JPH03151A - 薄膜塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、物体の表面に薄膜を形成する薄膜塗布装置
に関する。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録媒体の表面保護膜、電子写真用感光体の
感光層、プリント基板へのフラックス塗布膜やＩＣ基板
へのレジスＩｆ布膜などミクロンオーダーあるいはそれ
以下の膜厚の薄膜で、かつ、所定の機能を有する膜が必
要となる技術分野が増大してきている。

このような膜はその機能が均一であることが要求される
が、薄膜であるためにわずかな膜厚の差が機能の大幅な
ばらつきを引き起こすことになるので、厚みのばらつき
のできるだけ少ない均一な膜厚の膜が望まれる。そのた
め、従来のはけ塗りやスプレーガン塗装などの塗膜形成
法は適用できず、より均一な膜厚の塗膜を得ることの可
能なスピンコード法やディッピング法が用いられる。し
かしながら、スピンコード法は高速回転の駆動系を必要
とし、塗膜を形成すべき物体の表面の面積が広い場合と
か、表面の形状が複雑な場合には塗布が困難あるいは不
可能となるので、ディッピング法が広く用いられてきた
。

ディッピング法は、機能性の材料を有機溶媒中に溶解あ
るいは分散させ、場合によってはさらに粘着剤、可塑剤
などを加えて塗布液として塗布樗に充填し、この塗布液
中に被塗布物体を浸漬させ、ついで被塗布物体を引き上
げて乾燥させ塗膜を形成する方法である。この方法は簡
便であり、しかも塗布液の粘度、被塗布物体の塗布液か
らの引き上げ速度を調節することにより比較的簡単に薄
膜を得ることができる。

このようなディッピング法、またはこれと類似の塗布方
法、すなわち、被塗布物体の塗膜形成面と塗布液貯留槽
内の塗布液とを接触させた状態で鉛直方向に相対移動さ
せ塗膜形成面を塗布液から上方へ引き離すことにより塗
膜形成面上に塗膜を形成する方法においては、塗布液溶
媒の蒸発速度が速い場合、相対移動して塗布液内からで
てくる塗膜形成面上の塗膜から急激な溶媒の蒸発が起こ
り、そのために塗膜外観が著しく悪い状！！！（ナシ地
）となる。従って、塗布液の溶媒の種類および被塗布物
体と塗布液貯留槽との相対移動速度などの塗布条件が限
定されるという欠点があった。従来、これらの欠点を除
去するために、塗布液および塗膜から蒸発する空気より
比重の大きい溶媒蒸気を被塗布物体の周囲に保持するよ
うに、塗布液貯留槽の上部開口部周縁に溶媒蒸気の蒸気
貯留槽を付加することが行われていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、従来の薄膜塗布装置では、蒸気貯留槽内
の溶媒蒸気濃度が一定せず、特に塗布開始直後にはその
蒸気濃度が低いために塗膜からの溶媒の蒸発が速く、塗
膜にナシ地が発生し、塗布時間の経過につれて濃度が増
し、塗膜からの溶媒の蒸気が抑えられ、例えば塗膜の厚
さが変わってくるなどの不具合が生じる。また、さらに
塗布終了時点では被塗布物体が塗布液より気中にでるた
めに溶媒蒸気流が攪乱され、塗膜形成面下端部に塗布む
らが生じるという欠点があった。

この発明は、これらの欠点を除去して、塗布液に使用す
る溶媒の種類および塗布条件に制約を及ぼすことなく、
被塗布物体に形成される塗膜のナシ地の発生を防止し、
かつ、塗布終了時点で塗膜形成面下端部に生じる塗布む
らを防止することのできる薄膜塗布装置を提供すること
を課題とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記の課題は、この発明によれば、被塗布物体の塗膜形
成面と塗布液貯留槽内の塗布液とを接触させた状態で鉛
直方向に相対移動させ塗膜形成面を塗布液から上方へ引
き離すことにより前記塗膜形成面に前記塗布液の薄膜を
形成する薄膜塗布装置が前記塗布液貯留槽の上部開口部
に塗布液の溶媒蒸気の蒸気貯留槽を備えたものにふいて
、前記蒸気貯留槽に、この槽内の蒸気を槽底部近傍から
排気する排気口と、これにつながる強制的排気制御機構
とを付設した構成の薄膜塗布装置とすることによって解
決することができる。

