JPH0248090B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0248090B2 JPH0248090B2 JP62131848A JP13184887A JPH0248090B2 JP H0248090 B2 JPH0248090 B2 JP H0248090B2 JP 62131848 A JP62131848 A JP 62131848A JP 13184887 A JP13184887 A JP 13184887A JP H0248090 B2 JPH0248090 B2 JP H0248090B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light beam
- lens
- illumination
- elliptical mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、マスク上の所定のパターンをウエハ
ー上に投影するための照明光学系に関する。
ー上に投影するための照明光学系に関する。
従来、ICパターンの転写装置に用いられる照
明光学系は種々知られている。例えば、米国特許
明細書3296923のごとく、光源、楕円鏡、コール
ドミラー、発散性コリメーシヨンレンズ、２個の
フライアイ（fry−eye）レンズ、収斂性コリメー
シヨンレンズを基本構成とし、物体面（マスク
面）の所定領域を所定のコリメーシヨンハーフア
ングル（照明光が物体面の法線となす最大角）以
内の平行光束で照明するものである。ここでフラ
イアイレンズは、複数の２次光源を形成し、マス
ク面を多数光束で照明することによりマスクによ
る回折像を除去するとともに、ムラのない均一な
照明を得るためのものであり、以下このような手
段をオプテイカルインテグレーターと呼ぶ。一般
に楕円鏡用いた照明光学系はそのパワー配置上２
つに大別される。１つは楕円鏡によつてオプテイ
カルインテグレーターの近傍に光源像を結ばせる
もので、他の１つは上記米国特許明細書3296923
のごとく楕円鏡からの光束を発散性のコリメータ
ーレンズで平行光としてオプテイカルインテグレ
ーターへ導くものである。集光効率の点から見る
と、後者の方がオプテイカルインテグレーターで
の光のケラレが少ないので比較的優れているが、
それでもまだ十分満足できるものではなかつた。
特に、遠紫外光を用いた場合の代表的フオトレジ
ストであるPMMAは感度が低いため、照明光学
系の集光効率を高めることが大きな課題であつ
た。
明光学系は種々知られている。例えば、米国特許
明細書3296923のごとく、光源、楕円鏡、コール
ドミラー、発散性コリメーシヨンレンズ、２個の
フライアイ（fry−eye）レンズ、収斂性コリメー
シヨンレンズを基本構成とし、物体面（マスク
面）の所定領域を所定のコリメーシヨンハーフア
ングル（照明光が物体面の法線となす最大角）以
内の平行光束で照明するものである。ここでフラ
イアイレンズは、複数の２次光源を形成し、マス
ク面を多数光束で照明することによりマスクによ
る回折像を除去するとともに、ムラのない均一な
照明を得るためのものであり、以下このような手
段をオプテイカルインテグレーターと呼ぶ。一般
に楕円鏡用いた照明光学系はそのパワー配置上２
つに大別される。１つは楕円鏡によつてオプテイ
カルインテグレーターの近傍に光源像を結ばせる
もので、他の１つは上記米国特許明細書3296923
のごとく楕円鏡からの光束を発散性のコリメータ
ーレンズで平行光としてオプテイカルインテグレ
ーターへ導くものである。集光効率の点から見る
と、後者の方がオプテイカルインテグレーターで
の光のケラレが少ないので比較的優れているが、
それでもまだ十分満足できるものではなかつた。
特に、遠紫外光を用いた場合の代表的フオトレジ
ストであるPMMAは感度が低いため、照明光学
系の集光効率を高めることが大きな課題であつ
た。
本発明の目的は、マスクによるウエハ一面上で
の回折の影響を除去しつつ、均一でしかも集光効
率のより高い照明が可能であり、マスク上での照
明光束の角度の変更に際しても効率を低下させる
ことのないマスク照明光学系を提供することにあ
る。
の回折の影響を除去しつつ、均一でしかも集光効
率のより高い照明が可能であり、マスク上での照
明光束の角度の変更に際しても効率を低下させる
ことのないマスク照明光学系を提供することにあ
る。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。第
１図は本発明による照明光学系の実施例を示す概
略断面図である。
１図は本発明による照明光学系の実施例を示す概
略断面図である。
発光管１は紫外線及び遠紫外線を発する高輝度
光源ａを有しており、この光源ａは楕円鏡２の第
１の焦点にほぼ位置している。楕円鏡２はその第
２焦点位置に光源ａの像a′を形成する。コールド
ミラー３は赤外光の大部分を透過し、遠紫外光の
大部分を反射するもので、一般には多層膜を被覆
されて作られている。２個の正レンズからなるコ
リメーシヨンレンズ４はその前進焦点を光源像
a′に合致して配置されており、光源像a′からの光
を平行光束にする。この平行光束中に多数の２次
光源を形成するためのオプテイカルインテグレー
