JPH0246630A - カラー陰極線管およびその製造方法 - Google Patents
カラー陰極線管およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0246630A JPH0246630A JP19597988A JP19597988A JPH0246630A JP H0246630 A JPH0246630 A JP H0246630A JP 19597988 A JP19597988 A JP 19597988A JP 19597988 A JP19597988 A JP 19597988A JP H0246630 A JPH0246630 A JP H0246630A
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- JP
- Japan
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- shadow mask
- ray tube
- cathode ray
- color cathode
- electron beam
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- Pending
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はシャドウマスク型カラー陰極線管のシャドウマ
スクの、電子ビーム衝撃による局部的かつ一時的な熱膨
張を抑制し、電子ビーム集中状態の劣化による色ずれ発
生を抑制するようにしたカラー陰極線管およびその製造
方法に関する。
スクの、電子ビーム衝撃による局部的かつ一時的な熱膨
張を抑制し、電子ビーム集中状態の劣化による色ずれ発
生を抑制するようにしたカラー陰極線管およびその製造
方法に関する。
［従来の技術］
シャドウマスク型カラー陰極線管のシャドウマスクは、
使用中室に電子ビームに射突され、その際に発生する熱
により温度上昇して熱膨張する。
使用中室に電子ビームに射突され、その際に発生する熱
により温度上昇して熱膨張する。
シャドウマスクが膨張する（膨張の結果、シャドウマス
クが螢光面側へ突出するように変形する、この現象は通
常ドーミングと呼ばれる）と一般に３本の電子ビームの
集中状態が劣化し色ずれなどの甚だ目立つ不良現象が見
られるため、古くから多くの対策が提案され実行されて
きた。
クが螢光面側へ突出するように変形する、この現象は通
常ドーミングと呼ばれる）と一般に３本の電子ビームの
集中状態が劣化し色ずれなどの甚だ目立つ不良現象が見
られるため、古くから多くの対策が提案され実行されて
きた。
シャドウマスクの全体的かつ平均的な熱膨張に対しては
、バルブのパネルスカート内部に設けたシャドウマスク
支持機構の一部にバイメタルを挿入するなどの工夫によ
り対策が行われ、それなりの効果を得ている。
、バルブのパネルスカート内部に設けたシャドウマスク
支持機構の一部にバイメタルを挿入するなどの工夫によ
り対策が行われ、それなりの効果を得ている。
シャドウマスクの金属基板はかなり薄く、従って１表示
画像に俄かに極めて明るい部分が現れ、突然−時的かつ
局部的に、大量の発熱があった場合には、その熱を直ち
に熱伝導により周囲に導き去ることは困難で、このため
、其の発熱個所でシャドウマスク金属基板の局部的膨張
による螢光面側への突出変形が生ずる。従来も此の種の
現象の抑制策が全く無かった訳ではないが、決定的な対
策はなかった。従来の技術としては、例えば、特公昭５
７−９１８４号公報には、シャドウマスクの電子銃側の
電子ビーム通過孔を除く電子ビーム射突部分に、熱絶縁
層と、この熱絶縁層を覆う金属薄膜を形成させ、電子ビ
ームによる発熱を前記金属薄膜からの熱放射として発散
させる構造が述べられており、実施例には、シャドウマ
スクの電子銃側の面にアクリルエマルジョン液を塗布、
乾燥し。
画像に俄かに極めて明るい部分が現れ、突然−時的かつ
局部的に、大量の発熱があった場合には、その熱を直ち
に熱伝導により周囲に導き去ることは困難で、このため
、其の発熱個所でシャドウマスク金属基板の局部的膨張
による螢光面側への突出変形が生ずる。従来も此の種の
現象の抑制策が全く無かった訳ではないが、決定的な対
策はなかった。従来の技術としては、例えば、特公昭５
７−９１８４号公報には、シャドウマスクの電子銃側の
電子ビーム通過孔を除く電子ビーム射突部分に、熱絶縁
層と、この熱絶縁層を覆う金属薄膜を形成させ、電子ビ
ームによる発熱を前記金属薄膜からの熱放射として発散
させる構造が述べられており、実施例には、シャドウマ
スクの電子銃側の面にアクリルエマルジョン液を塗布、
乾燥し。
その上にアルミニウム膜を形成させ、パネルベーキング
工程で前記アクリルエマルジョン膜を分解気化させ空洞
