JPH024591B2 - - Google Patents
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- JPH024591B2 JPH024591B2 JP54138841A JP13884179A JPH024591B2 JP H024591 B2 JPH024591 B2 JP H024591B2 JP 54138841 A JP54138841 A JP 54138841A JP 13884179 A JP13884179 A JP 13884179A JP H024591 B2 JPH024591 B2 JP H024591B2
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- formula
- carbon atoms
- benzoxazole
- hydrogen atom
- sulfonic acid
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
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Description
本発明はベンゾキサゾール誘導体、その製造方
法、該誘導体を含有する化粧品調製物および該誘
導体をUV―Ａフイルターとして使用することに
関する。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体は、一般式 式中、Ｒは水素原子または５―または６―位に
おける１乃至４個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の５
―または６―位に結合しており、R1およびR2は
互いに独立に水素原子、１乃至４個の炭素原子を
含有するアルキル基または式―（XO）o―Ｈの基
を表わし、ここで、Ｘは場合によりメチルまたは
エチルにより置換されていてもよい２乃至４個の
炭素原子を含有するエチレン基を表わし且つｎは
１乃至10の整数を表わし、記号R1およびR2の少
なくとも１方は水素原子とは異なり、或いはR1
およびR2はこれらが結合している窒素原子と一
緒になつてピペリジン環またはピロリジン環を形
成していてもよい。 の化合物およびこれらの化合物の塩である。 式の化合物およびそれらの塩はUV―Ａを吸
収する特性を有しており、殊に化粧品調製物用の
UV―Ａフイルターとして好適である。 本明細書で言うアルキル基は直鎖状または分枝
鎖であることができる。「１乃至４個の炭素原子
を含有するアルキル基」なる語は、従つて、メチ
ル、エチル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―
ブチル、イソブチル、sec―ブチルおよびtert―
ブチルを包含する。 「メチルまたはエチルで置換されたエチレン
基」なる語は、殊に式：
法、該誘導体を含有する化粧品調製物および該誘
導体をUV―Ａフイルターとして使用することに
関する。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体は、一般式 式中、Ｒは水素原子または５―または６―位に
おける１乃至４個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の５
―または６―位に結合しており、R1およびR2は
互いに独立に水素原子、１乃至４個の炭素原子を
含有するアルキル基または式―（XO）o―Ｈの基
を表わし、ここで、Ｘは場合によりメチルまたは
エチルにより置換されていてもよい２乃至４個の
炭素原子を含有するエチレン基を表わし且つｎは
１乃至10の整数を表わし、記号R1およびR2の少
なくとも１方は水素原子とは異なり、或いはR1
およびR2はこれらが結合している窒素原子と一
緒になつてピペリジン環またはピロリジン環を形
成していてもよい。 の化合物およびこれらの化合物の塩である。 式の化合物およびそれらの塩はUV―Ａを吸
収する特性を有しており、殊に化粧品調製物用の
UV―Ａフイルターとして好適である。 本明細書で言うアルキル基は直鎖状または分枝
鎖であることができる。「１乃至４個の炭素原子
を含有するアルキル基」なる語は、従つて、メチ
ル、エチル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―
ブチル、イソブチル、sec―ブチルおよびtert―
ブチルを包含する。 「メチルまたはエチルで置換されたエチレン
基」なる語は、殊に式：
【式】
【式】または
【式】
の基をいう。
幾つかの記号Ｘが存在する場合、それらは互い
に独立である。 式の化合物の塩は式の化合物を適当な塩基
で中和して得られるものであり、殊に、例えばナ
トリウムおよびカリウム塩の如きアルカリ金属
塩、アンモニウム塩並びにモノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミンおよびトリエタノールア
ミン塩である。トリエタノールアミン塩が殊に好
ましい塩である。 Ｒがアルキル基を表わす場合、このものは好ま
しくはメチルである。 Ｒ，R1およびR2は互いに独立に、好ましくは
それぞれ水素、メチルおよびメチルを表わす。 HO3S基を５―または６―位、殊に５―位に有
する式の化合物、およびそれらの塩が好まし
い。R2R1N基をｐ―位に有する式の化合物お
よびそれらの塩も同様に好ましい。HO3S基を５
―位に有し且つR2R1N基をｐ―位に有する式
の化合物およびそれらの塩が殊に好ましく、殊に
化合物２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベ
ンゾキサゾール―５―スルホン酸およびその塩が
好ましい。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体の興味あるサブグループは、一般式 式中、HO3S基はベンゾキサゾール環の５―ま
たは６―位に結合しており、R1aおよびR2aは互
いに独立に水素原子、１乃至４個の炭素原子を有
するアルキル基または式―XaOHの基を表わし、
ここでXaは場合によりメチルまたはエチルで置
換されていてもよい２乃至４個の炭素原子を含有
するエチレン基を表わし、記号R1aおよびR2aの
うちの少なくとも１方は水素原子とは異なり、或
いは、R1aおよびR2aはそれらが結合している窒
素原子と一緒になつてピペリジン環またはピロリ
ジン環を形成していてもよい、 の化合物およびこれらの化合物の塩から成る。 上記のベンゾキサゾール誘導体（即ち、式の
化合物およびその塩）を製造するための本発明に
より提供される方法は、 (a) 一般式 式中、Ｒは水素原子または４―もしくは５―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
４―または５―位に結合している、 のスルホン酸を一般式 式中R1bは水素原子または１乃至４個の炭素原
子を有するアルキル基を表わし且つR2bは１乃至
４個の炭素原子を有するアルキル基を表わすか、
或いはR1bおよびR2bはそれらが結合している窒
素原子と一緒になつてピペリジン環またはピロリ
ジン環を形成していてもよい、 の安息香酸またはその反応性誘導体の縮合剤の存
在下で反応させ、そして所望に応じて得られる化
合物を塩基によつて変えることを特徴とする一般
式、 式中、Ｒ，R1bおよびR2bは前記定義のとおり
であり、HO3S基はベンゾキサゾール環の５―ま
たは６―位に結合している。 の化合物およびこれらの化合物の塩の製造方法、
または一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1cおよびR2c
は少なくとも一方が水素原子でありかつ他方が水
素原子でない場合は１乃至４個の炭素原子を含有
するアルキル基を表わす、 の化合物または該化合物の塩を、２乃至４個の炭
素原子を含有するアルキレンオキシドまたはその
混合物と反応させ、そして所望に応じて得られる
化合物を塩基によつて塩に変えることを特徴とす
る一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の水素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1dおよび
R2dは少なくとも一方が式―（XO）o―Ｈの基を表
わし、ここでＸは場合によりメチルまたはエチル
で置換されていてもよい２乃至４個の炭素原子を
含有するエチレン基を表わし且つｎは１乃至10の
整数を表わし、かつ他方が―（XO）o―Ｈの基で
ない場合は１乃至４個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす、 の化合物およびこれらの化合物の塩の製造方法、
または (c) 一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、R1およびR2は前記の意味を有す
る、 の化合物をスルホン化剤で処理し、 そして所望に応じて、得られる式の化合物を
塩基により塩に変える ことから成る。 本方法の態様(a)に従えば、式の化合物は、例
えば、式のスルホン酸１当量を式の安息香酸
またはその反応性誘導体１当量と、例えばポリリ
ン酸の如き縮合剤の存在下で縮合させることによ
り製造される。該反応は120℃乃至180℃間の温度
範囲で行なうのが好ましい。しかしながら、該反
応は、例えばD.W.Heinらの論文、J.A.C.S.，79，
427頁（1967年）に記載されているものの如き、
文献により公知の本方法の他の変形のうちの１つ
に従つて行なうこともまた可能である。即ち、例
えば、式の化合物は、式のスルホン酸を、エ
ステル、アミド、クロリドまたはニトリルの如き
式の安息香酸の反応性誘導体と反応させること
によつて製造することもできる。 記号R1およびR2のうちの少なくとも１方が水
素原子を表わし且つ他方が、水素原子でない場
合、アルキル基を表わす式の化合物、またはそ
のような化合物の塩と、アルキレンオキシド、殊
