JPH0251272A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH0251272A
JPH0251272A JP63202197A JP20219788A JPH0251272A JP H0251272 A JPH0251272 A JP H0251272A JP 63202197 A JP63202197 A JP 63202197A JP 20219788 A JP20219788 A JP 20219788A JP H0251272 A JPH0251272 A JP H0251272A
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Japan
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electrode
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semiconductor integrated
dummy island
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Kazuo Tomizuka
和男 冨塚
Fumio Santo
山藤 文雄
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明はFM/AMチューナ等、信号周波数や信号レベ
ルが異る回路ブロックを同一半導体基板にに形成した半
導体集積回路に関する。
(ロ)従来の技術 TVヂューナ、FM/AMチューナ等の電子機器は、R
F (Radio Frequency)信号からオー
ディオ信号を取出す為、機能毎に分割した各回路ブロッ
クの取扱う信号の周波数が異る場合が多い。例えば日本
国内向けのFMチューナだけでも、RF倍信号76〜9
0MHz、中間周波数信号は10.7MHz、そして2
0〜20000Hzのオーディオ信号と、20Hz〜9
0MHzの広範囲の信号を取扱うことになる。
上記FM/AMチューナの一例を第5図に示す。同図に
おいて、(1)はFM放送を選局しその受信周波数信号
と局部発振回路(2)の発振周波数信号とを混合回路(
3)で混合することにより中間周波数に周波数変換する
FMフロントエンド回路、(4〉は中間周波数信号(I
F倍信号を増幅・振幅制限し且つこれを検波してオーデ
ィオ信号(AF倍信号を得るFM−IF増幅回路、(5
)は例えば特公昭62−21461号に記載されている
が如3機能を有するノイズキャンセル回路、(6〉はス
テレオ放送の場合にLチャンネル、Rチャンネル信号に
復調するマルチプレクス回路、(7)はAM放送を選局
しオーディオ信号を出力するAMチューナ回路である。
例えばFM放送受信の場合、アンテナ(8〉から入力し
、RF増幅回路(9)で高周波増幅したRF倍信号FM
フロントエンド回路(1)の局部発振回路(2)が出力
する発振周波数信号とをFMフロントエンド回路(1)
の混合回路<3)で混合することによりFMフロントエ
ンド回路(1)からIF倍信号出力し、該IF倍信号F
M・IF増幅回路り4)の検波回路で検波することによ
りFM−IF増幅回路(4)からコンポジット信号を出
力し、マルチプレクス回路(6)によって出力端子(1
0)に夫々Lチャンネル、Rチャンネルのオーディオ信
号を出力する様構成されている。尚、斯る構成のFMチ
ューナ回路は例えば昭和62年12月10日発行、パ8
8三洋半導体データブック ポータプルオーディオ用バ
イポーラ集積回路編ヨ第152頁に記載きれている。
ところで、近年の電子機器は増々小型化・高性能化が求
められ、それに伴って第5図の回路はできる限り1チツ
プ化する方向に進んでいる。しかしながら、上記FMチ
ューナの例ではFMフロントエンド回路(1)が数十M
Hzの高周波信号を扱う為、不要輻射による他回路への
干渉が生じ易い。
また、アンテナ(8)からの微弱レベル信号を取扱う為
、他回路ブロックとの干渉により回路動作が不安定にな
り易く、著しい場合には発振してしまう。その為、FM
フロントエンド回路(1)をも1チツプ化することは極
めて困難であった。
(ハ〉発明が解決しようとVる課題 この様に、従来はFMフロントエンド回路(1)等の高
周波信号を扱う回路をも集積化することは回路干渉が生
じ易い為に極めて困難である欠点があった。
(二〉課題を解決するための手段 本発明は斯上した欠点に鑑み成されたもので、1つの半
導体チップに、複数の電子ブロック回路が夫々集積され
た複数の′を子ブロック領域を有する半導体集積回路に
於いて、前記電子ブロック領域の中の1つである不要輻
射を発生するかまたは不要輻射を受けやVい第1の電子
ブロック領域(21)と、この第1の電子ブロック領域
(21〉を囲んで形成されるダミーアイランド領域(2
2)と、このダミーアイランド領域(22)とオーミッ
クコンタクトし実質的に同一形状に形成される第1?+
!極(23)と、この第1電極(23)とオーミックコ
ンタクトし前記第1の電子ブロック領域(21)と第1
電極(23)とを被覆するシールド電極(24)とを備
え、この第1Tt極(23)を複数の領域に切断して形
成した切断領域(25)と、この切断領域(25)に設
けられた配線(26)とを具備することで解決するもの
である。
(ホ)作用 本発明に依れば、第1の電子ブロック領域(21)の素
子間の配線は実質的に第1層目に形成され、この配線は
シールド電極(24)および第1電極(23)で覆うこ
とができるので、内部からの不要輻射は外部へ出なくな
り、外部からの不要輻射は内部へ侵入しなくなる。従っ
て干渉を防止できる。