部を形成させて熱絶縁層としたものや、熱絶縁層として
ＺｎＳ、ＺｎＣ１，ＣｄＳ、ＣｄＴａなどの蒸着膜を用
いることが示されている。第３図は此の従来の技術によ
るシャドウマスクの断面図で１図中、１はシャドウマス
ク開孔部、２はシャドウマスク金属基板、３は熱放射膜
、４は熱絶縁層である。しかし上記のように、金属膜の
下に熱絶縁層となる位の空洞部をアクリルエマルジョン
を気化させて得るためには、カラー陰極線管の製造工程
。
工程で前記アクリルエマルジョン膜を分解気化させ空洞
部を形成させて熱絶縁層としたものや、熱絶縁層として
ＺｎＳ、ＺｎＣ１，ＣｄＳ、ＣｄＴａなどの蒸着膜を用
いることが示されている。第３図は此の従来の技術によ
るシャドウマスクの断面図で１図中、１はシャドウマス
ク開孔部、２はシャドウマスク金属基板、３は熱放射膜
、４は熱絶縁層である。しかし上記のように、金属膜の
下に熱絶縁層となる位の空洞部をアクリルエマルジョン
を気化させて得るためには、カラー陰極線管の製造工程
。
特に真空排気工程で発生する多量のガスについて配慮し
なければならず、また熱放射用の金属膜が剥離してしま
う問題などが生ずる。また、熱絶縁層としてＺｎＳ等の
蒸着膜を使用可能としているが材料原価の点で実用的で
はない。また、特開昭６２−１５４５２４号公報には、
除塵雰囲気内でシャドウマスク面にドーミング抑制材料
（例えばポリチタノカルボシラン又は半導体ガラス）を
塗布しレーザ光を照射して此の材料をセラミック化させ
、このセラミックが軟鋼よりも剛性が高いことを利用し
てドーミングを防止することが開示されている。
なければならず、また熱放射用の金属膜が剥離してしま
う問題などが生ずる。また、熱絶縁層としてＺｎＳ等の
蒸着膜を使用可能としているが材料原価の点で実用的で
はない。また、特開昭６２−１５４５２４号公報には、
除塵雰囲気内でシャドウマスク面にドーミング抑制材料
（例えばポリチタノカルボシラン又は半導体ガラス）を
塗布しレーザ光を照射して此の材料をセラミック化させ
、このセラミックが軟鋼よりも剛性が高いことを利用し
てドーミングを防止することが開示されている。
しかし、この方法は量産性などに問題がある。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、簡単で安価な、断熱性および熱放射性を持つ
層を被着したシャドウマスク付きカラー陰極線管を提供
することを目的とする。
層を被着したシャドウマスク付きカラー陰極線管を提供
することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するには、カラー陰極線管の製造工程中
の加熱によりガスを発生する物質を含み、この発生した
ガスで断熱性多孔質構造となる材料を、シャドウマスク
の電子銃側の面に被着させれば良い・ 具体的には、上記ガス発生物質は、カラー陰極線管の電
子銃陰極の電子放出特性に影響しない（例えば窒素）ガ
スを、カラー陰極線管のパネルベーキング工程の加熱温
度で分解発生する物質とすれば良い。この目的に適合す
る物質としては、例えばアジ化カリウム（熱分解温度は
３５０℃）があげられる、また、上記ガスを封じ込めて
断熱性多孔質構造となる物質としては、カラー陰極線管
のバルブのパネルとファンネルの溶着に用いるフリット
ガラス（低融点結晶化ガラス）があげられる。
の加熱によりガスを発生する物質を含み、この発生した
ガスで断熱性多孔質構造となる材料を、シャドウマスク
の電子銃側の面に被着させれば良い・ 具体的には、上記ガス発生物質は、カラー陰極線管の電
子銃陰極の電子放出特性に影響しない（例えば窒素）ガ
スを、カラー陰極線管のパネルベーキング工程の加熱温
度で分解発生する物質とすれば良い。この目的に適合す
る物質としては、例えばアジ化カリウム（熱分解温度は
３５０℃）があげられる、また、上記ガスを封じ込めて
断熱性多孔質構造となる物質としては、カラー陰極線管
のバルブのパネルとファンネルの溶着に用いるフリット
ガラス（低融点結晶化ガラス）があげられる。
［作用コ
アジ化カリウム入りのフリットガラス粉末を塗布、乾燥
したシャドウマスクはパネルに嵌め合わせて、ベーキン
グ工程を通される。このベーキング工程で、３５０℃位
になるとアジ化カリウムが熱分解を始め、窒素ガスを放
出し始めるが、同時にフリットガラスも約３５０℃で溶
融するので１発生した窒素ガスはフリットガラス中に気
泡を形成し、その後フリットガラスが徐々に結晶化する
ことによって多孔質の膜を形成することができる。この
多孔質の膜は、熱伝導に寄与する部分が少なく。
したシャドウマスクはパネルに嵌め合わせて、ベーキン
グ工程を通される。このベーキング工程で、３５０℃位
になるとアジ化カリウムが熱分解を始め、窒素ガスを放
出し始めるが、同時にフリットガラスも約３５０℃で溶
融するので１発生した窒素ガスはフリットガラス中に気