にエチレンオキシド、プロピレンオキシドもしく
はブチレンオキシドまたは数種のアルキレンオキ
シドの混合物との間の、本発明の方法の態様(b)に
従う反応は、少なくとも１：１乃至１：10（式
の化合物がモノアルキルアミノ基を有する時）ま
たは少なくとも１：１乃至１：20（式の化合物
が未置換のアミノ基を有する時の式の化合物対
アルキレンオキシド（１種または複数種）のモル
比を用いて有利に行なうことができる。該反応
は、好ましくは、溶媒の不存在下に約60℃乃至
120℃間の温度で行なう。該反応は一般に、温度
範囲および出発材料によるが、約２乃至６時間か
かる。 本発明に従う方法の態様(c)に従えば、式の化
合物が、例えば発煙硫酸またはクロロスルホン酸
の如きスルホン化剤を用いて処理される。この処
理は、溶媒の不在下に約100℃乃至160℃間の温度
範囲で行なうのが有利である。 式の化合物の塩は、式の化合物を適当な塩
基で中和することによつて得られる。適当な塩基
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミンおよびトリエタノールアミンであ
る。 本発明の方法の生成物はそれ自体公知の方法に
従つて単離し精製することができる。 式およびの出発原料は公知であるか或いは
それ自体公知の方法に従つて製造することができ
る。 本発明の方法の態様(b)および(c)においてそれぞ
れ出発材料として使用される、R1およびR2が
各々水素原子を表わす式の化合物および式の
化合物は、前記の方法の態様(a)と同様の方法で製
造することができる。 衣類で保護されていない皮膚が非常に速く衰え
ることは公知である。この望ましくない影響は、
320乃至400nmの波長範囲、所謂UV―Ａ領域の
照射に帰する。化粧品としての目的に使用し得る
現在までに公知のフイルターは、この臨界的な波
長領域に対するカバーが不十分であるか、或い
は、その溶解特性のため、それらは水中に不溶で
あるか又は溶解特性が不十分であるので、脂肪を
含有せず且つアルコールを含有しない化粧品に混
入することができない。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体は下記表から明らかである様に、320乃至
390nmの波長領域中で極めて優秀なフイルター作
用を有し、且つ、殊にその塩の形において十分に
水溶性である。本発明のベンゾキサゾール誘導体
は、従つて、UV―Ａ領域に対するフイルターを
も含有する、脂肪を含有せず且つアルコールを含
有しない化粧品の製造を可能ならしめる。 式の化合物と公知のフイルターのUV―Ａ領
域に於ける光の吸収の比較 下記表において、２―（ｐ―ジメチルアミノフ
エニル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸の
１mg―％水溶液の、320―400nmの領域における
UV―光の吸収の百分率を、２―ヒドロキシ―４
―メトキシ―ベンゾフエノン―５―スルホン酸の
１mg―％水溶液と比較する（溶液の層の厚さ：１
cm）。
に独立である。 式の化合物の塩は式の化合物を適当な塩基
で中和して得られるものであり、殊に、例えばナ
トリウムおよびカリウム塩の如きアルカリ金属
塩、アンモニウム塩並びにモノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミンおよびトリエタノールア
ミン塩である。トリエタノールアミン塩が殊に好
ましい塩である。 Ｒがアルキル基を表わす場合、このものは好ま
しくはメチルである。 Ｒ，R1およびR2は互いに独立に、好ましくは
それぞれ水素、メチルおよびメチルを表わす。 HO3S基を５―または６―位、殊に５―位に有
する式の化合物、およびそれらの塩が好まし
い。R2R1N基をｐ―位に有する式の化合物お
よびそれらの塩も同様に好ましい。HO3S基を５
―位に有し且つR2R1N基をｐ―位に有する式
の化合物およびそれらの塩が殊に好ましく、殊に
化合物２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベ
ンゾキサゾール―５―スルホン酸およびその塩が
好ましい。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体の興味あるサブグループは、一般式 式中、HO3S基はベンゾキサゾール環の５―ま
たは６―位に結合しており、R1aおよびR2aは互
いに独立に水素原子、１乃至４個の炭素原子を有
するアルキル基または式―XaOHの基を表わし、
ここでXaは場合によりメチルまたはエチルで置
換されていてもよい２乃至４個の炭素原子を含有
するエチレン基を表わし、記号R1aおよびR2aの
うちの少なくとも１方は水素原子とは異なり、或
いは、R1aおよびR2aはそれらが結合している窒
素原子と一緒になつてピペリジン環またはピロリ
ジン環を形成していてもよい、 の化合物およびこれらの化合物の塩から成る。 上記のベンゾキサゾール誘導体（即ち、式の
化合物およびその塩）を製造するための本発明に
より提供される方法は、 (a) 一般式 式中、Ｒは水素原子または４―もしくは５―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
４―または５―位に結合している、 のスルホン酸を一般式 式中R1bは水素原子または１乃至４個の炭素原
子を有するアルキル基を表わし且つR2bは１乃至
４個の炭素原子を有するアルキル基を表わすか、
或いはR1bおよびR2bはそれらが結合している窒
素原子と一緒になつてピペリジン環またはピロリ
ジン環を形成していてもよい、 の安息香酸またはその反応性誘導体の縮合剤の存
在下で反応させ、そして所望に応じて得られる化
合物を塩基によつて変えることを特徴とする一般
式、 式中、Ｒ，R1bおよびR2bは前記定義のとおり
であり、HO3S基はベンゾキサゾール環の５―ま
たは６―位に結合している。 の化合物およびこれらの化合物の塩の製造方法、
または一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1cおよびR2c
は少なくとも一方が水素原子でありかつ他方が水
素原子でない場合は１乃至４個の炭素原子を含有
するアルキル基を表わす、 の化合物または該化合物の塩を、２乃至４個の炭
素原子を含有するアルキレンオキシドまたはその
混合物と反応させ、そして所望に応じて得られる
化合物を塩基によつて塩に変えることを特徴とす
る一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の水素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1dおよび
R2dは少なくとも一方が式―（XO）o―Ｈの基を表
わし、ここでＸは場合によりメチルまたはエチル
で置換されていてもよい２乃至４個の炭素原子を
含有するエチレン基を表わし且つｎは１乃至10の
整数を表わし、かつ他方が―（XO）o―Ｈの基で
ない場合は１乃至４個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす、 の化合物およびこれらの化合物の塩の製造方法、
または (c) 一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、R1およびR2は前記の意味を有す
る、 の化合物をスルホン化剤で処理し、 そして所望に応じて、得られる式の化合物を
塩基により塩に変える ことから成る。 本方法の態様(a)に従えば、式の化合物は、例
えば、式のスルホン酸１当量を式の安息香酸
またはその反応性誘導体１当量と、例えばポリリ
ン酸の如き縮合剤の存在下で縮合させることによ
り製造される。該反応は120℃乃至180℃間の温度
範囲で行なうのが好ましい。しかしながら、該反
応は、例えばD.W.Heinらの論文、J.A.C.S.，79，
427頁（1967年）に記載されているものの如き、
文献により公知の本方法の他の変形のうちの１つ
に従つて行なうこともまた可能である。即ち、例
えば、式の化合物は、式のスルホン酸を、エ
ステル、アミド、クロリドまたはニトリルの如き
式の安息香酸の反応性誘導体と反応させること
によつて製造することもできる。 記号R1およびR2のうちの少なくとも１方が水
素原子を表わし且つ他方が、水素原子でない場
合、アルキル基を表わす式の化合物、またはそ
のような化合物の塩と、アルキレンオキシド、殊
にエチレンオキシド、プロピレンオキシドもしく
はブチレンオキシドまたは数種のアルキレンオキ
シドの混合物との間の、本発明の方法の態様(b)に
従う反応は、少なくとも１：１乃至１：10（式
の化合物がモノアルキルアミノ基を有する時）ま
たは少なくとも１：１乃至１：20（式の化合物
が未置換のアミノ基を有する時の式の化合物対
アルキレンオキシド（１種または複数種）のモル
比を用いて有利に行なうことができる。該反応
は、好ましくは、溶媒の不存在下に約60℃乃至
120℃間の温度で行なう。該反応は一般に、温度
範囲および出発材料によるが、約２乃至６時間か
かる。 本発明に従う方法の態様(c)に従えば、式の化
合物が、例えば発煙硫酸またはクロロスルホン酸
の如きスルホン化剤を用いて処理される。この処
理は、溶媒の不在下に約100℃乃至160℃間の温度
範囲で行なうのが有利である。 式の化合物の塩は、式の化合物を適当な塩
基で中和することによつて得られる。適当な塩基
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミンおよびトリエタノールアミンであ
る。 本発明の方法の生成物はそれ自体公知の方法に
従つて単離し精製することができる。 式およびの出発原料は公知であるか或いは
それ自体公知の方法に従つて製造することができ
る。 本発明の方法の態様(b)および(c)においてそれぞ
れ出発材料として使用される、R1およびR2が
各々水素原子を表わす式の化合物および式の
化合物は、前記の方法の態様(a)と同様の方法で製
