JPH0247601A - 機能膜付きガラスの製造方法 - Google Patents

機能膜付きガラスの製造方法

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JPH0247601A
JPH0247601A JP63197131A JP19713188A JPH0247601A JP H0247601 A JPH0247601 A JP H0247601A JP 63197131 A JP63197131 A JP 63197131A JP 19713188 A JP19713188 A JP 19713188A JP H0247601 A JPH0247601 A JP H0247601A
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JP
Japan
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film
glass
polishing
functional film
antireflection
Prior art date
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Pending
Application number
JP63197131A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Isomura
磯村 俊明
Takuji Oyama
卓司 尾山
Tsuneo Wakabayashi
若林 常生
Naonori Hayashi
林 直矩
Kiyoshi Matsumoto
潔 松本
Yasuo Hayashi
泰夫 林
Naohiro Hotta
尚宏 堀田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0247601A publication Critical patent/JPH0247601A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の網 本発明は、反射防止膜等が形成された機能膜付きガラス
の製造方法に関する。
災來勿艮夏 真空蒸着、スパッタリング等の物理的気相堆積法(PV
D法; Ph1sical Vapor Diposi
tion)により、ガラス基板上に機能薄膜を形成する
ことが広く行われている。この代表例が反射防止膜付き
ガラスであり、CRT (Cathode RayTu
be)などに用いられている。また、ITOなどの透明
導電膜をガラス表面に形成して帯電防止機能を付与する
ことも行われている。
反射防止膜は光学特性の向上を目的として従来から多層
膜が用いられており1例えば4層あるいは5層から成る
反射防止膜が特公昭52−22245号公報や同53−
14227号公報などに記載されている。反射防止膜は
、従来から一般に膜厚制御が容易な真空蒸着法により形
成されている。
が  じようとする しかし、反射防止膜付きガラスは一度指紋等の汚れが付
着すると、布で擦り落そうとしても容易に落ちないとい
う問題があった。また、あまり強く擦りすぎると、膜が
摩耗して本来の光学的特性が損なわれたり、膜剥離の原
因ともなりかねなかった。
以上、反射防止膜付きガラスを中心として説明したが、
他の機能膜付きガラスの場合も事情は同様である。
を  するための 本発明は、上述の問題を解決すべく成されたものであり
、汚れが付着した場合にも簡単に落とせる機能膜付きガ
ラスの製造方法を提供するものである。
見匪立粟玖 本発明の機能膜付きガラスの製造方法は、真空蒸着法等
のPVD法により機能膜が形成されたガラスの膜形成面
を精密研磨し、膜面の平滑性を向上せしめることを特徴
とする。
真空蒸着法等のPVD法により得られた膜は、微視的に
見ると平滑とは言えず、表面に数十人レベル[中心線平
均粗さ(JIS BO601−19132による)Ra
値20人程度]の微細な凹凸を有している。
本発明者らはこの点に着目し、この微細凹凸を精密研磨
して平滑化することにより、膜表面に付着した汚れが落
ちやすくなることを見い出し、この知見に基づいて上記
発明を完成した。
本発明においては、精密研磨後の表面は、凹凸の大きさ
がRa値15人未満、好ましくは10Å以下、特に好ま
しくは5Å以下であると、付着した汚れが大変落ちやす
いので、好適である。
精密研磨は、例えば一般的な研磨砥粒である酸化セリウ
ム、酸化ジルコニウム、べんがら、酸化クロム、二酸化
チタン、コロイダルシリカ、アルミナ、リン酸カルシウ
ム等を水に混合した混合液(スラリー)を用いて行うこ
とができる。
本発明のような精密な研磨を行う為には、かかる研磨砥
粒の平均粒径は0.5μm以下であることが好ましい。
かかる微細な粒子が容易に得られるという点で、研磨砥
粒としてはコロイダルシリカ、酸化ジルコニウム、酸化
セリウムが好ましい。
精密研磨は、上記のような研磨剤スラリーを用い、精密
圧力を加えられる研磨用ロールで研磨することにより実
施でき、具体的な装置としては、静圧軸受で精密加工制
御を可能とした超精密研磨装置等が挙げられる。
第1図は、このような装置を用いる本発明の実施態様を
示す説明図である。テーブル17上には1反射防止膜付
きガラス11が載置され、バキューム孔19により真空