ター５が配置されており、実質的に多数の光束を
発生させている。オプテイカルインテグレーター
５は具体的には第２図ａの縦断面図、ｂの横断面
図に示すごとく、六角柱のガラスの両端面を凸レ
ンズに加工したものをはちの巣状に束ねたもので
ある。前側の小レンズ１１と後側の小レンズ１２
とはほぼ等しい屈折力を有し、両者の間隔は前側
小レンズ１１の後側焦点距離に等しく、もちろん
後側小レンズ１２の前側焦点距離にも等しい。そ
して、前側の小レンズ１１と後側の小レンズ１２
とは各々１対１に対応しており、後側小レンズ１
２はこれに対応する前側小レンズ１１の像を物体
面（マスク面）に結ばせる働きを有している。こ
のため、前側小レンズ１１の口径の形状と物体面
上の照明領域は相似形となり、ここでは、小レン
ズの個々の形が六角形であるから照明領域も六角
形になつている。このようなオプテイカルインテ
グレーターとしては第３図ａの縦断面図及びｂの
横断面図に示すごとく、前側小レンズ１１と後側
小レンズ１２とをそれぞれ有する２個のフライア
イレンズ５ａ，５ｂによつて構成することも可能
である。
光源ａを有しており、この光源ａは楕円鏡２の第
１の焦点にほぼ位置している。楕円鏡２はその第
２焦点位置に光源ａの像a′を形成する。コールド
ミラー３は赤外光の大部分を透過し、遠紫外光の
大部分を反射するもので、一般には多層膜を被覆
されて作られている。２個の正レンズからなるコ
リメーシヨンレンズ４はその前進焦点を光源像
a′に合致して配置されており、光源像a′からの光
を平行光束にする。この平行光束中に多数の２次
光源を形成するためのオプテイカルインテグレー
ター５が配置されており、実質的に多数の光束を
発生させている。オプテイカルインテグレーター
５は具体的には第２図ａの縦断面図、ｂの横断面
図に示すごとく、六角柱のガラスの両端面を凸レ
ンズに加工したものをはちの巣状に束ねたもので
ある。前側の小レンズ１１と後側の小レンズ１２
とはほぼ等しい屈折力を有し、両者の間隔は前側
小レンズ１１の後側焦点距離に等しく、もちろん
後側小レンズ１２の前側焦点距離にも等しい。そ
して、前側の小レンズ１１と後側の小レンズ１２
とは各々１対１に対応しており、後側小レンズ１
２はこれに対応する前側小レンズ１１の像を物体
面（マスク面）に結ばせる働きを有している。こ
のため、前側小レンズ１１の口径の形状と物体面
上の照明領域は相似形となり、ここでは、小レン
ズの個々の形が六角形であるから照明領域も六角
形になつている。このようなオプテイカルインテ
グレーターとしては第３図ａの縦断面図及びｂの
横断面図に示すごとく、前側小レンズ１１と後側
小レンズ１２とをそれぞれ有する２個のフライア
イレンズ５ａ，５ｂによつて構成することも可能
である。
第１図にもどつてオプテイカルインテグレータ
ー５の直後には、正レンズ６が配置され、さらに
この直後には絞り７が設けられ、反射鏡８で反射
された光束はコリメーターレンズ９によつて物体
面１０上に集光される。正レンズ６の作用により
コリメーターレンズ９の口径を小さくすることが
でき、またコリメーターレンズ９と物体面１０と
の距離を小さくできるので装置全体をよりコンパ
クトに構成することが可能である。しかし、コリ
メーターレンズ９と物体面との距離はいわゆる作
動距離であり、何らかの目的のために作動距離を
大きくしたい場合には、正レンズ６の代りに負レ
ンズを配置することができる。絞り７はその口径
を変えることによつて照明光のコリメーシヨンハ
ーフアングルを変えるためのものである。反射鏡
８は光束の進行方向を単に90゜曲げるためのもの
である。コリメーターレンズ９は、オプテイカル
インテグレーター５の後面即ちオプテイカルイン
テグレーターの前側小レンズ１１による２次光源
像の位置にその前側焦点を合致するように配置さ
れており、オプテイカルインテグレーター５の後
側小レンズ１２のそれぞれからの発散光束を平行
光束に変換し、物体面１０上で完全に重ね合わせ
るものである。
ー５の直後には、正レンズ６が配置され、さらに
この直後には絞り７が設けられ、反射鏡８で反射
された光束はコリメーターレンズ９によつて物体
面１０上に集光される。正レンズ６の作用により
コリメーターレンズ９の口径を小さくすることが
でき、またコリメーターレンズ９と物体面１０と
の距離を小さくできるので装置全体をよりコンパ
クトに構成することが可能である。しかし、コリ
メーターレンズ９と物体面との距離はいわゆる作
動距離であり、何らかの目的のために作動距離を
大きくしたい場合には、正レンズ６の代りに負レ
ンズを配置することができる。絞り７はその口径
を変えることによつて照明光のコリメーシヨンハ
ーフアングルを変えるためのものである。反射鏡
８は光束の進行方向を単に90゜曲げるためのもの
である。コリメーターレンズ９は、オプテイカル
インテグレーター５の後面即ちオプテイカルイン
テグレーターの前側小レンズ１１による２次光源
像の位置にその前側焦点を合致するように配置さ
れており、オプテイカルインテグレーター５の後
側小レンズ１２のそれぞれからの発散光束を平行
光束に変換し、物体面１０上で完全に重ね合わせ
るものである。
以上のごとき本発明の構成において、光源ａは
完全な点光源ではなく、光源像a′にある大きさが
あるため、コリメーシヨンレンズ４を射出する光