(へ)実施例 以下に本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第2図に示すように、P型の半導体基板(31)とこの
半導体基板(31)の上に猜層きれたN型のエピタキシ
ャル層(32)がある。
ここで半導体基板(31)は方形状であり、このエピタ
キシャル、5 (32)には、トランジスタ、ダイオー
ド、抵抗およびコンデンサ等が作り込まれており、また
P1型の分離領域(33)や埋込み層(34)も作り込
まれている。そしてこの半導体基板上のエピタキシャル
層(32)内に複数の電子回路が夫々集積され複数の電
子ブロック領域が形成されている。さらにはこの電子ブ
1ノック領域の中の1つが、第1図の破線で示す領域(
21)に形成されている。この領域(21〉は特に不要
輻射を発生するか、または外部より不要輻射を受けやす
い第1の重子ブロック領域である。更にこの第1の電子
ブロック領域(21)の周囲には、破線で示すN型のダ
ミーアイランド領域(22)が形成されている。
次に前記エピタキシャル層(32)上に被覆された第1
層目の絶縁膜(35)と、この第1の絶縁膜(35)上
に形成された一点鎖線で示す第1層目の電極(23) 
、 (26)とがある。
ここで第1層目の絶縁膜(35)は例えば熱酸化法やC
VD法で形成されたシリコン酸化膜であり、第1層目の
電極(23) 、 (26)はアルミニウムで蒸着され
ている。第1層目の電極は、通常の配線であり主にブロ
ック領域内に集積される半導体素子間の配線、ブロック
領域間の信号線(26)、フィードバック線(26〉お
よび第1?E極(23)が形成されている。第1図乃至
第4図に示す第1の電子ブロック領域(21)上の半導
体素子間の配線は省略をし、前記信号線やフィードバッ
ク線を(26)で、前記N型のダミーアイランド領域(
22)と実質的に同形状の第1電極をり23〉で示し、
図面上では一点鎖線で示している。この第1電極(23
)は前記第1層目の絶縁膜<35)を介してダミーアイ
ランド領域(22)とオーミックコンタクトしている。
しかもここではダミーアイランド領域(22)内に、エ
ピタキシャル層(32)表面よりN1型の埋込み層(3
4)に到達するN“型の第1の拡散領域(36)が形成
され、この第1の拡散領域(36)ト第1 Tl!、m
 (23) トカオ−ミy クコンタクトしている。
一方、第1電極(23)は、複数の領域で切断され、切
断領域(25〉を有している。第1図ではこの切断領域
(25)が4”ケ所あり、左側辺に1本、右ft1j辺
に2本、上側辺に2本および下側辺に3本の信号線やフ
ィードバック線が配線できる幅を有している。
更に第1層目の絶縁膜(35〉と第1層目の電極を被覆
するように形成された第2層目の絶縁膜(37)と、面
記第1の電子ブロック領域(21)と第1電極(23)
とを被覆するシールド電極(24)とがある。
ここで前記第2層目の絶縁膜(37)は、例えはPlX
等の膜であり、シールド電極(24)は、アルミニウム
を蒸着したものより成っている。また半導体チップ周辺
には、パッドが複数あるが、この中の1つである′rr
L源パッド(27)がシールド電極(24)と接続され
ている。
従ってシールド電極(24)と第1電極(23)とは、
電源パッドに印加されているVCCで同電位となってお
り、しかも第1の拡散領域(36)も同じ電位となって
いる。そのためV。Cの電位を持つ電極が、切断領域(
25〉でトンネルの形状を形成し、このトンネルの中に
信号線やフィードバック線が設けられ、他のブロック領
域へ延在されている。
ここで第3図、第4図は、第1図のB−B’線、c−c
’線における断面図であり、略第2図と同じ構成である
ため、説明は省略する。
以上の構成は例えばFM/AMステレオチューナ回路等
に応用できる。前記第1の電子ブロック領域(21)に
、第5図に示すFMフロントエンドブロック(1)を集
積化することで、他の電子ブロック領域からの干渉や、
他の電子ブロック領域への干渉を防止できる。
またFMフロントエンドブロック(1)は、数μ■と極
めて小さいレベルの信号を扱うため、特にFM−I F
ブロック(4〉からの干渉を嫌うので、本願の構成と同
じものをFM−I Fブロック(4)に応用しても良い
。
しかもシールド電極(24)を電源バッド(27)と接
続し、このシールド電極(24)をダミーアイランド(
22)の中の第1の拡散領域(36)とオーミックコン
タクトすることで、FMフロントエンドブロックも含め
て1チツプ化することができる。
(ト〉発明の効果 以上の説明からも明らかな如く、シールド電極(24〉
と第1 Xl(z3)でシールドしているので、シール
ド電極(24〉下に設けられた信号線やフィードバック
線等の配線は、外部からの不要輻射を受けず、また内部
からの不要輻射を外部へ発生することもなくなる。
一方、外部のブロック領域へ延在される配線は、限られ
た領域である切断領域(25)より出入りするため、第
1の電子ブロック領域(21)内にある配線の俳1面よ
り発生ずる不要幅I4を防1Fできる。
第2に、シールド電極り24)、第1電極(23)およ
び第1の拡散領域(36〉の電位を同じ電位■ccとす
ることができるので、高周波成分を含んだ輻射の発生や
侵入を更に強固に防止できる。
第3に、ダミーアイランド領域り22)内にN″型の第
1の拡散領域(36)を設けることで、分間領域(33
)とのPN接合による電位障壁が増大でき、外のブロッ
ク領域からのリーク電流や第1の電子ブロック領域〈2
1)から外のブロック領域へのリーク電111を防止で
きる。
しかも第1の拡散領域(36)が高濃度であるので、交
流グランドとすることができるので、ダミーアイランド