チャックされて固定されている。反射防止膜付きガラス
11は、反射防止膜(図示せず)の形成面を上面にして
固定されている。スラリー供給ノズル13より研磨剤ス
ラリーを反射防止膜上に供給しつつ、研磨用ロール15
を回転させて研磨し、雨音を図中の矢印方向に連動移動
させて、反射防止膜の最外層膜の精密研磨を終了する。
精密研磨により、表面凹凸が研磨され平滑化された反射
防止膜となり、また、反射防止機能や膜強度等の膜特性
に悪影響を及ぼさない。
以上の説明では、真空蒸着法により形成した反射防止膜
を中心にして説明したが、スパッタリング法等の他のP
VD法により形成した他の機能膜(例えば、帯電防止膜
)を有するガラスについても、水洗は同様に適用できる
見班玖処困 本発明によれば、PVD堆積膜を形成したガラスの、堆
積膜表面を精密研磨することにより、膜の機能特性を実
質上積なうことなく、堆積膜表面が平滑化され、使用時
に堆積膜表面に付着した汚れを、布等により容易に拭き
落すことができる機能膜付きガラスが得られる。よって
、常に清浄な状態で使用できるのは勿論のこと、無理な
汚れの擦り落しによって膜に傷が付いたり、膜が摩耗し
て本来の光学特性が得られなくなったり、膜剥離を引き
起こすことも防止される。さらに、膜表面が平滑なので
、汚れ自体も付着しにくい。
実施例1 通常の真空蒸着法により多層反射防止膜を形成したガラ
ス板を用意した。この多層反射防止膜は、空気側より、 M g F2− Z r O,−A lio、を、光学
的膜厚λ/4−λ/2−λ/4(λは550nm)でコ
ートした3層膜であり、最外層(空気側)はRa値20
人人種の凹凸を有していた。
精密研磨に先立って、 ■膜の分光反射特性;第2図参照(実線)■耐薬品性;
10%水酸化ナトリウム水溶液、50%酢酸水溶液、2
4時間 ■耐摩擦性;消しゴムによる擦りテスト(消しゴムテス
ト20回) を評価した。
次に、第1図に示した装置を用い、多層反射防止膜の最
外層を精密研磨した。多層反射防止膜付きガラスを第1
図のようにセットし、研磨剤スラリーとして酸化ジルコ
ニウム(平均粒径0゜4μm)の5〜10重量%濃度の
水溶液を用いた。
研磨圧力を30gf#j、研磨ロールの回転数を50r
pmとし、研磨ロールの送り速度を45cm/sunと
して精密研磨したところ、最外層膜は数人〜士数人研磨
され1表面凹凸のRa値は6人種度となっていた。
得られた平滑化多層反射防止膜付きガラスの分光反射特
性を測定したところ、第2図に破線で示すように、精密
研磨前と変化が無かった。
さらに、上記と同様にして耐薬品性および耐摩擦性を評
価したところ、精密研磨前と同等の性能が得られた。
また、平滑化多層反射防止膜付きガラスをCRTに用い
て実使用したところ、付着した汚れを布で拭きとること
により容易に落すことができ1反射防止性能が劣化する
こともなく、清浄な状態で使用できた。
実施例2 実施例1と同様の反射防止膜を有するガラス板を、研磨
剤スラリーとしてコロイダルシリカ(平均粒径約0.0
5μm)の25〜27重量%水溶液を用いた以外は実施
例1と同様に精密研磨したところ、最外層は数人研磨さ
れ、表面凹凸のRa値は1.5人程度となっていた。
得られた平滑化多層反射防止膜付きガラスの分光特性、
耐薬品性、耐摩耗性を評価したところ、やはり精密研磨
前と同様の性能が得られた。
また、かかる平滑化多層反射防止膜付きガラスをCRT
に用いて実使用したところ、付着した汚れが実施例1よ
り更に拭きとりやすく、反射防止性能が劣化することも
なく、大変清浄な状態で使用できた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施方法の一例を示す説明図である
。 第2図は、実施例1における精密研磨前後の分光反射特
性を示すグラフである。 11・・・反射防止膜付きガラス 13・・・スラリー供給ノズル 15・・・研磨用ロール  17・・・テーブル19・
・・バキューム孔 什捕人 11”+ thト弊°品、1詳番゛什名第1図 第2図 波 長nm

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相堆積法
    により機能膜が形成されたガラスの該機能膜最外層表面
    を精密研磨し、膜面の平滑性を向上せしめることを特徴
    とする機能膜付きガラスの製造方法。 2、真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相堆積法
    により機能膜が形成されたガラスの該機能膜最外層表面
    を精密研磨し、該機能膜表面の凹凸を中心線平均粗さ1
    5Å未満とすることを特徴とする請求項1記載の機能膜
    付きガラスの製造方法。 3、ガラス基板上に真空蒸着法、スパッタリング等の物
    理的気相堆積法によって単層又は多層の反射防止膜が形
    成された反射防止ガラスにおいて、該反射防止膜の最外
    層表面は、中心線平均粗さ15Å未満であることを特徴
    とする反射防止ガラス。
JP63197131A 1988-08-09 1988-08-09 機能膜付きガラスの製造方法 Pending JPH0247601A (ja)

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