造することができる。 衣類で保護されていない皮膚が非常に速く衰え
ることは公知である。この望ましくない影響は、
320乃至400nmの波長範囲、所謂UV―Ａ領域の
照射に帰する。化粧品としての目的に使用し得る
現在までに公知のフイルターは、この臨界的な波
長領域に対するカバーが不十分であるか、或い
は、その溶解特性のため、それらは水中に不溶で
あるか又は溶解特性が不十分であるので、脂肪を
含有せず且つアルコールを含有しない化粧品に混
入することができない。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体は下記表から明らかである様に、320乃至
390nmの波長領域中で極めて優秀なフイルター作
用を有し、且つ、殊にその塩の形において十分に
水溶性である。本発明のベンゾキサゾール誘導体
は、従つて、UV―Ａ領域に対するフイルターを
も含有する、脂肪を含有せず且つアルコールを含
有しない化粧品の製造を可能ならしめる。 式の化合物と公知のフイルターのUV―Ａ領
域に於ける光の吸収の比較 下記表において、２―（ｐ―ジメチルアミノフ
エニル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸の
１mg―％水溶液の、320―400nmの領域における
UV―光の吸収の百分率を、２―ヒドロキシ―４
―メトキシ―ベンゾフエノン―５―スルホン酸の
１mg―％水溶液と比較する（溶液の層の厚さ：１
cm）。
【表】
吸収値から、２―（ｐ―ジメチルアミノフエニ
ル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸は比較
物質よりも320乃至400nm間で強く吸収すること
が明らかである。また、可視光領（360―400nm）
に於いても、２―（ｐ―ジメチルアミノフエニ
ル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸はなお
も強く吸収し、一方、比較物質はもはや吸収を示
さないということも明らかである。 次に本発明の化合物に属する２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸と、該化合物のスルホン酸基を有さない
化合物（比較）との可視光領における光吸収の割
合を調べた結果を下記表に示す。
ル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸は比較
物質よりも320乃至400nm間で強く吸収すること
が明らかである。また、可視光領（360―400nm）
に於いても、２―（ｐ―ジメチルアミノフエニ
ル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸はなお
も強く吸収し、一方、比較物質はもはや吸収を示
さないということも明らかである。 次に本発明の化合物に属する２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸と、該化合物のスルホン酸基を有さない
化合物（比較）との可視光領における光吸収の割
合を調べた結果を下記表に示す。
【表】
上記表から、比較化合物に対してスルホン酸基
が５―位に導入されることによつて最大吸収波長
が移動し、UV吸収曲線が巾広くなり320nm〜
390nmの殆んどの紫外領域を吸収する作用を示す
ようになることがわかる。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体は、また、UV―Ａ照射に対して敏感で且つ
通常化粧品中に存在している着色物質を損傷から
保護する性質をも有する。 本発明によつて提供される化粧品調製物は、
UV―Ａフイルターとして有効量の少なくとも１
種の上記のベンゾキサゾール誘導体を含有する。
該化粧品調製物は、好ましくは少なくとも１種の
式の化合物の塩を含有し、トリエタノールアミ
ン塩が殊に好ましい。 本発明によつて提供される化粧品調製物中に存
在するベンゾキサゾール誘導体の量は、該調製物
が使用される分野に応じて広い範囲内で変えるこ
とができるが、これはすぐに使用できる。 （ready―for―use）化粧品調製物を基準とし
て0.01乃至10重量％の範囲内にあるのが好都合で
ある。 UV―Ａ照射に対して皮膚を保護するためのク
リームおよびサン・ミルク（sun milk）（光―遮
蔽性調製物）中には、式の化合物および／また
はその塩は、一般に、0.5乃至10重量％、好まし
くは２乃至４重量％の濃度で存在する。 UV―Ｂフイルターもまたそのような調製物中
に存在するのが好ましい。 化粧品中に存在する着色物質をUV―Ａ照射か
ら保護するためには、式の化合物および／また
はその塩を、0.01乃至0.5重量％の濃度で、該調
製物（例えばシヤンプーまたはローシヨン）に加
えるのが好ましい。１種またはそれ以上の式の
化合物のみならず、そのような化合物の１種また
はそれ以上の塩、好ましくはトリエタノールアミ
ン塩もまた加えることができる。式の化合物お
よびその塩は、髪もまたUV―Ａ照射の影響でい
たむので同じ好適濃度で、例えばヘアローシヨ
ン、ヘアトリートメント、毛髪調色補強剤（hair
toning reinforcer）および毛染剤の如き、毛髪
保護（hair―care）調製物に対しても加えること
ができる。 しかしながら、UV―Ｂフイルターのみならず
他のUV―Ａフイルターもまた上記の化粧品調製
物中に存在させることができる。 本発明によつて提供される化粧品調製物を製造
するためには、少なくとも１種の式の化合物お
よび／またはその塩を、化粧品では通常の方法で
化粧品中に常用される活性物質、補薬物質および
担体材料と混合する。 皮膚または髪をUV―Ａ領域の照射から保護す
るための本発明によつて提供される方法に従え
ば、本発明に従う化粧品調製物を皮膚または髪に
適用される。化粧器調製物中に存在する着色物質
をUV―Ａ照射の影響のもとで損傷から保護する
ための本発明によつて提供される方法は、少なく
とも１種の式の化合物および／またはその塩を
該化粧品調製物中に混入することから成る。 下記の実施例は、本発明によつて提供される方
法を例示する。 実施例 １ ｐ―ジメチルアミノ―安息香酸および２―アミ
ノフエノール―４―スルホン酸の等モル量を、撹
拌機を備えフラスコに加える。次に、撹拌可能な
ペーストが得られるまでポリリン酸を加える。該
混合物を撹拌しながら160℃まで加熱し、そして
この温度に１時間保持する。この暗茶色の液体を
100℃まで放冷し、撹拌しながら大量の冷水中へ
注ぎこむ。分離して出てくる生成物を別し、水
で完全に洗浄し、そして水中に懸濁させる。希釈
した水酸化ナトリウムを、殆ど透明な溶液が得ら
れるまで（PH７―7.5）この懸濁液に加える。こ
の溶液を過し、続いてPH３乃至3.5まで酸性と
する。２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベ
ンゾキサゾール―５―スルホン酸が分離し、これ
を別し水で洗い真空下に加温槽内で乾燥させ
る；融点は300℃以上。 実施例 ２ ｐ―ジメチルアミノ―安息香酸17.5ｇおよび２
―アミノフエノール―４―スルホン酸22.0ｇを、
撹拌機を備えたフラスコに入れる。次に撹拌可能
なペーストが得られるまでポリリン酸を加える。
該混合物を撹拌しながら160℃まで加熱し、この
温度に１時間保持する。この暗褐色の液体を100
℃まで冷却し、撹拌しながら大量の氷水中へ注ぎ
込む。分離して出てくる生成物を別し、水で完
全に洗浄し次に懸濁させる。希アンモニア溶液
を、殆んど透明な溶液が得られる迄（PH７―7.5）
この懸濁液に加える。この暗褐色の溶液を過
し、続いてPH３―3.5まで酸性とする。２―（ｐ
―ジメチルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール
―５―スルホン酸が分離し、これを別し水で洗
い真空下に加温槽内で乾燥させる；融点338℃
（分解を伴う）。 分析：C15H14N2O4S（318.35） 計算値：C56.59；H4.43；N8.80 S10.07％ 実測値：C56.66；H4.53；N8.79； S9.96％ （H2O―無し） 実施例 ３ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベンゾ
キサゾール―５―スルホン酸は、ｐ―ジメチルア
ミノ―ベンゾニトリル10.0ｇを２―アミノフエノ
ール―４―スルホン酸13.0ｇと実施例１記載の方
法と同様の方法で反応させると得られる。 実施例 ４ ｐ―メチルアミノ―安息香酸8.0ｇを２―アミ
ノフエノール―４―スルホン酸10.0ｇと実施例１
記載の方法と同様の方法で反応させることによ
り、融点333℃（分解を伴う）の２―（ｐ―メチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸が得られる。 分析：C14H12N2O4S（304.32） 計算値：C55.26；H3.97；N9.21； S10.53％ 実測値：C54.90；H4.10；N9.14； S10.74％ （H2O―無し） 実施例 ５ ｐ―ジエチルアミノ安息香酸11.0ｇおよび２―
アミノフエノール―４―スルホン酸10.5ｇを、実
施例１記載の如き同じ条件下で一緒に反応させ
る。反応後、暗褐色の液体を水に注ぎこむ。水酸
化ナトリウムを用いて溶液をPH８に調節する。こ
の塩基性の溶液を過し、暗褐色の塊が得られる
まで塩化ナトリウムを飽和させる。この塊を水か
ら分離し、再び水に溶かし、得られた溶液を塩化
ナトリウムで飽和させる。こうして、粉末状の２
―（ｐ―ジエチルアミノフエニル）―ベンゾキサ
ゾール―５―スルホン酸のナトリウム塩が得ら
れ、これはアルコール／水から再結晶可能であ
る；融点318℃。 分析：C17H17N2O4SNa（368.38） 計算値：C55.43；H4.65；N7.60； S8.70％ 実測値：C55.47；H4.86；N7.69； S8.40％ （H2O―無し） 実施例 ６ ４―ピペリジノ安息香酸エチル5.0ｇを２―ア
