JPH0246046Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案は、半導体ウエハに塗布されたフオト
レジスト（以下レジストという）の処理の場合に
用いる紫外線照射器等を含む光照射器に係り、特
にレジストの耐熱性、耐プラズマ性を高めること
を目的とした光照射器に関するものである。

［従来の技術］ 光照射器の一例としてレジスト処理に用いる紫
外線照射器について以下に述べる。

従来の紫外線照射によるレジストの処理につい
ては、半導体ウエハに塗布されたレジストにマス
クパターンを露光する処理、レジスト表面に付着
した有機汚染物を分解洗浄する予備洗浄処理等に
おいて、紫外線照射が利用されているが、最近、
レジスト処理工程のひとつであるベーキング工程
への適用が注目されている。

ベーキング工程とは、レジスト塗布、露光、現
像によるレジストパターンを形成する工程とこの
レジストパターンを用いてイオン注入やプラズマ
エツチングなどを行う工程との中間の工程であつ
て、レジストの半導体基板への接着性や耐熱性の
向上などを目的とした加熱工程である。そして最
近では、現像後のベーキング工程の前、あるいは
ベーキング時にレジストに紫外線を当てて、より
短時間にベーキング時の耐熱性や耐プラズマエツ
チング性を高める方法及び装置についての検討が
なされている。

第３図は従来の紫外線照射器の要部構成を示す
断面図で、１はランプ、２はこのランプ１の背後
に配置されたミラー、３′は内部にランプ１を冷
却するためのブロワ３を有する風洞、４は光透過
板、５は処理台、６はこの処理台５にウエハを搬
送するための出入口である。

第２図の装置において、出入口６からウエハ搬
送ラインに沿つて処理台５に搬送されたレジスト
を塗布されたウエハをランプ１からの紫外線照射
によつてレジスト処理する。

［考案が解決しようとする問題点］ 従来の紫外線照射器においては、処理の高速化
のために紫外線強度の大きな光をレジストに照射
すると、レジスト内部よりガスが発生し、このガ
スによつて気泡の発生、レジストパターンのくず
れ、レジスト膜のはがれや破裂、荒れなどのレジ
スト膜の破壊が発生し、半導体素子不良の原因と
なつていた。

このガスの発生原因の一つとしては、レジスト
の露光感光基の急激な光化学反応、レジスト塗布
の前処理としてウエハに塗布したHMDS（ヘキサ
メチルジシラザン）や反射防止剤などとレジスト
との光化学反応、色素などのレジスト添加剤の光
化学反応、レジスト内に残留する溶剤の光化学反
応などが考えられる。

これらの光化学反応は、波長が300nm〜500nm
の範囲の光、特にレジストの露光感光波長の光に
よつて著しく進行し、従つて、これらの波長域を
含む光を放射するレジスト処理装置では、光の強
度を強くできない。すなわち、高速な処理が行え
ないという問題点があつた。

本考案は、かかる問題点に鑑みて、光照射器よ
りの放射光によるレジストの破壊を防止すること
により、紫外線照射によるレジストの処理を高速
かつ効果的に行うことのできる光照射器を提供す
ることを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ この目的を達成するために、この考案では、シ
ヤツターとこのシヤツターを駆動するシヤツター
駆動機構と、このシヤツターの前方もしくは後方
に配置した複数の穿孔を有する減光板である金属
板と、この金属板の駆動機構とを設けたものであ
る。

［作用］ この考案においては、シヤツターと穿孔を有す
る金属板を併用することにより、例えばレジスト
処理に使用した場合、例えばレジストの露光感光
波長が効果的に減少されることにより、レジスト
よりガスを発生させる光化学反応が制御された状
態で進行し、レジストが破壊されることなく、レ
ジスト内のガスがレジスト外に放出されるガス抜
き工程を設けることができる。しかも、その場合
ガス抜き工程に次いで、前記金属板を移動させ、
レジストに強力な紫外線を照射させる工程を設け
ることにより、レジストの耐熱性や耐プラズマエ
ツチング性の向上に有効な紫外線成分と、レジス
ト露光感光波長を同時に含む強力な紫外線を照射
しても、レジスト破壊が起こらずに高速かつ効果
的なレジスト処理ができる。

［実施例］ 第１図はこの考案の一実施例を示す光照射器の
要部構成を示す断面図で、同図イは正面図、同図
ロは側面図である。

第１図イ，ロにおいて、１０ａ，１０ｂはそれ
ぞれ左右に２分割されたシヤツター、１１は不図
示のリバーシブルモータを内蔵した駆動機構で、
２分割されたシヤツター１０ａ，１０ｂを１つの
モータで駆動させている。１２は所定の間隔に穿
孔を有する減光板である金属板（以下パンチパネ
ルという）で、１３はシヤツター駆動機構と同様
の構成を有するパンチパネル駆動機構で不図示の
リバーシブルモータを内蔵している。１４ａ，１
４ｂはそれぞれ前記２分割されたシヤツター１０
ａ，１０ｂを支持するフレームで、このフレーム
１４ａ，１４ｂの上部を各々金具１６ａ，１６ｂ
で懸吊し、この金具１６ａ，１６ｂを、シヤツタ
ー駆動機構１１のモータに駆動されるプーリ１８
ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄに巻付けたステンレ
ス製のワイヤ（ベルト）２０の上下に固定してい
る。同様に１５はパンチパネル１２を支持するフ
レームで、このフレーム１５の上部を金具１７で
懸吊し、この金具１７をパンチパネル駆動機構１
３のモータに駆動されるプーリ１９ａ，１９ｂに
巻付けたワイヤ２１に固定している。２２は２分
割されたシヤツター１０ａ，１０ｂのフレーム１
４ａ，１４ｂが開閉駆動されるときに移動するガ
イドレールであり、２３はパンチパネル１２のフ
レーム１５が移動するガイドレールである。ま
た、第３図と同一符号は同一又は相当部分を示
す。

