には対応できにくいという欠
点があった。
前述の一例のような、ディッピング法と原理的に類似す
る塗布方法においても、塗布液溜の開口部からの塗布液
の溶媒の揮発は同様に問題となる。
る塗布方法においても、塗布液溜の開口部からの塗布液
の溶媒の揮発は同様に問題となる。
この発明は、上述の欠点を除去して、デインピング法ま
たはそれと原理的に類似する薄膜塗布方法において、塗
布液溜の開口部から塗布液の溶媒が揮発するのを防止し
、塗布液の組成を一定に保つことができ、膜厚均一な薄
膜を安定して形成することができる薄膜塗布装置を提供
することを目的とする。
たはそれと原理的に類似する薄膜塗布方法において、塗
布液溜の開口部から塗布液の溶媒が揮発するのを防止し
、塗布液の組成を一定に保つことができ、膜厚均一な薄
膜を安定して形成することができる薄膜塗布装置を提供
することを目的とする。
上記の目的を達成するために、この発明によれば、被塗
布物体の鉛直な塗膜形成面に塗布液溜内の塗布液を接触
させ、これ、ら被塗布物体と塗布液溜とを鉛直方向に相
対的に移動させて前記塗膜形成面上に塗布液を塗布して
薄膜を形成する薄膜塗布装置において、前記塗布液溜の
開口部の塗布液面上に溶媒蒸気雰囲気を形成できるよう
に前記塗布液溜の開口部のまわりを囲む溶媒槽を設けた
薄膜塗布装置とする。
布物体の鉛直な塗膜形成面に塗布液溜内の塗布液を接触
させ、これ、ら被塗布物体と塗布液溜とを鉛直方向に相
対的に移動させて前記塗膜形成面上に塗布液を塗布して
薄膜を形成する薄膜塗布装置において、前記塗布液溜の
開口部の塗布液面上に溶媒蒸気雰囲気を形成できるよう
に前記塗布液溜の開口部のまわりを囲む溶媒槽を設けた
薄膜塗布装置とする。
塗布装置の塗布液溜の開口部のまわりを取り囲むように
設けた溶媒槽に、塗布液に用いたのと同じ溶媒を入れ、
この溶媒槽から蒸発する溶媒蒸気を塗布液溜の開口部の
塗布液面上に供給し液面を覆うことにより、塗布液自体
からの溶媒の揮発を抑えることができ、塗布液の組成を
一定に保つことが可能となる。
設けた溶媒槽に、塗布液に用いたのと同じ溶媒を入れ、
この溶媒槽から蒸発する溶媒蒸気を塗布液溜の開口部の
塗布液面上に供給し液面を覆うことにより、塗布液自体
からの溶媒の揮発を抑えることができ、塗布液の組成を
一定に保つことが可能となる。
第１図は、この発明に係わる薄膜塗布装置の一実施例の
模式的断面図であって、ディッピング法で用いられる一
般的な播溝式の塗布装置で、塗布液槽、６の開口部から
オーバーフローした塗布液７が循環装置８により塗布液
槽６に送りこまれる構成となっている。この塗布液、Ｆ
ｆｆ ６の開口部を取り囲むように、この発明による溶
媒槽１が設けられ、そのまわりには液体を媒体とした熱
交換器５が取り付けられていて、溶媒槽１中の溶媒２を
加熱または冷却できるようになっている。４は溶媒漕１
の上方部を覆う蒸気流制御板で、双方向矢印へに示すよ
うに溶媒槽１に対して上下動可能となっている。
模式的断面図であって、ディッピング法で用いられる一
般的な播溝式の塗布装置で、塗布液槽、６の開口部から
オーバーフローした塗布液７が循環装置８により塗布液
槽６に送りこまれる構成となっている。この塗布液、Ｆ
ｆｆ ６の開口部を取り囲むように、この発明による溶
媒槽１が設けられ、そのまわりには液体を媒体とした熱
交換器５が取り付けられていて、溶媒槽１中の溶媒２を
加熱または冷却できるようになっている。４は溶媒漕１
の上方部を覆う蒸気流制御板で、双方向矢印へに示すよ
うに溶媒槽１に対して上下動可能となっている。
このような構成において、溶媒槽１に塗布液７に用いた
のと同じ溶媒２を満たし、熱交換器５で所要の温度とし
、溶媒槽１から蒸発する溶媒２の蒸気を蒸気流制御板４
により導いて、塗布液槽６の開口部の塗布液７の表面を
覆うように溶媒蒸気雰囲気３を形成する。溶媒蒸気雲囲
気３の高さは、蒸気流制御板４を上下動させることによ
り適切な高さに調整される。このようにして、開口部の
塗布液面を溶媒槽からの溶媒蒸気雰囲気で覆うことによ
り、開口部が例えば蓋などで密閉されていなくても、塗
布作業中でも、塗布液自体からの溶媒の揮発を抑制する
ことができ、塗布液槽内の塗布液の組成は一定に保たれ
ることになる。このような塗布装置を用いることにより
塗布液の組成変動による塗膜の膜厚の変動を防ぐことが
可能となる。
のと同じ溶媒２を満たし、熱交換器５で所要の温度とし
、溶媒槽１から蒸発する溶媒２の蒸気を蒸気流制御板４
により導いて、塗布液槽６の開口部の塗布液７の表面を
覆うように溶媒蒸気雰囲気３を形成する。溶媒蒸気雲囲
気３の高さは、蒸気流制御板４を上下動させることによ
り適切な高さに調整される。このようにして、開口部の
塗布液面を溶媒槽からの溶媒蒸気雰囲気で覆うことによ
り、開口部が例えば蓋などで密閉されていなくても、塗
布作業中でも、塗布液自体からの溶媒の揮発を抑制する
ことができ、塗布液槽内の塗布液の組成は一定に保たれ
ることになる。このような塗布装置を用いることにより
塗布液の組成変動による塗膜の膜厚の変動を防ぐことが
可能となる。
以上、実施例ではディッピング法の場合について説明し
たが、その他の原理的に類似する方法の場合にも、塗布
液溜の開口部の塗布液面を溶媒蒸気で覆う機構を設けた
塗布装置は、均一な膜厚の薄膜を得るのに極めて有効で
ある。
たが、その他の原理的に類似する方法の場合にも、塗布
液溜の開口部の塗布液面を溶媒蒸気で覆う機構を設けた
塗布装置は、均一な膜厚の薄膜を得るのに極めて有効で
ある。
この発明によれば、薄膜塗布装置に、塗布液溜の開口部
の塗布液面上に溶媒蒸気雰囲気を人為的に形成できるよ
うに塗布液溜の開口部のまわりを取り囲む溶媒槽を設け
る。このような塗布装置を用い、溶媒槽から蒸発させた
塗布液に用いたのと同じ溶媒の蒸気を開口部の塗布液面
上に充満させて液面を溶媒蒸気雰囲気で覆うことにより
、塗布液自体からの溶媒の揮発を抑制し、塗布液の組成
を一定に保つことができ、組成変動による塗膜の膜厚の
