JPH0245713B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0245713B2 JPH0245713B2 JP57232204A JP23220482A JPH0245713B2 JP H0245713 B2 JPH0245713 B2 JP H0245713B2 JP 57232204 A JP57232204 A JP 57232204A JP 23220482 A JP23220482 A JP 23220482A JP H0245713 B2 JPH0245713 B2 JP H0245713B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrochloric acid
- etching solution
- hydrogen peroxide
- etching
- acid concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、塩化銅水溶液によるエツチング液
（以下、単にこれを「エツチング液」という）の
能力維持管理法およびそのための装置の新規な提
案に関する。
（以下、単にこれを「エツチング液」という）の
能力維持管理法およびそのための装置の新規な提
案に関する。
プリント配線板などの作成においては、配線部
以外の不要部の銅箔を溶融除去する、いわゆるエ
ツチング作業が行なわれるが、このためのエツチ
ング装置は、エツチング液を循環させながら繰返
し使用するようになつており、エツチング処理量
に比例して、エツチング液には、被処理材（プリ
ント配線板）から銅が溶解混入してその量を増し
て行く。
以外の不要部の銅箔を溶融除去する、いわゆるエ
ツチング作業が行なわれるが、このためのエツチ
ング装置は、エツチング液を循環させながら繰返
し使用するようになつており、エツチング処理量
に比例して、エツチング液には、被処理材（プリ
ント配線板）から銅が溶解混入してその量を増し
て行く。
そして、この銅がエツチング液中に増えるにし
たがつて、エツチング液には、次の化学反応式に
より塩化第１銅が生じることになる。
たがつて、エツチング液には、次の化学反応式に
より塩化第１銅が生じることになる。
CuCl2＋Cu→Cu2Cl2（2CuCl）
このようにして生じた塩化第一銅は水に不溶で
あり、このためエツチング処理面に付着して被膜
を形成し、エツチング速度を低下せしめる。
あり、このためエツチング処理面に付着して被膜
を形成し、エツチング速度を低下せしめる。
そこで、エツチング液の主剤である塩化第二銅
に、補助剤として塩酸を加えることにより、塩化
第一銅による被膜の除去を図るようにしており、
このことは次の化学反応式で表わされる。
に、補助剤として塩酸を加えることにより、塩化
第一銅による被膜の除去を図るようにしており、
このことは次の化学反応式で表わされる。
CuCl2＋2HCl→2HCuCl2（2HCl・CuCl）
2HCuCl2（2HCl・CuCl）は水に可溶であり、
塩化第一銅による被膜を除去する点においての所
期の目的は達成される訳であるが、このままで
は、エツチング能力を持たないから、エツチング
液に酸化剤をくわえることにより、2HCuCl2
（2HCl・CuCl）を酸化させて塩化第二銅に戻し、
エツチング能力を望ましい水準に回復させる手続
き、すなわちエツチング液の再生が行われてい
る。
塩化第一銅による被膜を除去する点においての所
期の目的は達成される訳であるが、このままで
は、エツチング能力を持たないから、エツチング
液に酸化剤をくわえることにより、2HCuCl2
（2HCl・CuCl）を酸化させて塩化第二銅に戻し、
エツチング能力を望ましい水準に回復させる手続
き、すなわちエツチング液の再生が行われてい
る。
この再生式は次の通りである。
2HCuCl2＋1/2O2→2CuCl2＋H2O
以上の事実から、エツチング液の循環使用によ
り生じる塩化第一銅に起因するエツチング液の能
力低下（エツチング液の疲労）を回避させ、エツ
チング能力を望ましい水準に維持させるための不
可欠な要素は、塩化第一銅の被膜を除去するため
の塩酸と、2HCuCl2の酸化剤としての過酸化水素
の、エツチング液使用中における適時かつ適量の
補充であることが理解される。
り生じる塩化第一銅に起因するエツチング液の能
力低下（エツチング液の疲労）を回避させ、エツ
チング能力を望ましい水準に維持させるための不
可欠な要素は、塩化第一銅の被膜を除去するため
の塩酸と、2HCuCl2の酸化剤としての過酸化水素
の、エツチング液使用中における適時かつ適量の
補充であることが理解される。
このことは、言い替えれば、エツチング液使用
中、エツチング液中の塩酸と過酸化水素とを所要
の量に維持せしめることが、エツチング液の能力
を望ましい水準に維持せしめることになるという
ことに他ならない。
中、エツチング液中の塩酸と過酸化水素とを所要
の量に維持せしめることが、エツチング液の能力
を望ましい水準に維持せしめることになるという
ことに他ならない。
ところで、これまでの主要な２要素について、
エツチング液使用中に補充する手段（エツチング
液の再生手段）については種々提案されている。
エツチング液使用中に補充する手段（エツチング
液の再生手段）については種々提案されている。
ところが、エツチング液の、この２要素のうち
で、揮発性を有しており、エツチング処理作業に
よる消耗と蒸発によるロスが加わり、量的変動要
素が高く管理が容易でなく、それ故量的管理が特
に重要である塩酸について、どれだけ存在するか
を、エツチング液使用中に直接的かつ継続的に検