泡を形成し、その後フリットガラスが徐々に結晶化する
ことによって多孔質の膜を形成することができる。この
多孔質の膜は、熱伝導に寄与する部分が少なく。
真空中でも熱絶縁層として働く。
このような断熱層がシャドウマスクに被着されると、シ
ャドウマスクの局部に急に大量に発生した熱に対しては
其の断熱性が極めて効果的に作用し、この断熱層によっ
てシャドウマスクの金属基板へ熱が伝わるのが抑制され
、その部分の金属基板の温度が余り高くならない間に該
局部での熱の発生量が平均的な値にまで低下すれば、シ
ャドウマスクの局部的な膨張、突出を抑制できる。
ャドウマスクの局部に急に大量に発生した熱に対しては
其の断熱性が極めて効果的に作用し、この断熱層によっ
てシャドウマスクの金属基板へ熱が伝わるのが抑制され
、その部分の金属基板の温度が余り高くならない間に該
局部での熱の発生量が平均的な値にまで低下すれば、シ
ャドウマスクの局部的な膨張、突出を抑制できる。
［実施例］
本発明一実施例の断熱性多孔質層形成手順を第１図に１
本発明に係るシャドウマスクの断面を第２図に示す。通
常の工程通りに形成されたシャドウマスクの電子銃側に
、アジ化カリウム及び低融点結晶化ガラス（旭硝子社製
、ＡＳＦ−１３０７Ｂ）をニトロセルローズ等の有機物
をバインダとし、酢酸イソアミルを溶媒としたスラリー
にしてスプレィ塗布する。次いでパネルベーキング工程
で加熱することにより、アジ化カリウムが３５０℃で分
解を始めると同時に低融点結晶化ガラスが溶融し、その
ガラス中に多数の気泡が生じる。パネルベーキング中に
上記ガラスは徐々にに結晶成長し１強固な多孔質構造体
を形成する。この工程の要点を第１図に示す。この様に
して第２図に示す断熱性多孔質５がシャドウマスク２の
電子銃側に形成される。
本発明に係るシャドウマスクの断面を第２図に示す。通
常の工程通りに形成されたシャドウマスクの電子銃側に
、アジ化カリウム及び低融点結晶化ガラス（旭硝子社製
、ＡＳＦ−１３０７Ｂ）をニトロセルローズ等の有機物
をバインダとし、酢酸イソアミルを溶媒としたスラリー
にしてスプレィ塗布する。次いでパネルベーキング工程
で加熱することにより、アジ化カリウムが３５０℃で分
解を始めると同時に低融点結晶化ガラスが溶融し、その
ガラス中に多数の気泡が生じる。パネルベーキング中に
上記ガラスは徐々にに結晶成長し１強固な多孔質構造体
を形成する。この工程の要点を第１図に示す。この様に
して第２図に示す断熱性多孔質５がシャドウマスク２の
電子銃側に形成される。
なお、第２図中の６は空孔である。
本実施例について実験したところ、カラー陰極線管の陰
極の電子放出特性や其の寿命には影響なく、かつ断熱性
多孔質層を形成できるのでシャドウマスクの局部的、−
時的な熱膨張を効果的に抑制することが出来た。
極の電子放出特性や其の寿命には影響なく、かつ断熱性
多孔質層を形成できるのでシャドウマスクの局部的、−
時的な熱膨張を効果的に抑制することが出来た。
断熱性多孔°質層を５〜１０μｍに形成することにより
、ドーミングによる電子ビーム移動量を２０〜３０％低
減できた。
、ドーミングによる電子ビーム移動量を２０〜３０％低
減できた。
上記実施例では、窒素を分解放出するものを説明したが
、放出ガスは陰極からの電子放出特性に殆ど悪影響を与
えないものであれば他のものでも差支えなく１例えば水
素ガスを放出する水素化カリウム（分解温度は４１７℃
）も使用可能である。
、放出ガスは陰極からの電子放出特性に殆ど悪影響を与
えないものであれば他のものでも差支えなく１例えば水
素ガスを放出する水素化カリウム（分解温度は４１７℃
）も使用可能である。
また、構造材料には、フリットガラス以外にも特開昭６
２−１５４５２４号公報に開示されているポリチタノカ
ルボシラン又は半導体ガラスでもよい。
２−１５４５２４号公報に開示されているポリチタノカ
ルボシラン又は半導体ガラスでもよい。
［発明の効果］
以上説明したように本発明によれば、簡単に断熱性多孔
質層をシャドウマスクの電子銃側に形成することが出来
るので、カラー陰極線管動作中に。
質層をシャドウマスクの電子銃側に形成することが出来
るので、カラー陰極線管動作中に。
ドーミングによる色ずれ量を２０〜３０％低減する効果
が得られる。
が得られる。
第１図は本発明に係る主要処理工程を示す図、第２図は
本発明に係るシャドウマスク断面図、第３図は従来の膨
張対策技術によるシャドウマスクの断面図である。 １・・・シャドウマスク開孔部、 スフ金属基板、 ３・・・熱放射膜、 ２・・・シャドラマ ４・・・熱絶縁層、 夕 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 ス
本発明に係るシャドウマスク断面図、第３図は従来の膨