変動を防ぎ、安定して均一な膜厚の薄膜を形成すること
が可能となる。この発明による薄膜塗布装置は、わずか
な膜厚の差が機能の大幅なばらつきをひきおこすことに
なる磁気記録媒体の表面保護膜、電子写真用感光体の感
光層など、ミクロンオーダーの機能性薄膜の形成に用い
て極めて有効である。
の塗布液面上に溶媒蒸気雰囲気を人為的に形成できるよ
うに塗布液溜の開口部のまわりを取り囲む溶媒槽を設け
る。このような塗布装置を用い、溶媒槽から蒸発させた
塗布液に用いたのと同じ溶媒の蒸気を開口部の塗布液面
上に充満させて液面を溶媒蒸気雰囲気で覆うことにより
、塗布液自体からの溶媒の揮発を抑制し、塗布液の組成
を一定に保つことができ、組成変動による塗膜の膜厚の
変動を防ぎ、安定して均一な膜厚の薄膜を形成すること
が可能となる。この発明による薄膜塗布装置は、わずか
な膜厚の差が機能の大幅なばらつきをひきおこすことに
なる磁気記録媒体の表面保護膜、電子写真用感光体の感
光層など、ミクロンオーダーの機能性薄膜の形成に用い
て極めて有効である。
第１図は、この発明の薄膜塗布装置の一実施例の模式的
断面図である。 ｌ 溶媒槽、２ 溶媒、３ 溶媒蒸気雲囲気、４ 蒸気
流制御板、５ 熱交換器、６ 塗布液槽、第１図
断面図である。 ｌ 溶媒槽、２ 溶媒、３ 溶媒蒸気雲囲気、４ 蒸気
流制御板、５ 熱交換器、６ 塗布液槽、第１図
Claims (1)
- １）被塗布物体の鉛直な塗膜形成面に塗布液溜内の塗布
液を接触させ、これら被塗布物体と塗布液溜とを鉛直方
向に相対的に移動させて前記塗膜形成面上に塗布液を塗
布して薄膜を形成する薄膜塗布装置において、前記塗布
液溜の開口部の塗布液面上に溶媒蒸気雰囲気を形成でき
るように前記塗布液溜の開口部のまわりを囲む溶媒槽を
設けたことを特徴とする薄膜塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15557688A JPH024469A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 薄膜塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15557688A JPH024469A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 薄膜塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH024469A true JPH024469A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=15609070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15557688A Pending JPH024469A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 薄膜塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH024469A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06123989A (ja) * | 1992-10-13 | 1994-05-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 感光体塗布方法 |
| JP2008212825A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Seiko Epson Corp | コーティング膜形成装置および成形方法 |
| JP2008289982A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 塗布装置、塗布方法及び電子写真感光体 |
| CN112570230A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 深圳硅基仿生科技有限公司 | 微型电极表面镀膜的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60110374A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布・乾燥装置 |
-
1988
- 1988-06-23 JP JP15557688A patent/JPH024469A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60110374A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布・乾燥装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06123989A (ja) * | 1992-10-13 | 1994-05-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 感光体塗布方法 |
| JP2008212825A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Seiko Epson Corp | コーティング膜形成装置および成形方法 |
| JP2008289982A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 塗布装置、塗布方法及び電子写真感光体 |
| CN112570230A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 深圳硅基仿生科技有限公司 | 微型电极表面镀膜的方法 |
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