ミノフエノール―４―スルホン酸4.2ｇと実施例
１記載の方法と同様の方法で反応させると、融点
351℃（分解を伴う）の２―（ｐ―ピペリジノフ
エニル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸が
得られる。 分析：C18H18N2O4S（358.41） 計算値：C60.32；H5.06；N7.82； S8.95％ 実測値：C60.32；H5.09；N7.88； S8.90％ （H2O―無し） 実施例 ７ ４―ピロリジノ安息香酸エチル10.0ｇを２―ア
ミノフエノール―４―スルホン酸8.7ｇと実施例
１記載の方法と同様の方法で反応させると、融点
310℃（分解を伴う）の２―（ｐ―ピロリジノフ
エニル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸が
得られる。 分析：C17H16N2O4S（344.39） 計算値：C59.29；H4.68；N8.13； S9.31％ 実測値：C60.28；H4.76；N8.16； S9.00％ （H2O―無し） 実施例 ８ ２―（ｐ―アミノフエニル）―ベンゾキサゾー
ル―５―スルホン酸（実施例１記載の方法と同様
の方法で得た）10.0ｇを液体のエチレンオキシド
40ｇ中に懸濁させる。反応容器を加圧下に100℃
に４時間加熱する。冷却後、過剰のエチレンオキ
シドを除去し、暗褐色の粘性の塊を精留アルコー
ル中に溶かす。この溶液を活性炭で処理する。該
混合物を過し、溶媒を蒸発によつて除去し、生
成する残渣を真空下に乾燥させる。かくして暗赤
色のハチミツ様塊が得られる；UV―スペクトル
λmax FSP＝347nm。 この生成物は多分一般式 式中、n1およびn2は互いに独立に１乃至10の整
数を表わす、 の化合物の混合物である。 実施例 ９ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベンゾ
キサゾール11.2ｇを濃硫酸26ml中に溶かす。発煙
硫酸（oleum 60％）16mlを次にそこへ加える。
該混合物で200℃に１時間加熱する。冷却後、該
溶液をアセトン1200ml中へ注ぎこむ。２―（ｐ―
ジメチルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―
６―スルホン酸が分解するので、次いでこれを実
施例１記載と同じ方法で処理する。生成物は315
℃で融解する（分解を伴う）。 分析：C15H14N2O4S（318.35） 計算値：C56.59；H4.43；N8.80； S10.07％ 実測値：C56.20；H4.33；N8.85； S10.19％ （H2O―無し） 実施例 10 ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―５―メ
チル―ベンゾキサゾールを用いて実施例９記載と
同様の反応を行なうと、融点302.6℃（分解を伴
う）の２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―５
―メチル―ベンゾキサゾール―６―スルホン酸が
得られる。 分析：C16H16N2O4S（332.37） 計算値：C57.82；H4.85；N8.43； S9.65％ 実測値：C57.33；H4.83；N8.70； S9.65％ （H2O―無し） 実施例 11 ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―６―メ
チル―ベンゾキサゾールを用いて実施例７記載と
同様の反応を行なわせると、融点290℃（分解を
伴う）の２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―
６―メチル―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸
が得られる。 分析：C16H16N2O4S（332.37） 計算値：C57.82；H4.85；N8.43； S9.65％ 実測値：C58.20；H4.95；N8.57； S9.42％ （H2O―無し） 下記の実施例は本発明によつて提供されるベン
ゾキサゾール誘導体を含有する化粧品調製物を例
示する。 実施例 12 太陽光―遮蔽性ミルク（Sun―screeningmilk）
（油／水乳剤） 5.000ｇ パーゾール（Parsol）MCX(1)ｐ―メト
キシ桂皮酸エチルヘキシル 3.000ｇ アンフイゾール（Amphisol）(1)ジエタ
ノールアミンセチルホスフエート 2.000ｇ ステアリルアルコール 5.000ｇ セチオール（Cetiol）SN(2)中位の鎖長
の分枝状脂肪酸のC16―C18脂肪アルコールと
のエステル 4.000ｇ パラフイン油、水性 2.000ｇ ステアリン酸ブチル 0.100ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸プロピル 0.400ｇ カルボポール（Carbopol）940(3)カルボ
キシビニルポリマー 5.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 0.630ｇ トリエタノールアミン 0.700ｇ 水酸化ナトリウム 2.000ｇ プロピレングリコール 0.200ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸メチル 0.200ｇ ガーマル（Germall）115(4)イミダゾリ
ジニル―尿素化合物 0.500ｇ Ｄ―パンテノールエチルエーテル 0.500ｇ Ｄ―パンテノール 0.500ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 13 半油性太陽光―遮蔽性クリーム（油／水乳剤） 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 5.600ｇ クレモフオールＡソリツド
（Cremophoy Ａ solid）(5) 低級オキシエ
チル化飽和脂肪アルコール 5.000ｇ ソフテイサン（Softisan）100(6) 鎖長
C10―C18の完全に飽和した植物性脂肪酸の硬
油脂成分 4.000ｇ セチルアルコール 4.000ｇ ステアリルアルコール 10.000ｇ ゴマ油 0.004ｇ ブチルヒドロキシアニソール 0.026ｇ ブチルヒドロキシトルエン 3.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 0.360ｇ 水酸化ナトリウム 0.200ｇ ザウイシル（Dowicil）200(9)Ｎ―（３
―クロロアリル）―ヘキサミニウムヒドロク
ロリド 0.400ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 14 太陽光―遮蔽性ローシヨン（油／水乳剤） 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 5.000ｇ タガツト（Tagat）Ｓ(6) ポリオキシ
エチレン―グリセリンモノステアレート 2.000ｇ グリセリンモノステアレート 10.000ｇ デルチル・エクストラ（Deltylextra）
(1) ミリスチン酸イソプロピル 8.000ｇ パラフイン油、水性 2.000ｇ ワセリンホワイト 2.000ｇ PCL liquid(10)混合アルキル―分枝状脂
肪酸エステル 3.000ｇ ステアリルアルコール 2.000ｇ ミグリオール（Migliol）818(8)中位の
鎖長の飽和植物性脂肪酸およびある割合の必
須脂肪酸のトリグリセリド混合物 3.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 1.460ｇ トリエタノールアミン 1.000ｇ グリセリン 0.200ｇ ダウイシル200(9)Ｎ―（３―クロロアリ
ル）―ヘキサミニウムヒドロクロリド 0.400ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 15 太陽光―遮蔽性クリーム（油／水乳剤） 15.000ｇ ラネツテ（Lanette）Ｎ(2) セチルス
テアリルアルコール90部およびセチルステア
リル硫酸ナトリウム10部のコロイド分散混合
物 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 5.000ｇ セチオールＶ(2) オレイン酸デシル 5.000ｇ ワセリンホワイト 0.100ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸プロピル 1.000ｇ デルチル・エクストラ(1) ミリスチン
酸イソプロピル 2.000ｇ PCL Liquid(10) 混合アルキル―分枝状
脂肪酸エステル 5.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 0.600ｇ 水酸化ナトリウム 4.000ｇ プロピレングリコール 0.200ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸メチル 0.200ｇ ガーマル115(4) イミダゾリジニル―尿
素化合物 0.500ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 16 サン・スクリーニングゲル 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 13.000ｇ オイムルジン（Eumulgin）B3(2) 約
30モルのエチレンオキシドを有するセチルス
テアリルアルコール 20.000ｇ セチオールHE(2) ポリオール―脂肪
酸エステル 0.500ｇ フエノニツプ（Phenonip）(7) ｐ―ヒ
ドロキシ安息香酸エステルの２―フエノキシ
―エチルアルコール中の混合物 2.000ｇ デルチル・エクストラ(1) ミリスチン
