JPH0246513A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0246513A JPH0246513A JP63196511A JP19651188A JPH0246513A JP H0246513 A JPH0246513 A JP H0246513A JP 63196511 A JP63196511 A JP 63196511A JP 19651188 A JP19651188 A JP 19651188A JP H0246513 A JPH0246513 A JP H0246513A
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- Japan
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- magnetic
- magnetic head
- heat treatment
- magnetic field
- glass
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はＶＴＲ用等の磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
のである。
従来の技術
第２図に従来の磁気ヘッド作製法の１例を示す。
同図（ａ） 、 （ｂ）は積層合金磁気ヘッドの平面図
と正面２ ヘーノ 図である。図中１１は基板１２ａ上にスパッタ法もしく
は蒸着法によって形成されると共に層間絶縁された積層
合金膜であり、基板１２ｂとはガラス接着等によシ接合
されている。巻き線窓１６を有するコア半休とこれを有
さないコア半休とはモールドガラス１３によって接合さ
れかつボンディングガラス１５によって非磁性体より成
る磁気ギャップ部１４の接合部の機械的強度の補強がな
されている。従来法ではモールドガラス部１３及びボン
ディングガラス部１５が低融点ガラスによって構成され
ている為、第２図のような磁気ヘッドを作製した後、こ
の状態で磁界中熱処理を施し特性の改良を行なおうとし
ても、図中１３．１５の低融点ガラスが軟化し、磁気ギ
ャップ部１４の空隙長（ギャップ長）が変化する為、特
性の改善がなされないという間、照点があった。
と正面２ ヘーノ 図である。図中１１は基板１２ａ上にスパッタ法もしく
は蒸着法によって形成されると共に層間絶縁された積層
合金膜であり、基板１２ｂとはガラス接着等によシ接合
されている。巻き線窓１６を有するコア半休とこれを有
さないコア半休とはモールドガラス１３によって接合さ
れかつボンディングガラス１５によって非磁性体より成
る磁気ギャップ部１４の接合部の機械的強度の補強がな
されている。従来法ではモールドガラス部１３及びボン
ディングガラス部１５が低融点ガラスによって構成され
ている為、第２図のような磁気ヘッドを作製した後、こ
の状態で磁界中熱処理を施し特性の改良を行なおうとし
ても、図中１３．１５の低融点ガラスが軟化し、磁気ギ
ャップ部１４の空隙長（ギャップ長）が変化する為、特
性の改善がなされないという間、照点があった。
発明が解決しようとする課題
近年スパッター法等により高飽和磁化を有する非晶質合
金膜等を用いた磁気ヘッドが作製されるようになった。
金膜等を用いた磁気ヘッドが作製されるようになった。
しかし々から一般的に高飽和磁化３１、−７
を有するものはキュリー温度Ｔｃが結晶化温度ＴＸよシ
高く、高透磁率を得る為に必要な通常のＴｃ以土工Ｘ以
下の温度の熱処理が不可能で、このような場合にはＴｃ
以下で回転磁界中熱処理等により高磁率が得られる事が
知られている。ところが合金膜作製時に磁場中熱処理に
より高透磁率化をしておいても、前述したようなガラス
モールド。
高く、高透磁率を得る為に必要な通常のＴｃ以土工Ｘ以
下の温度の熱処理が不可能で、このような場合にはＴｃ
以下で回転磁界中熱処理等により高磁率が得られる事が
知られている。ところが合金膜作製時に磁場中熱処理に
より高透磁率化をしておいても、前述したようなガラス
モールド。
ギャップボンディング工程を無磁界中で行なうと透磁率
は劣化してしまう問題点と、このような工程をすべて磁
界中で行なおうとすると、接着治具の外部、もしくは熱
処理炉の外部より磁界を印加せねばならず、十分な磁界
強度を得るのが困難であるという問題点がある。又ヘッ
ド作製後磁界中熱処理を行なおうとすると前述したよう
にガラスが軟化して磁気ギャップ部長が変化してしまう
問題点があった。本発明はこれらの問題点を解決し、磁
界中熱処理により合金膜の透磁率の改善を行ない高性能
な磁気ヘッドの作製を可能にしようとするものである。
は劣化してしまう問題点と、このような工程をすべて磁
界中で行なおうとすると、接着治具の外部、もしくは熱
処理炉の外部より磁界を印加せねばならず、十分な磁界
強度を得るのが困難であるという問題点がある。又ヘッ
ド作製後磁界中熱処理を行なおうとすると前述したよう
にガラスが軟化して磁気ギャップ部長が変化してしまう
問題点があった。本発明はこれらの問題点を解決し、磁
界中熱処理により合金膜の透磁率の改善を行ない高性能
な磁気ヘッドの作製を可能にしようとするものである。
課題を解決するだめの手段
すべてのガラス接合部に結晶化ガラスを用い、磁界中熱
