JPH0247032U - - Google Patents

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JPH0247032U
JPH0247032U JP12660788U JP12660788U JPH0247032U JP H0247032 U JPH0247032 U JP H0247032U JP 12660788 U JP12660788 U JP 12660788U JP 12660788 U JP12660788 U JP 12660788U JP H0247032 U JPH0247032 U JP H0247032U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案にに係る洗浄装置の縦断正面図
、第2図はその要部の平面図、第3図は傾斜角度
と微粒子除去率との関係を示すグラフ、第4図は
従来例による洗浄装置の縦断側面図である。 1……処理槽、2……処理液、3……超音波発
振器、4……基板搬送手段、P……基板、Ps…
…被照射面、θ……傾斜角度。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 処理層内に貯溜した処理液中で、基板搬送手段
    により基板を搬送し、処理液中に配置した超音波
    発振器により基板に超音波を照射するように構成
    した基板の表面処理装置において、 1MHz前後の超音波を発振する超音波発振器
    を基板搬送路の両側に少なくとも一組配置し、基
    板の被照射面に対して浅い傾斜角度で音波を入射
    させることにより、被照射面を照射するように構
    成したことを特徴とする基板の表面処理装置。
JP12660788U 1988-09-27 1988-09-27 基板の表面処理装置 Expired - Lifetime JP2538492Y2 (ja)

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JPH0247032U true JPH0247032U (ja) 1990-03-30
JP2538492Y2 JP2538492Y2 (ja) 1997-06-18

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