上記のような構成において、シヤツター１０
ａ，１０ｂを開く時はプーリ１８ａ〜１８ｄが反
時計方向に回転し、ワイヤ２０の上下に固定され
たフレーム１４ａ，１４ｂはそれぞれ外方に向け
てガイドレール２２上を移動する。また、シヤツ
ター１０ａ，１０ｂを閉じる時はプーリ１８ａ〜
１８ｄが時計方向に回転し、２分割されたシヤツ
ター１０ａ，１０ｂはそれぞれガイドレール２２
上を内方に移動する。

同様にして、パンチパネル１２を不使用（開）
時はプーリ１９ａ，１９ｂは反時計方向に回転
し、ワイヤ２１に金具１７を介して固定されたフ
レーム１５はガイドレール２３上を図面右方向へ
移動する。また、パンチパネル１２を使用（閉）
時はプーリ１９ａ，１９ｂを時計方向に回転し、
フレーム１５を図面左方向へ移動させる。

上記の他に効果的に紫外線強度を弱めるために
第２図のようなシヤツター、フイルタ、パンチパ
ネルの三重構造のものが考えられる。第２図はこ
の考案の第２の実施例としての光照射器の要部構
成を示す断面図で、同図イは正面図、同図ロは側
面図である。

第２図イ，ロにおいて、２４はフイルタで、こ
のフイルタ２４は減光板としてのパンチパネル１
２と光透過板４の間に設けられ、フレーム２５で
支持され、このフレーム２５は、その上部を金具
２６で懸吊し、さらに金具２６はワイヤ２７に固
定している。２８はフイルタ駆動機構で、このフ
イルタ駆動機構２８の不図示のリバーシブルモー
タに駆動されるプーリ２９ａ，２９ｂにワイヤ２
７が巻付けられ、このワイヤ２７の移動によつて
フレーム２５はガイドレール３０上を移動するの
はシヤツター１０ａ，１０ｂパンチパネル１２の
場合と同様である。また、第１図、第３図と同一
符号は同一又は相当部分を示す。

第２図において、フイルタ１２を不使用（開）
のときはプーリ２９ａ，２９ｂが反時計方向に回
転し、ワイヤ２７、金具２６を介して固定された
フレーム２５はガイドレール３０上を図面右方向
へ移動する。また、フイルタ２５を使用（閉）時
はプーリ２９ａ，２９ｂを時計方向に回転し、フ
レーム２５を図面左方向へ移動させる。

尚、第２図のフイルタ２５を、パンチパネル１
２と光透過板４の間に設けたが、シヤツター１０
ａ，１０ｂとパンチパネル１２との間にフイルタ
２５を設けても光照射の効果の点で何らかわるも
のではない。

さらに、上記パンチパネルは、上記シヤツター
と同様に２つに分割した構造としても良い。ま
た、上記シヤツター、パンチパネル、フイルタは
各々独立に移動するものとして説明したがこれら
３つが相互に関連しながら移動するように信号を
制御することができるのは勿論である。

［考案の効果］ この考案は以上説明したとおり、背後にミラー
を配置した少くとも１つのランプと、このランプ
の前方に配置したシヤツターと、このシヤツター
を制御信号によつて駆動するシヤツター駆動機構
と、前記シヤツターの前方もしくは後方に配置し
た複数の穿孔を有する減光板である金属板と、こ
の金属板を制御信号によつて駆動する減光板駆動
機構と、前記ランプを冷却するためのブロワとに
よつて構成される光照射器であるので、高速かつ
効果的なレジスト処理が可能になつた。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の一実施例を示す光照射器の
要部構成を示す断面図、第２図はこの考案の第２
の実施例を示す断面図、第３図は従来の光照射器
の要部構成を示す断面図である。 図中、１：ランプ、２：ミラー、３：ブロワ、
４：光透過板、１０ａ，１０ｂ：シヤツター、１
１：シヤツター駆動機構、１２：パンチパネル、
１３：パンチパネル駆動機構。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 背後にミラーを配置した少くとも１つの棒状
   のランプと、このランプの前方に配置され、前
   記ランプの長手方向に直線移動するシヤツター
   と、このシヤツターを制御信号によつて駆動す
   るシヤツター駆動機構と、前記シヤツターの前
   方もしくは後方に配置した複数の穿孔を有する
   金属板よりなり、前記ランプの長手方向に直線
   移動する減光板と、この減光板を制御信号によ
   つて駆動する減光板駆動機構と、前記ランプを
   冷却するためのブロワとによつて構成される光
   照射器であつて、この光照射器は、その前面に
   取付けた光透過板と他の側面とによつて、後部
   に設けた空気流通用の入出口以外を気密に構成
   されたことを特徴とする光照射器。 (2) シヤツター駆動機構と減光板駆動機構は制御
   信号によつて各々独立に駆動することを特徴と
   する実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の光照
   射器。 (3) シヤツター駆動機構と減光板駆動機構は相互
   に関連して駆動することを特徴とする実用新案
   登録請求の範囲第(1)項記載の光照射器。