出し、その検出値にもとずいて、これらを補充す
るという提案は、現在まで皆無である。
で、揮発性を有しており、エツチング処理作業に
よる消耗と蒸発によるロスが加わり、量的変動要
素が高く管理が容易でなく、それ故量的管理が特
に重要である塩酸について、どれだけ存在するか
を、エツチング液使用中に直接的かつ継続的に検
出し、その検出値にもとずいて、これらを補充す
るという提案は、現在まで皆無である。
このことは、とりも直さず、エツチング液の能
力維持の厳格性を決定的に損なうものであり、高
い目的の達成は到底覚束無いことを側面から証明
するものである。
力維持の厳格性を決定的に損なうものであり、高
い目的の達成は到底覚束無いことを側面から証明
するものである。
本発明は以上の事実に鑑み提案に及んだもの
で、エツチング液中の塩酸の含有割合を、エツチ
ング液使用中、直接的かつ継続的に検出し、この
検出値にもとずき、エツチング液中の塩酸濃度を
望ましい範囲に維持せしめるべく、その補充量を
制御して補充すること、ならびに、この塩酸の補
充量から化学反応理論により相対的に得られる量
比の過酸化水素を補充することにより、エツチン
グ液の能力を、エツチング液使用中望ましい水準
に維持せしめること、を要旨とするものであつ
て、以下に一実施例を示した添付図面をもとに本
発明を詳述する。
で、エツチング液中の塩酸の含有割合を、エツチ
ング液使用中、直接的かつ継続的に検出し、この
検出値にもとずき、エツチング液中の塩酸濃度を
望ましい範囲に維持せしめるべく、その補充量を
制御して補充すること、ならびに、この塩酸の補
充量から化学反応理論により相対的に得られる量
比の過酸化水素を補充することにより、エツチン
グ液の能力を、エツチング液使用中望ましい水準
に維持せしめること、を要旨とするものであつ
て、以下に一実施例を示した添付図面をもとに本
発明を詳述する。
図は本発明装置の概略説明図であつて、１は、
エツチング液１００が収容されたエツチング液槽
であつて、この液槽１に収容されたエツチング液
１００は、ポンプ２およびパイプ３ａを介して循
環使用されるようになつている。すなわち、ポン
プ２によりパイプ３ａに導かれたエツチング液１
００は、ノズル４から被処理材（図示せず）にむ
けて噴射され、被処理材から滑り落ちた液が再び
下方に収容されているエツチング液に混入するよ
うになつている。
エツチング液１００が収容されたエツチング液槽
であつて、この液槽１に収容されたエツチング液
１００は、ポンプ２およびパイプ３ａを介して循
環使用されるようになつている。すなわち、ポン
プ２によりパイプ３ａに導かれたエツチング液１
００は、ノズル４から被処理材（図示せず）にむ
けて噴射され、被処理材から滑り落ちた液が再び
下方に収容されているエツチング液に混入するよ
うになつている。
上記のごとくして、パイプ３ａにみちびかれた
エツチング液１００の一部は、さらにパイプ３ｂ
を介して塩酸濃度検出具５が浸漬された塩酸濃度
検出用槽５０に導かれ、そこで塩酸濃度を検出し
終えたエツチング液１００は、パイプ３ｃを介し
て、再びエツチング液１００に戻るようになつて
いる。
エツチング液１００の一部は、さらにパイプ３ｂ
を介して塩酸濃度検出具５が浸漬された塩酸濃度
検出用槽５０に導かれ、そこで塩酸濃度を検出し
終えたエツチング液１００は、パイプ３ｃを介し
て、再びエツチング液１００に戻るようになつて
いる。
塩酸濃度検出具５にはモル・コントローラー６
が電気的に連結されており、したがつて、塩酸濃
度検出具５により継続的に得られる使用中のエツ
チング液１００の塩酸濃度に係る情報は、絶え間
なくモル・コントローラー６に伝えられる。
が電気的に連結されており、したがつて、塩酸濃
度検出具５により継続的に得られる使用中のエツ
チング液１００の塩酸濃度に係る情報は、絶え間
なくモル・コントローラー６に伝えられる。
そして、このモル・コントローラー６には定量
ポンプ７が電気的に連結されており、定量ポンプ
７は、モル・コントローラー６の作動指令にもと
ずき起動をなすもので、而して、この定量ポンプ
７が作動を得ると、塩酸収容槽８に収容された塩
酸８０は、パイプ９を介してエツチング液１００
に一定量補充される。
ポンプ７が電気的に連結されており、定量ポンプ
７は、モル・コントローラー６の作動指令にもと
ずき起動をなすもので、而して、この定量ポンプ
７が作動を得ると、塩酸収容槽８に収容された塩
酸８０は、パイプ９を介してエツチング液１００
に一定量補充される。
そしてさらに、上記定量ポンプ７には、制御器
１０を介してポンプ１１が連結されており、この
ポンプ１１の作動量は、制御器１０をもつて、ポ
ンプ７の作動量に対して、前述の化学反応理論に
より得られる塩酸８０の補充量に対する過酸化水
素の量比に相応する量の作動量が得られるように
制御してあるから、上記塩酸８０の補充に連動し
て、過酸化水素収容槽１２に収容された過酸化水
素１２０は、化学反応理論で得られる塩酸８０と
の量比に相応する量が、パイプ１３を介して補充
される。
１０を介してポンプ１１が連結されており、この
ポンプ１１の作動量は、制御器１０をもつて、ポ
ンプ７の作動量に対して、前述の化学反応理論に
より得られる塩酸８０の補充量に対する過酸化水
素の量比に相応する量の作動量が得られるように
制御してあるから、上記塩酸８０の補充に連動し
て、過酸化水素収容槽１２に収容された過酸化水
素１２０は、化学反応理論で得られる塩酸８０と
の量比に相応する量が、パイプ１３を介して補充
される。
以上の如くであるから、使用中のエツチング液
の塩酸の濃度は、塩酸濃度検出具５により常時検
出され、その結果は、ただちにモル・コントロー
ラー６に送られ、このモル・コントローラー６の