束は光源像a′の大きさに相当する角度で広がる発
散光束となる。ここで、コリメーシヨンレンズ４
の収斂作用により、楕円鏡２の開口面ｂの像b′が
第４図に示すごとく、コリメーシヨンレンズ４の
後方距離ｄの位置に形成されるので、この位置に
オプテイカルインテグレーター５を位置すること
によつて、ケラレを防ぐことができる。もし、コ
リメーシヨンレンズが従来のように発散性の凹レ
ンズであるならば、楕円鏡２の開口面ｂの像b′は
コリメーシヨンレンズの前方に形成されるためケ
ラレを防ぐことはできない。
完全な点光源ではなく、光源像a′にある大きさが
あるため、コリメーシヨンレンズ４を射出する光
束は光源像a′の大きさに相当する角度で広がる発
散光束となる。ここで、コリメーシヨンレンズ４
の収斂作用により、楕円鏡２の開口面ｂの像b′が
第４図に示すごとく、コリメーシヨンレンズ４の
後方距離ｄの位置に形成されるので、この位置に
オプテイカルインテグレーター５を位置すること
によつて、ケラレを防ぐことができる。もし、コ
リメーシヨンレンズが従来のように発散性の凹レ
ンズであるならば、楕円鏡２の開口面ｂの像b′は
コリメーシヨンレンズの前方に形成されるためケ
ラレを防ぐことはできない。
第４図に示すごとく、コリメーシヨンレンズ４
の焦点距離をｆ、楕円鏡２の開口面ｂとコリメー
シヨンレンズ４との距離をｌとすると、コリメー
シヨンレンズ４と楕円鏡２の開口面ｂの像b′との
距離ｄは、周知のごとく、 ｄ＝ｆ・ｌ／ｌ−ｆ と表わされる。
の焦点距離をｆ、楕円鏡２の開口面ｂとコリメー
シヨンレンズ４との距離をｌとすると、コリメー
シヨンレンズ４と楕円鏡２の開口面ｂの像b′との
距離ｄは、周知のごとく、 ｄ＝ｆ・ｌ／ｌ−ｆ と表わされる。
上記のように、コリメーシヨンレンズ４に関し
て楕円鏡の開口面と共役な位置に、オプテイカル
インテグレーターを配置することによつてケラレ
をほぼ完全に防ぐことができるが、楕円鏡による
集光の不均一性が問題となる。すなわち、実際の
楕円鏡による集光系において、コリメーシヨンレ
ンズ４に関して楕円鏡２の開口面ｂと共役な位置
では、楕円鏡２の開口面ｂの光量分布を反映して
環状の光量分布となるため、物体面１０上への照
明にも不均一性を生じてしまうのである。第５図
はコリメーシヨンレンズ４と楕円鏡の開開口面像
b′との間の４ケ所Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄにおける光量分
布を示したものである。Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各位置
における光束断面にそつた光強度は各位置での基
準線x1，x2，x3，x4を零強度とし、左側を高い強
度として示されている。図示のごとく、楕円鏡の
開口面の像b′が形成されるＤ位置では光強度が中
央部でほとんど零であるが、Ｃ位置でいくぶん平
均化され、ほぼ中間のＢ位置では中央部の強度が
かなり高まつており、Ａ位置ではほぼ均一になつ
ている。このため、オプテイカルインテグレータ
ー５はできる限りコリメーシヨンレンズ４に近づ
けることが望ましい。しかしながら、光源に大き
さがあるため、コリメーシヨンレンズ４に近いほ
ど光束巾は大きくなり、オプテイカルインテグレ
ーター５の口径をより大きくする必要が生ずる。
実際にはオプテイカルインテグレーター５を中間
のＣ位置よりはコリメーシヨンレンズ４に近い位
置に配置することが望ましい。即ち、コリメーシ
ヨンレンズ４とオプテイカルインテグレーター５
との距離Ｄは Ｄ＜ｄ／２＝ｆ・ｌ／２（ｌ−ｆ） の条件を満足することが望ましい。
て楕円鏡の開口面と共役な位置に、オプテイカル
インテグレーターを配置することによつてケラレ
をほぼ完全に防ぐことができるが、楕円鏡による
集光の不均一性が問題となる。すなわち、実際の
楕円鏡による集光系において、コリメーシヨンレ
ンズ４に関して楕円鏡２の開口面ｂと共役な位置
では、楕円鏡２の開口面ｂの光量分布を反映して
環状の光量分布となるため、物体面１０上への照
明にも不均一性を生じてしまうのである。第５図
はコリメーシヨンレンズ４と楕円鏡の開開口面像
b′との間の４ケ所Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄにおける光量分
布を示したものである。Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各位置
における光束断面にそつた光強度は各位置での基
準線x1，x2，x3，x4を零強度とし、左側を高い強
度として示されている。図示のごとく、楕円鏡の
開口面の像b′が形成されるＤ位置では光強度が中
央部でほとんど零であるが、Ｃ位置でいくぶん平
均化され、ほぼ中間のＢ位置では中央部の強度が
かなり高まつており、Ａ位置ではほぼ均一になつ
ている。このため、オプテイカルインテグレータ
ー５はできる限りコリメーシヨンレンズ４に近づ
けることが望ましい。しかしながら、光源に大き
さがあるため、コリメーシヨンレンズ４に近いほ
ど光束巾は大きくなり、オプテイカルインテグレ
ーター５の口径をより大きくする必要が生ずる。
実際にはオプテイカルインテグレーター５を中間
のＣ位置よりはコリメーシヨンレンズ４に近い位
置に配置することが望ましい。即ち、コリメーシ