〔作用〕

強制排気機構を設け、これをｏｎ・ｏｆｆ作動させるこ
とにより、蒸気貯留槽内の溶媒蒸気濃度の制御が可能と
なる。溶媒蒸気の濃度を所要の範囲内に保ちながら塗布
を行うことにより、均一な膜厚の均質な外観良好な塗布
薄膜が得られることになる。また、塗布終了時点で溶媒
蒸気流の乱れやすいときには溶媒蒸気゛を強制的に排気
して、塗膜形成面下端部の塗布むらの発生を防ぐことが
できる。

〔実施例〕

第１図は、この発明に係わる薄膜塗布装置の一実施例の
模式的断面を示す。第１図において、１は塗布液貯留槽
であるとともに塗布槽であり、塗布液８は循環ポンプ４
の働きにより、矢印で示すように塗布槽１の下部から流
入し、上部開口部からオーバーフローして補助槽３へ上
部から流入し、下部から再び塗布槽１へと循環している
。塗布槽ｌの上部開口部を側面から取り囲むように蒸気
を貯留するための槽である蒸気槽２が設けられており、
蒸気槽２には排気ファン７の付設された排気口５が槽底
部近傍に設けられており、蒸気槽２内の溶媒蒸気は排気
ファン７により排気口５を通って外部へ強制排気できる
構成となっている。さらに排気口５にはシャッタ６が付
設されており、このシャッタ６を外部から機械的にある
いは電気的に開閉することにより蒸気槽２内の溶媒蒸気
の濃度が制御される。

この実施例の薄膜塗布装置を用いて塗膜を形成するに際
しては、まずシャッタ６を閉じた状態で、蒸気槽２内の
溶媒蒸気の濃度が塗布槽１内からオーバーフローしてい
る塗布液８から蒸発した溶媒蒸気により塗膜にナシ地が
発生しない程度の濃度に達した時点で塗布を開始する。

塗布がすすむにつれて、塗布槽１内の塗布液から引き上
げられてくる塗膜形成面上の塗膜から蒸発する溶゛媒蒸
気により蒸気槽２内の溶媒蒸気の濃度が上昇してくるが
、このときシャッタ６を開閉して蒸気槽２内の溶媒蒸気
を排気ファン７により排気口５から排気したり排気を中
止したりして、蒸気槽２内の溶媒蒸気の濃度を所要の一
定濃度範囲内に制御しながら塗布を行う。このようにし
て、膜厚均一で均質な外観良好な塗布薄膜を形成するこ
とができる。

また、塗布終了時点で溶媒蒸気流の乱れやすいときには
、シャッタ６を開いて溶媒蒸気を排気することにより、
塗膜形成面下端部に塗布むらが生じることを防ぐことが
できる。

〔発明の効果〕

この発明によれば、ディッピング法またはこれと類似の
方法による薄膜塗布装置にふいて、塗布液貯留槽の上部
開口部に設けられる蒸気貯留槽にその内部の溶媒蒸気を
強制的に排気できる機構を設ける。

この発明に係わる薄膜塗布装置を用いることにより、蒸
気貯留槽内の溶媒蒸気の濃度を所要の範囲内に制御する
ことが可能となり、塗布液に用いる溶媒の種類および塗
布条件を特に限定することなく、ナシ地などが発生しな
くて外観が良好であり膜厚均一で均質な塗布薄膜を形成
することができる。

また、被塗布物体の塗膜形成面下端が塗布液から出る時
点で乱れる蒸気を強制的に排気して、塗膜形成面下端部
の塗布むらをなくすことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係わる薄膜塗布装置の一実施例の模
式的断面図である。 １−　塗布槽、２　蒸気槽、５　排気口、６　シャッタ
、７　排気ファン、８　塗布液。 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）被塗布物体の塗膜形成面と塗布液貯留槽内の塗布液
   とを接触させた状態で鉛直方向に相対的に移動させ塗膜
   形成面を塗布液から上方へ引き離すことにより前記塗膜
   形成面に前記塗布液の薄膜を形成する薄膜塗布装置が前
   記塗布液貯留槽の上部開口部に塗布液の溶媒蒸気の蒸気
   貯留槽を備えたものにおいて、前記蒸気貯留槽に、この
   槽内の溶媒蒸気をこの槽の底部近傍から排気するための
   排気口と、これにつながる強制的排気制御機構とを付設
   したことを特徴とする薄膜塗布装置。