酸イソプロピル 5.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 3.100ｇ トリエタノールアミン 5.000ｇ プロピレングリコール 0.500ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 17 ヘアローシヨン「Ａ」、「Ｂ」および「Ｃ」ヘアロ
ーシヨン「Ａ」（対照） 45.000ｇ 精留アルコール 0.100ｇ 香料 0.250ｇ Ｄ―パンテノールエチルエーテル 0.250ｇ Ｄ―パンテノール 0.050ｇ セチルピリジニウムクロリド 0.600mg FD＆Ｃ Blue No.１カラー・インデツ
クスNo.42090（トリフエニルメタン着色物質） 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 ヘアローシヨン「Ｂ」 「Ａ」と同じであるが、さらに２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.025ｇおよびトリエタノールアミン
0.013ｇを含有する。 ヘアローシヨン「Ｃ」 「Ａ」と同じであるが、さらに２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.050ｇおよびトリエタノールアミン
0.026ｇを含有する。 光試験〔キセノン灯耐候性試験（Xenotest）〕 前記のヘアローシヨンＡ，ＢおよびＣをキセノ
ン灯耐候性試験（Xenotest）に供した。３時間
または６時間の暴露は、実験室内の人工光源
（1000ルクス）に対する場合、１日あたり10乃至
12時間の約３ケ月または６ケ月の暴露に相当す
る。暴露後のローシヨンの外観を、各場合、相当
する未暴露のローシヨンの外観と比較する。結果
は次の通りである：
が５―位に導入されることによつて最大吸収波長
が移動し、UV吸収曲線が巾広くなり320nm〜
390nmの殆んどの紫外領域を吸収する作用を示す
ようになることがわかる。 本発明によつて提供されるベンゾキサゾール誘
導体は、また、UV―Ａ照射に対して敏感で且つ
通常化粧品中に存在している着色物質を損傷から
保護する性質をも有する。 本発明によつて提供される化粧品調製物は、
UV―Ａフイルターとして有効量の少なくとも１
種の上記のベンゾキサゾール誘導体を含有する。
該化粧品調製物は、好ましくは少なくとも１種の
式の化合物の塩を含有し、トリエタノールアミ
ン塩が殊に好ましい。 本発明によつて提供される化粧品調製物中に存
在するベンゾキサゾール誘導体の量は、該調製物
が使用される分野に応じて広い範囲内で変えるこ
とができるが、これはすぐに使用できる。 （ready―for―use）化粧品調製物を基準とし
て0.01乃至10重量％の範囲内にあるのが好都合で
ある。 UV―Ａ照射に対して皮膚を保護するためのク
リームおよびサン・ミルク（sun milk）（光―遮
蔽性調製物）中には、式の化合物および／また
はその塩は、一般に、0.5乃至10重量％、好まし
くは２乃至４重量％の濃度で存在する。 UV―Ｂフイルターもまたそのような調製物中
に存在するのが好ましい。 化粧品中に存在する着色物質をUV―Ａ照射か
ら保護するためには、式の化合物および／また
はその塩を、0.01乃至0.5重量％の濃度で、該調
製物（例えばシヤンプーまたはローシヨン）に加
えるのが好ましい。１種またはそれ以上の式の
化合物のみならず、そのような化合物の１種また
はそれ以上の塩、好ましくはトリエタノールアミ
ン塩もまた加えることができる。式の化合物お
よびその塩は、髪もまたUV―Ａ照射の影響でい
たむので同じ好適濃度で、例えばヘアローシヨ
ン、ヘアトリートメント、毛髪調色補強剤（hair
toning reinforcer）および毛染剤の如き、毛髪
保護（hair―care）調製物に対しても加えること
ができる。 しかしながら、UV―Ｂフイルターのみならず
他のUV―Ａフイルターもまた上記の化粧品調製
物中に存在させることができる。 本発明によつて提供される化粧品調製物を製造
するためには、少なくとも１種の式の化合物お
よび／またはその塩を、化粧品では通常の方法で
化粧品中に常用される活性物質、補薬物質および
担体材料と混合する。 皮膚または髪をUV―Ａ領域の照射から保護す
るための本発明によつて提供される方法に従え
ば、本発明に従う化粧品調製物を皮膚または髪に
適用される。化粧器調製物中に存在する着色物質
をUV―Ａ照射の影響のもとで損傷から保護する
ための本発明によつて提供される方法は、少なく
とも１種の式の化合物および／またはその塩を
該化粧品調製物中に混入することから成る。 下記の実施例は、本発明によつて提供される方
法を例示する。 実施例 １ ｐ―ジメチルアミノ―安息香酸および２―アミ
ノフエノール―４―スルホン酸の等モル量を、撹
拌機を備えフラスコに加える。次に、撹拌可能な
ペーストが得られるまでポリリン酸を加える。該
混合物を撹拌しながら160℃まで加熱し、そして
この温度に１時間保持する。この暗茶色の液体を
100℃まで放冷し、撹拌しながら大量の冷水中へ
注ぎこむ。分離して出てくる生成物を別し、水
で完全に洗浄し、そして水中に懸濁させる。希釈
した水酸化ナトリウムを、殆ど透明な溶液が得ら
れるまで（PH７―7.5）この懸濁液に加える。こ
の溶液を過し、続いてPH３乃至3.5まで酸性と
する。２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベ
ンゾキサゾール―５―スルホン酸が分離し、これ
を別し水で洗い真空下に加温槽内で乾燥させ
る；融点は300℃以上。 実施例 ２ ｐ―ジメチルアミノ―安息香酸17.5ｇおよび２
―アミノフエノール―４―スルホン酸22.0ｇを、
撹拌機を備えたフラスコに入れる。次に撹拌可能
なペーストが得られるまでポリリン酸を加える。
該混合物を撹拌しながら160℃まで加熱し、この
温度に１時間保持する。この暗褐色の液体を100
℃まで冷却し、撹拌しながら大量の氷水中へ注ぎ
込む。分離して出てくる生成物を別し、水で完
全に洗浄し次に懸濁させる。希アンモニア溶液
を、殆んど透明な溶液が得られる迄（PH７―7.5）
この懸濁液に加える。この暗褐色の溶液を過
し、続いてPH３―3.5まで酸性とする。２―（ｐ
―ジメチルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール
―５―スルホン酸が分離し、これを別し水で洗
い真空下に加温槽内で乾燥させる；融点338℃
（分解を伴う）。 分析：C15H14N2O4S（318.35） 計算値：C56.59；H4.43；N8.80 S10.07％ 実測値：C56.66；H4.53；N8.79； S9.96％ （H2O―無し） 実施例 ３ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベンゾ
キサゾール―５―スルホン酸は、ｐ―ジメチルア
ミノ―ベンゾニトリル10.0ｇを２―アミノフエノ
ール―４―スルホン酸13.0ｇと実施例１記載の方
法と同様の方法で反応させると得られる。 実施例 ４ ｐ―メチルアミノ―安息香酸8.0ｇを２―アミ
ノフエノール―４―スルホン酸10.0ｇと実施例１
記載の方法と同様の方法で反応させることによ
り、融点333℃（分解を伴う）の２―（ｐ―メチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸が得られる。 分析：C14H12N2O4S（304.32） 計算値：C55.26；H3.97；N9.21； S10.53％ 実測値：C54.90；H4.10；N9.14； S10.74％ （H2O―無し） 実施例 ５ ｐ―ジエチルアミノ安息香酸11.0ｇおよび２―
アミノフエノール―４―スルホン酸10.5ｇを、実
施例１記載の如き同じ条件下で一緒に反応させ
る。反応後、暗褐色の液体を水に注ぎこむ。水酸
化ナトリウムを用いて溶液をPH８に調節する。こ
の塩基性の溶液を過し、暗褐色の塊が得られる
まで塩化ナトリウムを飽和させる。この塊を水か
ら分離し、再び水に溶かし、得られた溶液を塩化
ナトリウムで飽和させる。こうして、粉末状の２
―（ｐ―ジエチルアミノフエニル）―ベンゾキサ
ゾール―５―スルホン酸のナトリウム塩が得ら
れ、これはアルコール／水から再結晶可能であ
る；融点318℃。 分析：C17H17N2O4SNa（368.38） 計算値：C55.43；H4.65；N7.60； S8.70％ 実測値：C55.47；H4.86；N7.69； S8.40％ （H2O―無し） 実施例 ６ ４―ピペリジノ安息香酸エチル5.0ｇを２―ア
ミノフエノール―４―スルホン酸4.2ｇと実施例
１記載の方法と同様の方法で反応させると、融点
351℃（分解を伴う）の２―（ｐ―ピペリジノフ
エニル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸が
得られる。 分析：C18H18N2O4S（358.41） 計算値：C60.32；H5.06；N7.82； S8.95％ 実測値：C60.32；H5.09；N7.88； S8.90％ （H2O―無し） 実施例 ７ ４―ピロリジノ安息香酸エチル10.0ｇを２―ア
ミノフエノール―４―スルホン酸8.7ｇと実施例
１記載の方法と同様の方法で反応させると、融点
310℃（分解を伴う）の２―（ｐ―ピロリジノフ
エニル）―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸が
得られる。 分析：C17H16N2O4S（344.39） 計算値：C59.29；H4.68；N8.13； S9.31％ 実測値：C60.28；H4.76；N8.16； S9.00％ （H2O―無し） 実施例 ８ ２―（ｐ―アミノフエニル）―ベンゾキサゾー
ル―５―スルホン酸（実施例１記載の方法と同様
の方法で得た）10.0ｇを液体のエチレンオキシド
40ｇ中に懸濁させる。反応容器を加圧下に100℃
に４時間加熱する。冷却後、過剰のエチレンオキ
シドを除去し、暗褐色の粘性の塊を精留アルコー