指令により、塩酸８０がエツチング液１００に所
要量補充されると同時に、塩酸８０の補充量との
所要の量比の過酸化水素１２０がエツチング液１
００に補充されるもので、本発明によれば、物理
的数値にもとずいた塩酸の迅速・的確な補充と、
理論的必然性のある過酸化水素の迅速・的確な補
充が同時になされるもので、従来法のごとき、こ
れらの補充のための根拠のあい昧さを一切排除し
たもので、抜群の作用効果が得られる画期的発明
である。
の塩酸の濃度は、塩酸濃度検出具５により常時検
出され、その結果は、ただちにモル・コントロー
ラー６に送られ、このモル・コントローラー６の
指令により、塩酸８０がエツチング液１００に所
要量補充されると同時に、塩酸８０の補充量との
所要の量比の過酸化水素１２０がエツチング液１
００に補充されるもので、本発明によれば、物理
的数値にもとずいた塩酸の迅速・的確な補充と、
理論的必然性のある過酸化水素の迅速・的確な補
充が同時になされるもので、従来法のごとき、こ
れらの補充のための根拠のあい昧さを一切排除し
たもので、抜群の作用効果が得られる画期的発明
である。
図は本発明装置の概略説明図である。
符号説明、１……エツチング槽、５……塩酸濃
度検出具、６……モル・コントロール、８……塩
酸収容槽、１２……過酸化水素収容槽、５０……
塩酸濃度検出用槽。
度検出具、６……モル・コントロール、８……塩
酸収容槽、１２……過酸化水素収容槽、５０……
塩酸濃度検出用槽。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 使用中のエツチング液中に塩酸濃度検出具を
配し、この検出具から継続的に得られる塩酸濃度
値にもとずき、エツチング液中の酸濃度を0.1モ
ル〜５モルの間に維持すべく、補充量を制御して
塩酸を補充せしめるとともに、化学反応理論にも
とずいた対塩酸の量比の過酸化水素を補充せしめ
ることにより、使用中のエツチング液の能力を所
要の水準に維持せしめることを特徴とするエツチ
ング液の能力維持管理法。 ２ エツチング液中に配する塩酸濃度検出具と、
モル・コントローラーと、供給手段を介してエツ
チング液槽に連結された塩酸収容槽同じく過酸化
水素収容槽とを備え、これらを、塩酸濃度検出具
からの塩酸濃度情報にもとずきモル・コントロー
ラーをもつて塩酸供給手段を制御して塩酸収容槽
からエツチング液槽に所要量の塩酸を補充せし
め、同時に化学反応理論にもとずいた対塩酸の量
比の過酸化水素を過酸化水素収容槽からエツチン
グ液槽に補充せしめ得るように連結させ配置せし
めたことを特徴とするエツチング液の能力維持管
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23220482A JPS59126777A (ja) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | エツチング液の能力維持管理法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23220482A JPS59126777A (ja) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | エツチング液の能力維持管理法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59126777A JPS59126777A (ja) | 1984-07-21 |
| JPH0245713B2 true JPH0245713B2 (ja) | 1990-10-11 |
Family
ID=16935614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23220482A Granted JPS59126777A (ja) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | エツチング液の能力維持管理法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59126777A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2780092B2 (ja) * | 1987-03-27 | 1998-07-23 | 株式会社 ヤマトヤ商会 | エツチング液の能力維持管理法 |
| JP3597250B2 (ja) * | 1995-03-31 | 2004-12-02 | 日本アクア株式会社 | エッチング液の再生方法およびエッチング液再生装置 |
| JPH1192966A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エッチング液濃度制御装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5536267A (en) * | 1978-09-08 | 1980-03-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Production of phosphate pigment |
-
1982
- 1982-12-31 JP JP23220482A patent/JPS59126777A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59126777A (ja) | 1984-07-21 |
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