処理を、最終接合工程終了後に行なう。
処理を、最終接合工程終了後に行なう。
作 用
上記構成によれば、磁性合金膜の透磁率の劣化を防ぎ、
磁気ギャップ部長の変化を防いで上述の問題点を解決し
、高性能磁気ヘッドを得ることができる。
磁気ギャップ部長の変化を防いで上述の問題点を解決し
、高性能磁気ヘッドを得ることができる。
実施例
第１図において、１は基板２ａ上に形成された積層状の
磁性合金膜で、基板２ｂと結晶化ガラスによシ接合され
ておシ、非磁性体よシなる磁気ギャップ部４は結晶化ガ
ラス４ａを用いて対向するコアと接合されている。通常
磁気ギャップ部４はスパッター法等により一方のコア端
面上に形成する。一般に結晶化ガラス４ａは最初粉末状
の非晶質であるが、加熱して一度結晶化させると、同じ
温度に加熱しても軟化しないという特徴を有しているの
で本発明のヘッド製造法が可能である。又通常粉末状で
第２図の１３に示しだようなモールドガラス部としては
使用しにくいので本発明の−５、・、 ７ 例として示しだ第１図では、このような部分をなくし、
結晶化ガラス４ａで両コアを接合している。
磁性合金膜で、基板２ｂと結晶化ガラスによシ接合され
ておシ、非磁性体よシなる磁気ギャップ部４は結晶化ガ
ラス４ａを用いて対向するコアと接合されている。通常
磁気ギャップ部４はスパッター法等により一方のコア端
面上に形成する。一般に結晶化ガラス４ａは最初粉末状
の非晶質であるが、加熱して一度結晶化させると、同じ
温度に加熱しても軟化しないという特徴を有しているの
で本発明のヘッド製造法が可能である。又通常粉末状で
第２図の１３に示しだようなモールドガラス部としては
使用しにくいので本発明の−５、・、 ７ 例として示しだ第１図では、このような部分をなくし、
結晶化ガラス４ａで両コアを接合している。
更に従来法では第２図の１５のようなボンディングガラ
ス部があったが、本発明では本質的にはこの部分を必要
としない。ただし極めて細い棒状の非晶質部と結晶質部
との混在した結晶化ガラスを得る事は可能で、急熱すれ
ば軟化して第１図に５で示したようにボンディングガラ
ス部に結晶化ガラスを用い更に補強する事は可能である
。さてこのようにして作製した磁気ヘッドは巻線窓６を
有してお如、合金膜部の透磁率を向上させる為に合金膜
面内で回転磁界中熱処理を行なうと十分な強度の磁界を
印加しないとコアの磁路に沿って磁化容易軸が並ぶ傾向
を示す為、再生効率の高い磁気ヘッドが得られない。従
ってボンディング工程中に磁界を印加しようとするとボ
ンディング治具と熱処理炉の外側よシ磁界を印加せねば
ならず十分な磁界強度が得られないので、磁界中熱処理
はすべての接合工程が終了後、治具部を含まず、コアが
ギャップドパ−もしくはヘッドチップ形状の状６ヘー／ 態で行ない十分な強度の磁界を印加して行なう事が必要
である。磁界は永久磁石もしくは電磁石によシ印加すれ
ばよいが、いずれの場合も磁極間距離を狭くしないと十
分な磁界強度が得られないので、治具を入れずにコアの
みを熱処理する事が必要である。又この磁界中熱処理は
熱処理工程としては最終工程にせねばならない。再び無
磁界中熱処理を施すと合金膜の透磁率が劣化してしまう
からである。本発明は一例として第１図に示したような
積層合金膜タイプの磁気ヘッドを用いて説明を行なった
が、磁気ギャップ近傍に合金膜を用いバンクコア部にフ
ェライトを用いるいわゆるメタルインギャップ（ＭＩＧ
）タイプの磁気ヘッドについても同様である事は言うま
でもない。
ス部があったが、本発明では本質的にはこの部分を必要
としない。ただし極めて細い棒状の非晶質部と結晶質部
との混在した結晶化ガラスを得る事は可能で、急熱すれ
ば軟化して第１図に５で示したようにボンディングガラ
ス部に結晶化ガラスを用い更に補強する事は可能である
。さてこのようにして作製した磁気ヘッドは巻線窓６を
有してお如、合金膜部の透磁率を向上させる為に合金膜
面内で回転磁界中熱処理を行なうと十分な強度の磁界を
印加しないとコアの磁路に沿って磁化容易軸が並ぶ傾向
を示す為、再生効率の高い磁気ヘッドが得られない。従
ってボンディング工程中に磁界を印加しようとするとボ
ンディング治具と熱処理炉の外側よシ磁界を印加せねば
ならず十分な磁界強度が得られないので、磁界中熱処理
はすべての接合工程が終了後、治具部を含まず、コアが
ギャップドパ−もしくはヘッドチップ形状の状６ヘー／ 態で行ない十分な強度の磁界を印加して行なう事が必要
である。磁界は永久磁石もしくは電磁石によシ印加すれ
ばよいが、いずれの場合も磁極間距離を狭くしないと十
分な磁界強度が得られないので、治具を入れずにコアの
みを熱処理する事が必要である。又この磁界中熱処理は
熱処理工程としては最終工程にせねばならない。再び無
磁界中熱処理を施すと合金膜の透磁率が劣化してしまう
からである。本発明は一例として第１図に示したような
積層合金膜タイプの磁気ヘッドを用いて説明を行なった
が、磁気ギャップ近傍に合金膜を用いバンクコア部にフ
ェライトを用いるいわゆるメタルインギャップ（ＭＩＧ
）タイプの磁気ヘッドについても同様である事は言うま
でもない。
次に本発明法によるものと従来法によるものとを具体的
に比較する。
に比較する。
キュリー温度が低く、無磁界中熱処理でも高透磁率が得
られるものの飽和磁化が約８００・つＧのＣｏ −Ｎ’