ル中に溶かす。この溶液を活性炭で処理する。該
混合物を過し、溶媒を蒸発によつて除去し、生
成する残渣を真空下に乾燥させる。かくして暗赤
色のハチミツ様塊が得られる；UV―スペクトル
λmax FSP＝347nm。 この生成物は多分一般式 式中、n1およびn2は互いに独立に１乃至10の整
数を表わす、 の化合物の混合物である。 実施例 ９ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベンゾ
キサゾール11.2ｇを濃硫酸26ml中に溶かす。発煙
硫酸（oleum 60％）16mlを次にそこへ加える。
該混合物で200℃に１時間加熱する。冷却後、該
溶液をアセトン1200ml中へ注ぎこむ。２―（ｐ―
ジメチルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―
６―スルホン酸が分解するので、次いでこれを実
施例１記載と同じ方法で処理する。生成物は315
℃で融解する（分解を伴う）。 分析：C15H14N2O4S（318.35） 計算値：C56.59；H4.43；N8.80； S10.07％ 実測値：C56.20；H4.33；N8.85； S10.19％ （H2O―無し） 実施例 10 ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―５―メ
チル―ベンゾキサゾールを用いて実施例９記載と
同様の反応を行なうと、融点302.6℃（分解を伴
う）の２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―５
―メチル―ベンゾキサゾール―６―スルホン酸が
得られる。 分析：C16H16N2O4S（332.37） 計算値：C57.82；H4.85；N8.43； S9.65％ 実測値：C57.33；H4.83；N8.70； S9.65％ （H2O―無し） 実施例 11 ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―６―メ
チル―ベンゾキサゾールを用いて実施例７記載と
同様の反応を行なわせると、融点290℃（分解を
伴う）の２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―
６―メチル―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸
が得られる。 分析：C16H16N2O4S（332.37） 計算値：C57.82；H4.85；N8.43； S9.65％ 実測値：C58.20；H4.95；N8.57； S9.42％ （H2O―無し） 下記の実施例は本発明によつて提供されるベン
ゾキサゾール誘導体を含有する化粧品調製物を例
示する。 実施例 12 太陽光―遮蔽性ミルク（Sun―screeningmilk）
（油／水乳剤） 5.000ｇ パーゾール（Parsol）MCX(1)ｐ―メト
キシ桂皮酸エチルヘキシル 3.000ｇ アンフイゾール（Amphisol）(1)ジエタ
ノールアミンセチルホスフエート 2.000ｇ ステアリルアルコール 5.000ｇ セチオール（Cetiol）SN(2)中位の鎖長
の分枝状脂肪酸のC16―C18脂肪アルコールと
のエステル 4.000ｇ パラフイン油、水性 2.000ｇ ステアリン酸ブチル 0.100ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸プロピル 0.400ｇ カルボポール（Carbopol）940(3)カルボ
キシビニルポリマー 5.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 0.630ｇ トリエタノールアミン 0.700ｇ 水酸化ナトリウム 2.000ｇ プロピレングリコール 0.200ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸メチル 0.200ｇ ガーマル（Germall）115(4)イミダゾリ
ジニル―尿素化合物 0.500ｇ Ｄ―パンテノールエチルエーテル 0.500ｇ Ｄ―パンテノール 0.500ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 13 半油性太陽光―遮蔽性クリーム（油／水乳剤） 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 5.600ｇ クレモフオールＡソリツド
（Cremophoy Ａ solid）(5) 低級オキシエ
チル化飽和脂肪アルコール 5.000ｇ ソフテイサン（Softisan）100(6) 鎖長
C10―C18の完全に飽和した植物性脂肪酸の硬
油脂成分 4.000ｇ セチルアルコール 4.000ｇ ステアリルアルコール 10.000ｇ ゴマ油 0.004ｇ ブチルヒドロキシアニソール 0.026ｇ ブチルヒドロキシトルエン 3.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 0.360ｇ 水酸化ナトリウム 0.200ｇ ザウイシル（Dowicil）200(9)Ｎ―（３
―クロロアリル）―ヘキサミニウムヒドロク
ロリド 0.400ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 14 太陽光―遮蔽性ローシヨン（油／水乳剤） 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 5.000ｇ タガツト（Tagat）Ｓ(6) ポリオキシ
エチレン―グリセリンモノステアレート 2.000ｇ グリセリンモノステアレート 10.000ｇ デルチル・エクストラ（Deltylextra）
(1) ミリスチン酸イソプロピル 8.000ｇ パラフイン油、水性 2.000ｇ ワセリンホワイト 2.000ｇ PCL liquid(10)混合アルキル―分枝状脂
肪酸エステル 3.000ｇ ステアリルアルコール 2.000ｇ ミグリオール（Migliol）818(8)中位の
鎖長の飽和植物性脂肪酸およびある割合の必
須脂肪酸のトリグリセリド混合物 3.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 1.460ｇ トリエタノールアミン 1.000ｇ グリセリン 0.200ｇ ダウイシル200(9)Ｎ―（３―クロロアリ
ル）―ヘキサミニウムヒドロクロリド 0.400ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 15 太陽光―遮蔽性クリーム（油／水乳剤） 15.000ｇ ラネツテ（Lanette）Ｎ(2) セチルス
テアリルアルコール90部およびセチルステア
リル硫酸ナトリウム10部のコロイド分散混合
物 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 5.000ｇ セチオールＶ(2) オレイン酸デシル 5.000ｇ ワセリンホワイト 0.100ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸プロピル 1.000ｇ デルチル・エクストラ(1) ミリスチン
酸イソプロピル 2.000ｇ PCL Liquid(10) 混合アルキル―分枝状
脂肪酸エステル 5.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 0.600ｇ 水酸化ナトリウム 4.000ｇ プロピレングリコール 0.200ｇ ｐ―ヒドロキシ安息香酸メチル 0.200ｇ ガーマル115(4) イミダゾリジニル―尿
素化合物 0.500ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 16 サン・スクリーニングゲル 5.000ｇ パーゾールMCX(1) ｐ―メトキシ桂皮
酸エチルヘキシル 13.000ｇ オイムルジン（Eumulgin）B3(2) 約
30モルのエチレンオキシドを有するセチルス
テアリルアルコール 20.000ｇ セチオールHE(2) ポリオール―脂肪
酸エステル 0.500ｇ フエノニツプ（Phenonip）(7) ｐ―ヒ
ドロキシ安息香酸エステルの２―フエノキシ
―エチルアルコール中の混合物 2.000ｇ デルチル・エクストラ(1) ミリスチン
酸イソプロピル 5.000ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 3.100ｇ トリエタノールアミン 5.000ｇ プロピレングリコール 0.500ｇ 香料 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 実施例 17 ヘアローシヨン「Ａ」、「Ｂ」および「Ｃ」ヘアロ
ーシヨン「Ａ」（対照） 45.000ｇ 精留アルコール 0.100ｇ 香料 0.250ｇ Ｄ―パンテノールエチルエーテル 0.250ｇ Ｄ―パンテノール 0.050ｇ セチルピリジニウムクロリド 0.600mg FD＆Ｃ Blue No.１カラー・インデツ
クスNo.42090（トリフエニルメタン着色物質） 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 ヘアローシヨン「Ｂ」 「Ａ」と同じであるが、さらに２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.025ｇおよびトリエタノールアミン
0.013ｇを含有する。 ヘアローシヨン「Ｃ」 「Ａ」と同じであるが、さらに２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.050ｇおよびトリエタノールアミン
0.026ｇを含有する。 光試験〔キセノン灯耐候性試験（Xenotest）〕 前記のヘアローシヨンＡ，ＢおよびＣをキセノ
ン灯耐候性試験（Xenotest）に供した。３時間
または６時間の暴露は、実験室内の人工光源