ヨンレンズ４とオプテイカルインテグレーター５
との距離Ｄは Ｄ＜ｄ／２＝ｆ・ｌ／２（ｌ−ｆ） の条件を満足することが望ましい。
そして、上記の構成において、絞りの開口径を
変えることによつてコリメーシヨンハーフアング
ルを変えることができるが、第６図ａのごとく絞
り径を大きくする時にはコリメーシヨンレンズを
焦点距離の大きなものに、また第６図ｂをごとく
絞り径を小さくする時には焦点距離の小さなもの
に交換することにより、常に損失なく最高の集光
効率を維持することができる。
変えることによつてコリメーシヨンハーフアング
ルを変えることができるが、第６図ａのごとく絞
り径を大きくする時にはコリメーシヨンレンズを
焦点距離の大きなものに、また第６図ｂをごとく
絞り径を小さくする時には焦点距離の小さなもの
に交換することにより、常に損失なく最高の集光
効率を維持することができる。
以上のごとく本発明によれば、マスクによるウ
エハー面での回折の影響を十分に除去しつつ、均
一で極めて集光効率の高いマスク照明光学系が達
成され、マスク上での照明光束の角度の変更に際
しても効率を低下させる恐れがない。
エハー面での回折の影響を十分に除去しつつ、均
一で極めて集光効率の高いマスク照明光学系が達
成され、マスク上での照明光束の角度の変更に際
しても効率を低下させる恐れがない。
第１図は本発明における照明光学系の実施例を
示す概略断面図、第２図ａはオプテイカルインテ
グレーターの縦断面図、第２図ｂはその横断面
図、第３図ａはオプテイカルインテグレーターの
別の実施例の縦断面図、第３図ｂはその横断面
図、第４図は楕円鏡の開口面の像がコリメーシヨ
ンレンズの後方距離の位置に形成される説明図、
第５図はコリメーシヨンレンズと楕円鏡の開口面
像との間の４ケ所Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄにおける光量分
布を示す説明図、第６図ａは絞りの開口径を大き
くするときの、第６図ｂは絞り径を小さくすると
きのコリメーシヨンレンズの種類を示す説明図で
ある。 ［主要部分の符号の説明］、１……発光管、２
……楕円鏡、３……コールドミラー、４……コリ
メーシヨンレンズ、５……オプテイカルインテグ
レーター。
示す概略断面図、第２図ａはオプテイカルインテ
グレーターの縦断面図、第２図ｂはその横断面
図、第３図ａはオプテイカルインテグレーターの
別の実施例の縦断面図、第３図ｂはその横断面
図、第４図は楕円鏡の開口面の像がコリメーシヨ
ンレンズの後方距離の位置に形成される説明図、
第５図はコリメーシヨンレンズと楕円鏡の開口面
像との間の４ケ所Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄにおける光量分
布を示す説明図、第６図ａは絞りの開口径を大き
くするときの、第６図ｂは絞り径を小さくすると
きのコリメーシヨンレンズの種類を示す説明図で
ある。 ［主要部分の符号の説明］、１……発光管、２
……楕円鏡、３……コールドミラー、４……コリ
メーシヨンレンズ、５……オプテイカルインテグ
レーター。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１と第２の焦点を持つ楕円鏡と、該楕円鏡
の第１焦点に配置された発光管とを有し、該楕円
鏡の開口面上にて環状の光量分布をもつて前記発
光管からの光束を第２焦点上に集光する光源装置
と、該光源装置からの光束を平行光束に変換する
ための平行光束変換手段と、該平行光束から多数
の２次光源像と該２次光源像による多数光束を形
成するオプテイカルインテグレーターと、該オプ
テイカルインテグレーターからの光束を被照明物
体へ導くための収斂性レンズとを有する照明光学
系において、 前記平行光束変換手段は収斂性コリメーシヨン
レンズであり、前記被照明物体上での照明光束の
角度を変更するために前記収斂性コリメーシヨン
レンズを異なる焦点距離に切り換え可能に構成し
たことを特徴とする照明光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62131848A JPS63113412A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | マスク照明光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62131848A JPS63113412A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | マスク照明光学系 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15874079A Division JPS5681813A (en) | 1979-12-08 | 1979-12-08 | Mask lighting optical system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63113412A JPS63113412A (ja) | 1988-05-18 |
| JPH0248090B2 true JPH0248090B2 (ja) | 1990-10-24 |
Family