ｂ−Ｔａ −Ｚ ｒ合金膜と飽和磁化が約１００００Ｇ
と高いもののキュリー温度が高く高透磁率を得７１、７ る為には磁界中熱処理が必要なＣｏ −Ｔ ａ −Ｈｆ
合金膜をセラミック基板上に形成し、両方の膜を用い、
第１図及び第２図に示しだような磁気ヘッドを作製した
。このようにして得られたヘノトコアバを４６０℃で２
Ｋ Ｏｅ の回転磁界中で熱処理した。
られるものの飽和磁化が約８００・つＧのＣｏ −Ｎ’
ｂ−Ｔａ −Ｚ ｒ合金膜と飽和磁化が約１００００Ｇ
と高いもののキュリー温度が高く高透磁率を得７１、７ る為には磁界中熱処理が必要なＣｏ −Ｔ ａ −Ｈｆ
合金膜をセラミック基板上に形成し、両方の膜を用い、
第１図及び第２図に示しだような磁気ヘッドを作製した
。このようにして得られたヘノトコアバを４６０℃で２
Ｋ Ｏｅ の回転磁界中で熱処理した。
又回転磁界中熱処理を施さない磁気ヘッドも比較の為作
製した。得られた磁気ヘッドを市販のＶＴＲデツキに取
りつけ、そのＩＭＨｚにおける自己録再出力の比較を行
なった。相対比較をする為、従来法で作製したＣｏ −
Ｎｂ −Ｔ ａ −Ｚ ｒ合金膜の出力を○ｄＢとした
。この結果を次表に示す。
製した。得られた磁気ヘッドを市販のＶＴＲデツキに取
りつけ、そのＩＭＨｚにおける自己録再出力の比較を行
なった。相対比較をする為、従来法で作製したＣｏ −
Ｎｂ −Ｔ ａ −Ｚ ｒ合金膜の出力を○ｄＢとした
。この結果を次表に示す。
以上の結果、第１図に示すようにヘッドを作製し、磁界
中熱処理を最後に施す本発明法により作製された磁気ヘ
ッドは従来法に比較して優れた特性を示す事がわかる。
中熱処理を最後に施す本発明法により作製された磁気ヘ
ッドは従来法に比較して優れた特性を示す事がわかる。
発明の効果
本発明は高飽和磁化高透磁率の高性能磁気ヘッドの作製
を可能とするものである。
を可能とするものである。
第１図は本発明法によシ接合部がすべて結晶化ガラスで
構成された磁気ヘッドの一例を示し、その（ａ）は平面
図、（ｂ）は正面図、第２図は従来法の低融点ガラスを
用いた磁気ヘッドの一例を示し、その（ａ）は平面図、
（ｂ）は正面図である。 １・・・・・・磁性合金膜、２ａ、２ｂ・・・ 基板、
４・・・・・・磁気ギャップ部、４ａ・・・・・・結晶
化ガラス。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名（Ｃ
１） ／ 蔗桿合いへ職 第 図
構成された磁気ヘッドの一例を示し、その（ａ）は平面
図、（ｂ）は正面図、第２図は従来法の低融点ガラスを
用いた磁気ヘッドの一例を示し、その（ａ）は平面図、
（ｂ）は正面図である。 １・・・・・・磁性合金膜、２ａ、２ｂ・・・ 基板、
４・・・・・・磁気ギャップ部、４ａ・・・・・・結晶
化ガラス。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名（Ｃ
１） ／ 蔗桿合いへ職 第 図
Claims (2)
- （１）基板上に磁性合金膜を薄膜形成法により形成し、
これを磁気ヘッドコア形状に加工し、磁気ギャップ部を
設け、該ヘッドコアを接合して磁気ヘッドとなす製造方
法において、接合工程はすべて結晶化ガラスを用いて行
ない、最終接合工程終了後の磁気ヘッドコアを磁界中で
熱処理することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - （２）磁性合金膜が非晶質合金膜であることを特徴とす
る請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63196511A JPH0246513A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63196511A JPH0246513A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0246513A true JPH0246513A (ja) | 1990-02-15 |
Family
ID=16358965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63196511A Pending JPH0246513A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0246513A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH072379U (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-13 | 大日本塗料株式会社 | ドラム缶の傾倒操作装置 |
-
1988
- 1988-08-05 JP JP63196511A patent/JPH0246513A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH072379U (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-13 | 大日本塗料株式会社 | ドラム缶の傾倒操作装置 |
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