が■03.となり他のブロック領域の電圧変動を第1の
電子ブロック領域(21)へ与えることが無くなる。
第4に、FMフロントエンドブロックを第1の電子ブロ
ック領域(21〉に集積化することで、FMフロントエ
ンドブロックも含めて1チツプ化することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体集積回路の−L面図、第2図は
第1図のA−A’線における断面図、第3図は第1図の
B−B’線における断面図、第4図は第1図のc−c’
線における断面図、第5図はFM/AMステレオチュー
ナ回路を説明するブロック図である。 (21)・・・第1の電子ブロック領域、 (22)・
・・ダミーアイランド領域、 (23〉・・・第1電極
、 <24)・・・シールド電極、 (25)・・・切
断領域、 (26〉・・・配線。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1つの半導体チップ内に、複数の電子ブロック回
    路が夫々集積された複数の電子ブロック領域を有する半
    導体集積回路に於いて、 前記複数の電子ブロック領域の中の1つである不要輻射
    を発生するかまたは不要輻射を受けやすい第1の電子ブ
    ロック領域と、 この第1の電子ブロック領域を囲んで形成されるダミー
    アイランド領域と、 このダミーアイランド領域とオーミックコンタクトし実
    質的に同一形状に形成される第1電極と、 この第1電極とオーミックコンタクトし前記第1の電子
    ブロック領域と第1電極とを被覆するシールド電極とを
    備え、 前記第1電極を複数の領域に切断して形成した切断領域
    と、 この切断領域に設けられた配線とを具備することを特徴
    とした半導体集積回路。
  2. (2)前記シールド電極は半導体チップ周辺の電源パッ
    ドと接続される請求項第1項記載の半導体集積回路。
  3. (3)前記シールド電極は、前記ダミーアイランド領域
    内に形成されこのダミーアイランド領域と同導電型の第
    1の拡散領域とオーミックコンタクトする請求項第1項
    記載の半導体集積回路。
  4. (4)1つの半導体チップ内に、FM/AMステレオチ
    ューナ回路を構成する複数の電子ブロック回路が夫々集
    積された複数の電子ブロック領域を有する半導体集積回
    路に於いて、 前記複数の電子ブロック領域の中の1つであるFMフロ
    ントエンドブロック領域を囲んで形成されるダミーアイ
    ランド領域と、 このダミーアイランド領域とオーミックコンタクトし実
    質的に同一形状に形成される第1電極と、 この第1電極とオーミックコンタクトし、前記FMフロ
    ントエンドブロック領域と第1電極とを被覆するシール
    ド電極とを備え、 前記第1電極を複数の領域で切断して形成した切断領域
    と、 この切断領域に設けられた配線とを具備することを特徴
    とした半導体集積回路。
  5. (5)前記シールド電極は半導体チップ周辺の電源パッ
    ドと接続される請求項第4項記載の半導体集積回路。
  6. (6)前記シールド電極は、前記ダミーアイランド領域
    内に形成されこのダミーアイランド領域と同導電型の第
    1の拡散領域とオーミックコンタクトする請求項第4項
    記載の半導体集積回路。
JP63202197A 1988-07-12 1988-08-12 半導体集積回路 Expired - Lifetime JPH0750779B2 (ja)

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US07/378,397 US5050238A (en) 1988-07-12 1989-07-11 Shielded front end receiver circuit with IF amplifier on an IC
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DE68915072T DE68915072T2 (de) 1988-07-12 1989-07-12 Integrierte Halbleiterschaltung für ein Radio.
EP89112788A EP0354371B1 (en) 1988-07-12 1989-07-12 Semiconductor integrated circuit for a radio
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7411277B2 (en) 2002-03-19 2008-08-12 Fujitsu Limited Semiconductor integrated circuit having shield wiring
JP2009076933A (ja) * 2008-11-27 2009-04-09 Seiko Epson Corp 半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7411277B2 (en) 2002-03-19 2008-08-12 Fujitsu Limited Semiconductor integrated circuit having shield wiring
JP2009076933A (ja) * 2008-11-27 2009-04-09 Seiko Epson Corp 半導体装置

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