（1000ルクス）に対する場合、１日あたり10乃至
12時間の約３ケ月または６ケ月の暴露に相当す
る。暴露後のローシヨンの外観を、各場合、相当
する未暴露のローシヨンの外観と比較する。結果
は次の通りである：
【表】
実施例 18
ヘアローシヨン「Ｄ」、「Ｅ」および「Ｆ」ヘアロ
ーシヨン「Ｄ」 45.000ｇ 精留アルコール 0.100ｇ 香料 0.500ｇ イソアジペート（Isoadipate）アジピ
ン酸ジイソプロピル 0.800mg FD＆Ｃ YellowNo.６ カラーインデ
ツクスNo.15985（モノアゾ着色物質） 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 ヘアローシヨン「Ｅ」 「Ｄ」と同じであるが、但し、２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.025ｇおよびトリエタノールアミン
0.013ｇをさらに含有する。 ヘアローシヨン「Ｆ」 「Ｄ」と同じであるが、但し２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸0.050ｇおよびトリエタノールアミン
0.026ｇをさらに含有する。 光試験（キセノン灯耐候性試験） 前記の３種のヘアローシヨンを実施例17記載の
方法と同様の方法でキセノン灯耐候性試験に供す
る。結果は次の通りである：
ーシヨン「Ｄ」 45.000ｇ 精留アルコール 0.100ｇ 香料 0.500ｇ イソアジペート（Isoadipate）アジピ
ン酸ジイソプロピル 0.800mg FD＆Ｃ YellowNo.６ カラーインデ
ツクスNo.15985（モノアゾ着色物質） 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 ヘアローシヨン「Ｅ」 「Ｄ」と同じであるが、但し、２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.025ｇおよびトリエタノールアミン
0.013ｇをさらに含有する。 ヘアローシヨン「Ｆ」 「Ｄ」と同じであるが、但し２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸0.050ｇおよびトリエタノールアミン
0.026ｇをさらに含有する。 光試験（キセノン灯耐候性試験） 前記の３種のヘアローシヨンを実施例17記載の
方法と同様の方法でキセノン灯耐候性試験に供す
る。結果は次の通りである：
【表】
実施例 19
調色補強剤：金色―ブロンド「Ａ」，「Ｂ」および
「Ｃ」 金色―ブロンド「Ａ」 45.000ｇ 精留アルコール 5.000ｇ アリストフレツクス（Aristoflex）A60
％(11) 酢酸ビニル混合重合物 0.200ｇ シトロフレツクス（Citroflex）Ａ―２
(12) アセチルトリエチルシトレート 49.350ｇ 脱塩水 0.320ｇ 水酸化アンモニウム25％ 0.100ｇ 香料 0.015ｇ FD＆Ｃ YellowNo.６カラーインデツ
クスNo.15985（モノアゾ着色物質） 0.015ｇ FD＆Ｃ YellowNo.５カラーインデツ
クスNo.19140（ピラゾロン着色物質） 金色―ブロンド「Ｂ」 「Ａ」と同じであるが、但し２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸0.025ｇをさらに含有する。 金色―ブロンド「Ｃ」 「Ａ」と同じであるが、但し２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸0.050ｇをさらに含有する。 光試験（キセノン灯耐光性試験） 前記の３種の調色補強剤を実施例17記載の方法
と同様の方法でキセノン灯耐候性試験に供する。
結果は次の通りである：
「Ｃ」 金色―ブロンド「Ａ」 45.000ｇ 精留アルコール 5.000ｇ アリストフレツクス（Aristoflex）A60
％(11) 酢酸ビニル混合重合物 0.200ｇ シトロフレツクス（Citroflex）Ａ―２
(12) アセチルトリエチルシトレート 49.350ｇ 脱塩水 0.320ｇ 水酸化アンモニウム25％ 0.100ｇ 香料 0.015ｇ FD＆Ｃ YellowNo.６カラーインデツ
クスNo.15985（モノアゾ着色物質） 0.015ｇ FD＆Ｃ YellowNo.５カラーインデツ
クスNo.19140（ピラゾロン着色物質） 金色―ブロンド「Ｂ」 「Ａ」と同じであるが、但し２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸0.025ｇをさらに含有する。 金色―ブロンド「Ｃ」 「Ａ」と同じであるが、但し２―（ｐ―ジメチ
ルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―ス
ルホン酸0.050ｇをさらに含有する。 光試験（キセノン灯耐光性試験） 前記の３種の調色補強剤を実施例17記載の方法
と同様の方法でキセノン灯耐候性試験に供する。
結果は次の通りである：
【表】
実施例 20
透明シヤンプー「Ａ」、「Ｂ」、「Ｃ」および「Ｄ」
透明シヤンプー「Ａ」
25.000ｇ テゴ―ベタイン（Tego―Betaine）L7
(6) 脂肪酸アミドプロピルジメチル・アミノ
酢酸―ベタイン 20.000ｇ テキサポン（Texapon）NT(2) トリ
エタノールアミンラウリルエーテルサルフエ
ート 3.000ｇ コンパーラン（Comperlan）KD(2) や
し油ジエタノールアミド 0.500ｇ Ｄ―パンテノールエチルエーテル 0.200ｇ ダウイシル200(9) Ｎ―（３―クロロア
リル）―ヘキサミニウムヒドロクロリド 1.500mg FD＆Ｃ Blue No.１カラーインデツク
スNo.42090（トリフエニルメタン着色物質） 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 透明シヤンプー「Ｂ」 「Ａ」と同じであるが、但し、２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.050ｇおよびトリエタノールアミン
0.026ｇをさに含有する。 透明シヤンプー「Ｃ」 「Ａ」と同じであるが、但しユビナール
（Uvinul）MS40(13)２―ヒドロキシ―４―メトキ
シ―ベンゾフエノン―５―スルホン酸0.050ｇを
さらに含有する。 透明シヤンプー「Ｄ」 「Ａ」と同じであるが、、但し、ユビナール
D50(13)２，2′，４，4′―テトラヒドロキシ―ベン
ゾフエノン0.050ｇをさらに含有する。 注意：不溶性（50℃で１時間撹拌―塊を生成す
る）。 光試験（キセノン灯耐候性試験） 前記の透明な青色のシヤンプー「Ａ」，「Ｂ」お
よび「Ｃ」を、実施例17記載の方法と同様の方法
および同じ条件下でキセノン灯耐候性試験に供す
る。結果は次の通りである：
(6) 脂肪酸アミドプロピルジメチル・アミノ
酢酸―ベタイン 20.000ｇ テキサポン（Texapon）NT(2) トリ
エタノールアミンラウリルエーテルサルフエ
ート 3.000ｇ コンパーラン（Comperlan）KD(2) や
し油ジエタノールアミド 0.500ｇ Ｄ―パンテノールエチルエーテル 0.200ｇ ダウイシル200(9) Ｎ―（３―クロロア
リル）―ヘキサミニウムヒドロクロリド 1.500mg FD＆Ｃ Blue No.１カラーインデツク
スNo.42090（トリフエニルメタン着色物質） 加えて100ｇにするのに必要な量の脱塩水 透明シヤンプー「Ｂ」 「Ａ」と同じであるが、但し、２―（ｐ―ジメ
チルアミノフエニル）―ベンゾキサゾール―５―
スルホン酸0.050ｇおよびトリエタノールアミン
0.026ｇをさに含有する。 透明シヤンプー「Ｃ」 「Ａ」と同じであるが、但しユビナール
（Uvinul）MS40(13)２―ヒドロキシ―４―メトキ
シ―ベンゾフエノン―５―スルホン酸0.050ｇを
さらに含有する。 透明シヤンプー「Ｄ」 「Ａ」と同じであるが、、但し、ユビナール
D50(13)２，2′，４，4′―テトラヒドロキシ―ベン
ゾフエノン0.050ｇをさらに含有する。 注意：不溶性（50℃で１時間撹拌―塊を生成す
る）。 光試験（キセノン灯耐候性試験） 前記の透明な青色のシヤンプー「Ａ」，「Ｂ」お
よび「Ｃ」を、実施例17記載の方法と同様の方法
および同じ条件下でキセノン灯耐候性試験に供す
る。結果は次の通りである：
【表】
実施例 21
非エアゾルヘア―スプレー
10.000ｇ ガンツレツツ（Gantrez）ES425(13)ポ
リ（メチルビニルエーテル／マレイン酸モノ
アルキルエステル） 0.10ｇ アジピン酸ジイソプロピル 0.10ｇ ダウ・コーニング（Dow Corning55.
Fluid(14)ポリフエニルメチルシロキサン 84.00ｇ 精留アルコール 0.20ｇ 香料 1.20ｇ 水酸化アンモニウム25％ 0.10ｇ ゲナミン（Genamin）KDM(11) アルキ
ルトリメチルアンモニウムクロリドアルキル
＝主にC20―C22 0.50ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―
ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 380ｇ 脱塩水 100.00ｇ 実施例12乃至21に於いて引用した諸成分の製造
元(1)乃至(14)は下記の通りである： (1) Givaudan S.A. (2) Henkel＋Cie GmbH (3) Goodrich Chemical Co. (4) sutton Laboratories (5) BASF AG (6) Th.Goldschmidt AG (7) Nipa Laboratories (8) Dynamit Nobel AG (9) Dow Chemical Co. (10) Dragoco AG (11) Hoechst AG (12) Pfizer AG (13) GAF Corp. (14) Dow Corning Corp.