ID=15067524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62131848A Granted JPS63113412A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | マスク照明光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63113412A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6885433B2 (en) | 1990-11-15 | 2005-04-26 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| US6897942B2 (en) | 1990-11-15 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| US6967710B2 (en) | 1990-11-15 | 2005-11-22 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2696360B2 (ja) * | 1988-10-28 | 1998-01-14 | 旭光学工業株式会社 | 照明光学装置 |
| US5121160A (en) * | 1989-03-09 | 1992-06-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure method and apparatus |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP62131848A patent/JPS63113412A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6885433B2 (en) | 1990-11-15 | 2005-04-26 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| US6897942B2 (en) | 1990-11-15 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| US6967710B2 (en) | 1990-11-15 | 2005-11-22 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63113412A (ja) | 1988-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS633288B2 (ja) | ||
| US4497013A (en) | Illuminating apparatus | |
| TW396397B (en) | Illumination system and exposure apparatus having the same | |
| US4918583A (en) | Illuminating optical device | |
| JPH0378607B2 (ja) | ||
| JPH06214318A (ja) | 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 | |
| JP3640391B1 (ja) | 照明光学装置 | |
| JPH032284B2 (ja) | ||
| JP2001135560A (ja) | 照明光学装置、該照明光学装置を備えた露光装置、および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法 | |
| JPH08179237A (ja) | 照明光学装置 | |
| JP2021047444A (ja) | 照明装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 | |
| JP2002198309A (ja) | 熱的な負荷の少ない照明系 | |
| KR20000070180A (ko) | 투영광원 | |
| JPH0248090B2 (ja) | ||
| JP3067491B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2875143B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH0744141B2 (ja) | 照明光学装置 | |
| JP2712342B2 (ja) | 照明光学装置およびそれを用いた露光装置 | |
| JP2914035B2 (ja) | 輪帯光束形成方法および照明光学装置 | |
| JPH01271718A (ja) | 照明光学装置 | |
| JPS61251858A (ja) | 照明光学系 | |
| JPH11274060A5 (ja) | ||
| JP2765162B2 (ja) | 照明装置 | |
| JP2004186114A (ja) | 光源装置 | |
| JPH0769576B2 (ja) | 照明光学装置 |