張対策技術によるシャドウマスクの断面図である。 １・・・シャドウマスク開孔部、 スフ金属基板、 ３・・・熱放射膜、 ２・・・シャドラマ ４・・・熱絶縁層、 夕 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 ス
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、シャドウマスク型カラー陰極線管において、シャド
ウマスクの電子銃に面する側の、電子ビーム通過孔を除
く電子ビーム射突部分の金属基板面上に断熱性多孔質層
を被着させたことを特徴とするカラー陰極線管。 ２、アジ化カリウムと低融点結晶化ガラスの粉末を、有
機バインダと共に揮発性溶媒中に懸濁させたスラリーを
、上記シャドウマスクの金属基板面に塗布して乾燥させ
た後、シャドウマスクのベーキング時の昇温により溶融
ガラス中に発生したガス気泡によって上記多孔質層を形
成することを特徴とするカラー陰極線管の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19597988A JPH0246630A (ja) | 1988-08-08 | 1988-08-08 | カラー陰極線管およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19597988A JPH0246630A (ja) | 1988-08-08 | 1988-08-08 | カラー陰極線管およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0246630A true JPH0246630A (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16350187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19597988A Pending JPH0246630A (ja) | 1988-08-08 | 1988-08-08 | カラー陰極線管およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0246630A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19632414A1 (de) * | 1996-08-05 | 1998-02-12 | Samsung Display Devices Co Ltd | Schattenmaske für Farbbildröhren |
| DE19654613A1 (de) * | 1996-12-20 | 1998-07-02 | Samsung Display Devices Co Ltd | Schattenmaske mit Dämmschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
-
1988
- 1988-08-08 JP JP19597988A patent/JPH0246630A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19632414A1 (de) * | 1996-08-05 | 1998-02-12 | Samsung Display Devices Co Ltd | Schattenmaske für Farbbildröhren |
| DE19632414C2 (de) * | 1996-08-05 | 2001-07-26 | Samsung Display Devices Co Ltd | Schattenmaske für Farbbildröhren |
| DE19654613A1 (de) * | 1996-12-20 | 1998-07-02 | Samsung Display Devices Co Ltd | Schattenmaske mit Dämmschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DE19654613C2 (de) * | 1996-12-20 | 2001-07-19 | Samsung Display Devices Co Ltd | Schattenmaske mit Dämmschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| GB2320608B (en) * | 1996-12-20 | 2001-11-07 | Samsung Display Devices Co Ltd | A shadow mask having an insulating layer and a process for the production of same |
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