リ（メチルビニルエーテル／マレイン酸モノ
アルキルエステル） 0.10ｇ アジピン酸ジイソプロピル 0.10ｇ ダウ・コーニング（Dow Corning55.
Fluid(14)ポリフエニルメチルシロキサン 84.00ｇ 精留アルコール 0.20ｇ 香料 1.20ｇ 水酸化アンモニウム25％ 0.10ｇ ゲナミン（Genamin）KDM(11) アルキ
ルトリメチルアンモニウムクロリドアルキル
＝主にC20―C22 0.50ｇ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―
ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 380ｇ 脱塩水 100.00ｇ 実施例12乃至21に於いて引用した諸成分の製造
元(1)乃至(14)は下記の通りである： (1) Givaudan S.A. (2) Henkel＋Cie GmbH (3) Goodrich Chemical Co. (4) sutton Laboratories (5) BASF AG (6) Th.Goldschmidt AG (7) Nipa Laboratories (8) Dynamit Nobel AG (9) Dow Chemical Co. (10) Dragoco AG (11) Hoechst AG (12) Pfizer AG (13) GAF Corp. (14) Dow Corning Corp.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1およびR2
は互いに独立に水素原子、１乃至４個の炭素原子
を含有するアルキル基または式―（XO）ｎ―Ｈ
の基を表わし、ここでＸは場合によりメチルまた
はエチルで置換されていてもよい２乃至４個の炭
素原子を含有するエチレン基を表わし且つｎは１
乃至10の整数を表わし、記号R1およびR2のうち
の少なくとも１方は水素原子とは異なり、或いは
R1およびR2はそれらが結合している窒素原子と
一緒になつて、ピペリジン環またはピロリジン環
を形成してもよい、 の化合物およびこれらの化合物の塩。 ２ 一般式 式中、TO3S基はベンゾキサゾール環の５―ま
たは６―位に結合しており、R1aおよびR2aは互
いに独立に水素原子、１乃至４個の炭素原子を有
するアルキル基または式―XaOH―の基を表わ
し、ここでXaは場合によりメチルまたはエチル
で置換されていてもよい２乃至４個の炭素原子を
含有するエチレン基を表わし、記号R1aおよび
R2aのうちの少なくとも１方は水素原子とは異な
り、或いはR1aおよびR2aはそれらが結合してい
る窒素原子と一緒になつてピペリジン環またはピ
ロリジン環を形成してもよい、 の特許請求の範囲第１項記載の化合物およびこれ
らの化合物の塩。 ３ Ｒが水素原子を表わす特許請求の範囲第１項
記載の化合物。 ４ R1またはR1aがメモリ基を表わす特許請求の
範囲第１項乃至第３項のいずれかに記載の化合
物。 ５ R2またはR2aがメチル基を表わす特許請求の
範囲第１項乃至第４項のいずれかに記載の化合
物。 ６ スルホン酸基が５―位に存在する特許請求の
範囲第１項乃至第５項のいずれかに記載の化合
物。 ７ ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベン
ゾキサゾール―５―スルホン酸およびその塩であ
る特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ８ ２―（ｐ―メチルアミノフエニル）―ベンゾ
キサゾール―５―スルホン酸、 ２―（Ｐ―ジエチルアミノフエニル）―ベンゾ
キサゾール―５―スルホン酸ナトリウム塩、 ２―（ｐ―ピペリジノフエニル）―ベンゾキサ
ゾール―５―スルホン酸、 ２―（ｐ―ピロリジノフエニル）―ベンゾキサ
ゾール―５―スルホン酸、 下記式 式中、n1およびn2は互いに独立に１乃至10の整
数を表わす、 なる化合物、 ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―ベンゾ
キサゾール―６―スルホン酸、 ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―５―メ
チル―ベンゾキサゾール―６―スルホン酸および ２―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―６―メ
チル―ベンゾキサゾール―５―スルホン酸 から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の化合
物。 ９ 一般式 式中、Ｒは水素原子または４―もしくは５―位
における１乃至４個の炭素原子を有するアルキル
基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の４
―または５―位に結合している、 のスルホン酸を一般式 式中R1bは水素原子または１乃至４個の炭素原
子を有するアルキル基を表わし且つR2bは１乃至
４個の炭素原子を有するアルキル基を表わすか、
或いはR1bおよびR2bはそれらが結合している窒
素原子と一緒になつてピペリジン環またはピロリ
ジン環を形成していてもよい、 の安息香酸またはその反応性誘導体と縮合剤の存
在下で反応させ、そして所望に応じて得られる化
合物を塩基によつて塩に変えることを特徴とする
一般式、 式中、Ｒ，R1bおよびR2bは前記定義のとおり
であり、HO3S基はベンゾキサゾール環の５―ま
たは６―位に結合している。 の化合物およびこれらの化合物の塩の製造方法。 １０ 一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1cおよびR2c
は少なくとも一方が水素原子でありかつ他方が水
素原子でない場合は、１乃至４個の炭素原子を含
有するアルキル基を表わす、 の化合物または該化合物の塩を、２乃至４個の炭
素原子を含有するアルキレンオキシドまたはその
混合物と反応させ、そして所望に応じて得られる
化合物を塩基によつて塩に変えることを特徴とす
る一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1dおよび
R2dは少なくとも一方が式―（XO）ｎ―Ｈの基
を表わし、ここでＸは場合によりメチルまたはエ
チルで置換されていてもよい２乃至４個の炭素原
子を含有するエチレン基を表わし且つｎは１乃至
10の整数を表わし、かつ他方が―（XO）ｎ―Ｈ
の基でない場合は１乃至４個の炭素原子を含有す
るアルキル基を表わす、 の化合物およびこれらの化合物の塩の製造方法。 １１ 一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、R1およびR2は互いに独立に水素
原子、１乃至４個の炭素原子を含有するアルキル
基または式―（XO）ｎ―Ｈの基を表わし、ここ
でＸは場合によりメチルまたはエチルで置換され
ていてもよい２乃至４個の炭素原子を含有するエ
チレン基を表わし且つｎは１乃至10の整数を表わ
し、記号R1およびR2のうちの少なくとも１方は
水素原子とは異なり、或いはR1およびR2はそれ
らが結合している窒素原子と一緒になつて、ピペ
リジン環またはピロリジン環を形成してもよい、 の化合物をスルホン化剤で処理し、そして所望に
応じて、得られる化合物を塩基によつて塩に変え
ることを特徴とする一般式 式中、Ｒ，R1およびR2は前記定義のとおりで
あり、そしてHO3S基はベンゾキサゾール環の５
―または６―位に結合している、 の化合物およびこれらの化合物の塩の製造方法。 １２ 一般式 式中、Ｒは水素原子または５―もしくは６―位
における１乃至４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、HO3S基はベンゾキサゾール環の
５―または６―位に結合しており、R1およびR2
は互いに独立に水素原子、１乃至４個の炭素原子
を含有するアルキル基をまたは式―（XO）ｎ―
Ｈの基を表わし、ここでＸは場合によりメチルま
たはエチルで置換されていてもよい２乃至４個の
炭素原子を含有するエチレン基を表わし且つｎは
１乃至10の整数を表わし、記号R1およびR2のう
ちの少なくとも１方は水素原子とは異なり、或い
はR1およびR2はそれらが結合している窒素原子
と一緒になつて、ピペリジン環またはピロリジン
環を形成してもよい。 の化合物およびこれらの化合物の塩の少なくとも
１種をUV―Ａフイルターとして含有することを
特徴とする化粧品調製物。 １３ 前記一般式の化合物およびこれの化合物
の塩の少なくとも１種をUV―Ａフイルターとし
て含有する光―遮蔽性調製物、着色物質―含有化
粧品調製物または毛髪保護調製物である特許請求
の範囲第１２項記載の化粧品調製物。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH1121078 | 1978-10-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5564578A JPS5564578A (en) | 1980-05-15 |
| JPH024591B2 true JPH024591B2 (ja) | 1990-01-29 |
Family
ID=4371147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13884179A Granted JPS5564578A (en) | 1978-10-31 | 1979-10-29 | Benzoxazol derivative |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5564578A (ja) |
| ZA (1) | ZA795690B (ja) |
-
1979
- 1979-10-24 ZA ZA00795690A patent/ZA795690B/xx unknown
- 1979-10-29 JP JP13884179A patent/JPS5564578A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5564578A (en) | 1980-05-15 |
| ZA795690B (en) | 1980-10-29 |
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